JP2002225432A

JP2002225432A - 光記録媒体

Info

Publication number: JP2002225432A
Application number: JP2001025913A
Authority: JP
Inventors: Yasunobu Ueno; 泰伸植野; Tsutomu Sato; 勉佐藤; Tatsuya Tomura; 辰也戸村; So Noguchi; 宗野口
Original assignee: Ricoh Co Ltd
Current assignee: Ricoh Co Ltd
Priority date: 2001-02-01
Filing date: 2001-02-01
Publication date: 2002-08-14
Anticipated expiration: 2021-02-01
Also published as: JP3868744B2

Abstract

(57)【要約】（修正有）【課題】従来システムに比べて、短波長に発振波長を
有する半導体レーザーを用いるＤＶＤ−Ｒディスクシス
テムに適用可能な耐光性、保存安定性に優れた光記録媒
体中の記録材料を提供すること。【解決手段】基板上に記録層を設けてなる光記録媒体
において、記録媒体中に一般式（Ｉ）で示されるアゾ化
合物と、金属、金属酸化物またはその塩からなるアゾ金
属キレートアニオン化合物と、一般式（II）で示される
スチリル色素カチオン化合物からなる色素塩を少なくと
も一種類含有することを特徴とする光記録媒体。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、データ用大容量追
記光ディスク、例えば大容量追記型コンパクトディス
ク、ＤＶＤ−Ｒに関するものであり、大容量光カード等
に応用される。

【０００２】

【従来の技術】（情報記録用）追記型記録媒体（ＷＯＲ
Ｍ）の従来技術としては、シアニン色素を記録材料とし
て用いたものが、特開昭５７−８２０９３号公報、特開
昭５８−５６８９２号公報、特開昭５８−１１２７９０
号公報、特開昭５８−１１４９８９号公報、特開昭５９
−８５７９１号公報、特開昭６０−８３２３６号公報、
特開昭６０−８９８４２号公報、特開昭６１−２５８８
６号公報等に開示されており、フタロシアニン色素を記
録材料として用いたものが、特開昭６１−１５０２４３
号公報、特開昭６１−１７７２８７号公報、特開昭６１
−１５４８８８号公報、特開昭６１−２４６０９号公
報、特開昭６２−３９２８６号公報、特開昭６３−３７
９９１号公報、特開昭６３−３９８８８号公報等に開示
されている。

【０００３】また、追記型コンパクトディスク（ＣＤ−
Ｒ）の従来技術としては、シアニン色素＋金属反射層を
記録材として用いたものが、特開平１−１５９８４２号
公報、特開平２−４２６５２号公報、特開平２−１３６
５６号公報、特開平２−１６８４４６号公報等に開示さ
れており、フタロシアニン色素＋金属反射層を記録材と
して用いたものが、特開平１−１７６５８５号公報、特
開平３−２１５４６６号公報、特開平４−１１３８８６
号公報、特開平４−２２６３９０号公報、特開平５−１
２７２号公報、特開平５−１７１０５２号公報、特開平
５−１１６４５６号公報、特開平５−９６８６０号公
報、特開平５−１３９０４４号公報等に開示されてお
り、アゾ金属キレート色素＋金属反射層を記録材として
用いたものが、特開平４−４６１８６号公報、特開平４
−１４１４８９号公報、特開平４−３６１０８８号公
報、特開平５−２７９５８０号公報、特開平７−５１６
７３号公報、特開平７−１６１０６９号公報、特開平７
−３７２７２号公報、特開平７−７１８６７号公報、特
開平８−２３１８６６号公報、特開平８−２９５８１１
号公報等に開示されている。

【０００４】また、大容量追記型コンパクトディスク
（ＤＶＤ−Ｒ）の従来技術としては、シアニン色素／金
属反射層を記録材料として用いたものが、ＩＳＯＭ／Ｏ
ＤＳ’９６:High density of recording on Dye materi
al Disc approach for 4.7G、特開平１０−２３５９９
９号公報等に挙げられ、アゾメチン色素＋金属反射層を
記録材として用いたものが、特開平８−１９８８７２号
公報、特開平８−２０９０１２号公報、特開平８−２８
３２６３号公報、特開平１０−２７３４８４号公報等に
開示されており、アゾ金属キレート色素＋金属反射層を
記録材として用いたものが、特公平５−６７４３８号公
報、特開平７−１６１０６９号公報、特開平８−１５６
４０８号公報、特開平８−２３１８６６号公報、特開平
８−３３２７７２号公報、特開平９−５８１２３号公
報、特開平９−１７５０３１号公報、特開平９−１９３
５４５号公報、特開平９−２７４７３２号公報、特開平
９−２７７７０３号公報、特開平１０−６６４４号公
報、特開平１０−６６５０号公報、特開平１０−６６５
１号公報、特開平１０−３６６９３号公報、特開平１０
−４４６０６号公報、特開平１０−５８８２８号公報、
特開平１０−８６５１９号公報、特開平１０−１４９５
８４号公報、特開平１０−１５７２９３号公報、１０−
１５７３００号公報、特開平１０−１５７３０１号公
報、特開平１０−１５７３０２号公報、特開平１０−１
８１１９９号公報、特開平１０−１８１２０１号公報、
特開平１０−１８１２０３号公報、特開平１０−１８１
２０６号公報、特開平１０−１８８３４０号公報、特開
平１０−１８８３４１号公報、特開平１０−１８８３５
８号公報、特開平１０−２０８３０３号公報、特開平１
０−２１４４２３号公報、特開平１０−２２８６７１号
公報、特開平１０−３６６９３号公報、特開平１１−１
２４８３号公報、特開平１１−２８８６５号公報、特開
平１１−４２８５８号公報、特開平１１−１０２５３７
号公報、特開平１１−１１６８３４号公報、特開平１１
−１６６１２５号公報、特開平１１−１２０６１６号公
報、特開平１１−１３０９７０号公報、特開平１１−１
３８９９９号公報、特開平１１−１３４７０８号公報、
特開平１１−１３８９９９号公報、特開平１１−１５１
８６１号公報、特開平１１−１５１８６２号公報、特開
平１１−２０８１１１号公報、特開平１１−２１３４４
２号公報、特開２０００−３６１２９号公報等に開示さ
れており、アゾ金属キレートアニオン色素＋シアニンカ
チオン色素を記録材として用いたものが、ＷＯ９８／２
９２５７号公報、特開平１１−３４４９９号公報、特開
平１１−１９５２４２号公報、特開平１１−２５０５０
５号公報、特開２０００−１６８２３７号公報、特開２
０００−１９０６４１号公報、特開２０００−１９０６
４２号公報、特開２０００−１９８２７３号公報等に開
示されており、その他の色素＋金属反射層を記録材とし
て用いたものが、特開平１０−８６５１７号公報、特開
平１０−９３７８８号公報、特開平１０−２２６１７２
号公報、特開平１０−２４４７５２号公報、特開平１０
−２８７８１９号公報、特開平１０−２９７１０３号公
報、特開平１０−３０９８７１号公報、特開平１０−３
０９８７２号公報、特開平１１−１２９６２４号公報等
に開示されている。

【０００５】現在、次世代大容量光ディスクとしてＤＶ
Ｄ−Ｒの開発が進められている。記録容量の向上の要素
技術として、記録ピット微少化のための記録材料開発、
ＭＰＥＧ２に代表される画像圧縮技術の採用、記録ピッ
ト読み取りのための半導体レーザの短波長化等の技術開
発が必要である。

【０００６】これまで赤色波長域の半導体レーザとして
は、バーコードリーダ、計測器用２６７０ｎｍ帯のＡｌ
ＧａＩｎＰレーザダイオードが商品化されているのみで
あったが、光ディスクの高密度化に伴い、赤色レーザが
本格的に光ストレージ市場で使用されつつある。ＤＶＤ
ドライブの場合、光源として６３５ｎｍ帯と６５０ｎｍ
帯のレーザダイオードの２つの波長で規格化されてい
る。一方、再生専用のＤＶＤ−ＲＯＭドライブは波長〜
６５０ｎｍで商品化されている。

【０００７】このような状況下で最も好ましいＤＶＤ−
Ｒメディアは、波長６３０〜６７０ｎｍで記録、再生が
可能なメディアである。しかしながら、耐光性、保存安
定性に優れ、６７０ｎｍ以下のレーザを用いた光ピック
アップで記録、再生が可能な記録材料は未だに開発され
ていない。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、従来システ
ムに比べて、短波長に発振波長を有する半導体レーザー
を用いるＤＶＤ−Ｒディスクシステムに適用可能な耐光
性、保存安定性に優れた光記録媒体中の記録材料を提供
することを目的とする。

【０００９】

【課題を解決するための手段】本発明者等は鋭意検討し
た結果、特定の構造を有する色素を主成分とする記録層
とすることにより、発振波長６７０ｎｍ以下の半導体レ
ーザーを用いる次世代大容量光ディスクシステムに適用
可能な光記録媒体が提供できることを見い出し本発明に
至った。

【００１０】上記課題は、本発明の（１）「基板上に記
録層を設けてなる光記録媒体において、記録媒体中に一
般式（Ｉ）で示されるアゾ化合物と、金属、金属酸化物
またはその塩からなるアゾ金属キレートアニオン化合物
と、一般式（II）で示されるスチリル色素カチオン化合
物からなる色素塩を少なくとも一種類含有することを特
徴とする光記録媒体。

【００１１】

【化４】

【００１２】

【化５】一般式（Ｉ）において、Ｒ₁〜Ｒ₈はそれぞれ独立に水素
原子、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、水酸基、カ
ルボキシ基、アミノ基、置換もしくは未置換のアルキル
基、置換もしくは未置換のアリール基、置換もしくは未
置換の複素環残基、置換もしくは未置換のアルキルカル
ボニル基、置換もしくは未置換のアリールカルボニル
基、置換もしくは未置換のアルキルオキシカルボニル
基、置換もしくは未置換のアリールオキシカルボニル
基、置換もしくは未置換のアルキルスルホニル基、置換
もしくは未置換のアリールスルホニル基、置換もしくは
未置換のアルキルチオオキシ基、置換もしくは未置換の
アリールチオオキシ基、置換もしくは未置換のアルキル
オキシ基、置換もしくは未置換のアリールオキシ基、置
換もしくは未置換のアルキルアミノ基、置換もしくは未
置換のアリールアミノ基、置換もしくは未置換のアルキ
ルカルボニルアミノ基、置換もしくは未置換のアリール
カルボニルアミノ基、置換もしくは未置換のアルキルカ
ルバモイル基、置換もしくは未置換のアリールカルバモ
イル基、置換もしくは未置換のアルケニル基を表わし、
ＸおよびＹは活性水素を有する基を表わす。また、Ｒ₁
とＲ₂、Ｒ₂とＲ₃、Ｒ₃とＲ₄、Ｒ₅とＲ₆、Ｒ₆とＲ₇、も
しくはＲ₇とＲ₈は連結して環を形成していても良い。一
般式（II）において、Ｒ₉〜Ｒ₁₃はそれぞれ独立に水素
原子、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、水酸基、カ
ルボキシ基、アミノ基、置換もしくは未置換のアルキル
基、置換もしくは未置換のアリール基、置換もしくは未
置換の複素環残基、置換もしくは未置換のアルキルカル
ボニル基、置換もしくは未置換のアリールカルボニル
基、置換もしくは未置換のアルキルオキシカルボニル
基、置換もしくは未置換のアリールオキシカルボニル
基、置換もしくは未置換のアルキルスルホニル基、置換
もしくは未置換のアリールスルホニル基、置換もしくは
未置換のアルキルチオオキシ基、置換もしくは未置換の
アリールチオオキシ基、置換もしくは未置換のアルキル
オキシ基、置換もしくは未置換のアリールオキシ基、置
換もしくは未置換のアルキルアミノ基、置換もしくは未
置換のアリールアミノ基、置換もしくは未置換のアルキ
ルカルボニルアミノ基、置換もしくは未置換のアリール
カルボニルアミノ基、置換もしくは未置換のアルキルカ
ルバモイル基、置換もしくは未置換のアリールカルバモ
イル基、置換もしくは未置換のアルケニル基を表わし、
Ａ環はカチオン化された窒素原子を結合したヘテロ環残
基を表わし、ｎは１または２を表わす。」、（２）「前
記アゾ金属キレートアニオン化合物が、下記一般式（II
I）で示されることを特徴とする前記第（１）項に記載
の光記録媒体。

【００１３】

【化６】一般式（III）において、Ｒ₁₄及びＲ₁₅はそれぞれ独立
に水素原子、置換もしくは未置換のアルキル基、置換も
しくは未置換のアリール基を表わし、Ｒ₁₆及びＲ₁₇はそ
れぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、シア
ノ基、置換もしくは未置換のアルキル基、置換もしくは
未置換のアリール基を表わし、Ｒ₁₈〜Ｒ ₂₁はそれぞれ独
立に水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、水
酸基、カルボキシ基、アミノ基、置換もしくは未置換の
アルキル基、置換もしくは未置換のアリール基、置換も
しくは未置換の複素環残基、置換もしくは未置換のアル
キルカルボニル基、置換もしくは未置換のアリールカル
ボニル基、置換もしくは未置換のアルキルオキシカルボ
ニル基、置換もしくは未置換のアリールオキシカルボニ
ル基、置換もしくは未置換のアルキルスルホニル基、置
換もしくは未置換のアリールスルホニル基、置換もしく
は未置換のアルキルチオオキシ基、置換もしくは未置換
のアリールチオオキシ基、置換もしくは未置換のアルキ
ルオキシ基、置換もしくは未置換のアリールオキシ基、
置換もしくは未置換のアルキルアミノ基、置換もしくは
未置換のアリールアミノ基、置換もしくは未置換のアル
キルカルボニルアミノ基、置換もしくは未置換のアリー
ルカルボニルアミノ基、置換もしくは未置換のアルキル
カルバモイル基、置換もしくは未置換のアリールカルバ
モイル基、置換もしくは未置換のアルケニル基を表わ
し、Ｍは金属または金属酸化物を表わし、ｍは１または
２を表わす。また、Ｒ₁₈とＲ₁₉、Ｒ₁₉とＲ₂₀、もしくは
Ｒ₂₀とＲ₂₁は連結して環を形成していても良い。」、
（３）「前記スチリル色素カチオン化合物のカチオン化
された窒素原子を結合したヘテロ環残基が、ピリジン環
残基、キノリン環残基、チアゾール環残基、ベンゾチア
ゾール環残基、オキサゾール環残基、ベンゾオキサゾー
ル環残基、インドリン環残基、ベンゾインドリン環残基
より選ばれることを特徴とする前記第（１）項に記載の
光記録媒体」、（４）「前記アゾ金属キレートアニオン
化合物の金属または金属酸化物の価数が２価または３価
であることを特徴とする前記第（１）項又は第（２）項
に記載の光記録媒体」、（５）「前記アゾ金属キレート
アニオン化合物の金属原子が、コバルト、バナジウム、
アルミニウム、クロムより選ばれることを特徴とする前
記第（１）項、第（２）項、第（４）項のいずれか１に
記載の光記録媒体」、（６）「記録再生波長±５ｎｍの
波長領域の光に対する記録層単層の屈折率ｎが１．５≦
ｎ≦３．０であり、消衰係数ｋが０．０２≦ｋ≦０．２
であることを特徴とする前記第（１）項乃至第（５）項
のいずれか１に記載の光記録媒体」、（７）「有機色素
の熱重量分析で、主減量過程での温度に対する減量の傾
きが２％／℃以上であることを特徴とする前記第（１）
項乃至第（６）項のいずれか１に記載の光記録媒体」、
（８）「有機色素の熱重量分析で、主減量過程での総減
量が３０％以上で、かつ減量開始温度が３５０℃以下で
あることを特徴とする前記第（１）項乃至第（７）項の
いずれか１に記載の光記録媒体」、（９）「前記基板上
のトラックピッチが０．７〜０．８μｍであり、溝幅が
半値幅で０．１８〜０．４０μｍであることを特徴とす
る前記第（１）項乃至第（８）項のいずれか１に記載の
光記録媒体」により達成される。

【００１４】また、上記課題は、本発明の（１０）「前
記第（１）項乃至第（９）項のいずれか１に記載の光記
録媒体の記録及び／又は再生を行なうことを特徴とする
光記録方法」により達成される。

【００１５】また、上記課題は、本発明の（１１）「前
記第（１）項乃至第（９）項のいずれか１に記載の光記
録媒体を備えたことを特徴とする光記録媒体の記録及び
／又は再生装置」により達成される。

【００１６】ここでの、各項の効果を述べると、前記第
（１）項は、本発明のアゾ金属キレートアニオン化合物
とスチリルカチオン色素とからなる新規色素塩化合物を
用いた光記録媒体の基本構成を示したものであり、前記
第（２）項は、前記第（１）項におけるアゾ金属キレー
トアニオン化合物の最適構造の限定であり、前記第
（３）項は、前記第（１）項におけるスチリルカチオン
色素の最適構造の限定である。前記第（４）項は、特定
金属種を用いた前記第（１）項又は（２）項の最適構造
の限定であり、前記第（５）項は、金属種を限定した前
記第（１）項、第（２）項、第（４）項の最適構造の限
定である。前記第（６）項は、高反射率かつ高変調度で
記録再生できる該アゾ金属キレート化合物の光学特性の
限定であり、前記第（７）項、第（８）項は、低ジッタ
で高密度記録できる該アゾ金属キレート化合物の光学特
性の限定であり、前記第（９）項は、適用する高密度メ
ディア用基板案内溝の条件の限定である。前記第（１
０）項は、前記第（１）項乃至第（９）項の光記録媒体
を用いるのに適した光記録方法である。前記第（１１）
項は、前記第（１）項乃至第（９）項の光記録媒体を用
いるのに適した光記録媒体の記録及び／又は再生装置で
ある。

【００１７】前記一般式（Ｉ）において、Ｒ₁〜Ｒ₈はそ
れぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、シア
ノ基、水酸基、カルボキシ基、アミノ基、置換もしくは
未置換のアルキル基、置換もしくは未置換のアリール
基、置換もしくは未置換の複素環残基、置換もしくは未
置換のアルキルカルボニル基、置換もしくは未置換のア
リールカルボニル基、置換もしくは未置換のアルキルオ
キシカルボニル基、置換もしくは未置換のアリールオキ
シカルボニル基、置換もしくは未置換のアルキルスルホ
ニル基、置換もしくは未置換のアリールスルホニル基、
置換もしくは未置換のアルキルチオオキシ基、置換もし
くは未置換のアリールチオオキシ基、置換もしくは未置
換のアルキルオキシ基、置換もしくは未置換のアリール
オキシ基、置換もしくは未置換のアルキルアミノ基、置
換もしくは未置換のアリールアミノ基、置換もしくは未
置換のアルキルカルボニルアミノ基、置換もしくは未置
換のアリールカルボニルアミノ基、置換もしくは未置換
のアルキルカルバモイル基、置換もしくは未置換のアリ
ールカルバモイル基、置換もしくは未置換のアルケニル
基を表わし、ＸおよびＹは活性水素を有する基を表わ
す。また、Ｒ₁とＲ₂、Ｒ ₂とＲ₃、Ｒ₃とＲ₄、Ｒ₅とＲ₆、
Ｒ₆とＲ₇、もしくはＲ₇とＲ₈は連結して環を形成してい
ても良い。

【００１８】前記一般式（II）において、Ｒ₉〜Ｒ₁₃は
それぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、シ
アノ基、水酸基、カルボキシ基、アミノ基、置換もしく
は未置換のアルキル基、置換もしくは未置換のアリール
基、置換もしくは未置換の複素環残基、置換もしくは未
置換のアルキルカルボニル基、置換もしくは未置換のア
リールカルボニル基、置換もしくは未置換のアルキルオ
キシカルボニル基、置換もしくは未置換のアリールオキ
シカルボニル基、置換もしくは未置換のアルキルスルホ
ニル基、置換もしくは未置換のアリールスルホニル基、
置換もしくは未置換のアルキルチオオキシ基、置換もし
くは未置換のアリールチオオキシ基、置換もしくは未置
換のアルキルオキシ基、置換もしくは未置換のアリール
オキシ基、置換もしくは未置換のアルキルアミノ基、置
換もしくは未置換のアリールアミノ基、置換もしくは未
置換のアルキルカルボニルアミノ基、置換もしくは未置
換のアリールカルボニルアミノ基、置換もしくは未置換
のアルキルカルバモイル基、置換もしくは未置換のアリ
ールカルバモイル基、置換もしくは未置換のアルケニル
基を表わし、Ａ環はカチオン化された窒素原子を結合し
たヘテロ環残基を表わし、ｎは１または２を表わす。

【００１９】前記一般式（III）において、Ｒ₁₄及びＲ
₁₅はそれぞれ独立に水素原子、置換もしくは未置換のア
ルキル基、置換もしくは未置換のアリール基を表わし、
Ｒ₁₆及びＲ₁₇はそれぞれ独立に水素原子、ハロゲン原
子、ニトロ基、シアノ基、置換もしくは未置換のアルキ
ル基、置換もしくは未置換のアリール基を表わし、Ｒ₁₈
〜Ｒ₂₁はそれぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、ニト
ロ基、シアノ基、水酸基、カルボキシ基、アミノ基、置
換もしくは未置換のアルキル基、置換もしくは未置換の
アリール基、置換もしくは未置換の複素環残基、置換も
しくは未置換のアルキルカルボニル基、置換もしくは未
置換のアリールカルボニル基、置換もしくは未置換のア
ルキルオキシカルボニル基、置換もしくは未置換のアリ
ールオキシカルボニル基、置換もしくは未置換のアルキ
ルスルホニル基、置換もしくは未置換のアリールスルホ
ニル基、置換もしくは未置換のアルキルチオオキシ基、
置換もしくは未置換のアリールチオオキシ基、置換もし
くは未置換のアルキルオキシ基、置換もしくは未置換の
アリールオキシ基、置換もしくは未置換のアルキルアミ
ノ基、置換もしくは未置換のアリールアミノ基、置換も
しくは未置換のアルキルカルボニルアミノ基、置換もし
くは未置換のアリールカルボニルアミノ基、置換もしく
は未置換のアルキルカルバモイル基、置換もしくは未置
換のアリールカルバモイル基、置換もしくは未置換のア
ルケニル基を表わし、Ｍは金属または金属酸化物を表わ
し、ｍは１または２を表わす。また、Ｒ₁₈とＲ₁₉、Ｒ₁₉
とＲ₂₀、もしくはＲ₂₀とＲ₂₁は連結して環を形成してい
ても良い。

【００２０】前記ハロゲン原子の具体例は、フッ素、塩
素、臭素、ヨウ素等が挙げられる。前記アルキル基の具
体例は、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｎ−ブ
チル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−ヘプチ
ル基、ｎ−オクチル基、ｎ−ノニル基、ｎ−デシル基等
の一級アルキル基、イソブチル基、イソアミル基、２−
メチルブチル基、２−メチルペンチル基、３−メチルペ
ンチル基、４−メチルペンチル基、２−エチルブチル
基、２−メチルヘキシル基、３−メチルヘキシル基、４
−メチルヘキシル基、５−メチルヘキシル基、２−エチ
ルペンチル基、３−エチルペンチル基、２−メチルヘプ
チル基、３−メチルヘプチル基、４−メチルヘプチル
基、５−メチルヘプチル基、２−エチルヘキシル基、３
−エチルヘキシル基、イソプロピル基、ｓｅｃ−ブチル
基、１−エチルプロピル基、１−メチルブチル基、１，
２−ジメチルプロピル基、１−メチルヘプチル基、１−
エチルブチル基、１，３−ジメチルブチル基、１，２−
ジメチルブチル基、１−エチル−２−メチルプロピル
基、１−メチルヘキシル基、１−エチルヘプチル基、１
−プロピルブチル基、１−イソプロピル−２−メチルプ
ロピル基、１−エチル−２−メチルブチル基、１−エチ
ル−２−メチルブチル基、１−プロピル−２−メチルプ
ロピル基、１−メチルヘプチル基、１−エチルヘキシル
基、１−プロピルペンチル基、１−イソプロピルペンチ
ル基、１−イソプロピル−２−メチルブチル基、１−イ
ソプロピル−３−メチルブチル基、１−メチルオクチル
基、１−エチルヘプチル基、１−プロピルヘキシル基、
１−イソブチル−３−メチルブチル基等の二級アルキル
基、ネオペンチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｔｅｒｔ−
ヘキシル基、ｔｅｒｔ−アミル基、ｔｅｒｔ−オクチル
基等の三級アルキル基、シクロヘキシル基、４−メチル
シクロヘキシル基、４−エチルシクロヘキシル基、４−
ｔｅｒｔ−ブチルシクロヘキシル基、４−（２−エチル
ヘキシル）シクロヘキシル基、ボルニル基、イソボルニ
ル基（アダマンタン基）等のシクロアルキル基等が挙げ
られる。

【００２１】更に、これら一級及び二級アルキル基は、
水酸基、ハロゲン原子、ニトロ基、カルボキシ基、シア
ノ基、置換又は未置換のアリール基、置換又は未置換の
複素環残基等を以て置換されていてもよく、また酸素、
硫黄、窒素等の原子を介して前記のアルキル基で置換さ
れていてもよい。

【００２２】酸素を介して置換されているアルキル基と
しては、メトキシメチル基、メトキシエチル基、エトキ
シメチル基、エトキシエチル基、ブトキシエチル基、エ
トキシエトキシエチル基、フェノキシエチル基、メトキ
シプロピル基、エトキシプロピル基、ピペリジノ基、モ
ルホリノ基等が挙げられ、硫黄を介して置換されている
アルキル基としては、メチルチオエチル基、エチルチオ
エチル基、エチルチオプロピル基、フェニルチオエチル
基等が挙げられ、窒素を介して置換されているアルキル
基としては、ジメチルアミノエチル基、ジエチルアミノ
エチル基、ジエチルアミノプロピル基等が挙げられる。

【００２３】前記アリール基の具体例は、フェニル基、
ペンタレニル基、インデニル基、ナフチル基、アズレニ
ル基、ヘプタレニル基、ビフェニレニル基、フェナレニ
ル基、フェナントレニル基、アントラセニル基、トリフ
ェニレニル基、ピレニル基等が挙げられる。

【００２４】前記複素環残基の具体例は、インドリル
基、フリル基、チエニル基、ピリジル基、ピペリジル
基、キノリル基、イソキノリル基、ピペリジノ基、モル
ホリノ基、ピロリル基等が挙げられる。

【００２５】前記アルキルカルボニル基の具体例は、カ
ルボニル基の炭素原子に直接置換又は未置換のアルキル
基が結合されているものであればよく、アルキル基の具
体例としては前述の具体例を挙げることができる。

【００２６】前記アリールカルボニル基の具体例は、カ
ルボニル基の炭素原子に直接置換又は未置換のアリール
基が結合されているものであればよく、アリール基の具
体例としては前述の具体例を挙げることができる。

【００２７】前記アルキルオキシカルボニル基の具体例
は、オキシカルボニル基の酸素原子に直接置換又は未置
換のアルキル基が結合されているものであればよく、ア
ルキル基の具体例としては前述の具体例を挙げることが
できる。

【００２８】前記アリールオキシカルボニル基の具体例
は、オキシカルボニル基の酸素原子に直接置換又は未置
換のアリール基が結合されているものであればよく、ア
リール基の具体例としては前述の具体例を挙げることが
できる。

【００２９】前記アルキルスルホニル基の具体例は、ス
ルホニル基の硫黄原子に直接置換又は未置換のアルキル
基が結合されているものであればよく、アルキル基の具
体例としては前述の具体例を挙げることができる。

【００３０】前記アリールスルホニル基の具体例は、ス
ルホニル基の硫黄原子に直接置換又は未置換のアリール
基が結合されているものであればよく、アリール基の具
体例としては前述の具体例を挙げることができる。

【００３１】前記アルキルチオオキシ基の具体例は、硫
黄原子に直接置換又は未置換のアルキル基が結合されて
いるものであればよく、アルキル基の具体例としては前
述の具体例を挙げることができる。

【００３２】前記アリールチオオキシ基の具体例は、硫
黄原子に直接置換又は未置換のアリール基が結合されて
いるものであればよく、アリール基の具体例としては前
述の具体例を挙げることができる。

【００３３】前記アルキルオキシ基の具体例は、酸素原
子に直接置換又は未置換のアルキル基が結合されている
ものであればよく、アルキル基の具体例としては前述の
具体例を挙げることができる。

【００３４】前記アリールオキシ基の具体例は、酸素原
子に直接置換又は未置換のアリール基が結合されている
ものであればよく、アリール基の具体例としては前述の
具体例を挙げることができる。

【００３５】前記アルキルアミノ基の具体例は、窒素原
子に直接置換又は未置換のアルキル基が結合されている
ものであればよく、アルキル基の具体例としては前述の
具体例を挙げることができる。

【００３６】前記アリールアミノ基の具体例は、窒素原
子に直接置換又は未置換のアリール基が結合されている
ものであればよく、アリール基の具体例としては前述の
具体例を挙げることができる。

【００３７】前記アルキルカルボニルアミノ基の具体例
は、カルボニルアミノ基の炭素原子に直接置換又は未置
換のアルキル基が結合されているものであればよく、ア
ルキル基の具体例としては前述の具体例を挙げることが
できる。

【００３８】前記アリールカルボニルアミノ基の具体例
は、カルボニルアミノ基の炭素原子に直接置換又は未置
換のアリール基が結合されているものであればよく、ア
リール基の具体例としては前述の具体例を挙げることが
できる。

【００３９】前記アルキルカルバモイル基の具体例は、
カルバモイル基の窒素原子に直接それぞれ独立して水素
原子、置換又は未置換のアルキル基が結合されているも
のであればよく、アルキル基の具体例としては前述の具
体例を挙げることができる。

【００４０】前記アリールカルバモイル基の具体例は、
カルバモイル基の窒素原子に直接それぞれ独立して水素
原子、置換又は未置換のアリール基が結合されているも
のであればよく、アリール基の具体例としては前述の具
体例を挙げることができる。

【００４１】金属または金属酸化物の価数が２価または
３価であるものの具体例は、チタン、バナジウム、クロ
ム、マンガン、鉄、コバルト、ニッケル、銅、ジリコニ
ウム、ニオブ、モリブデン、テクネニウム、ルテニウ
ム、ロジウム、パラジウム、酸化バナジウム、酸化チタ
ン等が挙げられる。この金属類をキレートしたアゾ金属
キレート化合物は、光記録材料として耐光性に優れてい
る。特にコバルト、アルミニウム、クロム、バナジウ
ム、酸化バナジウムのアゾ金属キレート化合物は、光記
録材料として溶解性に優れている。セルソルブ類、フッ
素アルコール類に対して高い溶解性を示す。

【００４２】Ａ環は、カチオン化された窒素原子、すな
わち４級窒素原子をその環に結合したヘテロ環残基であ
り、窒素原子は任意の位置にあって良い。特に、ピリジ
ン環残基、キノリン環残基、チアゾール環残基、ベンゾ
チアゾール環残基、オキサゾール環残基、ベンゾオキサ
ゾール環残基、インドリン環残基、ベンゾインドリン環
残基は、光記録材として光学特性に優れている。

【００４３】また、前述のアゾキレートアニオン化合物
とスチリルカチオン色素からなる色素塩とすることで、
スチリル色素の弱点である耐光性が著しく向上する。光
学特性、耐光性及び溶解性の点で優れた光記録材として
最適である。

【００４４】前述のＸ及びＹの具体例は、カルボキシ
基、チオカルボキシ基、ジチオカルボキシ基、スルホ
基、スルフィノ基、スルフェノ基、カルバモイル基、ヒ
ドラジノカルボニル基、アミジノ基、ホルミル基、チオ
ホルミル基、ヒドロキシ基、メルカプト基、アミノ基、
ヒドラジノ基、スルホアミノ基、スルフィノアミノ基、
スルフェノアミノ基等が挙げられる。これらの活性水素
基は、カルバモイル基及びアミノ基等のように２つの活
性水素を持つ場合、１つの活性水素が置換もしくは未置
換のアルキル基等によって置換されていても良い。

【００４５】次に、記録媒体の構成について説明する。
記録層を構成するのに必要な項目として、光学特性と熱
的特性が挙げられる。光学特性に必要な条件は、記録再
生波長である６３０ｎｍ〜６９０ｎｍに対して短波長側
に大きな吸収帯を有し、かつ記録再生波長が該吸収帯の
長波長端近傍にあることが必要である。これは、記録再
生波長である６３０ｎｍ〜６９０ｎｍで大きな屈折率と
消衰係数を有することを意味するものである。

【００４６】具体的には、記録再生波長近傍の長波長近
傍の波長域光に対する記録層単層の屈折率ｎが１．５以
上３．０以下であり、消衰係数ｋが０．０２以上０．２
以下の範囲にあることが好ましい。ｎが１．５未満の場
合には、充分な光学的変化が得られにくいため、記録変
調度が低くなるため好ましくなく、ｎが３．０を越える
場合には、波長依存性が高くなり過ぎるため、記録再生
波長領域であってもエラーとなってしまうため好ましく
ない。また、ｋが０．０２未満の場合には、記録感度が
悪くなるため好ましくなく、ｋが０．２を越える場合に
は、５０％以上の反射率を得ることが困難となるので好
ましくない。

【００４７】熱的に必要な条件は、熱重量分析における
主減量過程での重量減量が温度に対して急であることが
必要である。主減量過程により有機材料膜は分解し、膜
厚の減少と光学定数の変化を起こし、光学的な意味での
記録部が形成されるからである。したがって、主減量過
程の重量減量が温度に対して穏やかな場合、これは広い
温度範囲にわたって形成されてしまうため、高密度の記
録部を形成させる場合は極めて不利となる。同様な理由
で重量減量の過程が複数存在する材料を用いた場合も高
密度対応には不利である。

【００４８】本発明ではいくつかの重量減量過程のうち
で、減量率が最大のものを主減量過程と呼ぶ。本発明に
おいて重量減量の傾きは下記のように求める。図１に示
すように、質量Ｍ０の有機材料を窒素雰囲気下中で、１
０℃／ｍｉｎ．で昇温させる。この昇温に従って、質量
は微量づつ減少し、ほぼ直線ａ−ｂの重量減量線を示
し、ある温度に達すると急激な重量減少を起こし、ほぼ
直線ｃ−ｄに沿って重量減量を起こす。さらに温度を上
げ続けると質量の急激な減量が終了し、ほぼ直線ｅ−ｆ
に沿った重量減少を起こす。今直線ａ−ｂと直線ｃ−ｄ
との交点における温度をＴ１（℃）、初期質量Ｍ０に対
する残存重量をｍ１（％）、直線ｃ−ｄと直線ｅ−ｆと
の交点における温度をＴ２（℃）、初期質量Ｍ０に対す
る残存重量をｍ２（％）とする。

【００４９】減量開始温度はＴ１、減量終了温度はＴ２
となり、重量減量の傾きは、（ｍ１−ｍ２）（％）／
（Ｔ２−Ｔ１）（℃）で示される値で、初期重量に対す
る重量減量率は、（ｍ１−ｍ２）（％）で示される。

【００５０】上記定義に基づくと、光情報記録媒体に用
いる記録材料としては、主減量過程における重量減量の
傾きが２％／℃以上であることが好ましい。この重量減
量の傾きが２％／℃未満である記録材料を用いると、記
録部の広がりが大きくなり、また、短い記録部を形成す
ることが困難となるため、情報記録媒体には不向きであ
る。また、主減量過程における重量減少率は、３０％以
上であることが好ましい。３０％未満であると、良好な
記録変調度、記録感度が得られない可能性がある。更
に、熱的特性に必要な条件は、重量開始温度Ｔ１が、あ
る温度範囲にあることが必要である。具体的には減量開
始温度が３５０℃以下であり、好ましくは２００〜３５
０℃の範囲にあることが望ましい。減量開始温度が３５
０℃以上であると、記録レーザ光のパワーが高くなり実
用的でなく、２００℃以下であると再生劣化を起こすな
ど記録安定性が悪化する。基板形状に必要な条件は、基
板上のトラックピッチが０．７〜０．８μｍであり、溝
幅が半値幅で０．１８〜０．４０μｍ、より好ましくは
０．２０〜０．３６μｍである。

【００５１】基板は通常、深さ１０００〜２５００Åの
案内溝を有している。トラックピッチは、通常、０．７
〜１．０μｍであるが、高容量化の用途には０．７〜
０．８μｍが好ましい。溝幅は、半値幅で０．１８〜
０．４０μｍが好ましく、０．２〜０．３６μｍがより
好ましい。０．１８μｍ未満には充分なトラッキングエ
ラー信号強度を得ることが困難となる恐れがある。ま
た、０．４０μｍを越える場合には、記録したときに記
録部が横に広がりやすくなるので好ましくない。

【００５２】以下、図面を用いて本発明の光記録媒体を
説明する。（記録体の構成）本発明の記録体は、通常の追記型光デ
ィスクである図２の構造（図２を２枚貼り合わせたいわ
ゆるエアーサンドイッチ、又は密着貼り合わせ構造とし
てもよい）と図３からなるＣＤ−Ｒ用メディアの構造と
してもよい。

【００５３】（各層の必要特性及び構成材料例）本発明
の記録媒体の構成としては、第１基板と第２基板（保護
基板）とを記録層を介して接着剤で貼り合わせた構造を
基本構造とする。記録層は有機色素層単層でもよく、反
射率を高めるため有機色素層と金属反射層との積層でも
良い。記録層と基板間は下引き層あるいは保護層を介し
て層成してもよく、機能向上のためそれらを積層化した
構成でも良い。最も通常に用いられるのは、第１基板／
記録層（有機色素層）／金属反射層／保護層／接着層／
第２基板の構造である。

【００５４】＜基板＞基板の必要特性としては、基板側
より記録再生を行なう場合のみ使用レーザー光に対して
透明でなければならず、記録層側から記録、再生を行な
う場合、基板は透明である必要はない。したがって、本
発明では、基板を２層用いる場合は、第２の基板のみが
透明であれば、第１の基板の透明、不透明は問わない。
基板材料としては、例えば、ポリエステル、アクリル樹
脂、ポリアミド、ポリカーボネート樹脂、ポリオレフィ
ン樹脂、フェノール樹脂、エポキシ樹脂、ポリイミド等
のプラスチック、ガラス、セラミックあるいは金属等を
用いることができる。なお、基板を１層しか用いない場
合、あるいは基板２枚をサンドイッチ状で用いる場合
は、第１の基板の表面にトラッキング用の案内溝や案内
ピット、さらにアドレス信号等のプレフォーマットが形
成されている必要がある。

【００５５】＜中間層＞下引き層等を含め基板、記録
層、反射層、保護層以外に設けられた層をここでは中間
層と呼ぶことにする。この中間層は（ａ）接着性の向
上、（ｂ）水、又はガス等のバリアー、（ｃ）記録層の
保存安定性の向上、（ｄ）反射率の向上、（ｅ）溶剤か
らの基板や記録層の保護、（ｆ）案内溝・案内ピット・
プレフォーマット等の形成等を目的として使用される。
（ａ）の目的に対しては高分子材料、例えばアイオノマ
ー樹脂、ポリアミド樹脂、ビニル系樹脂、天然樹脂、天
然高分子、シリコーン、液状ゴム等の種々の高分子物
質、およびシランカップリング剤等を用いることがで
き、（ｂ）及び（ｃ）の目的に対しては、前記高分子材
料以外に無機化合物、例えばＳｉＯ₂、ＭｇＦ₂、Ｓｉ
Ｏ、ＴｉＯ₂、ＺｎＯ、ＴｉＮ、ＳｉＮ等の金属、又は
半金属、例えばＺｎ、Ｃｕ、Ｎｉ、Ｃｒ、Ｇｅ、Ｓｅ、
Ａｕ、Ａｇ、Ａｌ等を用いることができる。また（ｄ）
の目的に対しては金属、例えばＡｌ、Ａｇ等や、金属光
沢を有する有機薄膜、例えばメチン染料、キサンテン系
染料等を用いることができ、（ｅ）及び（ｆ）の目的に
対しては紫外線硬化樹脂、熱硬化樹脂、熱可塑性樹脂等
を用いることができる。下引き層の膜厚は０．０１〜３
０μｍ、好ましくは０．０５〜１０μｍが適当である。
用いる基板としては、基板側より記録、再生を行なう場
合のみ使用レーザに対して透明でなければならず、記録
層側から記録、再生を行なう場合、基板は透明である必
要はない。基板材料としては例えば、ポリエステル、ア
クリル樹脂、ポリアミド、ポリカーボネート樹脂、ポリ
オレフィン樹脂、フェノール樹脂、エポキシ樹脂、ポリ
イミド等のプラスチック、又はガラス、セラミック、あ
るいは金属等を用いることができる。なお、基板の表面
にトラッキング用の案内溝や、案内ピット、さらにアド
レス信号等のプレフォーマット等が形成されていても良
い。

【００５６】＜記録層＞記録層はレーザー光の照射によ
り何らかの光学的変化を生じさせ、その変化により情報
を記録できるものであって、この記録層中には本発明の
色素が含有されていることが必要で、記録層の形成にあ
たって本発明の色素を１種、又は２種以上の組み合わせ
で用いてもよい。さらに、本発明の前記色素は光学特
性、記録感度、信号特性等の向上の目的で他の有機色素
及び金属、金属化合物と混合又は積層化しても良い。有
機色素の例としては、ポリメチン色素、ナフタロシアニ
ン系、フタロシアニン系、スクアリリウム系、クロコニ
ウム系、ピリリウム系、ナフトキノン系、アントレキノ
ン（インダンスレン）系、キサンテン系、トリフェニル
メタン系、アズレン系、テトラヒドロコリン系、フェナ
ンスレン系、トリフェノチアジン系染料、及び金属キレ
ート化合物等が挙げられ、前記の染料を単独で用いても
よいし、２種以上の組み合わせにしてもよい。

【００５７】また、前記染料中に金属、金属化合物例え
ば、Ｉｎ、Ｔｅ、Ｂｉ、Ｓｅ、Ｓｂ、Ｇｅ、Ｓｎ、Ａ
ｌ、Ｂｅ、ＴｅＯ₂、ＳｎＯ、Ａｓ、Ｃｄ等を分散混合
あるいは積層の形態で用いることもできる。さらに、前
記染料中に高分子材料、例えばアイオノマー樹脂、ポリ
アミド系樹脂、ビニル系樹脂、天然高分子、シリコー
ン、液状ゴム等の種々の材料もしくはシランカップリン
グ剤等を分散混合して用いてもよいし、あるいは特性改
良の目的で安定剤（例えば遷移金属錯体）、分散剤、難
燃剤、滑剤、帯電防止剤、界面活性剤、可塑剤等と一緒
に用いることができる。

【００５８】記録層の形成は蒸着、スパッタリング、Ｃ
ＶＤまたは溶液塗布等の通常の手段によって行なうこと
ができる。塗布法を用いる場合には前記染料等を有機溶
媒等に溶解してスプレー、ローラーコーティング、ディ
ッピング、およびスピンコーティング等の慣用のコーテ
ィング法によって行なわれる。用いられる有機溶剤とし
ては一般にメタノール、エタノール、イソプロパノール
等のアルコール類、アセトン、メチルエチルケトン、シ
クロヘキサノン等のケトン類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルム
アミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド等のアミド類、
ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類、テトラヒド
ロフラン、ジオキサン、ジエチルエーテル、エチレング
リコールモノメチルエーテル等のエーテル類、酢酸メチ
ル、酢酸エチル等のエステル類、クロロホルム、塩化メ
チレン、ジクロロエタン、四塩化炭素、トリクロロエタ
ン等の脂肪族ハロゲン化炭化水素類、あるいはベンゼ
ン、キシレン、モノクロロベンゼン、ジクロロベンゼン
等の芳香族類、メトキシエタノール、エトキシエタノー
ル等のセロソルブ類、ヘキサン、ペンタン、シクロヘキ
サン、メチルシクロヘキサン等の炭化水素類等を用いる
ことができる。記録層の膜厚は１００Å〜１０μｍ、好
ましくは２００Å〜２０００Åが適当である。

【００５９】＜金属反射層＞反射層は、単体で高反射率
の得られる腐食されにくい金属、半金属等が挙げられ、
材料例としてはＡｕ、Ａｇ、Ｃｒ、Ｎｉ、Ａｌ、Ｆｅ、
Ｓｎ等が挙げられるが、反射率、生産性の点からＡｕ、
Ａｇ、Ａｌが最も好ましく、これらの金属、半金属は単
独で使用しても良く、２種の合金としても良い。膜形成
法としては蒸着、スッパタリング等が挙げられ、膜厚と
しては５０〜５０００Å、好ましくは１００〜３０００
Åが適当である。

【００６０】＜保護層、基板表面ハードコート層＞保護
層、又は基板表面ハードコート層は、（ａ）記録層（反
射吸収層）を傷、ホコリ、汚れ等から保護する、（ｂ）
記録層（反射吸収層）の保存安定性の向上、（ｃ）反射
率の向上等を目的として使用される。これらの目的に対
しては、前記中間層に示した材料を用いることができ
る。また、無機材料として、ＳｉＯ、ＳｉＯ₂等も用い
ることができ、有機材料としてポリメチルアクリレー
ト、ポリカーボネート、エポキシ樹脂、ポリスチレン、
ポリエステル樹脂、ビニル樹脂、セルロース、脂肪族炭
化水素樹脂、芳香属炭化水素樹脂、天然ゴム、スチレン
ブタジエン樹脂、クロロプレンゴム、ワックス、アルキ
ッド樹脂、乾性油、ロジン等の熱軟化性、熱溶融性樹脂
も用いることができる。

【００６１】前記材料のうち保護層、又は基板表面ハー
ドコート層に最も好ましい例としては生産性に優れた紫
外線硬化樹脂である。保護層又は基板表面ハードコート
層の膜厚は０．０１〜３０μｍ、好ましくは０．０５〜
１０μｍが適当である。本発明において、前記下中間
層、保護層、及び基板表面ハードコート層には記録層の
場合と同様に、安定剤、分散剤、難燃剤、滑剤、帯電防
止剤、界面活性剤、可塑剤等を含有させることができ
る。

【００６２】

【実施例】以下、実施例により本発明を具体的に説明す
る。実施例１色素塩化合物（塩−１）の合成表１に記載の化合物Ｎｏ．（Ａ−１）１．００ｇ（１．
４０ｍｍｏｌ）をジエチレングリコール５０ｍｌに溶解
した。この溶液に表２に記載の化合物Ｎｏ．（Ｓ−１）
のヨウ化物を０．６０ｇ（１．４０ｍｍｏｌ）加え、８
０℃で１０時間反応させた。反応液を水３００ｍｌに注
ぎ、析出した物質を濾別した。析出物質は乾燥後、クロ
マトグラフ法により精製した。充填材にはシリカゲル
を、展開溶媒にはトルエン−メタノール（５：１）を用
いた。第１フラクションより（塩−１）化合物（収率８
７％）を得た。

【００６３】

【表１−１】

【００６４】

【表１−２】

【００６５】

【表１−３】

【００６６】

【表２−１】

【００６７】

【表２−２】

【００６８】実施例２色素塩化合物（塩−２）の合成表１に記載の化合物Ｎｏ．（Ａ−１）１．００ｇ（１．
４０ｍｍｏｌ）をＤＭＦ３０ｍｌに溶解した。この溶液
に表２に記載の化合物Ｎｏ．（Ｓ−６）のヨウ化物を
０．６０ｇ（１．４０ｍｍｏｌ）加え、８０℃で１０時
間反応させた。反応液を水２００ｍｌに注ぎ、析出した
物質を濾別した。析出物質は乾燥後、クロマトグラフ法
により精製した。充填材にはシリカゲルを、展開溶媒に
はトルエン−メタノール（５：１）を用いた。第１フラ
クションより（塩−２）化合物（収率７０％）を得た。

【００６９】実施例３色素塩化合物（塩−３）の合成表１に記載の化合物Ｎｏ．（Ａ−２）１．００ｇ（１．
４０ｍｍｏｌ）をエタノール１００ｍｌに溶解した。こ
の溶液に表２に記載の化合物Ｎｏ．（Ｓ−２）のヨウ化
物を０．６１ｇ（１．４０ｍｍｏｌ）加え、９０℃で１
０時間反応させた。反応液を水５００ｍｌに注ぎ、析出
した物質を濾別した。析出物質は乾燥後、クロマトグラ
フ法により精製した。充填材にはシリカゲルを、展開溶
媒にはトルエン−メタノール（５：１）を用いた。第１
フラクションより（塩−３）化合物（収率５９％）を得
た。

【００７０】実施例４色素塩化合物（塩−４）の合成表１に記載の化合物Ｎｏ．（Ａ−３）１．００ｇ（１．
４４ｍｍｏｌ）をＤＭＦ２０ｍｌに溶解した。この溶液
に表２に記載の化合物Ｎｏ．（Ｓ−８）のヨウ化物を
０．６６ｇ（１．４４ｍｍｏｌ）加え、８０℃で１０時
間反応させた。反応液を水１５０ｍｌに注ぎ、析出した
物質を濾別した。析出物質は乾燥後、クロマトグラフ法
により精製した。充填材にはシリカゲルを、展開溶媒に
はトルエン−メタノール（５：１）を用いた。第１フラ
クションより（塩−４）化合物（収率２４％）を得た。

【００７１】実施例５色素塩化合物（塩−５）の合成表１に記載の化合物Ｎｏ．（Ａ−１５）１．００ｇ
（１．５３ｍｍｏｌ）をエチレングリコール５０ｍｌに
溶解した。この溶液に表２に記載の化合物Ｎｏ．（Ｓ−
７）のヨウ化物を０．６６ｇ（１．５３ｍｍｏｌ）加
え、８０℃で１０時間反応させた。反応液を水５００ｍ
ｌに注ぎ、析出した物質を濾別した。析出物質は乾燥
後、クロマトグラフ法により精製した。充填材にはシリ
カゲルを、展開溶媒にはトルエン−メタノール（５：
１）を用いた。第１フラクションより（塩−５）化合物
（収率６７％）を得た。

【００７２】以下、同様にして表３に記載の化合物の組
み合わせを用いて（塩−６）〜（塩−２０）を合成し
た。

【００７３】

【表３】

【００７４】実施例６厚さ０．６ｍｍの射出成形ポリカーボネート基板上に、
フォトポリマーにて深さ１７５０Å、半値幅０．２５μ
ｍ、トラックピッチ０．７４μｍの案内溝を形成し、色
素塩例（塩−１）の１，１，２，２−テトラフルオロプ
ロパノール溶液をスピンナー塗布し、厚さ９００Åの記
録層を形成し、ついでスパッタ法により金１２００Åの
反射層を設け、さらにその上にアクリル系フォトポリマ
ーにて７μｍの保護層を設けた後、厚さ０．６ｍｍの射
出成形ポリカーボネート平面基板をアクリル系フォトポ
リマーにて接着し、記録媒体とした。

【００７５】実施例７〜２５実施例６で（塩−１）の代わりに表３に記載の（塩−
２）〜（塩−２０）を用いた以外は、実施例６と全く同
様に記録媒体を形成した。

【００７６】比較例１実施例６で（塩−１）の代わりに、以下に示す化合物
（比−1）を用いた以外は、実施例６と全く同様に記録
媒体を形成した。

【００７７】

【化７】

【００７８】＜記録条件＞以上のようにして得られた記
録体に、レーザー発振波長６５８ｎｍ、ビーム径１．０
μｍの半導体レーザー光を用い、トラッキングしながら
ＥＦＭ信号（線速３．５ｍ／ｓｅｃ．)を記録し、発振
波長６８５ｎｍの半導体レーザーの連続光（再生パワー
０．７ｍＷ）で再生し、再生波形を観察した。

【００７９】＜耐光テスト条件＞４万Ｌｕｘの、Ｘｅ光
を２０時間連続照射した。＜保存テスト条件＞６０℃、９０％で６００時間放置し
た。評価結果を表４に示す。

【００８０】

【表４】

【００８１】

【発明の効果】以上、詳細且つ具体的な説明より明らか
なように、請求項１乃至５の記録媒体により、６７０ｎ
ｍ以下の波長域のレーザー光で記録、再生が可能で、耐
光性、保存安定性に優れた情報記録媒体が提供でき、請
求項６の記録媒体により、安定した高反射率かつ高変調
度で記録再生が可能な情報記録媒体が提供でき、請求項
７及び８の記録媒体により、低ジッタで高密度記録が可
能な情報記録媒体が提供でき、請求項９の記録媒体によ
り、安定した記録及び再生が可能な情報記録媒体が提供
できるという優れた効果を奏するものである。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の有機材料の主減量過程、重量減量率を
求める方法を説明する図である。

【図２】本発明の通常の追記型光記録媒体を表わす図で
ある。

【図３】本発明のＣＤ−Ｒ用光記録媒体の構成を表わす
図である。

【図４】本発明のＤＶＤ−Ｒ用光記録媒体の構成を表わ
す図である。

【符号の説明】

１基板（第１基板）２記録層（有機色素層）３下引き層４保護層５ハードコート層６金属反射層７保護基板（第２基板）８接着層

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号ＦＩテーマコート゛(参考）Ｃ０９Ｂ 45/20 Ｃ０９Ｂ 45/22 45/22 Ｇ１１Ｂ 7/24 ５１６Ｇ１１Ｂ 7/24 ５１６５２２Ａ５２２５６１Ｎ５６１Ｂ４１Ｍ 5/26 Ｙ (72)発明者戸村辰也東京都大田区中馬込１丁目３番６号株式会社リコー内 (72)発明者野口宗東京都大田区中馬込１丁目３番６号株式会社リコー内Ｆターム(参考） 2H111 EA03 EA12 EA22 EA25 EA40 FB42 4H056 CA02 CA03 CC02 CE02 CE03 DD03 DD04 DD19 DD23 5D029 JA04 JB47 JC05 WB11 WB14

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】基板上に記録層を設けてなる光記録媒体
において、記録媒体中に一般式（Ｉ）で示されるアゾ化
合物と、金属、金属酸化物またはその塩からなるアゾ金
属キレートアニオン化合物と、一般式（II）で示される
スチリル色素カチオン化合物からなる色素塩を少なくと
も一種類含有することを特徴とする光記録媒体。【化１】【化２】一般式（Ｉ）において、Ｒ₁〜Ｒ₈はそれぞれ独立に水素
原子、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、水酸基、カ
ルボキシ基、アミノ基、置換もしくは未置換のアルキル
基、置換もしくは未置換のアリール基、置換もしくは未
置換の複素環残基、置換もしくは未置換のアルキルカル
ボニル基、置換もしくは未置換のアリールカルボニル
基、置換もしくは未置換のアルキルオキシカルボニル
基、置換もしくは未置換のアリールオキシカルボニル
基、置換もしくは未置換のアルキルスルホニル基、置換
もしくは未置換のアリールスルホニル基、置換もしくは
未置換のアルキルチオオキシ基、置換もしくは未置換の
アリールチオオキシ基、置換もしくは未置換のアルキル
オキシ基、置換もしくは未置換のアリールオキシ基、置
換もしくは未置換のアルキルアミノ基、置換もしくは未
置換のアリールアミノ基、置換もしくは未置換のアルキ
ルカルボニルアミノ基、置換もしくは未置換のアリール
カルボニルアミノ基、置換もしくは未置換のアルキルカ
ルバモイル基、置換もしくは未置換のアリールカルバモ
イル基、置換もしくは未置換のアルケニル基を表わし、
ＸおよびＹは活性水素を有する基を表わす。また、Ｒ₁
とＲ₂、Ｒ₂とＲ₃、Ｒ₃とＲ₄、Ｒ₅とＲ₆、Ｒ₆とＲ₇、も
しくはＲ₇とＲ₈は連結して環を形成していても良い。一
般式（ＩＩ）において、Ｒ₉〜Ｒ₁₃はそれぞれ独立に水
素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、水酸基、
カルボキシ基、アミノ基、置換もしくは未置換のアルキ
ル基、置換もしくは未置換のアリール基、置換もしくは
未置換の複素環残基、置換もしくは未置換のアルキルカ
ルボニル基、置換もしくは未置換のアリールカルボニル
基、置換もしくは未置換のアルキルオキシカルボニル
基、置換もしくは未置換のアリールオキシカルボニル
基、置換もしくは未置換のアルキルスルホニル基、置換
もしくは未置換のアリールスルホニル基、置換もしくは
未置換のアルキルチオオキシ基、置換もしくは未置換の
アリールチオオキシ基、置換もしくは未置換のアルキル
オキシ基、置換もしくは未置換のアリールオキシ基、置
換もしくは未置換のアルキルアミノ基、置換もしくは未
置換のアリールアミノ基、置換もしくは未置換のアルキ
ルカルボニルアミノ基、置換もしくは未置換のアリール
カルボニルアミノ基、置換もしくは未置換のアルキルカ
ルバモイル基、置換もしくは未置換のアリールカルバモ
イル基、置換もしくは未置換のアルケニル基を表わし、
Ａ環はカチオン化された窒素原子を結合したヘテロ環残
基を表わし、ｎは１または２を表わす。
【請求項２】前記アゾ金属キレートアニオン化合物
が、下記一般式（III）で示されることを特徴とする請
求項１に記載の光記録媒体。【化３】一般式（III）において、Ｒ₁₄及びＲ₁₅はそれぞれ独立
に水素原子、置換もしくは未置換のアルキル基、置換も
しくは未置換のアリール基を表わし、Ｒ₁₆及びＲ₁₇はそ
れぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、シア
ノ基、置換もしくは未置換のアルキル基、置換もしくは
未置換のアリール基を表わし、Ｒ₁₈〜Ｒ ₂₁はそれぞれ独
立に水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、水
酸基、カルボキシ基、アミノ基、置換もしくは未置換の
アルキル基、置換もしくは未置換のアリール基、置換も
しくは未置換の複素環残基、置換もしくは未置換のアル
キルカルボニル基、置換もしくは未置換のアリールカル
ボニル基、置換もしくは未置換のアルキルオキシカルボ
ニル基、置換もしくは未置換のアリールオキシカルボニ
ル基、置換もしくは未置換のアルキルスルホニル基、置
換もしくは未置換のアリールスルホニル基、置換もしく
は未置換のアルキルチオオキシ基、置換もしくは未置換
のアリールチオオキシ基、置換もしくは未置換のアルキ
ルオキシ基、置換もしくは未置換のアリールオキシ基、
置換もしくは未置換のアルキルアミノ基、置換もしくは
未置換のアリールアミノ基、置換もしくは未置換のアル
キルカルボニルアミノ基、置換もしくは未置換のアリー
ルカルボニルアミノ基、置換もしくは未置換のアルキル
カルバモイル基、置換もしくは未置換のアリールカルバ
モイル基、置換もしくは未置換のアルケニル基を表わ
し、Ｍは金属または金属酸化物を表わし、ｍは１または
２を表わす。また、Ｒ₁₈とＲ₁₉、Ｒ₁₉とＲ₂₀、もしくは
Ｒ₂₀とＲ₂₁は連結して環を形成していても良い。
【請求項３】前記スチリル色素カチオン化合物のカチ
オン化された窒素原子を結合したヘテロ環残基が、ピリ
ジン環残基、キノリン環残基、チアゾール環残基、ベン
ゾチアゾール環残基、オキサゾール環残基、ベンゾオキ
サゾール環残基、インドリン環残基、ベンゾインドリン
環残基より選ばれることを特徴とする請求項１に記載の
光記録媒体。
【請求項４】前記アゾ金属キレートアニオン化合物の
金属または金属酸化物の価数が２価または３価であるこ
とを特徴とする請求項１又は２に記載の光記録媒体。
【請求項５】前記アゾ金属キレートアニオン化合物の
金属原子が、コバルト、バナジウム、アルミニウム、ク
ロムより選ばれることを特徴とする請求項１、２、４の
いずれか１に記載の光記録媒体。
【請求項６】記録再生波長±５ｎｍの波長領域の光に
対する記録層単層の屈折率ｎが１．５≦ｎ≦３．０であ
り、消衰係数ｋが０．０２≦ｋ≦０．２であることを特
徴とする請求項１乃至５のいずれか１に記載の光記録媒
体。
【請求項７】有機色素の熱重量分析で、主減量過程で
の温度に対する減量の傾きが２％／℃以上であることを
特徴とする請求項１乃至６のいずれか１に記載の光記録
媒体。
【請求項８】有機色素の熱重量分析で、主減量過程で
の総減量が３０％以上で、かつ減量開始温度が３５０℃
以下であることを特徴とする請求項１乃至７のいずれか
１に記載の光記録媒体。
【請求項９】前記基板上のトラックピッチが０．７〜
０．８μｍであり、溝幅が半値幅で０．１８〜０．４０
μｍであることを特徴とする請求項１乃至８のいずれか
１に記載の光記録媒体。