JPH1058740A

JPH1058740A - マルチビーム走査型画像形成装置・走査線ピッチ検出方法・走査線ピッチ検出装置

Info

Publication number: JPH1058740A
Application number: JP21824096A
Authority: JP
Inventors: Kenji Yamakawa; 健志山川; Tatsuya Ito; 達也伊藤
Original assignee: Ricoh Co Ltd
Current assignee: Ricoh Co Ltd
Priority date: 1996-08-20
Filing date: 1996-08-20
Publication date: 1998-03-03

Abstract

(57)【要約】【課題】マルチビーム走査型画像形成装置において、複
数の光スポットで同時に走査される複数走査線の走査線
ピッチを検出する。【解決手段】複数の光源からの光束を、光導電性の感光
体上に、副走査方向に分離した複数の光スポットとして
集光し、これら複数の光スポットにより感光体を同時に
走査するマルチビーム走査型画像形成装置において、複
数の光スポットにより同時に走査される走査線のピッチ
を検出する方法であって、走査領域外に複数の光スポッ
トに共通に配備された受光素子６４１を、複数の光スポ
ットにより繰返し走査しつつ、遮光部材６４２の光通過
部を、走査周期に比してゆっくりと走査直交方向へ変位
させ、光スポットの走査直交方向の間隔である走査線ピ
ッチを、受光素子の出力変化に基づき、光通過部の変位
量として検出する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】この発明はマルチビーム走査
型画像形成装置・走査線ピッチ検出方法・走査線ピッチ
検出装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】画像信号により強度変調させた光束を偏
向させ、被走査面を画像形成のために走査するビーム走
査型画像形成装置は、デジタル複写機や各種光プリンタ
等として広く知られている。近来、走査の高速化を目し
て、一度に複数の走査線を同時走査する「マルチビーム
走査型画像形成装置」が提案されている。

【０００３】マルチビーム走査による画像形成において
留意すべき重要な点の一つは、副走査方向の記録密度を
決定する走査線ピッチが適正に設定されなければならな
いことである。走査線ピッチが適正でないと、書き込ま
れた記録画像の画像密度が副走査方向に周期的に変動し
て記録画像の像質劣化の原因となる。

【０００４】走査線ピッチは、光源部における各光源の
相対的な位置関係や、光源部と被走査面との間にある光
学系の結像倍率等により定まる。上記結像倍率等は、個
々のマルチビーム走査装置に光学系を組付けるときの微
少な組付け誤差によっても微妙に異なる場合が多いし、
たとい設計通りの組付け調整がなされても、マルチビー
ム走査装置の実使用に伴う振動等の影響で経時的に上記
結像倍率が変化してしまうことも考えられる。また、光
源部における複数光源の相対的な位置関係も、ＬＤ（半
導体レーザ）アレイのようなモノリシックな構造のもの
はともかく、独立した複数の半導体レーザを組み合わせ
るような光源部では、光源部ごとの組付け誤差や計時的
な変化が考えられる。

【０００５】近来、マルチビーム走査型画像形成装置に
おいて、記録画像密度を４００ｄｐｉと６００ｄｐｉと
に切り換えることも意図されており、このような場合に
は、各記録画像密度に対して適正な走査線ピッチが実現
される必要がある。

【０００６】このように、マルチビーム走査型画像形成
装置では随時に「適正な走査線ピッチ」を実現する必要
があり、そのためには「走査線ピッチ」の的確な検出が
前提と成る。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】この発明は、走査線ピ
ッチを容易且つ確実に検出できる「走査線ピッチ検出方
法」の実現を課題とする。この発明の別の課題は、上記
走査線ピッチ検出方法を実施するための「走査線ピッチ
検出装置」の実現にある。この発明の他の課題は、走査
線ピッチ検出機能を持った「マルチビーム走査型画像形
成装置」の実現にある。

【０００８】

【課題を解決するための手段】この発明の走査線ピッチ
検出方法は「複数の光源からの光束を、共通の光偏向器
により偏向させ、共通の走査結像光学系により、光導電
性の感光体上に、副走査方向に分離した複数の光スポッ
トとして集光し、これら複数の光スポットにより感光体
を同時に走査するマルチビーム走査型画像形成装置にお
いて、複数の光スポットにより同時に走査される走査線
のピッチを検出する方法」であって、以下の如き特徴を
有する（請求項１）。

【０００９】即ち、走査領域外に「複数の光スポットに
共通に配備された受光素子」を、複数の光スポットによ
り繰返し走査しつつ、受光素子の受光面前側（光が入射
する側）に配備された遮光部材の光通過部を、走査周期
に比してゆっくりと走査直交方向へ変位させ、光スポッ
トの走査直交方向の間隔である走査線ピッチを「受光素
子の出力変化に基づき光通過部の変位量として検出」す
るのである。

【００１０】上記「走査領域」は、光スポットにより画
像記録用の走査が行なわれる主走査領域を意味し、受光
素子が設けられる「走査領域外」は、この走査領域の外
側を意味する。

【００１１】上記受光素子の受光面は、理想的に偏向さ
れる偏向光束の主光線に略直交するように配備される
が、上記受光面上において光スポットの移動する方向が
「走査方向」であり、上記受光面に平行な面内において
走査方向と直交する方向が「走査直交方向」である。

【００１２】上記光通過部の変位量の検出は「遮光部材
を定速：ｖで変位させ、受光素子の出力の変化の時間間
隔：ｔを検出し、演算：ｖ・ｔを行なう」ことにより行
なっても良いし（請求項２）、「遮光部材をステップモ
ータにより変位させ、受光素子の出力変化に対応するス
テップモータのステップ数：ｎと、１ステップに対応す
る遮光部材の単位変位量：Δｄとから、演算：ｎ・Δｄ
を行なう」ことによって行なっても良い（請求項３）この発明の走査線ピッチ検出装置は「複数の光源からの
光束を、共通の光偏向器により偏向させ、共通の走査結
像光学系により、光導電性の感光体上に副走査方向に分
離した複数の光スポットとして集光し、これら複数の光
スポットにより感光体を同時に走査するマルチビーム走
査型画像形成装置において、複数の光スポットにより同
時に走査される走査線のピッチを検出する装置」であっ
て、受光素子と、遮光部材と、変位手段と、変位量検出
手段および制御手段とを有する。

【００１３】「受光素子」は、走査領域外に複数の光ス
ポットに共通に、即ち、複数の光スポットをいずれも受
光できるように配備される。受光素子は、走査領域の走
査開始側に設けても良いし、走査終了側に設けても良
い。受光素子を走査開始側に設ける場合には、この受光
素子を同期光検知用に兼用することができる。

【００１４】「遮光部材」は、この受光素子の受光面前
側（光が入射する側）に配備され、受光素子の受光面に
対して、光通過部を走査直交方向へ変位させ得る。「変
位手段」は、遮光部材の光通過部を、走査直交方向へ変
位させる手段である。

【００１５】「変位量検出手段」は、受光素子の出力に
基づき、遮光部材における光通過部の変位量を検出する
手段である。「制御手段」は、走査線ピッチ検出用に、
複数の光源、光偏向器、変位手段を制御する手段であっ
て、マルチビーム走査型画像形成装置自体における制御
部を兼用でき、具体的にはマイクロコンピュータ等とし
て実現できる。

【００１６】遮光部材は「スリット状の光通過部を持
ち、変位手段により機械的に変位される」ものとするこ
とができる（請求項５）。この場合、変位手段による遮
光部材の変位を「走査直交方向への直線的な変位」とし
てもよいし（請求項６）、変位手段による遮光部材の光
通過部の変位を「遮光部材の回転による変位」とするこ
ともできる（請求項７）。

【００１７】遮光部材はまた「走査方向に長い細幅帯状
の液晶シャッタを走査直交方向へ密接して配列して成る
液晶シャッタアレイ」として構成することができ、この
場合には、各液晶シャッタの開閉により光通過部を変位
させる（請求項８）。

【００１８】この発明のマルチビーム走査型画像形成装
置は「複数の光源からの光束を、共通の光偏向器により
偏向させ、共通の走査結像光学系により、光導電性の感
光体上に副走査方向に分離した複数の光スポットとして
集光し、これら複数の光スポットにより感光体を同時に
走査する装置」であり、請求項４〜８の任意の１に記載
の走査線ピッチ検出装置を有することを特徴とする（請
求項９）。

【００１９】なお、この発明の走査線ピッチ検出方法・
走査線ピッチ検出装置による走査線ピッチ検出は、同時
に走査される走査線が２本である２ビーム走査方式に対
して好適に適用できることは勿論、３ビーム以上を同時
走査する場合にも勿論、適用可能である。

【００２０】

【発明の実施の形態】以下発明の実施の形態を、光源部
における光源の数が２である場合（２ビーム走査）を例
にとって説明する。図２において、符号１０で示す「光
源部」からは、２ビーム走査用の２つの光束が、それぞ
れ平行光束として放射される。放射された２光束は光ス
ポット整形用のアパーチュア板２０の開口部を通過して
シリンダレンズ３０に入射し、副走査対応方向（光源か
ら被走査面に到る光路を直線的に展開した仮想的な光路
上で副走査方向に平行的に対応する方向を言い、上記仮
想的な光路上で主走査方向に平行的に対応する方向を主
走査対応方向と言う）にのみ集光され、光偏向器である
ポリゴンミラー４０の偏向反射面４１の近傍に「主走査
対応方向に長い線像」として結像する。

【００２１】ポリゴンミラー４０が矢印方向へ等速回転
すると、偏向反射面４１により反射された２光束は偏向
光束となり、「走査結像光学系」であるｆθレンズ３２
の作用により、被走査面５０上に２つの光スポットとし
て集光し、被走査面５０を走査する。図示されていない
が、被走査面５０の位置には「光導電性の感光体」が配
備されるので、光スポットは実体的には感光体を走査す
ることになる。

【００２２】光源部１０は、ケーシング１８内に、２つ
の半導体レーザ１１，１２、コリメートレンズ１３，１
４、半導体レーザ１１からの光束の偏光面を９０度旋回
させる１／２波長板１５、半導体レーザ１１，１２から
の光束を合成するビーム合成プリズム１６、合成された
２光束の偏光状態を「シェーディング補正」のために円
偏光状態にするための１／４波長板１７を配備したもの
である。

【００２３】半導体レーザ１１，１２から放射された各
光束は対応するコリメートレンズ１３，１４で平行光束
化されたのちビーム合成プリズム１６に入射する。半導
体レーザ１１からの光束は、ビーム合成プリズム１６に
おける偏光ビームスプリッタ膜１６２を透過してビーム
合成プリズム１６から射出する。半導体レーザ１２から
の光束はビーム合成プリズム１６の斜面１６１で内部反
射し、偏光ビームスプリッタ膜１６２により反射されて
ビーム合成プリズム１６から射出する。

【００２４】コリメートレンズ１３，１４は共に「主走
査対応方向に平行な同一面内」にある。半導体レーザ１
１，１２は、その内の少なくとも一方が、対応するコリ
メートレンズの光軸から主・副走査対応方向に微小距離
ずれている。図２では「半導体レーザ１２のコリメート
レンズ１４の光軸からの副走査対応方向へのずれ」が誇
張して描かれている。即ち、半導体レーザ１１，１２の
発光部を結ぶ直線は主走査対応方向と微少な角：θ_Aを
なし、角：θ_Aの傾きにより、ビーム合成プリズム１６
から射出する２光束は互いに副走査対応方向に微少角傾
いている。

【００２５】この微少角により、被走査面５０上に集光
する２つの光スポットの副走査方向の間隔：Ｐ_Sが定ま
る。また半導体レーザ１１，１２の、対応するコリメー
トレンズの光軸からの主走査対応方向の微少なずれによ
り、ビーム合成プリズム１６から射出する光束は、主走
査対応方向において互いに微少な角：θ_Bをなす。角：
θ_Bにより被走査面５０上に集光する２つの光スポット
の主走査方向の間隔：Ｐ_Mが定まる。

【００２６】光源部１０をコリメートレンズ１３の光軸
の回りに回転させることにより、被走査面５０上の２つ
の光スポットの間隔を一定に保ったまま、これらスポッ
トを結ぶ方向を回転させることができ、このことを利用
して、上記間隔：Ｐ_S，Ｐ_Mを調整することが可能であ
る。

【００２７】図２において、ビーム合成プリズム１６を
射出した２光束は直線偏光の偏光面が互いに直交してお
り、このままでは偏向反射面４１の反射角変化による反
射率の差により「シェーディング」が生じるので、１／
４波長板１７を透過させることにより、これらを円偏光
状態にする。このようにして、合成され、シェーディン
グ補正された２光束が光源部１０から射出する。

【００２８】光源部１０から射出し、ポリゴンミラー４
０により偏向された２光束は走査領域へ向かって偏向す
るが、走査領域へ向かう途上においてｆθレンズ３２を
介してミラー６１に入射して反射され、走査線ピッチ検
出部６４に入射する。走査線ピッチ検出部６４のの出力
は制御部７０に入力され、この制御部７０で、走査線ピ
ッチが検出される。

【００２９】走査線ピッチ検出部６４は、請求項４記載
の発明における「受光素子、遮光部材、変位手段」をま
とめたものである。また制御部７０はマイクロプロセッ
サユニットで構成され、請求項４記載の発明における
「変位量検出手段と制御手段」をまとめたものである。
従って制御部７０は、走査線ピッチ検出用に光源である
半導体レーザ１１，１２の点滅、光偏向器であるポリゴ
ンミラー４０や、走査線ピッチ検出部６４に含まれる変
位手段を制御する。

【００３０】走査線ピッチ検出部６４に含まれる受光素
子の受光面は、ミラー６１を介して被走査面５０と同等
の位置にあり（図２では作図の都合でそのように描かれ
ていない）、２つの偏向光束はｆθレンズ３２の作用
で、受光素子の受光面上に光スポットとして集光する。

【００３１】図１（ａ）は、図２における走査線ピッチ
検出部６４と制御部７０との構成を示す図である。符号
６４１は、同時に走査される２光束Ｌ１，Ｌ２に共通に
設けられた「受光素子」を示す。符号６４２は遮光部
材、符号６４３は遮光部材６４２の、図で上側の端部が
「所定のホームポジションにあるか否か」を検出する公
知の「ホームポジションセンサ」を示す。

【００３２】受光素子６４１の出力はピークホールド回
路６４４でピークホールドされ、Ａ／Ｄ変換器６４５で
デジタル信号化され、制御部７０であるメインプロセッ
サユニット（ＭＰＵ）に入力する。ホームポジションセ
ンサ６４３の出力はＡ／Ｄ変換器６４６でデジタル信号
化されて制御部７０へ入力する。制御部７０は、Ａ／Ｄ
変換器６４５を介してピークホールド回路６４４の「リ
セット」を行なうとともに、ドライバ回路６４８を介し
て変位手段６４７におけるステップモータＭを制御す
る。

【００３３】変位手段６４７は、ステップモータＭを駆
動源として、遮光部材６４２を走査直交方向（図の上下
方向）へ変位させるようになっている。即ち、ステップ
モータＭが１ステップ回転すると、遮光部材６４２は図
の上下方向へ所定の微少距離：Δｄだけ変位する。微少
距離：Δｄは、以下に説明する検出プロセスにより「制
度良く走査線ピッチ（数十μｍ）を検出できる程度」に
細かく設定される。

【００３４】遮光部材６４２は、図１（ｂ）に示すよう
に、遮光性の板であって、走査方向に長いスリット状の
光通過部６４２Ａを有する。光通過部６４２Ａの幅は、
この実施の形態では、光スポットのスポット径の１／１
０程度が想定されているが、特に制限はない。

【００３５】走査線ピッチ検出時には、制御部７０は、
半導体レーザ１１，１２を点灯させ、受光素子６４１の
出力を取り込みつつ、変位手段６４７により遮光部材６
４２を走査直交方向へ変位させる。このとき、遮光部材
６４２の変位は「走査周期に比してゆっくり」と行なわ
れる。従って、遮光部材６４２が変位する間、２光束Ｌ
１，Ｌ２による光スポットは遮光部材６４２上を何度も
走査することになる。

【００３６】図１（ｃ）は、光通過部６４２Ａと光スポ
ットＳＰの関係を示している。遮光部材６４２の光通過
部６４２Ａが走査直交方向（図の上下方向）にゆっくり
と変位していく。光通過部６４２Ａが図１（ｃ）のｃ−
１〜ｃ−５の位置にあるとき、光スポットＳＰ（ガウス
型の強度分布を有する）が走査されると、受光素子６４
１から得られる出力は、上記ｃ−１〜ｃ−５に対応して
図１（ｄ）のｄ−１〜ｄ−５のようになる。従って、ピ
ークホールド回路６４４でピークホールドした結果をサ
ンプリングすれば「ピークホールド値の最大値」がサン
プリングされるとき、光通過部６４２Ａは光スポットＳ
Ｐの中心部にある。従って、このときの光通過部６４２
Ａの位置をもって光スポットＳＰの走査直交方向の位置
であるとすることができる。

【００３７】図１（ｅ）は、遮光部材６４２を走査直交
方向へ移動させつつ、光スポットによる走査を行なうと
きの受光素子の出力の様子を説明図的に示している。

【００３８】図３のフロー図は「走査線ピッチ検出の手
順」を示すものである。検出手順は、遮光部材６４２を
ホームポジションに戻すことから始められる。即ち、制
御部７０はホームポジションセンサ６４３の出力を取り
込みつつステップモータＭを逆回転させ、遮光部材６４
２をホームポジションに戻す（ステップ：Ｓ１，Ｓ
２）。

【００３９】遮光部材６４２がホームポジションに位置
したら、この位置をステップモータＭのステップ：０と
し、この位置からステップモータＭのステップをカウン
トするようにする。

【００４０】この状態で、半導体レーザ１１，１２を点
灯し、ポリゴンミラー４０を回転させ、ステップモータ
Ｍを１ステップずつ回転させ、遮光部材６４２を微少距
離：Δｄずつ走査直交方向へ変位させる。この間、各ス
テップごとに受光素子６４１の出力をピークホールド
し、その結果をデジタル信号化し、制御部７０に取り込
んでサンプリングし（ステップ：Ｓ３）その結果を、ス
テップモータＭのステップ数：ｎと対応させて、制御部
７０のメモリに記憶し、サンプリングが行なわれるたび
にピークホールド回路６４４をリセットする（ステッ
プ：Ｓ４）。このプロセスをステップモータＭの回転角
が最大となるまで繰り返す。

【００４１】遮光部材６４２の光通過部６４２Ａが光ス
ポットの走査位置を走査直交方向へ変位するとき、受光
素子の出力は図１（ｅ）に説明図的に示した如くなるか
ら、光通過部６４２Ａが２つの光スポットの走査する部
位を走査直交方向に変位するとき、受光素子６４１から
は、図１（ｅ）に示すような出力信号の連なりが２連な
り得られる。

【００４２】そこで、これら２連なりの信号をピークホ
ールドしてサンプリングした結果のうち、最初の連なり
における最大値を与えるステップ数：ｎ１と、第２の連
なりにおける最大値を与えるステップ数：ｎ２とを前記
メモリから読み出し、演算処理：（ｎ２−ｎ１）×Δｄ
を実行する（ステップ：Ｓ５）。するとその結果は、検
出すべき走査線ピッチである。この結果は、適当な表示
手段に表示されることになる。

【００４３】上に説明した実施の形態で遮光部材６４２
は、スリット状の光通過部６４２Ａを持ち、変位手段６
４７により機械的に変位され（請求項５）、且つ、変位
は、「走査直交方向への直線的な変位」である（請求項
６）。

【００４４】しかし、遮光部材におけるスリット状の光
通過部の走査直交方向への変位は、「遮光部材の回転に
よる変位」であってもよい（請求項７）。この場合の実
施の形態の例を、図４に示す。

【００４５】図４（ａ）において符号６５０は「円板状
の遮光部材」を示す。遮光部材６５０は、半径方向にス
リット状の光通過部６５１を有し、図示されないモータ
により回転される。符号６６０は、光通過部６５１のホ
ームポジションを定めるための「光カプラ」を示す。２
つの光束Ｌ１，Ｌ２による走査を繰り返しつつ、走査速
度に比してゆっくりと、遮光部材６５０を回転させる。
遮光部材６５０を回転させるモータがステップモータで
ある場合には、上記と同様にして、走査線ピッチを検出
できる。

【００４６】図４（ｂ）に示す実施の形態では、遮光部
材６５３は「円筒状」であって、周面に母線方向に長い
スリット状の光通過部を有し、モータｍにより回転され
る。受光素子６４１は遮光部材６５３の内部に配備され
る。モータｍがステップモータであるときは、上記と同
様にして走査線ピッチを検出できる。なお、遮光部材６
５３のホームポジションは適当な方法で検出する。

【００４７】図４（ａ），（ｂ）の形態において、遮光
部材６５０，６５３の回転がステップモータでなく、等
速回転が可能な場合には、受光素子６４１からの２連な
りの出力の各「連なり」における最大値相互の時間間
隔：ｔを検出し、遮光手段６５０，６５３の回転速度に
より定まる光通過部の移動速度：ｖとの演算：ｖ・ｔを
行なうことによっても走査線ピッチの検出が可能である
（請求項２）。光通過部の形状は「スリット状」に限ら
ず、図４（ｃ）に示すように（円筒状の遮光部材の場合
を例示する）、窓状に開口した光通過部６５６でも良
い。

【００４８】図５に示す実施の形態では、遮光部材６７
０は「液晶シャッタアレイ」であり（請求項８）、走査
方向（図の左右方向）に長い細幅帯状の液晶シャッタＳ
Ｈ１，ＳＨ２，．．，ＳＨｉ，．．．を走査直交方向
（図の上下方向）へ密接して配列して成る。各液晶シャ
ッタの開閉により、開放した液晶シャッタが順次、一つ
づつ走査直交方向にずれるようにすることにより、光通
過部（開放した液晶シャッタ）を走査直交方向に変位さ
せることができる。

【００４９】このように液晶シャッタアレイによる遮光
部材６７０を用いると、遮光部材を機械的に変位する必
要がないから「機械的な変位手段」が不要であり（この
場合、制御部７０が「変位手段」を兼ねることができ
る）、また、「ホームポジション」を検出する必要がな
いので、図２の実施の形態における走査線ピッチ検出部
の機械的構成を簡単化することができる。

【００５０】

【発明の効果】以上に説明したように、この発明によれ
ば新規なマルチビーム走査型画像形成装置・走査線ピッ
チ検出方法・走査線ピッチ検出装置を実現できる。この
発明の走査線ピッチ検出方法・装置によれば、マルチビ
ーム走査型画像形成装置における走査線ピッチを容易且
つ確実に検出できる。

【００５１】またこの発明のマルチビーム走査型画像形
成装置では、走査線ピッチを確実に検出することによ
り、適正な走査線ピッチの設定が可能になる。

【図面の簡単な説明】

【図１】この発明の走査線ピッチ検出装置の実施の１形
態を説明するための図である。

【図２】この発明のマルチビーム走査型画像形成装置の
実施の１形態を特徴部分のみ、説明図的に示す図であ
る。

【図３】図１の実施の形態における走査線ピッチ検出の
手順を示すフロー図である。

【図４】請求項７記載の発明の実施の形態の例を特徴部
分のみ示す図である。

【図５】請求項８記載の発明の実施の形態を特徴部分の
み説明図的に示す図である。

【符号の説明】

６４１受光素子６４２遮光部材６４７変位手段７０制御部

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】複数の光源からの光束を、共通の光偏向器
により偏向させ、共通の走査結像光学系により、光導電
性の感光体上に、副走査方向に分離した複数の光スポッ
トとして集光し、これら複数の光スポットにより上記感
光体を同時に走査するマルチビーム走査型画像形成装置
において、複数の光スポットにより同時に走査される走
査線のピッチを検出する方法であって、走査領域外に複数の光スポットに共通に配備された受光
素子を、上記複数の光スポットにより繰返し走査しつ
つ、上記受光素子の受光面前側に配備された遮光部材の
光通過部を、走査周期に比してゆっくりと走査直交方向
へ変位させ、光スポットの走査直交方向の間隔である走査線ピッチ
を、上記受光素子の出力変化に基づき、上記光通過部の
変位量として検出することを特徴とする走査線ピッチ検
出方法。
【請求項２】請求項１記載の走査線ピッチ検出方法にお
いて、遮光部材を定速：ｖで変位させ、受光素子の出力の変化
の時間間隔：ｔを検出し、演算：ｖ・ｔにより光通過部
の変位量を検出することを特徴とする走査線ピッチ検出
方法。
【請求項３】請求項１記載の走査線ピッチ検出方法にお
いて、遮光部材をステップモータにより変位させ、受光素子の
出力変化に対応する上記ステップモータのステップ数：
ｎと、１ステップに対応する遮光部材の単位変位量：Δ
ｄとから、演算：ｎ・Δｄにより光通過部の変位量を検
出することを特徴とする走査線ピッチ検出方法。
【請求項４】複数の光源からの光束を、共通の光偏向器
により偏向させ、共通の走査結像光学系により、光導電
性の感光体上に副走査方向に分離した複数の光スポット
として集光し、これら複数の光スポットにより上記感光
体を同時に走査するマルチビーム走査型画像形成装置に
おいて、複数の光スポットにより同時に走査される走査
線のピッチを検出する装置であって、走査領域外に、複数の光スポットに共通に配備された受
光素子と、この受光素子の受光面前側に配備され、上記受光面に対
し、光通過部を走査直交方向へ変位させ得る遮光部材
と、上記遮光部材の光通過部を上記走査直交方向へ変位させ
る変位手段と、上記受光素子の出力に基づき、遮光部材における光通過
部の変位量を検出する変位量検出手段と、走査線ピッチ検出用に、上記複数の光源、光偏向器、変
位手段を制御する制御手段とを有することを特徴とする
走査線ピッチ検出装置。
【請求項５】請求項４記載の走査線ピッチ検出装置にお
いて、遮光部材がスリット状の光通過部を持ち、変位手段によ
り機械的に変位されることを特徴とする走査線ピッチ検
出装置。
【請求項６】請求項５記載の走査線ピッチ検出装置にお
いて、変位手段による遮光部材の変位が走査直交方向への直線
的な変位であることを特徴とする走査線ピッチ検出装
置。
【請求項７】請求項５記載の走査線ピッチ選出装置にお
いて、変位手段による遮光部材の光通過部の変位が、遮光部材
の回転による変位であることを特徴とする走査線ピッチ
検出装置。
【請求項８】請求項４記載の走査線ピッチ検出装置にお
いて、遮光部材が、走査方向に長い細幅帯状の液晶シャッタを
走査直交方向へ密接して配列して成る液晶シャッタアレ
イであり、各液晶シャッタの開閉により光通過部を変位させること
を特徴とする走査線ピッチ検出装置。
【請求項９】複数の光源からの光束を、共通の光偏向器
により偏向させ、共通の走査結像光学系により、光導電
性の感光体上に副走査方向に分離した複数の光スポット
として集光し、これら複数の光スポットにより上記感光
体を同時に走査するマルチビーム走査型画像形成装置で
あって、請求項４または５または６または７または８記載の走査
線ピッチ検出装置を有することを特徴とするマルチビー
ム走査型画像形成装置。