JPH0980331A

JPH0980331A - 複数ビーム走査装置

Info

Publication number: JPH0980331A
Application number: JP23254595A
Authority: JP
Inventors: Yoshiaki Hayashi; 善紀林; Kenji Yamakawa; 健志山川; Takashi Mama; 孝真間; Hidetoshi Kanai; 英俊金井; Kenichi Ono; 健一小野
Original assignee: Ricoh Co Ltd
Current assignee: Ricoh Co Ltd
Priority date: 1995-09-11
Filing date: 1995-09-11
Publication date: 1997-03-28

Abstract

(57)【要約】【課題】複数ビーム走査装置において、ビームピッチの
容易な補正を実現する。【解決手段】ｎ（＞１）個の光源装置から得られる、画
像信号により変調されたｎ本のビームａ，ｂをビーム合
成手段により合成し、合成されたビームを偏向反射面Ｚ
を有する光偏向器により偏向し、結像光学系により、副
走査方向に分離したｎ個の光スポットとして被走査面上
に集光し、一度にｎラインを光走査する複数ビーム走査
装置において、光源装置を変位させることなくｎ個の光
スポットの副走査方向における間隔を調整するビームピ
ッチ補正手段３０を有する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】この発明は複数ビーム走査装
置に関する。

【０００２】

【従来の技術】光源装置から放射されるビームを光偏向
器で偏向させ、偏向されたビームを結像光学系により被
走査面上に光スポットとして集光し、光走査を行なうビ
ーム走査装置は光プリンタをはじめ各種画像形成装置に
関連して広く知られている。

【０００３】このようなビーム走査装置の１種として、
被走査面を複数のビームで同時に光走査する「複数ビー
ム走査装置」が知られている。

【０００４】図８（ａ）に、複数ビーム走査装置の１例
である２ビーム走査装置を示す。

【０００５】光源装置Ａ，Ｂは共に、ＬＤおよびＬＤか
ら放射される発散性の光束をカップリングするカップリ
ングレンズを有し、共に平行なレーザービームをビーム
ａ，ｂとして放射する。

【０００６】光源装置Ａ，Ｂから放射されたビームａ，
ｂは、それぞれシリンダレンズ８，９により副走査対応
方向（光源から被走査面に到る光路上で副走査方向と平
行的に対応する方向）へ収束されつつ、ビーム合成手段
であるプリズム７により合成され、光偏向器であるポリ
ゴンミラー１の偏向反射面に入射する。

【０００７】このときビームａ，ｂはシリンダレンズ
８，９の作用により偏向反射面近傍に主走査対応方向
（光源から被走査面に到る光路上で主走査方向と平行的
に対応する方向）に長い線像として結像する。

【０００８】ポリゴンミラー１の偏向反射面により反射
されたビームは、ポリゴンミラー１の回転に伴い等角速
度的に偏向しつつ結像光学系であるｆθレンズ２に入射
し、ミラー３により光路を折り曲げられ、被走査面５０
上に各ビームａ，ｂがそれぞれ光スポットとして集光
し、被走査面５０を走査する。

【０００９】図８（ｂ）は同図（ａ）におけるポリゴン
ミラー１以後の光路の様子を示している。光源装置Ａ，
Ｂ、シリンダレンズ８，９、プリズム７と共に、ポリゴ
ンミラー１，ｆθレンズ２，ミラー３を保持するハウジ
ング本体４は、その上部が不図示の蓋により閉ざされる
ことにより内部を閉ざす。

【００１０】ミラー３により反射されたビームａ，ｂ
は、ハウジング本体４の底部に開放したスリット状の射
出窓（防塵ガラス１０で塞がれている）から射出し、被
走査面に周面を合致させた光導電性の感光体５に入射す
る。

【００１１】図８（ｃ）に示すように、ビームａ，ｂは
互いに副走査方向（感光体５の回転に伴う周面の移動方
向）に互いに分離した光スポットとして集光するが、ビ
ームａによる光スポットが走査する走査ラインＬａと、
ビームｂによる光スポットが走査する走査ラインＬｂ
（以下、単にビームａ，ｂによる走査ラインという）と
は副走査方向にビームピッチ：ｌだけ分離している。

【００１２】ビームピッチ：ｌは記録密度に応じて定め
られ、例えば６００ｄｐｉの記録密度では４２．３μ
ｍ、４００ｄｐｉの記録密度では６３．５μｍに設定さ
れる。

【００１３】このように定まるビームピッチに応じて、
ポリゴンミラー１及び感光体５の回転速度が設定され、
上記ビームピッチ：ｌで感光体周面が副走査方向に均一
に光走査される。

【００１４】図８（ｄ）は、ビームピッチ：ｌ＝４２．
３が正しく設定され、２ビーム走査が適正に行なわれて
いる状態を示す。感光体の周面は２ビームが１回走査す
る毎に副走査方向へ８４．６（＝４２．３×２）μｍだ
け変位し、ビームａ，ｂによる走査ラインが交互にビー
ムピッチ：４２．３μｍで等間隔に並ぶ。

【００１５】しかるにビームピッチ：ｌが、例えば設定
値である４２，３μｍよりも大きく（例えばｌ＝５０μ
ｍ）なると、図８（ｅ）に示すように、ビームａ，ｂそ
れぞれによる走査ラインの間隔は共に８４．６μｍであ
るが（この間隔は感光体の回転速度により定まる）、ビ
ームａとビームｂによる走査ライン間の間隔は不均一に
なり、適正な画像を書き込むことができず、光走査によ
る記録画像の画質を著しく劣化させる。従って、ビーム
ピッチを可調整とすることが必要である。

【００１６】

【発明が解決しようとする課題】この発明は上述した事
情に鑑み、複数ビーム走査装置において、ビームピッチ
を簡易且つ確実に調整できるようにすることを課題とす
る。

【００１７】

【課題を解決するための手段】この発明の複数ビーム走
査装置は「ｎ（＞１）個の光源装置から得られる、画像
信号により変調されたｎ本のビームを、ビーム合成手段
により合成し、合成されたビームを偏向反射面を有する
光偏向器により偏向し、結像光学系により、副走査方向
に分離したｎ個の光スポットとして被走査面上に集光
し、一度にｎラインを光走査する装置」であって、ｎ本
のビームのうちのｎ−１本以上のビームの光路上に、そ
のビームのみを透過または反射する光学素子を備え、光
源装置を変位させることなく上記光学素子を変位させる
ことにより、上記ｎ個の光スポットの副走査方向におけ
る間隔を調整する「ビームピッチ補正手段」を有するこ
とを特徴とする（請求項１）。

【００１８】光学素子の変位の形態としては、並進変位
や回転・揺動変位あるいはこれらの組み合わせが可能で
ある。

【００１９】上記ビームピッチ補正手段は「ｎ−１以上
の光源装置とビーム合成手段との間に配備されたｎ−１
以上の、光学素子としての透明板もしくは反射板と、こ
れらを副走査対応方向に平行でない軸の回りに揺動させ
る揺動調整手段とを有する」ように構成できる（請求項
２）。

【００２０】ビームピッチ補正手段はまた「ビームに対
して所定角傾いたｎ−１以上の透明板と、これら透明板
を、ｎ−１以上の光源装置とビーム合成手段との間に出
入させる変位手段とを有する」ように構成できる（請求
項３）。

【００２１】またビームピッチ補正手段を「各光源装置
とビーム合成手段との間に配備されて各ビームを光偏向
器の偏向反射面位置に主走査対応方向に長い線像として
結像させるｎ個の線像結像素子のうちのｎ−１個以上
を、主走査対応方向に平行な軸の回りに揺動させる揺動
調整手段を有する」ように構成してもよく（請求項
４）、あるいは「上記ｎ個の線像結像素子のうちのｎ−
１個以上を、副走査対応方向に変位させる変位調整手段
を有する」ように構成しても良い（請求項５）。

【００２２】線像結像素子としては凸のシリンダレンズ
や凹のシリンダミラーを利用することができる。

【００２３】請求項２または３または４または５記載の
複数ビーム走査装置において、ビームピッチ補正手段に
よるビームピッチ補正に基づき「ｎ−１以上の光源装置
におけるビームパワーを調整して、被走査面上の光スポ
ットの光強度を均一化する」ことができ（請求項６）、
あるいは「ｎ−１以上の光源装置からのビームの光束断
面形状を規制するアパーチュアの開口面積を調整して、
被走査面上の光スポットの光強度を均一化する」ことも
できる（請求項７）。

【００２４】請求項１〜７の任意の１に記載の複数ビー
ム走査装置は「ビームピッチを検出するビームピッチ検
出手段」を有することができ（請求項８）、この場合に
おいて、ビームピッチ検出手段の検出結果に基づき「ビ
ームピッチ補正手段を制御する制御手段」を有すること
もできる（請求項９）。

【００２５】請求項１〜９の任意の１に記載の複数ビー
ム走査装置は「温度検出手段と、この温度検出手段によ
る検出温度に応じて、ビームピッチ補正手段を制御する
制御手段と」を有することができる（請求項１０）。

【００２６】

【発明の実施の形態】

【００２７】

【発明の実施の形態】以下、図８（ａ）に示した２ビー
ム走査装置、即ち上記説明においてｎ＝２の場合に就い
て実施の各形態を説明する。

【００２８】図１は請求項２記載の発明の実施の１形態
を説明するための図である。

【００２９】図１において破線で示す面Ｘは「被走査面
と共役関係にある面」で、光源装置Ａ，Ｂの光源である
ＬＤの発光点Ａ₀，Ｂ₀は面Ｘ上にある。光源装置Ａにお
ける発光点Ａ₀は同装置ＡのカップリングレンズＣＰＡ
の光軸上にあり、発光点Ａ₀から放射された発散性のレ
ーザー光束はカップリングレンズＣＰＡにより、その光
軸に平行なビームａにコリメートされる。

【００３０】一方、光源装置Ｂの発光点Ｂ₀はカップリ
ングレンズＣＰＢの光軸に対し、副走査対応方向（図の
上下方向）に所定距離ずれており、発光点Ｂ₀からの光
束はカップリングレンズＣＰＢによりコリメートされる
と、カップリングレンズＣＰＢの光軸に対して傾いたビ
ームｂとなる。

【００３１】これらビームａ，ｂは、それぞれ対応する
シリンダレンズ８，９に入射し、それぞれ副走査対応方
向へ収束傾向を与えられ、ビーム合成手段（図８（ａ）
におけるプリズム７、その合成プリズム面を破線の面Ｙ
で示す）により合成されたのち、光偏向器であるポリゴ
ンミラーの偏向反射面Ｚ上に主走査対応方向（図面に直
交する方向）に長い線像として結像する。

【００３２】図１において符号３０は両面が平行な透明
板を示す。透明板３０は光源装置Ｂとビーム合成手段と
の間、特にシリンダレンズ９とビーム合成手段との間に
配備され、「副走査対応方向に平行でない軸」この例で
は主走査対応方向に平行な軸のまわりに揺動可能であ
り、その傾き角：θ（シリンダレンズ９の光軸に直交す
る面に対する傾き角）を、図示されない「揺動調整手
段」により調整できるようになっている。

【００３３】透明板３０が、シリンダレンズ９から入射
するビームｂの入射方向に直交するときには、ビームｂ
は偏向反射面Ｚ上の位置：ｂ₀に結像する。しかるに、
透明板３０の傾き角を変えると、ビームｂの結像位置は
例えば図の位置：ｂ₀’にずれる。

【００３４】一方、ビームａの光路上には透明板は配備
されないので、ビームａはシリンダレンズ８の作用によ
り偏向反射面Ｚ上の位置：ａ₀（シリンダレンズ８の光
軸位置）に結像する。従って、透明板３０の傾き角：θ
の変化により「ビームａ，ｂの偏向反射面Ｚ上における
結像位置間の距離」はＰ₀，Ｐ₀’のように変化する。勿
論、上記距離は、透明板３０の傾き角を連続的に変化さ
せることにより連続的に変化させることができる。

【００３５】偏向ビームを被走査面上に集光させる結像
光学系（図８（ａ）におけるｆθレンズ２）の「副走査
対応方向における横倍率」をβとすると、ビームａ，ｂ
がそれぞれ被走査面上に光スポットとして結像すると
き、両光スポットの副走査方向における間隔、即ちビー
ムピッチ：ｌは、上記距離：Ｐ₀’に対してビームピッ
チ：ｌ＝β・Ｐ₀’となるから、透明板３０の傾き角：
θを調整して距離Ｐ₀’を変えることによりビームピッ
チを調整できる。

【００３６】上記揺動調整手段としては公知の適宜のも
のを利用できる。上に説明した形態では透明板をビーム
ｂの光路にのみ設けたが、ビームａの光路に設けても良
いし、ビームａ，ｂの各光路上に設けて、ビームピッチ
のみならず各光スポットの副走査方向の結像位置を微調
整するようにしてもよい。

【００３７】以上は光源装置の数：ｎが２の場合である
が、ｎが３以上の場合は、ｎ−１以上の光源装置とビー
ム合成手段との間に、ｎ−１以上の透明板を配し、これ
らを揺動調整手段により副走査対応方向に平行でない軸
の回りにそれぞれ揺動させるようにすればよい。

【００３８】また、上記形態では透明板３０を主走査対
応方向に平行な軸の回りに揺動させたが、揺動軸は副走
査対応方向に平行でなければよく、揺動軸と副走査対応
方向とがなす角が小さいほど、透明板の傾き角の変化に
対して距離Ｐ₀’の変化が小さくなるので、上記揺動軸
と副走査対応方向とがなす角を適宜に小さくして、ビー
ムピッチの微調整を容易にすることが可能である。

【００３９】上記の実施の形態では透明板の揺動によっ
てピッチ調整を行なっているが、ｎ−１以上の反射板を
揺動させることによっても同様の効果が得られる。

【００４０】図２は請求項３記載の発明の実施の１形態
を説明するための図である。混同の虞れがないと思われ
るものについては図１におけると同一の符号を用いた。

【００４１】この形態では、ビームに対して所定角傾い
た透明板３０を、不図示の「変位手段」により光源装置
Ｂとビーム合成手段との間に出入させることにより、ビ
ームピッチを補正する。変位手段としてはソレノイドを
用いたもの等を利用できる。

【００４２】光源装置の数：ｎが３以上の場合は透明板
の数を２以上に増やせば良い。

【００４３】図３は請求項４記載の発明の実施の１形態
を説明するための図である。

【００４４】この形態では、ビームａ，ｂを副走査対応
方向（図の上下方向）に収束させるシリンダレンズ８，
９のうち、ビームｂが入射するシリンダレンズ９のみ
を、不図示の「揺動調整手段」により主走査対応方向
（図面に直交する方向）に平行な軸の回りに揺動させる
ことにより、偏向反射面Ｚ上におけるビームｂの結像位
置をｂ₀，ｂ₀’等のように変化させることによりビーム
ピッチを調整する。

【００４５】シリンダレンズ９の他にシリンダレンズ８
も揺動調整するようにしてもよい。光源装置の数：ｎが
３以上である場合には、揺動調整するシリンダレンズを
２以上にすればよい。

【００４６】図４は請求項５記載の発明の実施の１形態
を説明するための図である。

【００４７】この形態では、ビームａ，ｂを副走査対応
方向（図の上下方向）に収束させるシリンダレンズ８，
９のうち、ビームｂが入射するシリンダレンズ９のみ
を、不図示の「変位調整手段」により副走査対応方向に
変位させることにより、偏向反射面Ｚ上におけるビーム
ｂの結像位置をｂ₀，ｂ₀’等のように変化させることに
よりビームピッチを調整する。

【００４８】シリンダレンズ９の他にシリンダレンズ８
も副走査対応方向に変位調整可能にしてもよい。光源装
置の数：ｎが３以上である場合には、変位調整するシリ
ンダレンズを２以上にすればよい。

【００４９】揺動調整手段や変位調整手段としては公知
の適宜のものを利用できる。

【００５０】図１〜４に即して説明した実施の形態の場
合、ビームピッチの補正に伴い、ビームｂの被走査面へ
の伝達率が変化するので、被走査面を走査する２つの光
スポットの強度がビームピッチ補正に伴い変化する。

【００５１】このような場合、ビームピッチ補正手段に
よるビームピッチ補正に基づき、ｎ−１以上の光源装置
におけるビームパワーの調整により、被走査面上の光ス
ポットの光強度を均一化すること、即ち光スポットごと
の光強度の差異をなくすようにすることができる（請求
項６）。

【００５２】或いはまた、ビームピッチ補正手段による
ビームピッチ補正に基づき、ｎ−１以上の光源装置から
のビームの光束断面形状を規制するアパーチュアの開口
面積を調整して被走査面上の光スポットの光強度を均一
化することも可能である（請求項７）。

【００５３】図５は請求項７記載の発明の実施の形態の
１例を示す図である。この形態では図２に示すビームピ
ッチ補正が前提である。

【００５４】光源装置Ｂとシリンダレンズ９との間にア
パーチュア部材２１が配備されている。アパーチュア部
材２１は大きい開口のアパーチュア２２と小さい開口の
アパーチュア２３とを有し、シリンダレンズ９における
パワーの無い方向、即ち主走査対応方向へ移動可能とな
っている。

【００５５】アパーチュア部材２１はその一端と不動部
材２５との間に緊縮性のバネ２６が掛け渡され、他端は
ソレノイド２４に係止されている。

【００５６】図２においてビームピッチ補正が行なわれ
ないとき、即ち透明板３０がビームｂの光路外に退避し
ているときはソレノイド２４は通電されず、アパーチュ
ア部材２１は、その小さい開口のアパーチュア２３によ
りビームｂの光束断面形状を規制する。

【００５７】ビームピッチ補正が行なわれるときは透明
板３０がビームｂの光路内に挿入され、ビームピッチ補
正に伴いビームｂの被走査面への到達率が減少するの
で、ソレノイド２４に通電し、図５に示すように、大き
い開口のアパーチュア２２により光束断面形状を規制す
ることにより、ビームｂによる光スポットの光強度をビ
ームａによる光強度と等しくする。

【００５８】勿論、アパーチュアの大きさを多段に変化
させたり（この場合、アパーチュアをターレット式に配
置し、回転によりアパーチュア切り替えを行なうのが良
い）アパーチュア部材を回転させてアパーチュアの大き
さを連続的に変化させるようにすることができ、このよ
うな方法で、請求項７記載の発明を図１，３，４に示す
実施の形態の場合に適用することも可能である。

【００５９】これまで説明してきた実施の各形態におい
て、ビームピッチ補正は基本的に手動により行なわれ
る。

【００６０】図６（ａ）は請求項８記載の発明の実施の
１形態を示している。混同の虞れがないと思われるもの
に就いては、図８（ａ），（ｂ）におけると同一の符号
を付した。

【００６１】ポリゴンミラー１により偏向され、ｆθレ
ンズ２を透過したビームは、被走査面の走査に先立ち同
期光検知ミラー１１により反射され、同期光検知ミラー
１１に関して被走査面と共役の関係にある位置に受光面
を配した「ビームピッチ検出手段」としてのＰＳＤ（位
置検出センサ：ビーム照射位置に応じた電気信号を発生
し、ビームａ，ｂそれぞれによる検知出力をサンプルホ
ールドし、電圧比較器で比較することによりビームａ，
ｂのピッチを検出する）１２に受光される。

【００６２】図６（ａ）において符号４０で示すビーム
ピッチ補正手段は、図１〜４に即して説明した何れのも
のでもよい。

【００６３】ビームピッチ補正を手動で行なう場合、Ｐ
ＳＤの出力を図示されないモニターに表示しながら、補
正操作を行なえば補正を簡易に行なうことができる。

【００６４】図６（ｂ）は、図６（ａ）の形態に請求項
９記載の発明を適用した実施の１形態を説明するための
図である。この形態においてはシリンダレンズ９が揺動
調整される。

【００６５】即ち、シリンダレンズ９には揺動軸９１が
取り付けられ、保持体９２に揺動自在に保持されてい
る。上記揺動軸９１はステッピングモータ４３により回
転駆動されるようになっており、ステッピングモータ４
３の回転角はエンコーダ４４で検知されるようになって
いる。

【００６６】ＰＳＤ１２の出力はコンピュータ等である
制御回路４１に取り込まれてビームピッチが検出され
る。制御回路４１はビームピッチ補正が必要であるか否
かを判断し、補正が必要であるときは、検知されている
ビームピッチに照らし、シリンダレンズ９をどの向きに
どの程度回転させるべきかを算出し、その結果に基づき
駆動回路４２によりステッピングモータ４３によりシリ
ンダレンズ９を上記算出された角度だけ回転させる。

【００６７】このようにするとビームピッチ補正を自動
的に行なうことができる。

【００６８】図７は請求項１０記載の発明の実施の１形
態を示している。この形態は「温度検出手段」としてサ
ーミスタ１５を有する。

【００６９】複数ビーム走査装置が長時間連続使用され
ると装置内の温度が上昇し、光学素子や、これらを保持
する保持部が温度変化により膨張して光学系に狂いを生
じ、これがビームピッチを狂わせる原因となる。

【００７０】そこで、サーミスタ１５により装置内温度
を検知し、装置内温度が所定の温度を越えたら、制御回
路４１を用いてビームピッチ補正手段４０を上に説明し
たような具合に制御し、ビームピッチの補正を行なう。

【００７１】なお、図７において符号１６は同期光検知
素子であるＰＩＮフォトダイオードを示す。

【００７２】

【発明の効果】以上に説明したように、この発明によれ
ば複数ビーム走査装置において、ビームピッチを容易且
つ確実に調整でき、良好な複数ビーム走査を実現でき
る。

【図面の簡単な説明】

【図１】請求項２記載の発明の実施の１形態を説明する
ための図である。

【図２】請求項３記載の発明の実施の１形態を説明する
ための図である。

【図３】請求項４記載の発明の実施の１形態を説明する
ための図である。

【図４】請求項５記載の発明の実施の１形態を説明する
ための図である。

【図５】請求項７記載の発明の実施の１形態を説明する
ための図である。

【図６】請求項８，９記載の発明の実施の形態を説明す
るための図である。

【図７】請求項１０記載の発明の実施の１形態を説明す
るための図である。

【図８】複数ビーム走査装置と、その問題点を説明する
ための図である。

【符号の説明】

Ａ₀ 光源装置Ａの発光点Ｂ₀ 光源装置Ｂの発光点ＣＰＡ，ＣＰＢ光源装置Ａ，Ｂのカップリングレンズ８，９シリンドリカルレンズａ，ｂビーム３０透明板Ｚ偏向反射面

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者金井英俊東京都大田区中馬込１丁目３番６号・株式会社リコー内 (72)発明者小野健一東京都大田区中馬込１丁目３番６号・株式会社リコー内

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】ｎ（＞１）個の光源装置から得られる、画
像信号により変調されたｎ本のビームを、ビーム合成手
段により合成し、合成されたビームを偏向反射面を有す
る光偏向器により偏向し、結像光学系により、副走査方
向に分離したｎ個の光スポットとして被走査面上に集光
し、一度にｎラインを光走査する複数ビーム走査装置に
おいて、ｎ本のビームのうちのｎ−１本以上のビームの光路上
に、そのビームのみを透過または反射する光学素子を備
え、光源装置を変位させることなく上記光学素子を変位
させることにより、上記ｎ個の光スポットの副走査方向
における間隔を調整するビームピッチ補正手段を有する
ことを特徴とする複数ビーム走査装置。
【請求項２】請求項１記載の複数ビーム走査装置におい
て、ビームピッチ補正手段が、ｎ−１以上の光源装置とビー
ム合成手段との間に配備されたｎ−１以上の透明板もし
くは反射板と、これらを副走査対応方向に平行でない軸
の回りに揺動させる揺動調整手段とを有することを特徴
とする複数ビーム走査装置。
【請求項３】請求項１記載の複数ビーム走査装置におい
て、ビームピッチ補正手段が、ビームに対して所定角傾いた
ｎ−１以上の透明板と、これら透明板を、ｎ−１以上の
光源装置とビーム合成手段との間に出入させる変位手段
とを有することを特徴とする複数ビーム走査装置。
【請求項４】請求項１記載の複数ビーム走査装置におい
て、ビームピッチ補正手段が、各光源装置とビーム合成手段
との間に配備されて各ビームを光偏向器の偏向反射面位
置に主走査対応方向に長い線像として結像させるｎ個の
線像結像素子のうちのｎ−１個以上を、主走査対応方向
に平行な軸の回りに揺動させる揺動調整手段を有するこ
とを特徴とする複数ビーム走査装置。
【請求項５】請求項１記載の複数ビーム走査装置におい
て、ビームピッチ補正手段が、各光源装置とビーム合成手段
との間に配備されて各ビームを光偏向器の偏向反射面位
置に主走査対応方向に長い線像として結像させるｎ個の
線像結像素子のうちのｎ−１個以上を、副走査対応方向
に変位させる変位調整手段を有することを特徴とする複
数ビーム走査装置。
【請求項６】請求項２または３または４または５記載の
複数ビーム走査装置において、ビームピッチ補正手段によるビームピッチ補正に基づ
き、ｎ−１以上の光源装置におけるビームパワーを調整
して、被走査面上の光スポットの光強度を均一化するこ
とを特徴とする複数ビーム走査装置。
【請求項７】請求項２または３または４または５記載の
複数ビーム走査装置において、ビームピッチ補正手段によるビームピッチ補正に基づ
き、ｎ−１以上の光源装置からのビームの光束断面形状
を規制するアパーチュアの開口面積を調整して、被走査
面上の光スポットの光強度を均一化することを特徴とす
る複数ビーム走査装置。
【請求項８】請求項１または２または３または４または
５または６または７記載の複数ビーム走査装置におい
て、ビームピッチを検出するビームピッチ検出手段を有する
ことを特徴とする複数ビーム走査装置。
【請求項９】請求項８記載の複数ビーム走査装置におい
て、ビームピッチ検出手段の検出結果に基づきビームピッチ
補正手段を制御する制御手段を有することを特徴とする
複数ビーム走査装置。
【請求項１０】請求項１ないし９の任意の１に記載の複
数ビーム走査装置において、温度検出手段を有し、検出温度に応じて、ビームピッチ
補正手段を制御する制御手段を有することを特徴とする
複数ビーム走査装置。