JPH0225827A - ビーム走査装置 - Google Patents
ビーム走査装置Info
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- JPH0225827A JPH0225827A JP63176521A JP17652188A JPH0225827A JP H0225827 A JPH0225827 A JP H0225827A JP 63176521 A JP63176521 A JP 63176521A JP 17652188 A JP17652188 A JP 17652188A JP H0225827 A JPH0225827 A JP H0225827A
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- Japan
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- beams
- parallel
- plate glass
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- board
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- Pending
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- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims abstract description 12
- 239000005357 flat glass Substances 0.000 abstract description 16
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 11
- 239000000463 material Substances 0.000 description 6
- 241000251468 Actinopterygii Species 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
- 230000001360 synchronised effect Effects 0.000 description 1
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- Mechanical Optical Scanning Systems (AREA)
- Facsimile Scanning Arrangements (AREA)
- Fax Reproducing Arrangements (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明はカラーレーザプリンタ等におけるビーム走査装
置に関する。
置に関する。
第7図は従来のカラーレーザプリンタの原理図である。
その要点は、変調された周波数の異なる複数(本例では
3本)のレーザビームLR,LG。
3本)のレーザビームLR,LG。
LBを縦列状に配置された全反射ミラーIR、グイクロ
イックミラーIC,IBで各々反射させ、各々の光軸に
微妙な角度をもたせて、回転多面鏡(ポリゴン)2の鏡
面上の一点に集光反射させ、横方向(主走査方向)に走
査させて縦方向(副走査方向)に移動している感材3面
に照射してカラー画像を形成することである。
イックミラーIC,IBで各々反射させ、各々の光軸に
微妙な角度をもたせて、回転多面鏡(ポリゴン)2の鏡
面上の一点に集光反射させ、横方向(主走査方向)に走
査させて縦方向(副走査方向)に移動している感材3面
に照射してカラー画像を形成することである。
なお、4R,4G、4Bはレーザビーム発生装置、5は
発生したレーザビームLR,LG、LBを各別に収集す
る収集レンズ、6は収集されたレーザビームLR,LG
、LBを画像信号に応じて変調させる変調器、7は変調
されたレーザビームLRSLGSLBを平行光線束にす
るコリメータレンズ、8は平行光線束にされたレーザビ
ームLRSLG、LBを上記全反射ミラーIR,グイク
ロイックミラーIG、IB方向に反射させる全反射ミラ
ーである。
発生したレーザビームLR,LG、LBを各別に収集す
る収集レンズ、6は収集されたレーザビームLR,LG
、LBを画像信号に応じて変調させる変調器、7は変調
されたレーザビームLRSLGSLBを平行光線束にす
るコリメータレンズ、8は平行光線束にされたレーザビ
ームLRSLG、LBを上記全反射ミラーIR,グイク
ロイックミラーIG、IB方向に反射させる全反射ミラ
ーである。
また、9は偏向手段としての回転多面鏡2で反射された
ロー・ザビームLB、LR,LGを感材3面に結像する
fθレンズ、10は感材3を縦方向に移動可能に保持す
る露光部、11は該露光部10の近傍に設置され、各レ
ーザビームLB、LR。
ロー・ザビームLB、LR,LGを感材3面に結像する
fθレンズ、10は感材3を縦方向に移動可能に保持す
る露光部、11は該露光部10の近傍に設置され、各レ
ーザビームLB、LR。
LGを受光して同期4g号を得るためのビーム検出器で
ある。
ある。
上記において、各ビームLR,LG、、LBの光軸に角
度をもたせるのは、各変調器6に独立信号を送るために
、ビーム検出器】1で各ビーム1.R1LG、L、Bを
個別に検出するためである。この角度には、レーザビー
ムが3種あるときは患1〜3を検出する間隔よりもNa
3と次のNllを検出するまでの間隔を長くして両者を
差別して検知できることが必要とされる。また、魚1〜
3の間隔が長いと感材3が縦方向に動いているので、感
材3面を走査する3種のビームにずれが生じカラー画像
に色ずれが発生するため、微小な角度であることも要求
される。
度をもたせるのは、各変調器6に独立信号を送るために
、ビーム検出器】1で各ビーム1.R1LG、L、Bを
個別に検出するためである。この角度には、レーザビー
ムが3種あるときは患1〜3を検出する間隔よりもNa
3と次のNllを検出するまでの間隔を長くして両者を
差別して検知できることが必要とされる。また、魚1〜
3の間隔が長いと感材3が縦方向に動いているので、感
材3面を走査する3種のビームにずれが生じカラー画像
に色ずれが発生するため、微小な角度であることも要求
される。
ところが、上記のように縦列方向に配置したミラーlR
11G、IBを用いて複数のビームLR。
11G、IBを用いて複数のビームLR。
LG、LBを多面鏡2の基準点に集光させる方式では、
光路が加算され全体として長くなり、また、使用される
部品点数が多くなり、装置全体の構成が複雑化し、大型
化となる等の問題があった。
光路が加算され全体として長くなり、また、使用される
部品点数が多くなり、装置全体の構成が複雑化し、大型
化となる等の問題があった。
本発明はこのような事情に鑑みてなされたもので、光路
を短縮化し、部品点数を縮減して装置全体の構成の簡易
化と小型化を可能としたカラーレーザプリンタのビーム
走査装置を提供することである。
を短縮化し、部品点数を縮減して装置全体の構成の簡易
化と小型化を可能としたカラーレーザプリンタのビーム
走査装置を提供することである。
このために本発明のビーム走査装置は、偏向手段の入射
側に複数のビーム平行移動手段を並列に配置し、上記複
数のビームを上記各平行移動手段により相互に近接・離
反させて上記各ビームの上記偏向手段への入射光軸位置
が調整できるようにした。
側に複数のビーム平行移動手段を並列に配置し、上記複
数のビームを上記各平行移動手段により相互に近接・離
反させて上記各ビームの上記偏向手段への入射光軸位置
が調整できるようにした。
以下、本発明の実施例のビーム走査装置について説明す
る。第1図はその第1の実施例のビーム走査装置を示す
図である。なお、従来装置と共通する構成部は同じ符合
を用いて説明を簡略する。
る。第1図はその第1の実施例のビーム走査装置を示す
図である。なお、従来装置と共通する構成部は同じ符合
を用いて説明を簡略する。
本例では従来装置の全反射ミラー8及びグイクロイック
ミラーIGを用いず、全反射ミラーIR、グイクロイッ
クミラーIBに代えて平板ガラスを用いた点が従来装置
と異なる。即ち、第1図において、12R,12Bはコ
リメータレンズ7と回転多面鏡2との間の位置に並列配
置した一対の平板ガラスで、コリメータレンズ7R,7
BからのレーザビームLR,LBを屈折平行移動させて
レーザビームLGに近接させ微妙な角度をもたせて回転
多面鏡2に集光させる。この場合、レーザビームLGの
光路には平板ガラスは設置されず、コリメータl/クズ
7GからのレーザビームLGが直接多面鏡2に照射され
る。
ミラーIGを用いず、全反射ミラーIR、グイクロイッ
クミラーIBに代えて平板ガラスを用いた点が従来装置
と異なる。即ち、第1図において、12R,12Bはコ
リメータレンズ7と回転多面鏡2との間の位置に並列配
置した一対の平板ガラスで、コリメータレンズ7R,7
BからのレーザビームLR,LBを屈折平行移動させて
レーザビームLGに近接させ微妙な角度をもたせて回転
多面鏡2に集光させる。この場合、レーザビームLGの
光路には平板ガラスは設置されず、コリメータl/クズ
7GからのレーザビームLGが直接多面鏡2に照射され
る。
各平板ガラス12R,12B (第2図ではこれらを符
合12で代表させて表示した)は第2図に示す傾斜調整
装置13に取り付けられている。傾斜調整装置13は平
板ガラス12を搭載保持する回転盤13Aと該回転盤1
3Aを回転保持する基盤13Bと構成され、該基盤13
Bの4角部には該基盤13’Bの傾斜を調整する調整
ネジ13Cがネジ付けされている。
合12で代表させて表示した)は第2図に示す傾斜調整
装置13に取り付けられている。傾斜調整装置13は平
板ガラス12を搭載保持する回転盤13Aと該回転盤1
3Aを回転保持する基盤13Bと構成され、該基盤13
Bの4角部には該基盤13’Bの傾斜を調整する調整
ネジ13Cがネジ付けされている。
さて、コリメータレンズ7R,7BからのビームLR,
LBは平板ガラス12の面12aから入射し面12bか
ら出射して上記で触れたように平行移動するが、その移
動量は平板ガラス12の傾斜角度で調整できる。即ち、
回転盤13Aの回転により平板ガラス12は水平方向に
回転され、ビームLR,LBが水平方向に平行移動する
。また、調整ネジ13Gの回転調整により平板ガラス1
2は基盤13B、回転盤Aと共に上下方向に振れてビー
ムLR,LBは上下方向に平行移動する。よって、両方
向の調整によりビームLR,LBを、ビームLGが照射
している多面鏡2の照射基準点に集光させることができ
る。この調整は従来のミラーの回転角度による調整に比
較して精密にできる。なお、多面鏡2で反射された後の
レーザビームLR,LG、LBの走査等の作用は従来装
置の場合と同様である。
LBは平板ガラス12の面12aから入射し面12bか
ら出射して上記で触れたように平行移動するが、その移
動量は平板ガラス12の傾斜角度で調整できる。即ち、
回転盤13Aの回転により平板ガラス12は水平方向に
回転され、ビームLR,LBが水平方向に平行移動する
。また、調整ネジ13Gの回転調整により平板ガラス1
2は基盤13B、回転盤Aと共に上下方向に振れてビー
ムLR,LBは上下方向に平行移動する。よって、両方
向の調整によりビームLR,LBを、ビームLGが照射
している多面鏡2の照射基準点に集光させることができ
る。この調整は従来のミラーの回転角度による調整に比
較して精密にできる。なお、多面鏡2で反射された後の
レーザビームLR,LG、LBの走査等の作用は従来装
置の場合と同様である。
第3図は第2の実施例のビーム走査装置を示す図である
。本例では、第1の実施例のビーム走査装置の平板ガラ
ス12R112Bに代えてアモルフイックプリズム14
RS i、4Bを配置して構成した。従ってこれらプリ
ズム14R114Bも並列状態に配置され、矢印a%a
’方向(入射ビームの光軸に平行な方向)にスライドさ
せることによりそこから出射するレーザビームLR,L
BをレーザビームLGに対して近接・離反する方向に平
行移動させてその位置を調整することができる。
。本例では、第1の実施例のビーム走査装置の平板ガラ
ス12R112Bに代えてアモルフイックプリズム14
RS i、4Bを配置して構成した。従ってこれらプリ
ズム14R114Bも並列状態に配置され、矢印a%a
’方向(入射ビームの光軸に平行な方向)にスライドさ
せることによりそこから出射するレーザビームLR,L
BをレーザビームLGに対して近接・離反する方向に平
行移動させてその位置を調整することができる。
第4図はその作用状態を示す説明図である。即ち、プリ
ズム14Rを矢印a方向にスライドさせることにより該
プリズム14Rから出射するビームLRはi方向に平行
移動される。なお、L・・−ザ発生装置にレーザダイオ
ードを用いた場合には、レーザの断面形状が楕円となる
が、プリズム14R114Bの傾斜角度を調整すること
によりこれを真円に成形することもできる。
ズム14Rを矢印a方向にスライドさせることにより該
プリズム14Rから出射するビームLRはi方向に平行
移動される。なお、L・・−ザ発生装置にレーザダイオ
ードを用いた場合には、レーザの断面形状が楕円となる
が、プリズム14R114Bの傾斜角度を調整すること
によりこれを真円に成形することもできる。
第5図は第3の実施例のビーム走査装置を示す図である
。本例装置はアモルフィックプリズムを用いた点は第2
の実施例の”A’ltと共通するが、各プリズム15R
115Bが各々2個のプリズムの組み合わせで構成され
、その2個組内の何れかのプリズムをスライドさせるこ
とによりビームを平行移動させることができろく第4図
参照)、第6図(al (b)はその作用状態を示す図
である。即ち、プリズム15R−1を矢印d方向にスラ
イドさせることにより該プリズム15R−1から出射す
るビームL Rはi方向に平行移動される。
。本例装置はアモルフィックプリズムを用いた点は第2
の実施例の”A’ltと共通するが、各プリズム15R
115Bが各々2個のプリズムの組み合わせで構成され
、その2個組内の何れかのプリズムをスライドさせるこ
とによりビームを平行移動させることができろく第4図
参照)、第6図(al (b)はその作用状態を示す図
である。即ち、プリズム15R−1を矢印d方向にスラ
イドさせることにより該プリズム15R−1から出射す
るビームL Rはi方向に平行移動される。
以上から本発明のビーム走査装置によれば、並列したガ
ラス板、或いはプリズムによって複数のレーザビームの
軸を平行移動させて偏向手段の基準位置に集光させるよ
うにしたので、光路の短縮化と使用部品の省減化が可能
となり、カラーレーザプリンタ装置の簡易化と小型化が
図れる。
ラス板、或いはプリズムによって複数のレーザビームの
軸を平行移動させて偏向手段の基準位置に集光させるよ
うにしたので、光路の短縮化と使用部品の省減化が可能
となり、カラーレーザプリンタ装置の簡易化と小型化が
図れる。
第1図は本発明の第1の実施例のビーム走査装置が組み
込まれたカラープリンタ装置の概略説明図、第2図はそ
の平板ガラスと傾斜調整装置との斜視図、第3図は第2
の実施例のビーム走査装置の説明図、第4図はその作用
説明図、第5図は第3の実施例のビーム走査装置の説明
図、第6図fat(b)はその作用説明図、第7図はは
従来のビーム走査装置が組み込まれたカラープリンタ装
置の概略説明図である。 LR,LGSLB・・・レーザビーム、2・・・回転多
面鏡(偏向手段)、3・・・感材、4R,4G、4B・
・・レーザビーム発生装置、5・・・収束レンズ、6・
・・変調器、7・・・コリメータレンズ、9・・・fθ
レンズ、10・・・露光部、1工・・・ビーム検出器、
12.12R21,2B・・・平板ガラス、13・・・
傾斜調整装置、13A・・・回転盤、13B・・・基盤
、13C・・・調整ネジ、14R,14B、15R,1
5B・・・アモルフィソクブリズム。 第1図 第2図
込まれたカラープリンタ装置の概略説明図、第2図はそ
の平板ガラスと傾斜調整装置との斜視図、第3図は第2
の実施例のビーム走査装置の説明図、第4図はその作用
説明図、第5図は第3の実施例のビーム走査装置の説明
図、第6図fat(b)はその作用説明図、第7図はは
従来のビーム走査装置が組み込まれたカラープリンタ装
置の概略説明図である。 LR,LGSLB・・・レーザビーム、2・・・回転多
面鏡(偏向手段)、3・・・感材、4R,4G、4B・
・・レーザビーム発生装置、5・・・収束レンズ、6・
・・変調器、7・・・コリメータレンズ、9・・・fθ
レンズ、10・・・露光部、1工・・・ビーム検出器、
12.12R21,2B・・・平板ガラス、13・・・
傾斜調整装置、13A・・・回転盤、13B・・・基盤
、13C・・・調整ネジ、14R,14B、15R,1
5B・・・アモルフィソクブリズム。 第1図 第2図
Claims (2)
- (1)、複数のビームを偏向手段に集光反射させて走査
させるようにしたビーム走査装置において、上記偏向手
段の入射側に適数のビーム平行移動手段を配置し、上記
各ビームを上記各平行移動手段により相互に近接・離反
させて上記各ビームの上記偏向手段への入射光軸位置が
調整できるようにしたことを特徴とするビーム走査装置
。 - (2)、上記ビーム軸平行移動手段が、平面で囲まれた
透明体で成ることを特徴とする特許請求の範囲第1項記
載のビーム走査装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63176521A JPH0225827A (ja) | 1988-07-15 | 1988-07-15 | ビーム走査装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63176521A JPH0225827A (ja) | 1988-07-15 | 1988-07-15 | ビーム走査装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0225827A true JPH0225827A (ja) | 1990-01-29 |
Family
ID=16015078
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP63176521A Pending JPH0225827A (ja) | 1988-07-15 | 1988-07-15 | ビーム走査装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0225827A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5210635A (en) * | 1989-04-17 | 1993-05-11 | Dainippon Screen Mfg. Co., Ltd. | Multibeam scanning system |
JP2007292929A (ja) * | 2006-04-24 | 2007-11-08 | Kyocera Mita Corp | マルチビーム走査装置および画像形成装置 |
-
1988
- 1988-07-15 JP JP63176521A patent/JPH0225827A/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5210635A (en) * | 1989-04-17 | 1993-05-11 | Dainippon Screen Mfg. Co., Ltd. | Multibeam scanning system |
JP2007292929A (ja) * | 2006-04-24 | 2007-11-08 | Kyocera Mita Corp | マルチビーム走査装置および画像形成装置 |
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