JP2002225437A - 光記録媒体 - Google Patents
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Abstract
り、高速記録・消去に対し信頼性が高く、且つマルチス
ピード記録及びCAV記録が可能な光記録媒体を提供す
ること。 【解決手段】 円盤状の基板上に少なくとも相変化型記
録層を有する光記録媒体において、記録層の構成元素が
主にGe、Ga、Sb及びTeであり、それぞれの組成
比α、β、γ及びδ(原子%)がα+β+γ+δ=10
0としたとき、0.1≦α≦7、1≦β≦9、61≦γ
≦75、22≦δ≦30であることを特徴とする光記録
媒体。
Description
るものであり、さらに詳しくはレーザービームを照射す
ることにより記録層材料に層変化を生じさせ、情報の記
録・再生を行い、かつ書き換えが可能である相変化型光
記録媒体に関する。
および消去可能な光メモリー媒体のひとつとして、結晶
−非結晶相間あるいは結晶−結晶相間の転移を利用す
る、いわゆる相変化型記録媒体がよく知られている。特
に光磁気メモリーでは困難な単一ビームによるオーバー
ライトが可能であり、ドライブ側の光学系もより単純で
あることなどから、最近その研究開発が活発になってい
る。例えば米国特許第3530441号明細書に開示さ
れているように、Ge−Te、Ge−Te−Sn、Ge
−Te−S、Ge−Se−S、Ge−Se−Sb、Ge
−As−Se、In−Te、Se−Te、Se−Asな
どのいわゆるカルコゲン系合金材料があげられる。また
安定性、高速結晶化などの向上を目的に、Ge−Te系
にAu(特開昭61−219692号公報)、Snおよ
びAu(特開昭61−270190号公報)、Pd(特
開昭62−19490号公報)などを添加した材料の提
案や、記録/消去のくり返し性能向上を目的に、Ge−
Te−Se−Sb、Ge−Te−Sbの組成比を特定し
た材料(特開昭62−73438号公報、特開昭63−
228433号公報)の提案などもなされている。しか
し、そのいずれもが相変化型書換可能な光メモリー媒体
として要求される諸特性のすべてを満足しうるものとは
いえない。特に、記録感度、消去感度の向上、オーバー
ライト時の消し残りによる消去比低下の防止、ならびに
記録部、未記録部の長寿命化が解決すべき最重要課題と
なっている。
状態が実質的に3元以上の多元化合物単層からなる記録
層を具備した記録媒体が提案されている。ここで実質的
に三元以上の多元化合物単層とは三元以上の化学量論組
成を持った化合物(例えばIn3SbTe2)を記録層
中に90原子%以上含むものとされている。このような
記録層を用いることにより記録、消去特性の向上が図れ
るとしている。しかしながら消去比が小さい、記録消去
に要するレーザーパワーが未だ充分に低減されてはいな
いなどの欠点を有している。
は(SbaTe1−a)1−yMy(ここで0.4≦a
≦0.7、y≦0.2であり、MはAg、Al、As、
Au、Bi、Cu、Ga、Ge、In、Pb、Pt、S
e、Si、Sn及びZnからなる群より選ばれる少なく
とも1種である)で表される組成の合金からなる記録層
を有する光記録媒体が提案されている。この系の基本は
Sb2Te3であり、Sb過剰にすることにより、高速
消去、繰り返し特性を向上させ、Mの添加により高速消
去を促進させている。加えて、DC光による消去比も大
きいとしている。しかし、この文献にはオーバーライト
時の消去比は示されておらず(本発明者らの検討結果で
は消し残りが認められた)、記録感度も不十分である。
は、記録層に(In1−xSbx)1−yMy(0.5
5≦x≦0.80、0≦y≦0.20であり、MはA
u、Ag、Cu、Pd、Pt、Al、Si、Ge、G
a、Sn、Te、Se、Biである)なる合金を用い、
また、特開昭63−228433号公報では記録層にG
eTe−Sb2Te3−Sb(過剰)なる合金を用いて
いるが、いずれも感度、消去比等の特性を満足するもの
ではなかった。
録薄膜をTe−Ge−Sb合金にNを含有させることに
よって形成し、特開平4−52188号公報には記録薄
膜をTe−Ge−Se合金にこれら成分のうちの少なく
とも一つが窒化物となっているものを含有させて形成
し、特開平4−52189号公報には記録薄膜がTe−
Ge−Se合金にNを吸着させることによって形成し、
これら記録薄膜をそれぞれ設けた光記録媒体が記載され
ている。
性を有するものを得ることはできていない。これまでみ
てきたように、光記録媒体においては、特に記録感度、
消去感度の向上、オーバーライト時の消し残りによる消
去比低下の防止、並びに記録部、未記録部の長寿命化が
解決すべき最重要課題となっている。
急速な普及にともない、一回だけの書き込みが可能な追
記型コンパクトディスク(CD−R)が開発され、市場
に普及されはじめた。しかし、CD−Rでは書き込み時
に一度でも失敗すると修正不可能なためそのディスクは
使用不能となってしまい廃棄せざるを得ない。したがっ
て、その欠点を補える書き換え可能なコンパクトディス
クの実用化が待望されていた。研究開発された一つの例
として、光磁気ディスクを利用した書き換え可能なコン
パクトディスクがあるが、オーバーライトの困難さや、
CD−ROM、CD−Rとの互換がとりにくい等といっ
た欠点を有するため、原理的に互換確保に有利な相変化
型光ディスクの実用化開発が活発化してきた。
なコンパクトディスクの研究発表例としては、古谷
(他):第4回相変化記録研究会シンポジウム講演予稿
集,70(1992)、神野(他):第4回相変化記録
研究会シンポジウム講演予稿集,76(1992)、川
西(他):第4回相変化記録研究会シンポジウム講演予
稿集,82(1992)、T.Handa(et a
l):Jpn.J.Appl.Phys.,32(19
93)、米田(他):第5回相変化記録研究会シンポジ
ウム講演予稿集,9(1993)、富永(他):第5回
相変化記録研究会シンポジウム講演予稿集,5(199
3)のようなものがあるが、いずれもCD−ROMやC
D−Rとの互換性確保、記録消去性能、記録感度、書き
換えの繰り返し可能回数、再生回数、保存安定性等、総
合性能を充分満足させるものではなかった。それらの欠
点は、主に記録材料の組成、構造に起因する消去比の低
さによるところが大きかった。
の記録、消去に適する相変化型記録材料の開発、さらに
は高性能で書き換え可能な相変化型コンパクトディスク
が望まれていた。本発明者等は、それらの欠点を解決す
る新材料として、AgInSbTe系記録材料を見出し
提案してきた。その代表例としては 特開平4−780
31号公報、特開平4−123551号公報、H.Iw
asaki(et al):Jpn.J.Appl.P
hys.,31(1992)461、井手(他):第3
回相変化記録研究会シンポジウム講演予稿集,102
(1991)、H.Iwasaki(et al):J
pn.J.Appl.Phys.,32(1993)5
241等があげられる。また、1996年10月には、
書き換え可能なコンパクトディスク(CD−RW)の規
格として、オレンジブックパートIII(ver1.0)
が発行された。オレンジブックパートIII(ver1.
0)は、2x線速度記録(2.4〜2.8m/s)のC
D−RWに対する規格であるが、このような低線速度の
記録では、記録時間が長くかかってしまい、より高速記
録の書き換え可能なコンパクトディスクが望まれた。
を向上させる方式としては、様々な記録補償方式が開示
されている。例えば、特開昭63−266632号公報
記載のものでは、結晶化速度の大きい記録膜を用いた場
合のPWM記録において、パルス列を用いて長いアモル
ファスマークを記録する方式が有効であるとしている。
また、特開昭63−266633号公報及び米国特許第
5150351号明細書に記載のものでは、パルス列の
先頭及び後尾のレーザーエネルギーを高めたり、照射時
間を長くすることにより、マークエッジの位置揺らぎを
抑えることでジッタの改良を行っている。また、従来、
特公昭63−29336号公報に記載されているよう
に、光ディスク記録装置においてレーザー光などの光ス
ポットを光ディスク上に照射しながら走査し、レーザー
光などの光スポットを情報信号で強弱変調して光ディス
クに情報信号を記録する方法は知られており、また、光
ディスクに記録された情報信号を再生してその再生信号
の振幅や記録マークの長さをモニターすることにより記
録光パワーや記録光パルスの幅などの記録条件を最適に
調整し、設定する方法も知られている。また、特開平9
−138946公報、特開平9−138947号公報、
特開平9−219021号公報には、図1に示すよう
に、情報記録媒体にPWM記録することにより情報の記
録を行う際に、変調後の信号幅がnT(Tはクロック時
間)である0信号の記録あるいは書き換えを行う時の記
録波をパワーレベルeの連続電磁波とし、変調後信号幅
がnTである1信号の記録あるいは書き換えを行う時の
記録波パルス列を、時間幅xとパワーレベルaを持つパ
ルス部fpと、合計でTの時間幅を持つパワーレベルb
の低レベルパルス部とパワーレベルcの高レベルパルス
とが交互にデューティ比yで計(n−n’)回連続する
マルチパルス部mpと、時間幅zとパワーレベルdを持
つパルス部opを有する電磁波パルス列とし、x,y,
zを0.5T≦x≦2.0T、0.4≦y≦0.6、
0.5T≦z≦1.0Tとし、n’をn’≦nの正の整
数とし(a及びc)≧e≧(b及びd)とすることが開
示されている。従来の技術により、大幅に、記録信号品
質とオーバーライト繰り返し時の安定性の向上、信頼
性、汎用性の向上は図られた。しかし、近年、書換え型
情報記録媒体、特に相変化型光記録媒体においては、一
つの情報記録媒体で、複数の線速度で記録(マルチスピ
ード記録)できる技術が求められている。また、記録速
度の高速化が求められており、高速記録に有利なCAV
記録も要求されるようになってきた。これらの技術的な
要求に対して、上記の特開平9−138946号公報、
特開平9−138947号公報、特開平9−21902
1号公報に記載の技術では対応できなかった。例えば、
CD線速度4xで記録できるfp、mp、opをもつ記
録ストラテジで、8x速度記録、および10x速度記録
した場合に、8x速度記録、および10x速度記録では
十分な信号品質が得られなかった。さらには、CD線速
度4x記録した部分への10x速度記録のオーバーライ
ト、あるいはCD線速度10x記録した部分への4x速
度記録のオーバーライトといった異なる記録線速度によ
るオーバーライトでの信号品質の劣化が問題となってい
る。また、CLV記録した部分へのCAV記録でのオー
バーライト、あるいはCAV記録した部分へのCLV記
録でのオーバーライトといった異なる記録方式によるオ
ーバーライトでの信号品質の劣化も問題となっている。
満足し、より高速での記録と高温での保存・使用信頼性
の確保を両立できるに足る相変化型光ディスクを獲得す
ることが従来の課題である。加えて、マルチスピードC
LV記録及びCAV記録によるオーバーライト信号品質
の安定性の向上や、汎用的記録ストラテジで記録可能な
ことが従来の課題である。
べて解消するため、以下の項目を目的とする。第一の目
的は、高線速領域で記録・消去を行うのに最適な光記録
媒体を提供することである。また第二の目的は、高速記
録・消去における信頼性の良好な光記録媒体を提供する
ことである。第三の目的は、この光記録媒体において、
マルチスピードCLV記録及びCAV記録が可能な光記
録媒体を提供することである。
に鋭意検討した結果、これに合致する光記録媒体を見出
した。すなわち本発明によれば、円盤状の基板上に少な
くとも相変化型記録層を有する光記録媒体において、前
記記録層の構成元素が主にGe、Ga、Sb及びTeで
あり、それぞれの組成比α、β、γ及びδ(原子%)が
α+β+γ+δ=100としたとき、 0.1≦α≦7 1≦β≦9 61≦γ≦75 22≦δ≦30 であることを特徴とする光記録媒体が提供される。また
本発明によれば、記録層に、In、Zn、Sn、Si、
Pb、Co、Cr、Cu、Ag、Au、Pd、Pt、
S、Se、Ta、Nb、V、Bi、Zr、Ti、Al、
Mn、Mo、Rh、C、NおよびOから選ばれた少なく
とも一種類以上の元素を添加したことを特徴とする前記
の光記録媒体が提供される。また本発明によれば、Ge
及びGaの組成比が、−8≦α−β≦3であることを特
徴とする前記の光記録媒体が提供される。また本発明に
よれば、Sb及びTeの組成比が、γ+δ≧88である
ことを特徴とする前記の光記録媒体が提供される。また
本発明によれば、レーザー光を光記録媒体に照射するこ
とにより前記光記録媒体の記録層に相変化を生じさせ、
前記光記録媒体に対する情報の記録、再生を行い、かつ
書き換えが可能である情報記録再生方法が適用される前
記の光記録媒体において、信号を変調して情報記録媒体
にPWM記録することにより情報の記録を行う際に、変
調後の信号幅がnT(但し、Tはクロック時間)である
0信号の記録あるいは書き換えを行う時の記録波をパワ
ーレベルeの連続光とし、変調後信号幅がnTである1
信号の記録あるいは書き換えを行う時の記録波パルス列
を、時間幅xとパワーレベルaを持つパルス部fpと、
合計でTの時間幅を持つパワーレベルbの低レベルパル
スとパワーレベルcの高レベルパルスとが交互にデュー
ティ比yで計(n−n’)回連続するマルチパルス部m
pと、時間幅zとパワーレベルdを持つパルス部opを
有するパルス列とし、x,y,zを0.5T≦x≦2.
0T、0.125≦y≦0.875、0.125T≦z
≦1.0Tとし、n’をn’≦nの正の整数とし(a及
びc)≧e≧(b及びd)とするマルチスピード記録及
び/またはCAV記録が可能な前記光記録媒体が提供さ
れる。また本発明によれば、パルス部mpのデューティ
比yが記録線速度によって増減することを特徴とする前
記の光記録媒体が提供される。
例を説明するための図である。基本的な構成は、案内溝
を有する基板1上に第1保護層2、記録層3、第2保護
層4、反射放熱層5、オーバーコート層6を有する。さ
らに、好ましくは、オーバーコート層上に印刷層7、基
板鏡面に、ハードコート層8を有する。
あるいは樹脂であり、樹脂基板が成型性、コストの点で
好適である。樹脂の例としてはポリカーボネート樹脂、
アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ポリスチレン樹脂、アク
リロニトリル−スチレン共重合体樹脂、ポリエチレン樹
脂、ポリプロピレン樹脂、シリコーン系樹脂、フッ素系
樹脂、ABS樹脂、ウレタン樹脂などがあげられるが、
成型性、光学特性、コストの点で優れるポリカーボネー
ト樹脂、アクリル系樹脂が好ましい。ただし、本発明の
光記録媒体を書き換え可能なコンパクトディスク(CD
−RW)に応用する場合には、以下のような特定の条件
が付与されることが望ましい。その条件は、使用する基
板に形成される案内溝(グルーブ)の幅が0.25〜
0.65μm、好適には0.30〜0.55μm、その
案内溝の深さが250〜650Å、好適には300〜5
50Åとなっていることである。基板の厚さは特に制限
されるものではないが、1.2mm、0.6mmが好適
である。
を含む4元系の相変化型記録材料を主成分として含有す
る材料が、記録(アモルファス化)感度・速度、消去
(結晶化)感度・速度、及び消去比が極めて良好なため
適している。しかしながら、GeGaSbTeは、その
組成比によって最適な記録線速度が存在する。そのた
め、目的とする記録線速度および線速度領域によって、
GeGaSbTeの組成比を調整する必要がある。これ
までの検討の結果、GeGaSbTe記録層のTeの組
成比が記録線速度に高い相関があることを見出した。
単に記録消去できるだけでなく、信号の再生安定性や信
号の寿命も同時に要求される。これらを総合的に満足で
きる記録層として、GeGaSbTe系が優れており、
それぞれの組成比α、β、γ、δ(原子%)がα+β+
γ+δ=100としたとき、 0.1≦α≦7.0 1≦β≦9 61≦γ≦75 22≦δ≦30 の場合に効果的であった。
超、Sbが75at%超では、信号の再生安定性や信号
の寿命が不充分であった。Teの含有量は再結晶化線速
度に大きく影響するため、記録層厚や他の層の熱伝導率
によって制御したとしても少なくとも、22at%以上
30at%以下である必要があった。
る方法として、記録層にIn、Zn、Sn、Si、P
b、Co、Cr、Cu、Ag、Au、Pd、Pt、S、
Se、Ta、Nb、V、Bi、Zr、Ti、Al、M
n、Mo、Rh、C、N及びOから選ばれた少なくとも
一種類以上の元素を添加することが効果的であった。信
号の再生劣化や信号の寿命低下は、非晶質マークの結晶
化が原因であった。非晶質マークの結晶化を抑制するた
めには、前記から選ばれた少なくとも一種類以上の元素
を記録層に添加することが効果的であった。このメカニ
ズムは明確ではないが、これらの元素はGeGaSbT
eの空間的隙間に入ったり、化学結合を形成すること
で、GeGaSbTeと化合物または合金を形成し、非
晶質マークの結晶化を抑制する添加剤と考えられてい
る。よって原子半径が小さかったり、Ge−GaSbT
eとの化学結合力が大きかったり、化学結合手が多い元
素が効果的である。特にC、N、O、Si、Sn、Ag
が効果的である。これら添加元素の量は、記録層の7a
t%以下が効果的である。7at%超では、GeGaS
bTe記録層の本来有する記録消去特性に影響を与えて
しまい、消し残りの原因となってしまう。
ける保存信頼性は極めて重要な項目である。本発明では
GeとGaの組成の関係において、−8≦α−β≦3の
時、高線速対応性と保存信頼性のバランスが両立するこ
とを見出した。α−βが3超では、記録・消去時の最適
線速が遅くなる傾向が見られた。またα−βが−8未満
では、光記録媒体の保存性が不十分であった。故に−8
≦α−β≦3の場合に、両者の特性のバランスを取るの
に効果的であった。
記録媒体の反射率、特に初期化時の反射率確保が重要と
なる。本発明では、SbとTeの組成の関係において、
γ+δ≧88とすることにより、初期化時に必要な反射
率に到達することを見出した。
適には12〜30nmとするのがよい。さらにジッター
等の初期特性、オーバーライト特性、量産効率を考慮す
ると、好適には14〜25nmとするのがよい。10n
mより薄いと光吸収能が著しく低下し、記録層としての
役割を果たさなくなる。また、50nmより厚いと高速
で均一な相変化がおこりにくくなる。このような記録層
は、各種気相成長法、たとえば真空蒸着法、スパッタリ
ング法、プラズマCVD法、光CVD法、イオンプレー
ティング法、電子ビーム蒸着法などによって形成でき
る。なかでも、スパッタリング法が、量産性、膜質等に
優れている。
(誘電体層)の材料としては、SiO、SiO2、Zn
O、SnO2、Al2O3、TiO2、In2O3、M
gO、ZrO2などの金属酸化物、Si3N4、Al
N、TiN、BN、ZrNなどの窒化物、ZnS、In
2S3、TaS4などの硫化物、SiC、TaC、B4
C、WC、TiC、ZrCなどの炭化物やダイヤモンド
状カーボンあるいは、それらの混合物があげられる。こ
れらの材料は、単体で保護層とすることもできるが、互
いの混合物としてもよい。また、必要に応じて不純物を
含んでもよい。必要に応じて、誘電体層を多層化するこ
ともできる。ただし、第1誘電体層および第2誘電体層
の融点は記録層よりも高いことが必要である。このよう
な第1誘電体層および第2誘電体層の材料としては、各
種気相成長法、たとえば真空蒸着法、スパッタリング
法、プラズマCVD法、光CVD法、イオンプレーティ
ング法、電子ビーム蒸着法などによって形成できる。な
かでも、スパッタリング法が、量産性、膜質等に優れて
いる。第1誘電体層の膜厚は、反射率に大きく影響す
る。780nmと650nmの再生波長でCD−RWデ
ィスクの規格である反射率0.15〜0.25を満足す
るためには、第1誘電体層を65〜130nmとするこ
とが要求される。この膜厚に設定することにより、65
0nmであるDVDの再生波長の反射率を満足し、DV
Dの再生互換も得ることができる。第2誘電体層の膜厚
としては、15〜45nm、好適には20〜40nmと
するのがよい。15nmより薄くなると耐熱性保護層と
しての機能を果たさなくなる。また、感度の低下を生じ
る。一方、45nmより厚くなると、界面剥離を生じや
すくなり、繰り返し記録性能も低下する。
Cu、Ta、Ti、Wなどの金属材料、またはそれらの
合金などを用いることができる。また添加元素として
は、Cr、Ti、Si、Cu、Ag、Pd、Taなどが
使用される。このような反射放熱層は、各種気相成長
法、たとえば真空蒸着法、スパッタリング法、プラズマ
CVD法、光CVD法、イオンプレーティング法、電子
ビーム蒸着法などによって形成できる。合金または金属
層の膜厚としては、70〜200nm、好適には100
〜160nmとするのがよい。また、合金または金属層
を多層化することも可能である。多層化した場合では、
各層の膜厚は少なくとも10nm以上必要で、多層化膜
の合計膜厚は50〜160nmとするのがよい。
オーバーコート層を有することが望ましい。オーバーコ
ート層としては、スピンコートで作製した紫外線硬化樹
脂が一般的である。その厚さは、3〜15μmが適当で
ある。3μm未満では、オーバーコート層上に印刷層を
設ける場合、エラーの増大が認められることがある。一
方、15μm超の厚さでは、内部応力が大きくなってし
まい、ディスクの機械特性に大きく影響してしまう。
作製した紫外線硬化樹脂が一般的である。その厚さは、
2〜6μmが適当である。2μm未満では、十分な耐擦
傷性が得られない。6μm超の厚さでは、内部応力が大
きくなってしまい、ディスクの機械特性に大きく影響し
てしまう。その硬度は、布でこすっても大きな傷がつか
ない鉛筆硬度であるH以上とする必要がある。必要に応
じて、導電性の材料を混入させ、帯電防止を図り、埃等
の付着を防止することも効果的である。
記録の場合、低線速度では過剰な記録パワーとなり、高
線速度では記録パワー不足となってしまう。したがっ
て、記録線速度と記録パワーのバランスをとることが重
要となる。具体的な方法としては、高線速記録の場合ほ
ど、高パワーとすることが、CD−R等にみられるよう
に一般的である。図2は、記録パルス波形を説明するた
めの図であるが、本発明では、図2のmp部のデューテ
ィ比を、記録線速度で増減させることが有効である事を
見出した。ここで述べているデューティー比とは、mp
部における低レベルパルスのパワーレベルbの時間を、
mp部の時間幅で割ったものである。またこの情報記録
方法は、記録層がGe、Ga、Sb、Teを主成分とす
る情報記録媒体に特に有効であった。これはGe、G
a、Sb、Teを主成分とする記録層の熱物性が、本記
録パルス波にマッチングされているためである。
4x〜10x記録のマルチスピード記録の記録波形を示
す。この例は、内周4.8m/s、外周12.0m/s
のCAV記録にも対応している。この例では、記録線速
度4.8、9.6、12.0m/sで、それぞれmpの
デューティ比0.625、0.5、0.375と、記録
線速度の増大にあわせて、mpのデューティ比を減少さ
せている。4.8m/sの低線速度記録では、mpの記録
パルスを細くすることで、余分な熱ダメージを軽減し、
かつmp部の冷却時間を長くすることで、エッジの位置
ずれの少ないマークを記録することができる。一方、1
2.0m/sの高線速度記録では、mp部の記録パルス
を太くすることで、記録膜に相変化できるだけのエネル
ギーを与えることができるようになり、かつ、高速のた
めmp部の冷却時間が短くても記録層の急冷条件が整
い、エッジの位置ずれの少ないマークを記録することが
できる。記録層の溶融、急冷をともなう相変化型光記録
媒体において、記録パルスのmpのデューティが0.5
近傍であることが記録層の溶融、急冷のバランスがとれ
ており、種々の信号品質、オーバーライトに有利であ
る。したがって、ドライブ−メディアのマッチングを考
慮する上で、mpのデューティ比0.5を、マルチスピ
ード記録におけるいかなる記録線速において設定するか
が課題となる。本発明では、mpのデューティが0.5
となる記録線速度を、(最低記録線速度+最高記録線速
度)/2より大きく、最高記録線速度以下とすること
が、有効であった。マルチスピード記録可能なドライブ
においてよく利用される記録線速度は、最高記録線速度
である。CAV記録では、機械特性の影響を受けやすい
外周部で高速記録となる。よって、CAV記録でも、高
速記録の信号品質がより重要になってくる。このような
ことから、実用上より信頼性の高い記録を行うために
は、信頼性の高いmpのデューティ比0.5の記録パル
ス波形を高速記録側に設定する事が有効であった。さら
に、mpのデューティ比が0.5となる記録線速度が、
0.55x(最低記録線速度+最高記録線速度)より大
きく、かつ最高記録線速度以下とすることがより効果的
であった。
置の実施形態を説明するための図である。相変化型光記
録媒体をスピンドルモータからなる駆動手段により回転
駆動し、記録再生用ピックアップにて光源駆動手段とし
てのレーザー駆動回路により半導体レーザーからなる光
源を駆動して、前記半導体レーザーから図示しない光学
系を介して光記録媒体にレーザー光として、図3に示し
たような記録線速度でmpのデューティ比を増減させた
レーザー光を照射することにより前記光記録媒体の記録
層に相変化を生じさせ、光記録媒体からの反射光を記録
再生用ピックアップで受光して光記録媒体に対する情報
の記録や再生を行う。記録再生用ピックアップの最適記
録パワーは記録パワー設定手段としての記録パワー設定
回路により設定される。相変化型光記録媒体の記録再生
装置は、記録再生用ピックアップにてレーザー光を相変
化型光記録媒体に照射することにより前記光記録媒体の
記録層に相変化を生じさせ、光記録媒体に対する情報の
記録、再生を行い、かつ書換えが可能である相変化型光
記録再生装置であり、記録すべき信号を変調部で変調し
て記録再生用ピックアップにて光記録媒体に記録するこ
とにより情報の記録を行う記録手段を備えている。この
ピックアップを含む記録手段は、光記録媒体の記録層に
対してマークの幅として信号を記録するようマークを記
録する、いわゆるPWM記録方式で情報の記録を行う。
記録手段は記録すべき信号を変調部にてクロックを用い
て、例えば書き換え型コンパクトディスクの情報記録に
適したEFM(Eight-to-Fourteen M
odulation)変調方式、あるいはその改良変調
方式で変調する。記録手段は、PWM記録を行う際に、
変調後の信号幅がnT(nは所定の値、Tはクロック時
間:信号の変調に用いるクロックの周期に相当する時
間)である0信号の記録あるいは書き換えを行う時の記
録光をパワーレベルeの連続光とし、変調後の信号幅が
nTである1信号の記録あるいは書き換えを行う時の記
録光のパルス列、時間幅xとパワーレベルaを持つパル
ス部fpと、合計でTの時間幅を持つパワーレベルbの
低レベルパルスとパワーレベルcの高レベルパルスとが
交互に出て、デューティ比yで計(n−n’)回連続す
るマルチパルス部mpと、時間幅zとパワーレベルdを
持つパルス部opからなるレーザー波パルス列とし、
x、y、zをそれぞれ0.5T≦x≦2.0T、0.1
25T≦y≦0.875T、0.125T≦y≦1.0
Tとし、nを1以上の正の整数とし、n’をn’≦nの
正の整数とし、(aおよびc)>e>(bおよびd)と
する。図3は、n’=1の場合である。
幅0.5μm、深さ35nmの案内溝を有する1.2m
m厚のポリカーボネート基板を成型し、この基板上に第
1保護層、記録層、第2保護層および反射放熱層を順次
スパッタ法により積層した。第1保護層および第2保護
層にはZnSSiO2を用い、膜厚はそれぞれ90n
m、30nmとした。記録層は表1の実施例に示す組成
を用い、膜厚は18nmとした。反射放熱層にはアルミ
ニウム合金を使用し、基板/ZnSSiO2(90n
m)/GeGaSbTe(18nm)/ZnSSiO2
(30nm)/Al合金(140nm)という層構成を
形成した。さらに、紫外線硬化樹脂のスピンコートによ
るハードコート、オーバーコートを形成し、相変化型光
記録媒体を作成した。次に大口径LDを有する初期化装
置によって、光記録媒体の記録層の全面結晶化処理を行
った。さらに、オーバーコート層上に印刷層を形成し
た。以上の方法で得た相変化型光記録媒体は、表1の実
施例1〜6に記載の記録線速度、ならびにmp部のデュ
ーティ比を持つパルス波で記録した。本実施例で使用し
た光記録装置は図4に示したものと同様であり、波長7
80nm、NA0.5のピックアップを有するものを用
いた。記録信号は、EFM変調された入力信号とした。そ
れぞれの線速で記録した信号を1.2m/sで再生した
結果、それぞれ22ns、20ns、23nsと良好な
初期ジッターが得られた。それぞれの記録線速での、オ
ーバーライト1000回後のジッターは、それぞれ32
ns、30ns、33nsと良好であった。また温度8
0℃、湿度85%環境内で500時間保存した後におい
て、記録層の酸化及びディスク特性の変化は認められ
ず、良好な保存特性が得られた。
Sb、Teとし、膜厚及び記録層の組成を特定化するこ
とにより、高線速領域(4.8〜48m/s)での記録
・消去が可能で、かつ信号の再生安定性や信号の寿命等
の総合特性に優れた光記録媒体を獲得できる。 (2)記録層の主成分がGe、Ga、Sb、Teである
光記録媒体において、記録層にIn、Zn、Sn、S
i、Pb、Co、Cr、Cu、Ag、Au、Pd、P
t、S、Se、Ta、Nb、V、Bi、Zr、Ti、M
n、Mo、Rh、N、Oから選ばれた少なくとも一種類
以上の元素を添加することにより、高線速領域における
信号の再生安定性や信号の寿命が向上する光記録媒体を
獲得できる。 (3)記録層の主成分中において、Ge―Ga間の組成
関係を特定化することにより、高線速対応性と保存信頼
性のバランスが両立した光記録媒体を獲得できる。 (4)記録層の主成分中において、Sb−Te間の組成
関係を特定化することにより、高線速領域において初期
化時や記録・消去時に必要な反射率に到達する光記録媒
体を獲得できる。 (5)光記録媒体各層の膜厚及び記録層の組成を特定化
し、かつ光記録媒体への情報記録をPWM記録で行う際
に、信号の記録あるいは書き換えを行う時の記録波パル
ス列の、fpとepの時間幅とmpのデューティ比を特
定化することにより、汎用的記録ストラテジによる高線
速記録が可能である光記録媒体を獲得できる。 (6)光記録媒体への情報記録をPWM記録で行う際
に、信号の記録あるいは書き換えを行う時の記録波パル
ス列の、パルス部mpのデューティ比yを記録線速度に
よって増減させることによって、マルチスピード記録あ
るいはCAV記録が可能な光記録媒体を獲得できる。
である。
記録のマルチスピード記録の記録波形を示す図である。
を説明するための図である。
Claims (6)
- 【請求項1】 円盤状の基板上に少なくとも相変化型記
録層を有する光記録媒体において、前記記録層の構成元
素が主にGe、Ga、Sb及びTeであり、それぞれの
組成比α、β、γ及びδ(原子%)がα+β+γ+δ=
100としたとき、 0.1≦α≦7 1≦β≦9 61≦γ≦75 22≦δ≦30 であることを特徴とする光記録媒体。 - 【請求項2】 記録層に、In、Zn、Sn、Si、P
b、Co、Cr、Cu、Ag、Au、Pd、Pt、S、
Se、Ta、Nb、V、Bi、Zr、Ti、Al、M
n、Mo、Rh、C、NおよびOから選ばれた少なくと
も一種類以上の元素を添加したことを特徴とする請求項
1に記載の光記録媒体。 - 【請求項3】 Ge及びGaの組成比が、−8≦α−β
≦3であることを特徴とする請求項1又は2に記載の光
記録媒体。 - 【請求項4】 Sb及びTeの組成比が、γ+δ≧88
であることを特徴とする請求項1,2,3のいずれかに
記載の光記録媒体。 - 【請求項5】 レーザー光を光記録媒体に照射すること
により前記光記録媒体の記録層に相変化を生じさせ、前
記光記録媒体に対する情報の記録、再生を行い、かつ書
き換えが可能である情報記録再生方法が適用される請求
項1,2,3,4のいずれかに記載の光記録媒体におい
て、信号を変調して情報記録媒体にPWM記録すること
により情報の記録を行う際に、変調後の信号幅がnT
(但し、Tはクロック時間)である0信号の記録あるい
は書き換えを行う時の記録波をパワーレベルeの連続光
とし、変調後信号幅がnTである1信号の記録あるいは
書き換えを行う時の記録波パルス列を、時間幅xとパワ
ーレベルaを持つパルス部fpと、合計でTの時間幅を
持つパワーレベルbの低レベルパルスとパワーレベルc
の高レベルパルスとが交互にデューティ比yで計(n−
n’)回連続するマルチパルス部mpと、時間幅zとパ
ワーレベルdを持つパルス部opを有するパルス列と
し、x,y,zを0.5T≦x≦2.0T、0.125
≦y≦0.875、0.125T≦z≦1.0Tとし、
n’をn’≦nの正の整数とし(a及びc)≧e≧(b
及びd)とするマルチスピード記録及び/またはCAV
記録が可能な前記光記録媒体。 - 【請求項6】 パルス部mpのデューティ比yが記録線
速度によって増減することを特徴とする請求項5に記載
の光記録媒体。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001038288A JP2002225437A (ja) | 2000-12-01 | 2001-02-15 | 光記録媒体 |
Applications Claiming Priority (3)
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---|---|---|---|
JP2000-367361 | 2000-12-01 | ||
JP2000367361 | 2000-12-01 | ||
JP2001038288A JP2002225437A (ja) | 2000-12-01 | 2001-02-15 | 光記録媒体 |
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---|---|
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JP2001038288A Pending JP2002225437A (ja) | 2000-12-01 | 2001-02-15 | 光記録媒体 |
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Country | Link |
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JP (1) | JP2002225437A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2005075212A1 (ja) | 2004-02-05 | 2005-08-18 | Ricoh Company, Ltd. | 相変化型情報記録媒体及びその製造方法、スパッタリングターゲット、並びに相変化型情報記録媒体の使用方法及び光記録装置 |
US8124315B2 (en) | 2004-09-09 | 2012-02-28 | Ricoh Company, Ltd. | Optical recording medium |
-
2001
- 2001-02-15 JP JP2001038288A patent/JP2002225437A/ja active Pending
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2005075212A1 (ja) | 2004-02-05 | 2005-08-18 | Ricoh Company, Ltd. | 相変化型情報記録媒体及びその製造方法、スパッタリングターゲット、並びに相変化型情報記録媒体の使用方法及び光記録装置 |
US7438965B2 (en) | 2004-02-05 | 2008-10-21 | Ricoh Company, Ltd. | Phase-change information recording medium, manufacturing method for the same, sputtering target, method for using the phase-change information recording medium and optical recording apparatus |
US8124315B2 (en) | 2004-09-09 | 2012-02-28 | Ricoh Company, Ltd. | Optical recording medium |
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