JPH10325929A - 走査光学装置 - Google Patents
走査光学装置Info
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- JPH10325929A JPH10325929A JP9134779A JP13477997A JPH10325929A JP H10325929 A JPH10325929 A JP H10325929A JP 9134779 A JP9134779 A JP 9134779A JP 13477997 A JP13477997 A JP 13477997A JP H10325929 A JPH10325929 A JP H10325929A
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- laser
- laser light
- scanning optical
- light source
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Abstract
(57)【要約】
【課題】マルチビームレーザ走査光学系において、簡単
な構成で、安価な光学部品を使用し、しかもビーム位置
調整等がしやすいビーム位置間隔調整手段を持つ走査光
学装置を提供する。 【解決手段】半導体レーザ１１，１２，１３からそれぞ
れ射出したレーザビーム２は、ビームスプリッタ１４，
１５により合成され、コリメータレンズ３によって平行
或いは収束光に変換された後、シリンドリカルレンズ４
によって、ポリゴンスキャナの反射面近傍に収束され
る。そして、ポリゴンスキャナ５で反射，偏向されたレ
ーザビーム２は、走査レンズ系６を経て感光体ドラム７
の像面上を走査する。このとき、各ビームの副走査方向
のビーム位置を調整するために、半導体レーザの直後に
配置されたそれぞれの平行平板ユニット２１，２２，２
３の傾き調整を行う。
な構成で、安価な光学部品を使用し、しかもビーム位置
調整等がしやすいビーム位置間隔調整手段を持つ走査光
学装置を提供する。 【解決手段】半導体レーザ１１，１２，１３からそれぞ
れ射出したレーザビーム２は、ビームスプリッタ１４，
１５により合成され、コリメータレンズ３によって平行
或いは収束光に変換された後、シリンドリカルレンズ４
によって、ポリゴンスキャナの反射面近傍に収束され
る。そして、ポリゴンスキャナ５で反射，偏向されたレ
ーザビーム２は、走査レンズ系６を経て感光体ドラム７
の像面上を走査する。このとき、各ビームの副走査方向
のビーム位置を調整するために、半導体レーザの直後に
配置されたそれぞれの平行平板ユニット２１，２２，２
３の傾き調整を行う。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、マルチビームレー
ザ走査光学系のビーム位置間隔調整手段に関するもので
ある。
ザ走査光学系のビーム位置間隔調整手段に関するもので
ある。
【０００２】
【従来の技術】従来より、レーザプリンタ等における走
査光学装置に関し、同時に複数のビームを走査する走査
光学装置において、その複数のビーム相互間の副走査方
向のビーム位置調整を容易にするために、改良が行われ
ている。例えば、特開昭６３−５０８０９号公報に記載
されている如く、２組の半導体レーザとビーム整形用光
学系とを有し、ビーム合成素子により前記２つのビーム
を合成し、感光体面上に２ライン同時に走査を行う光書
き込みユニットにおいて、前記ビーム整形用光学系と少
なくとも一方のビーム合成素子との間に、副走査方向ビ
ーム位置調整用の光学素子を配置した構成が提案されて
いる。
査光学装置に関し、同時に複数のビームを走査する走査
光学装置において、その複数のビーム相互間の副走査方
向のビーム位置調整を容易にするために、改良が行われ
ている。例えば、特開昭６３−５０８０９号公報に記載
されている如く、２組の半導体レーザとビーム整形用光
学系とを有し、ビーム合成素子により前記２つのビーム
を合成し、感光体面上に２ライン同時に走査を行う光書
き込みユニットにおいて、前記ビーム整形用光学系と少
なくとも一方のビーム合成素子との間に、副走査方向ビ
ーム位置調整用の光学素子を配置した構成が提案されて
いる。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
ような構成では、ビーム整形用光学系、具体的には例え
ばコリメータレンズを、ビームが合成される手前の位置
に配置しているので、各ビーム用のコリメータレンズが
必要であり、また、ビーム位置調整用の光学素子とし
て、一般的に高価なプリズムを使用しているので、構成
が複雑となるとともにコストアップとなっていた。
ような構成では、ビーム整形用光学系、具体的には例え
ばコリメータレンズを、ビームが合成される手前の位置
に配置しているので、各ビーム用のコリメータレンズが
必要であり、また、ビーム位置調整用の光学素子とし
て、一般的に高価なプリズムを使用しているので、構成
が複雑となるとともにコストアップとなっていた。
【０００４】ところが、これらの不具合を解消するため
に、使用する光学部品の種類はそのままで、コリメータ
レンズをビームが合成された後の位置に配置すると、各
ビームが整形されていない発散光束であるところにプリ
ズムを挿入する事になり、光軸から離れたところで光路
長差が生じ、ビームが非対称形となる。また、プリズム
は誤差感度が高いので、調整が厳しくなる。
に、使用する光学部品の種類はそのままで、コリメータ
レンズをビームが合成された後の位置に配置すると、各
ビームが整形されていない発散光束であるところにプリ
ズムを挿入する事になり、光軸から離れたところで光路
長差が生じ、ビームが非対称形となる。また、プリズム
は誤差感度が高いので、調整が厳しくなる。
【０００５】本発明は、これらの問題点を解消し、マル
チビームレーザ走査光学系において、簡単な構成で、安
価な光学部品を使用し、しかもビーム位置調整等がしや
すいビーム位置間隔調整手段を持つ走査光学装置を提供
する事を目的とする。
チビームレーザ走査光学系において、簡単な構成で、安
価な光学部品を使用し、しかもビーム位置調整等がしや
すいビーム位置間隔調整手段を持つ走査光学装置を提供
する事を目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明では、複数のレーザ光源と、その各レーザ光
源から出たレーザビームを合成するビーム合成手段とを
有し、前記レーザビームにより感光体面上に複数のライ
ンを同時に走査する走査光学装置において、少なくとも
１つの前記レーザ光源と前記ビーム合成手段との間に、
副走査方向ビーム位置調整用の透明な平行平板を設けた
構成とする。
に、本発明では、複数のレーザ光源と、その各レーザ光
源から出たレーザビームを合成するビーム合成手段とを
有し、前記レーザビームにより感光体面上に複数のライ
ンを同時に走査する走査光学装置において、少なくとも
１つの前記レーザ光源と前記ビーム合成手段との間に、
副走査方向ビーム位置調整用の透明な平行平板を設けた
構成とする。
【０００７】また、前記ビーム合成手段により合成され
たレーザビームを整形するビーム整形用光学系を備えた
構成とする。さらに、前記少なくとも１つのレーザ光源
とは別のレーザ光源と前記ビーム合成手段との間に、主
走査方向ビーム位置調整用の透明な平行平板を設けた構
成とする。
たレーザビームを整形するビーム整形用光学系を備えた
構成とする。さらに、前記少なくとも１つのレーザ光源
とは別のレーザ光源と前記ビーム合成手段との間に、主
走査方向ビーム位置調整用の透明な平行平板を設けた構
成とする。
【０００８】また、前記ビーム合成手段は、ハーフミラ
ーである構成とする事もできる。このとき、前記レーザ
ビーム合成後の非点隔差が焦点深度内である構成とす
る。そして、前記少なくとも１つのレーザ光源からの主
光線と前記平行平板との成す角度と、そのレーザ光源と
は別のレーザ光源からの主光線と前記ハーフミラーとの
成す角度がほぼ等しい構成とする。
ーである構成とする事もできる。このとき、前記レーザ
ビーム合成後の非点隔差が焦点深度内である構成とす
る。そして、前記少なくとも１つのレーザ光源からの主
光線と前記平行平板との成す角度と、そのレーザ光源と
は別のレーザ光源からの主光線と前記ハーフミラーとの
成す角度がほぼ等しい構成とする。
【０００９】また、前記ビーム位置を検出する検出手段
と、前記平行平板を駆動する駆動手段と、前記検出手段
からのビーム位置情報に基づいて所定のビーム位置とな
るように前記駆動手段を制御する制御手段とを備えた構
成とする事もできる。
と、前記平行平板を駆動する駆動手段と、前記検出手段
からのビーム位置情報に基づいて所定のビーム位置とな
るように前記駆動手段を制御する制御手段とを備えた構
成とする事もできる。
【００１０】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て、図面を参照しながら説明する。図１は、本発明の第
１の実施形態を示す走査光学装置の構成図である。同図
において、１１，１２，１３は半導体レーザ（ＬＤ）、
２１，２２，２３はその半導体レーザにそれぞれ対応し
た平行平板ユニット、２はその半導体レーザから出たレ
ーザビーム、３はコリメータレンズ、４はシリンドリカ
ルレンズ、５は偏向器としてのポリゴンスキャナ、６は
アナモフィックな面を含む走査レンズ系、７は感光体ド
ラム、８はＬＤドライブ回路、１４，１５はビームスプ
リッタである。
て、図面を参照しながら説明する。図１は、本発明の第
１の実施形態を示す走査光学装置の構成図である。同図
において、１１，１２，１３は半導体レーザ（ＬＤ）、
２１，２２，２３はその半導体レーザにそれぞれ対応し
た平行平板ユニット、２はその半導体レーザから出たレ
ーザビーム、３はコリメータレンズ、４はシリンドリカ
ルレンズ、５は偏向器としてのポリゴンスキャナ、６は
アナモフィックな面を含む走査レンズ系、７は感光体ド
ラム、８はＬＤドライブ回路、１４，１５はビームスプ
リッタである。
【００１１】同図に示すように、半導体レーザ１１，１
２，１３からそれぞれ射出したレーザビーム２は、ビー
ムスプリッタ１４，１５により合成され、コリメータレ
ンズ３によって平行或いは収束光（又は拡散気味）に変
換された後、シリンドリカルレンズ４によって、ポリゴ
ンスキャナの反射面近傍に収束される。そして、ポリゴ
ンスキャナ５で反射，偏向されたレーザビーム２は、走
査レンズ系６を経て感光体ドラム７の像面上（被走査面
上）を走査する。このとき、各ビームの副走査方向のビ
ーム位置を調整するために、半導体レーザの直後に配置
されたそれぞれの平行平板ユニット２１，２２，２３の
傾き調整を行う。
２，１３からそれぞれ射出したレーザビーム２は、ビー
ムスプリッタ１４，１５により合成され、コリメータレ
ンズ３によって平行或いは収束光（又は拡散気味）に変
換された後、シリンドリカルレンズ４によって、ポリゴ
ンスキャナの反射面近傍に収束される。そして、ポリゴ
ンスキャナ５で反射，偏向されたレーザビーム２は、走
査レンズ系６を経て感光体ドラム７の像面上（被走査面
上）を走査する。このとき、各ビームの副走査方向のビ
ーム位置を調整するために、半導体レーザの直後に配置
されたそれぞれの平行平板ユニット２１，２２，２３の
傾き調整を行う。
【００１２】図２は、前記平行平板ユニットの具体的な
構成図である。同図において、３１は透明な平行平板、
３２は保持部材、３３は保持部材３２の回転軸、３４は
調整ネジであり、平行平板３１は、上記半導体レーザの
主光線に対して垂直に配置されている。このとき、例え
ば平行平板３１の厚さを１ｍｍ、回転角度Δθを１゜、
屈折率は板ガラス相当とすると、上記ビームスプリッタ
に入射する半導体レーザの主光線は、元の位置に対して
概ねΔｔ＝６μｍ平行移動する。平行平板の材質として
は、前記板ガラス或いは透明プラスチックが用いられ
る。
構成図である。同図において、３１は透明な平行平板、
３２は保持部材、３３は保持部材３２の回転軸、３４は
調整ネジであり、平行平板３１は、上記半導体レーザの
主光線に対して垂直に配置されている。このとき、例え
ば平行平板３１の厚さを１ｍｍ、回転角度Δθを１゜、
屈折率は板ガラス相当とすると、上記ビームスプリッタ
に入射する半導体レーザの主光線は、元の位置に対して
概ねΔｔ＝６μｍ平行移動する。平行平板の材質として
は、前記板ガラス或いは透明プラスチックが用いられ
る。
【００１３】また、例えばコリメータレンズ３の焦点距
離を１１ｍｍ、シリンドリカルレンズ４の焦点距離を８
０ｍｍ、走査レンズ系６の副走査倍率βを２とすると、
感光体ドラム７の像面上での主光線の移動量は、 ６×（８０／１１）×２≒８７μｍ となる。これより、像面上で主光線を１０μｍ移動させ
るためには、平行平板３１を約７′回転させれば良い。
平行平板３１を用いない場合は、半導体レーザを直接移
動する事となり、その移動量は、 １０×〔１／（８０／１１）×２〕≒０．７μｍ と、サブミクロンとなり、極めて難しい調整となる。
離を１１ｍｍ、シリンドリカルレンズ４の焦点距離を８
０ｍｍ、走査レンズ系６の副走査倍率βを２とすると、
感光体ドラム７の像面上での主光線の移動量は、 ６×（８０／１１）×２≒８７μｍ となる。これより、像面上で主光線を１０μｍ移動させ
るためには、平行平板３１を約７′回転させれば良い。
平行平板３１を用いない場合は、半導体レーザを直接移
動する事となり、その移動量は、 １０×〔１／（８０／１１）×２〕≒０．７μｍ と、サブミクロンとなり、極めて難しい調整となる。
【００１４】同図において、調整ネジ３４を用いて保持
部材３２を駆動し、平行平板３１を回転させる場合、調
整ネジ３４の移動量をΔｈとおくと、 Δｈ＝Ｌ×ｔａｎ（Δθ） となる。但し、 Ｌ：回転軸３３から調整ネジ３４までの距離 Δθ：平行平板３１の回転角度 である。
部材３２を駆動し、平行平板３１を回転させる場合、調
整ネジ３４の移動量をΔｈとおくと、 Δｈ＝Ｌ×ｔａｎ（Δθ） となる。但し、 Ｌ：回転軸３３から調整ネジ３４までの距離 Δθ：平行平板３１の回転角度 である。
【００１５】ここで、Ｌ＝５０ｍｍとすると、Δｈ≒
０．１ｍｍとなり、平行平板３１を用いないときの約１
４０倍、調整が容易となる。これを調整ネジ３４の回転
角度に換算すると、ネジ部のピッチが０．５ｍｍのと
き、７２゜となる。以上のように、本発明による方法を
用いれば、複数のレーザビームのビーム位置調整を、容
易に且つ精密に行う事ができる。
０．１ｍｍとなり、平行平板３１を用いないときの約１
４０倍、調整が容易となる。これを調整ネジ３４の回転
角度に換算すると、ネジ部のピッチが０．５ｍｍのと
き、７２゜となる。以上のように、本発明による方法を
用いれば、複数のレーザビームのビーム位置調整を、容
易に且つ精密に行う事ができる。
【００１６】尚、本実施形態のように３本のレーザビー
ム相互のビーム位置調整を行うためには、平行平板は２
つの半導体レーザに対して配置するだけで良いが、各ビ
ームの波面収差を揃えるために、３つの半導体レーザ全
てに対して同様の平行平板を配置した方が良い。また、
平行平板はプリズムと比較して安価であるため、使用し
やすく、光学系の設計が容易となる。
ム相互のビーム位置調整を行うためには、平行平板は２
つの半導体レーザに対して配置するだけで良いが、各ビ
ームの波面収差を揃えるために、３つの半導体レーザ全
てに対して同様の平行平板を配置した方が良い。また、
平行平板はプリズムと比較して安価であるため、使用し
やすく、光学系の設計が容易となる。
【００１７】図３は、レーザビームを主走査，副走査の
両方向に調整する例を示している。同図においては、例
えば半導体レーザ１１から出た主光線を平行平板ユニッ
ト２１により主走査方向に調整し、半導体レーザ１２か
ら出た主光線を平行平板ユニット２２により副走査方向
に調整して各ビームをビームスプリッタ１４で結合さ
せ、コリメータレンズ３に導く場合を想定しており、そ
の平行平板ユニット２１において、上記副走査方向の調
整と同じ要領で主走査方向の調整を行う事になる。
両方向に調整する例を示している。同図においては、例
えば半導体レーザ１１から出た主光線を平行平板ユニッ
ト２１により主走査方向に調整し、半導体レーザ１２か
ら出た主光線を平行平板ユニット２２により副走査方向
に調整して各ビームをビームスプリッタ１４で結合さ
せ、コリメータレンズ３に導く場合を想定しており、そ
の平行平板ユニット２１において、上記副走査方向の調
整と同じ要領で主走査方向の調整を行う事になる。
【００１８】このとき、主走査方向に関して、感光体ド
ラム７の像面上での主光線の移動量は、 ３００／１１＝２７倍 となり、像面上での１０μｍの移動量は、平行平板３１
を使わないときの半導体レーザ１１の直接移動量約０．
３７μｍに対応する。これを平行平板３１の回転角度に
換算すると約３′４０″となり、調整ネジ３４の移動量
としては約０．０５ｍｍとなる。これを調整ネジ３４の
回転角度に換算すると３６゜となり、容易に調整できる
値となる。
ラム７の像面上での主光線の移動量は、 ３００／１１＝２７倍 となり、像面上での１０μｍの移動量は、平行平板３１
を使わないときの半導体レーザ１１の直接移動量約０．
３７μｍに対応する。これを平行平板３１の回転角度に
換算すると約３′４０″となり、調整ネジ３４の移動量
としては約０．０５ｍｍとなる。これを調整ネジ３４の
回転角度に換算すると３６゜となり、容易に調整できる
値となる。
【００１９】図４は、本発明の第２の実施形態を示す走
査光学装置の構成図であり、レーザビームの合成を、ビ
ームスプリッタではなくハーフミラーで行う例を示して
いる。１は、そのハーフミラーが含まれる光源ブロック
であり、その詳細を図５に模式的に示す。
査光学装置の構成図であり、レーザビームの合成を、ビ
ームスプリッタではなくハーフミラーで行う例を示して
いる。１は、そのハーフミラーが含まれる光源ブロック
であり、その詳細を図５に模式的に示す。
【００２０】同図において、１６，１７はハーフミラー
であり、半導体レーザ１１からのビームは、これらのハ
ーフミラーを透過してコリメータレンズ３に入射する。
また、半導体レーザ１２，１３からのビームは、それぞ
れハーフミラー１６，１７で反射してコリメータレンズ
３に入射する。このとき、半導体レーザ１１，１２，１
３で生じる非点隔差を補正するため、半導体レーザ１２
とハーフミラー１６との間には平行平板２２が入り、半
導体レーザ１３とハーフミラー１７との間には平行平板
２３が入る。尚、１８はレーザビームの遮蔽板である。
であり、半導体レーザ１１からのビームは、これらのハ
ーフミラーを透過してコリメータレンズ３に入射する。
また、半導体レーザ１２，１３からのビームは、それぞ
れハーフミラー１６，１７で反射してコリメータレンズ
３に入射する。このとき、半導体レーザ１１，１２，１
３で生じる非点隔差を補正するため、半導体レーザ１２
とハーフミラー１６との間には平行平板２２が入り、半
導体レーザ１３とハーフミラー１７との間には平行平板
２３が入る。尚、１８はレーザビームの遮蔽板である。
【００２１】ここでは、この非点隔差補正用の平行平板
を回転させて、副走査方向の調整を行う事ができる。但
し、この場合、レーザビーム合成後の非点隔差は焦点深
度内に収まっている必要がある。そして、半導体レーザ
１１からの主光線とハーフミラー１６との成す角と、半
導体レーザ１２からの主光線と平行平板２２との成す角
がほぼ等しく、また、半導体レーザ１１からの主光線と
ハーフミラー１７との成す角と、半導体レーザ１３から
の主光線と平行平板２３との成す角がほぼ等しくなって
いる事も必要である。
を回転させて、副走査方向の調整を行う事ができる。但
し、この場合、レーザビーム合成後の非点隔差は焦点深
度内に収まっている必要がある。そして、半導体レーザ
１１からの主光線とハーフミラー１６との成す角と、半
導体レーザ１２からの主光線と平行平板２２との成す角
がほぼ等しく、また、半導体レーザ１１からの主光線と
ハーフミラー１７との成す角と、半導体レーザ１３から
の主光線と平行平板２３との成す角がほぼ等しくなって
いる事も必要である。
【００２２】図６は、本発明の第３の実施形態を示す走
査光学装置の構成図であり、フィードバック系を有する
場合の例を示している。同図に示すように、ポリゴンス
キャナ５により、スキャン範囲の手前で反射されたレー
ザビームをミラー２５により反射してビーム位置検出セ
ンサ２６に導き、ここで各レーザビームの位置を検出
し、これらが所定の位置関係になるまで各平行平板ユニ
ット２１，２２，２３内の平行平板を、図示しないモー
タ等の駆動手段により回転駆動するように、図示しない
コントローラ等により制御する事により、自動的に各ビ
ームのビーム位置等の調整をする事ができる。
査光学装置の構成図であり、フィードバック系を有する
場合の例を示している。同図に示すように、ポリゴンス
キャナ５により、スキャン範囲の手前で反射されたレー
ザビームをミラー２５により反射してビーム位置検出セ
ンサ２６に導き、ここで各レーザビームの位置を検出
し、これらが所定の位置関係になるまで各平行平板ユニ
ット２１，２２，２３内の平行平板を、図示しないモー
タ等の駆動手段により回転駆動するように、図示しない
コントローラ等により制御する事により、自動的に各ビ
ームのビーム位置等の調整をする事ができる。
【００２３】尚、本クレームで言うビーム合成手段は、
上記実施形態においてビームスプリッタ，ハーフミラー
に相当し、検出手段はビーム位置検出センサに相当し、
駆動手段はモータ等に相当し、制御手段はコントローラ
等に相当する。
上記実施形態においてビームスプリッタ，ハーフミラー
に相当し、検出手段はビーム位置検出センサに相当し、
駆動手段はモータ等に相当し、制御手段はコントローラ
等に相当する。
【００２４】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
マルチビームレーザ走査光学系において、簡単な構成
で、安価な光学部品を使用し、しかもビーム位置調整等
がしやすいビーム位置間隔調整手段を持つ走査光学装置
を提供する事ができる。
マルチビームレーザ走査光学系において、簡単な構成
で、安価な光学部品を使用し、しかもビーム位置調整等
がしやすいビーム位置間隔調整手段を持つ走査光学装置
を提供する事ができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の第１の実施形態を示す走査光学装置の
構成図。
構成図。
【図２】平行平板ユニットの具体的な構成図。
【図３】レーザビームを主走査，副走査の両方向に調整
する例を示す説明図。
する例を示す説明図。
【図４】本発明の第２の実施形態を示す走査光学装置の
構成図。
構成図。
【図５】光源ブロックの詳細を模式的に示す図。
【図６】本発明の第３の実施形態を示す走査光学装置の
構成図。
構成図。
１ 光源ブロック ２ レーザビーム ３ コリメータレンズ ４ シリンドリカルレンズ ５ ポリゴンスキャナ ６ 走査レンズ系 ７ 感光体ドラム ８ ＬＤドライブ回路 １１〜１３ 半導体レーザ １４，１５ ビームスプリッタ １６，１７ ハーフミラー １８ レーザビームの遮蔽板 ２１〜２３ 平行平板ユニット ２５ ミラー ２６ ビーム位置検出センサ ３１ 平行平板 ３２ 保持部材 ３３ 回転軸 ３４ 調整ネジ
Claims (7)
- 【請求項１】 複数のレーザ光源と、該各レーザ光源か
ら出たレーザビームを合成するビーム合成手段とを有
し、前記レーザビームにより感光体面上に複数のライン
を同時に走査する走査光学装置において、 少なくとも１つの前記レーザ光源と前記ビーム合成手段
との間に、副走査方向ビーム位置調整用の透明な平行平
板を設けた事を特徴とする走査光学装置。 - 【請求項２】 前記ビーム合成手段により合成されたレ
ーザビームを整形するビーム整形用光学系を備えた事を
特徴とする請求項１に記載の走査光学装置。 - 【請求項３】 前記少なくとも１つのレーザ光源とは別
のレーザ光源と前記ビーム合成手段との間に、主走査方
向ビーム位置調整用の透明な平行平板を設けた事を特徴
とする請求項１又は請求項２に記載の走査光学装置。 - 【請求項４】 前記ビーム合成手段は、ハーフミラーで
ある事を特徴とする請求項１に記載の走査光学装置。 - 【請求項５】 前記レーザビーム合成後の非点隔差が焦
点深度内である事を特徴とする請求項４に記載の走査光
学装置。 - 【請求項６】 前記少なくとも１つのレーザ光源からの
主光線と前記平行平板との成す角度と、該レーザ光源と
は別のレーザ光源からの主光線と前記ハーフミラーとの
成す角度がほぼ等しい事を特徴とする請求項４又は請求
項５に記載の走査光学装置。 - 【請求項７】 前記ビーム位置を検出する検出手段と、
前記平行平板を駆動する駆動手段と、前記検出手段から
のビーム位置情報に基づいて所定のビーム位置となるよ
うに前記駆動手段を制御する制御手段とを備えた事を特
徴とする請求項１乃至請求項６のいずれかに記載の走査
光学装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9134779A JPH10325929A (ja) | 1997-05-26 | 1997-05-26 | 走査光学装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9134779A JPH10325929A (ja) | 1997-05-26 | 1997-05-26 | 走査光学装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10325929A true JPH10325929A (ja) | 1998-12-08 |
Family
ID=15136367
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9134779A Pending JPH10325929A (ja) | 1997-05-26 | 1997-05-26 | 走査光学装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH10325929A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7460145B2 (en) | 2001-07-24 | 2008-12-02 | Ricoh Company, Ltd. | Multi-beam pitch adjusting apparatus and image forming apparatus |
| JP2009014941A (ja) * | 2007-07-03 | 2009-01-22 | Futaba Corp | 光書き込みヘッド |
-
1997
- 1997-05-26 JP JP9134779A patent/JPH10325929A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7460145B2 (en) | 2001-07-24 | 2008-12-02 | Ricoh Company, Ltd. | Multi-beam pitch adjusting apparatus and image forming apparatus |
| JP2009014941A (ja) * | 2007-07-03 | 2009-01-22 | Futaba Corp | 光書き込みヘッド |
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