JP2002224608A

JP2002224608A - 塗布液塗布方法及び塗布液塗布装置

Info

Publication number: JP2002224608A
Application number: JP2001022916A
Authority: JP
Inventors: Takeshi Nishino; 剛西野; Yasushi Nishiyama; 靖志西山
Original assignee: Fuji Photo Film Co Ltd
Current assignee: Fujifilm Holdings Corp
Priority date: 2001-01-31
Filing date: 2001-01-31
Publication date: 2002-08-13

Abstract

(57)【要約】【課題】平版印刷版用支持体に対し良好な塗布面質の
塗布膜を形成することが可能な塗布液塗布方法及び塗布
液塗布装置を得る。【解決手段】平版印刷版の製造ラインを構成する塗布
装置（下塗り装置又は本塗布装置）は、アルミウエブ１
２の搬送方向上流側の副塗布装置４０と、この下流側の
主塗布装置４２と、を有する。塗布前のアルミウエブ１
２に異物が付着していても、副塗布装置４０による塗布
液の塗布において、この異物を掻き落とし、その後、主
塗布装置４２で塗布液を塗布するので、異物等の存在し
ない塗布膜を形成することができる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、塗布液塗布方法及
び塗布液塗布装置に関し、さらに詳しくは、平版印刷版
用支持体に所望の塗布液を塗布するための塗布液塗布方
法及び塗布液塗布装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】近年の製版法（電子写真製版法を含む）
では、製版工程の自動化を容易にすべく、感光性印刷版
や感熱性印刷板等の平版印刷版が広く用いられている。
平版印刷版は、一般にシート状或いはコイル状のアルミ
ニウム板等の支持体（アルミウエブあるいはアルミニウ
ム帯板）を順次送出して搬送し、例えば、砂目立て、陽
極酸化、シリケート処理、その他化成処理等の表面処理
を単独又は適宜組み合わせて行い、次いで、感光層又は
感熱層及び場合によっては下塗り層（以下、これらをま
とめて「塗布膜」という）の塗布、乾燥処理を行った後
に所望のサイズに切断されることで製造される。

【０００３】この平版印刷版は、露光、現像処理、ガム
引き等の製版処理が行われ、印刷機にセットされ、イン
クが塗布されることで、紙面に文字、画像等が印刷され
る。

【０００４】ことろで、この平版印刷版では、例えば塗
布膜に塵等の異物が付着していたり、塗布膜表面の平坦
性が損なわれていたりして塗布面質が低下していると、
最終的に得られる印刷紙面にも影響が及ぶため、塗布面
質を良好に維持することが望まれる。

【０００５】しかし、平版印刷版用支持体に所望の塗布
液を塗布すときに、この支持体に異物が付着しているこ
とがあり、塗布面質を低下させてしまうことがある。

【０００６】また、一般に塗布液はいわゆるロッドコー
ター（コーティングロッドを回転させながら塗布する塗
布装置）で塗布されることが多いが、このロッドコータ
ーのロッドに微小なキズや凹凸等の形状異常部分がある
と、塗布面質を低下させてしまうことがある。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記事実を
考慮し、平版印刷版用支持体に対し良好な塗布面質の塗
布膜を形成することが可能な塗布液塗布方法及び塗布液
塗布装置を得ることを課題とする。

【０００８】

【課題を解決するための手段】請求項１に記載の発明で
は、平版印刷版用支持体に所望の塗布液を塗布するため
の塗布液塗布方法であって、平版印刷版に形成される塗
布膜と同一成分の主塗布液を塗布する主塗布工程と、こ
の主塗布工程に加えて、平版印刷版に形成される塗布膜
と実質的に同一の成分とされた副塗布液を主塗布工程に
対し塗布液が乾燥しない一定範囲内の時間間隔で塗布す
る副塗布工程、を含む複数回の塗布工程によって塗布液
を平版印刷版用支持体に塗布することを特徴とする。

【０００９】すなわち、この塗布液塗布方法では、主塗
布工程に加えて、副塗布工程を行い、平版印刷版用支持
体に塗布膜を形成する。主塗布工程では、平版印刷版に
形成される塗布膜と同一成分の主塗布液を塗布し、さら
に副塗布工程においても、平版印刷版に形成される塗布
膜と実質的に同一の成分とされた副塗布液を塗布するの
で、最終的に形成される塗布膜が影響を受けたり変質し
たりすることはない。

【００１０】しかも、複数回の塗布工程は、塗布された
塗布液が乾燥しない一定範囲内の時間間隔で行うように
している。従って、複数回の塗布工程を行うことによる
塗布膜の性状変化等も生じない。

【００１１】そして、このように複数回の塗布工程によ
って塗布液を平版印刷版用支持体に複数回塗布し、塗布
膜を形成することで、良好な塗布面質の塗布膜を形成す
ることができる。例えば、塗布前の平版印刷版用支持体
に異物が付着していた場合であっても、塗布工程を複数
回行うことで異物を掻き落とすことができるので、異物
の存在しない塗布膜を形成することができる。また、例
えば、これらの塗布工程に使用される塗布装置の塗布部
材に形状異常部分があり、１回のみの塗布では塗布膜に
異常箇所が生じるおそれがある場合でもっても、複数回
の塗布工程を行うことでこの異常箇所に再度塗布できる
ので、異常箇所のない塗布膜を形成することが可能とな
る。

【００１２】なお、本発明の副塗布工程における「平版
印刷版に形成される塗布膜と実質的に同一の成分とされ
た副塗布液」とは、最終的に形成される平版印刷版の塗
布膜の性状に影響を及ぼさない範囲であれば、特に限定
されないが、主塗布工程で塗布される主塗布液と同一の
塗布液とすることが好ましい。

【００１３】本発明において、複数回の塗布工程のう
ち、いずれを主塗布工程とするかは特に制限されず、例
えば、最初の塗布工程を主塗布工程とし、これ以外の塗
布工程を副塗布工程としてもよいし、上記したように、
主塗布工程で塗布する主塗布液と副塗布工程で塗布する
副塗布液とが同一である場合には、実質的に主塗布工程
と副塗布工程との区別は生じないことになる。

【００１４】また、請求項２に記載のように、少なくと
も最終の塗布工程を主塗布工程とすると、塗布膜の最も
表面部分を主塗布工程によって形成することとなるの
で、好ましい。さらに、この最終の塗布工程である主塗
布工程をロッド塗布方式による行うことで、塗布液の飛
散を防止できると共に塗布量の調整等が容易になるの
で、所望の塗布量として、より良好な塗布面質の塗布膜
を形成することが可能となる。

【００１５】各塗布工程の時間間隔は、上記したように
前工程で塗布された塗布液が乾燥しなければ特に限定さ
れないが、例えば、請求項３に記載のように２０秒以内
とすると、塗布液の乾燥を確実に防止できる。

【００１６】また、塗布工程の回数は複数とされていれ
ば本発明の効果を奏するが、請求項４に記載ように４回
以内とすると、塗布膜の感度変化を抑えることができる
ので、好ましい。

【００１７】請求項５に記載の発明では、平版印刷版用
支持体に所望の塗布液を塗布するための塗布液塗布装置
であって、平版印刷版に形成される塗布膜と同一成分の
主塗布液を塗布する主塗布装置と、平版印刷版に形成さ
れる塗布膜と実質的に同一の成分とされた副塗布液を主
塗布装置による塗布に対し塗布液が乾燥しない一定範囲
内の時間間隔で塗布する副塗布装置と、を有することを
特徴とする。

【００１８】すなわち、この塗布液塗布方法では、主塗
布装置による塗布に加えて、副塗布装置による塗布を行
い、平版印刷版用支持体に塗布膜を形成する。主塗布装
置による塗布では、平版印刷版に形成される塗布膜と同
一成分の主塗布液を塗布し、さらに副塗布装置による塗
布においても、平版印刷版に形成される塗布膜と実質的
に同一の成分とされた副塗布液を塗布するので、最終的
に形成される塗布膜が影響を受けたり変質したりするこ
とはない。

【００１９】しかも、主塗布装置による塗布と副塗布装
置による塗布とは、塗布液が乾燥しない一定範囲内の時
間間隔で行うようにしている。従って、複数回塗布する
ことによる塗布膜の性状変化等も生じない。

【００２０】そして、このように主塗布装置と副塗布装
置とを使用して塗布液を平版印刷版用支持体に複数回塗
布し、塗布膜を形成することで、良好な塗布面質の塗布
膜を形成することができる。例えば、塗布前の平版印刷
版用支持体に異物が付着していた場合であっても、塗布
を複数回行うことで異物を掻き落とすことができるの
で、異物の存在しない塗布膜を形成することができる。
また、例えば、塗布装置の塗布部材に形状異常部分があ
り、１回のみの塗布では塗布膜に異常箇所が生じるおそ
れがある場合でもっても、複数回することでこの異常箇
所に再度塗布できるので、異常箇所のない塗布膜を形成
することが可能となる。

【００２１】なお、本発明の副塗布装置による塗布にお
ける「平版印刷版に形成される塗布膜と実質的に同一の
成分とされた副塗布液」とは、最終的に形成される平版
印刷版の塗布膜の性状に影響を及ぼさない範囲であれ
ば、特に限定されないが、主塗布装置で塗布される主塗
布液と同一の塗布液とすることが好ましい。

【００２２】本発明において、例えば上記したように、
主塗布装置で塗布する主塗布液と副塗布装置で塗布する
副塗布液とが同一である場合には、実質的に主塗布装置
と副塗布装置との区別は生じないことになる。

【００２３】

【発明の実施の形態】図１には本発明の一実施形態に係
るウエブの製造ライン１０が示されている。この製造ラ
イン１０の最も上流側（図１の左側）には送出装置１６
が配置されており、この送出装置１６には、平版印刷版
用支持体としてのアルミウエブ１２（例えば厚さ０．１
〜０．５ｍｍ）が、ロール状に巻き取られたアルミコイ
ル１４として装填されている。送出装置１６は製造ライ
ン１０全体での製造速度に対応する速さでアルミウエブ
１２を下流側へ送り出す。

【００２４】ここで、平版印刷版用支持体の素材として
のアルミニウム板は、例えば、ＪＩＳ１０５０材、ＪＩ
Ｓ１１００材、ＪＩＳ１０７０材、Ａｌ−Ｍｇ系合金、
Ａｌ−Ｍｎ系合金、Ａｌ−Ｍｎ−Ｍｇ系合金、Ａｌ−Ｚ
ｒ系合金、Ａｌ−Ｍｇ−Ｓｉ系合金等を適用し得る。メ
ーカにおけるアルミニウム板の製造過程では、上記規格
に適合するアルミニウムの鋳塊を製造し、このアルミニ
ウム鋳塊を熱間圧延した後、必要に応じて焼鈍と呼ぶ熱
処理を施し、冷間圧延により所定の厚さとされた帯状の
アルミニウム板に仕上げる。このアルミニウム板はロー
ル状に巻き取られてアルミコイルとされる。

【００２５】製造ライン１０では、先ず、送出装置１６
により下流側へ送り出されたアルミウエブ１２を、平坦
性を改善するためにローラレベラ、テンションレベラ等
の矯正装置（図示省略）によって形状を矯正して必要な
平坦性を得る。

【００２６】矯正装置の下流側には、アルミウエブ１２
の搬送経路に沿って上面研磨装置１８及び下面研磨装置
２０が順次配置されている。

【００２７】上面研磨装置１８には、アルミウエブ１２
の上面に接するように支持された研磨ローラ２２が設け
られると共に、アルミウエブ１２の下面に接するように
一対のテンションローラ２４が設けられている。研磨ロ
ーラ２２は、そのローラ面が例えば不織布により構成さ
れており、研磨時にはローラ面の線速度がアルミウエブ
１２の搬送速度に対して十分大きくなるように高速回転
される。このとき、研磨ローラ２２の回転方向は、アル
ミウエブ１２との接触部でのローラ面の移動方向がアル
ミウエブ１２の搬送方向と同一となる順回転方向でも、
またローラ面の移動方向がアルミウエブ１２の搬送方向
と反対となる逆回転方向の何れでもよい。また一対のテ
ンションローラ２４は、アルミウエブ１２の搬送方向に
沿って研磨ローラ２２を挟むように配置され、アルミウ
エブ１２を上方へ付勢してアルミウエブ１２の上面を所
定の接触圧で研磨ローラ２２のローラ面へ圧接させてい
る。

【００２８】上面研磨装置１８には、セラミック粒子等
を含む研磨剤を水に分散させたスラリーを研磨ローラ２
２とアルミウエブ１２との接触部へ供給するスラリー供
給部（図示省略）が設けられており、このスラリー供給
部はアルミウエブ１２の研磨時に単位時間当たりに所定
量のスラリーを供給する。このスラリー中の研磨材が研
磨ローラ２２によりアルミウエブ１２の上面へ擦り付け
られることにより、アルミウエブ１２上面のミクロ的な
凹凸が平均化されるように研磨されて表面粗さが小さく
なって行く。

【００２９】なお、上面研磨装置１８による研磨の研磨
条件は、メーカから供給されるアルミウエブ１２の初期
表面粗さ、製造ライン１０によるアルミウエブ１２の搬
送速度等により変化する。従って、アルミウエブ１２の
初期表面粗さ、搬送速度等に応じて研磨ローラ２２の回
転速度、研磨材の種類及び粒径等を設定すればよい。ま
た、本実施形態では、１台の上面研磨装置１８によって
アルミウエブ１２の上面を研磨しているが、複数台の上
面研磨装置１８をアルミウエブ１２の搬送経路に沿って
配置し、それぞれの上面研磨装置１８により段階的にア
ルミウエブ１２の上面を表面粗さが所定値以下となるま
で研磨するようにしてもよい。

【００３０】上面が研磨されたアルミウエブ１２は、上
面研磨装置１８の下流側に配置された下面研磨装置２０
により、下面の表面粗さが一定値以下となるように研磨
される。ここで、下面研磨装置２０の構造は、研磨ロー
ラ２２と一対のテンションローラ２４がアルミウエブ１
２を介して上下逆に配置されている点を除いて、上面研
磨装置１８と同一であるので説明を省略する。なお、ア
ルミウエブ１２の下面の表面粗さは、例えば、ＪＩＳに
規定される中心線表面粗さにおいて０．２５〜０．７５
μｍ以下とすることが好ましく、このための研磨条件
（研磨ローラ２２の回転速度、研磨材の種類及び粒径
等）も上面の場合と同様、アルミウエブ１２の初期表面
粗さ、搬送速度等に応じて設定すればよい。

【００３１】研磨装置１８、２０により研磨されたアル
ミウエブ１２は、研磨装置１８、２０の下流側で機械的
又は電気化学的にその表面が粗面化される。このような
粗面化方法としては、機械的な砂目立て法，電気化学的
な砂目立て法などがあり、それらを単独で、あるいは適
宜組合わせて粗面化を行うことができる。機械的な砂目
立て法としては、例えば、ボールグレイン、ワイヤーグ
レイン、ブラシグレイン、液体ホーニング法などがあ
る。また電気化学的砂目立て方法としては、交流電解エ
ッチング法が一般的に採用されており、電解電流として
は、普通の正弦波交流電流あるいは矩形波や、特殊交番
電流などが用いられている。またこの電気化学的砂目立
ての前処理として、アルミニウム板を苛性ソーダなどで
エッチング処理をしても良い。

【００３２】製造ライン１０には、粗面化処理が完了し
たアルミウエブ１２に対して公知の陽極酸化処理を行う
陽極酸化装置（図示省略）が設けられている。この陽極
酸化装置は、アルミウエブ１２の表面を公知の液中給電
方式により陽極酸化してアルミウエブ１２の表面に高い
硬度を有する陽極酸化皮膜を形成する。このとき、アル
ミウエブ１２の表面には、０．１〜１０ｇ／ｍ²の陽極
酸化皮膜、より好ましくは０．３〜５ｇ／ｍ²の陽極酸
化皮膜が形成される。また陽極酸化処理の条件は、使用
される電解液によって設定を変更する必要があるので一
概には決定されないが、一般的には、電解液の濃度は１
〜８０ｗｔ％、液温は５〜７０℃、電流密度は０．５〜
６０Ａ／dm²、電圧は１〜１００Ｖ、電解時間は１ｓｅ
ｃ〜５ｍｉｎの範囲内でそれぞれ設定される。

【００３３】陽極酸化装置の下流側には、図１に示すよ
うに、アルミウエブ１２に対して下塗り層塗布液の下塗
り装置２６及び乾燥装置２８がそれぞれ設置されてい
る。

【００３４】さらに、乾燥装置２８の下流側には、アル
ミウエブ１２に対して感光層（又は感熱層）となる感光
層塗布液の本塗布装置３０及び乾燥装置３２が配設され
ている。下塗り装置２６と本塗布装置３０とは同一構成
とされているので、図２においてこれらを塗布装置３４
と総称して、具体的構成を説明する。

【００３５】図２に示すように、塗布装置３４は、アル
ミウエブ１２の搬送方向上流側に配置された副塗布装置
４０と、この下流側に配置された主塗布装置４２とを有
している。副塗布装置４０と主塗布装置４２とは同一構
成とされており、それぞれ、軸受部材６２に回転可能
に、且つアルミウエブ１２に接触するように支持された
コーティングロッド６４を有している。また、軸受部材
６２に隣接して堰部材６６が設けられており、これらの
間には塗布液供給路６８が構成されている。この塗布液
供給路６８から供給された塗布液７０が、アルミウエブ
１２に接触して液溜まり７２を形成する。そして、コー
ティングロッド６４が回転（正回転又は逆回転のいずれ
でもよい）することにより、液溜まり７２の塗布液７０
が掻き上げられてアルミウエブ１２に転移される。この
ような構成とされた副塗布装置４０及び主塗布装置４２
はそれぞれ、いわゆるロッド塗布を行う塗布装置であ
り、これらのロッド塗布装置が隣接配置されて、下塗り
装置２６及び本塗布装置３０が構成されていることにな
る。

【００３６】また、コーティングロッド６４としては、
周面がフラットなロッドや、ロッド周面の周方向にワイ
ヤーを密に巻き付けて隣接するワイヤーどうしの間に溝
を形成したワイヤーロッド、さらには、ロッド周面の周
方向にロッドの幅全長にわたって又は必要な部分に溝を
刻設した溝切ロッド等が用いられる。

【００３７】副塗布装置４０及び主塗布装置４２の間隔
は、アルミウエブ１２の搬送速度と、副塗布装置４０に
よって塗布された塗布液７０が乾燥する乾燥時間との関
係を考慮して、この塗布液が乾燥することの無いように
一定範囲内とされている。副塗布装置４０で塗布された
塗布液が乾燥した上にさらに主塗布装置４２によって塗
布液が塗布されると、最終的な塗布膜の膜厚が厚くなる
おそれがあるが、本実施形態では、副塗布装置４０によ
る塗布液の乾燥前に主塗布装置４２による塗布を行うの
で、塗布膜が不用意に厚くなることはなく、所望の膜厚
の塗布膜を形成することができる。

【００３８】なお、塗布液７０は、副塗布装置４０と主
塗布装置４２とで異なるものであってもよいが、同一の
塗布液とすることが、形成された塗布膜の性状を一定に
維持するために好ましいため、本実施例では同一の塗布
液としている。異なる塗布液を塗布する場合には、主塗
布装置４２によって塗布される塗布液による塗布膜の性
状に影響を与えないような塗布液を、副塗布装置４０に
よる塗布液として選択する。

【００３９】それぞれの塗布装置３４の下流側に配置さ
れた乾燥装置２８、３２も、同一構成とされている。す
なわち、防爆及び断熱構造とされた乾燥槽４６が設けら
れると共に、この乾燥槽４６内に複数本の案内ローラ４
８が配置されている。塗布液７０が塗布されたアルミウ
エブ１２は、案内ローラ４８により上面側から案内され
つつ乾燥槽４６内を移動する。このとき、乾燥槽４６内
へ熱風５０が供給されることにより、アルミウエブ１２
上の塗布液が乾燥されて、所望の下塗り層及び感光層
（又は感熱層）が形成される。

【００４０】さらに、平版印刷版の種類によっては、乾
燥装置３２の下流側に、アルミウエブ１２上の感光層を
覆うように酸素遮断層としてのオーバーコート層を形成
する塗布装置及び乾燥装置を配設してもよい。

【００４１】このようにして、アルミウエブ１２上に所
望の塗布膜が形成されたアルミウエブ１２は、ウエブ巻
取装置３８によりロール状に巻き取られてウエブロール
３６とされる。このウエブロール３６は、平版印刷版の
加工ライン（図示省略）のウエブ供給装置へ供給され、
このウエブ供給装置により巻き出されて加工ラインの加
工速度に対応する速度でラインの下流側へ供給される。
加工ラインでは、アルミウエブ１２が所望のサイズに裁
断及び切断され、さらに必要に応じて塗布膜を保護する
合紙が塗布膜に接触配置される。また、所望サイズの複
数の平版印刷版を厚み方向に積層して積層束を構成する
こともある。

【００４２】以上の説明から分かるように、本実施形態
の塗布装置３４（下塗り装置２８及び本塗布装置３２）
では、それぞれ副塗布装置４０及び主塗布装置４２によ
って塗布を２回行うようにしている。従って、例えば塗
布前のアルミウエブ１２に塵等の異物が付着していて
も、副塗布装置４０による塗布液の塗布（副塗布工程）
において、この異物を洗い流すようにして掻き落とすこ
とができる。その後、主塗布装置４２による塗布液の塗
布（主塗布工程）で塗布液を塗布するので、異物等の存
在しない塗布膜を形成することができる。

【００４３】また、副塗布装置４０及び主塗布装置４２
を構成するコーティングロッド６４のいずれかの表面に
形状異常部分（キズや変形等）があった場合でも、この
形状異常部分によってアルミウエブ１２上に生じた塗布
膜の異常個所を、別の副塗布装置４０又はは主塗布装置
４２によってあらためて塗布するので、この異常箇所を
解消して、均一な塗布面質の塗布膜を形成することがで
きる。

【００４４】しかも、副塗布装置４０及び主塗布装置４
２の間隔を、副塗布装置４０によって塗布された塗布液
７０が乾燥しない一定範囲内としている。時間間隔をこ
のような範囲外とした場合には、副塗布装置４０で塗布
された塗布液がいったん乾燥した後、再度主塗布装置４
２によって塗布液を塗布するため、最終的に形成される
塗布膜が厚くなって感度変化が発生するおそれがある
が、本実施形態では、最終的な塗布膜の膜厚が不用意に
厚くなることはなく、所望の膜厚の塗布膜を形成するこ
とができる。かかる観点から、副塗布装置４０による副
塗布工程と、主塗布装置４２による主塗布工程との時間
間隔は、好ましくは２０秒以下であり、さらに好ましく
は１５秒以下、特に１２秒以下とすることが好ましい。

【００４５】なお、このように副塗布装置４０によって
塗布された塗布液の乾燥を防止する観点からは、上記し
た時間間隔は短い方がよいが、あまりに短くすると、副
塗布装置４０によってアルミウエブ１２に付着した異物
が完全に掻き落とされる前に、主塗布装置４２によって
再度塗布液を塗布することになっていしまう。このよう
な不都合を防止する観点から、上記の時間間隔は０．１
秒以上とすることが好ましく、０．２秒以上とすること
がより好ましい。

【００４６】また、アルミウエブ１２の付着物を除去す
ると共に、コーティングロッド６４の形状異常部分によ
ってアルミウエブ１２上に生じた塗布膜の異常個所を、
別の塗布装置塗布装置によってあらためて塗布すること
で解消するためには、副塗布装置４０及び主塗布装置４
２び合計数（すなわち塗布工程の数）は上記した２回に
限られず、より多い方が好ましいが、あまりに多くする
と、最終的に形成される塗布膜の膜厚が厚くなり、感度
変化が起きる等、塗布面質が低下するおそれがある。従
って、副塗布装置４０及び主塗布装置４２び合計数（塗
布工程の数）は４以下とすることが好ましい。副塗布装
置４０と主塗布装置４２の構成と同一とし、且つ同一の
塗布液を塗布する場合には、実質的に副塗布装置４０と
主塗布装置４２との区別はなく、副塗布工程と主塗布工
程との区別も生じないこととなる。

【００４７】本発明を構成する副塗布装置４０及び主塗
布装置４２としては、必ずしも上記したロッド塗布方式
のものに限定されないが、ロッド塗布方式では、コーテ
ィングロッド６４の位置等を調整することで、他の塗布
方式と比較して容易に塗布量を調整することができ、し
かも、塗布液の飛散も防止できるので、好ましい。

【００４８】本発明の平版印刷版の感光層（又は感熱
層）の具体的な態様としては、例えば、以下の（１）〜
（１１）に記載の感光層（又は感熱層）を有するものが
挙げられる。（１）感光層が赤外線吸収剤、熱によって酸を発生す
る化合物、および酸によって架橋する化合物を含有する
態様。（２）感光層が赤外線吸収剤、および熱によってアル
カリ溶解性となる化合物を含有する態様。（３）感光層が、レーザ光照射によってラジカルを発
生する化合物、アルカリに可溶のバインダー、および多
官能性のモノマーあるいはプレポリマーを含有する層
と、酸素遮断層との２層を含む態様。（４）感光層が、物理現像核層とハロゲン化銀乳剤層
との２層からなる態様。（５）感光層が、多官能性モノマーおよび多官能性バ
インダーとを含有する重合層と、ハロゲン化銀と還元剤
を含有する層と、酸素遮断層との３層を含む態様。（６）感光層が、ノボラック樹脂およびナフトキノン
ジアジドを含有する層と、ハロゲン化銀を含有する層と
の２層を含む態様。（７）感光層が、有機光導電体を含む態様。（８）感光層が、レーザー光照射によって除去される
レーザー光吸収層と、親油性層および／または親水性層
とからなる２〜３層を含む態様。（９）感光層が、エネルギーを吸収して酸を発生する
化合物、酸によってスルホン酸またはカルボン酸を発生
する官能基を側鎖に有する高分子化合物、および可視光
を吸収することで酸発生剤にエネルギーを与える化合物
を含有する態様。（１０）感光層が、キノンジアジド化合物と、ノボラ
ック樹脂とを含有する態様。（１１）感光層が、光又は紫外線により分解して自己
もしくは層内の他の分子との架橋構造を形成する化合物
とアルカリに可溶のバインダーとを含有する態様。

【００４９】同様に、本発明の平版印刷版の下塗り層の
成分としては種々の有機化合物が用いられ、例えば、カ
ルボキシメチルセルロース、デキストリン、アラビアガ
ム、２−アミノエチルホスホン酸などのアミノ基を有す
るホスホン酸類、置換基を有してもよいフェニルホスホ
ン酸、ナフチルホスホン酸、アルキルホスホン酸、グリ
セロホスホン酸、メチレンジホスホン酸およびエチレン
ジホスホン酸などの有機ホスホン酸、置換基を有しても
よいフェニルリン酸、ナフチルリン酸、アルキルリン酸
およびグリセロリン酸などの有機リン酸、置換基を有し
てもよいフェニルホスフィン酸、ナフチルホスフィン
酸、アルキルホスフィン酸およびグリセロホスフィン酸
などの有機ホスフィン酸、グリシンやβ―アラニンなど
のアミノ酸類、およびトリエタノールアミンの塩酸塩な
どのヒドロキシ基を有するアミンの塩酸塩等から選ばれ
るが、２種以上混合して用いてもよい。

【００５０】この下塗り層は、水またはメタノール、エ
タノール、メチルエチルケトンなどの有機溶剤もしくは
それらの混合溶剤に上記の有機化合物を溶解させた下塗
り層塗布液をアルミニウム板上に塗布、乾燥することで
設けることができる。

【００５１】この方法に用いる下塗り層塗布液は、前記
有機化合物の０．００５〜１０重量％の濃度の溶液が適
用可能であり、目的に応じて適宜、濃度を調整して用い
ればよい。このような下塗り層塗布液は、アンモニア、
トリエチルアミン、水酸化カリウムなどの塩基性物質
や、塩酸、リン酸などの酸性物質によりｐＨｌ〜１２の
範囲に調整することもできる。また、平版印刷用版の調
子再現性改良のために黄色染料を添加することもでき
る。

【００５２】

【実施例】本発明を実施例によってさらに詳細に説明す
るが、本発明は以下の実施例に限定されるものではな
い。

【００５３】本実施例では、上記した図２の副塗布装置
４０を１つ、主塗布装置４２を１つで合計２つ設けた場
合（実施例１〜実施例９及び実施例１２）と、さらに副
塗布装置４９（又は主塗布装置４２）を加えて３つとし
た場合（実施例１０）、４つとした場合（実施例１１）
及び５つとした場合（実施例１３）とで、平版印刷版用
支持体に対する単位面積当りの塗布量と、塗布膜の塗布
面質及び塗布膜の感度変化について評価した。なお、２
つ設けた場合については、各実施例ごとに１回目の塗布
と２回目の塗布との時間間隔を変更したが、３つ以上設
けた場合には、それぞれの塗布の時間間隔は一定（０．
６９秒）とした。また、比較例として、主塗布装置４２
のみによって塗布する場合についても同様の評価を行っ
た。結果を表１に示す。

【００５４】

【表１】

【００５５】なお、表１の「塗布液１」の組成は、・β―アラニン０．５０ｇ・メタノール９５．０ｇ・水５．０ｇである。

【００５６】各回の塗布工程における送液量（塗布液供
給路６８に供給される単位時間当たりの塗布液の量）
は、１回目の塗布を２．５〜８．０リットル／分、２回
目以降の塗布を０．５〜１．５リットル／分とした。

【００５７】また、表１の塗布面質及び感度変化の評価
において、「○」は評価結果が良好であり、実用上全く
問題や不都合が生じないことを、「△」は、「○」より
も評価結果が僅かに劣り、平版印刷版の種類や用途、使
用状況等によっては若干の問題が生じることもあるが、
実用上の問題や不都合は概ね生じないことを、「×」
は、平版印刷版の種類や用途、使用状況等に関わらず、
実用上の問題や不都合が生じるおそれがあることをそれ
ぞれ示す。

【００５８】この表１から分かるように、塗布を２回行
った場合は、塗布間隔が２０秒以内（実施例１〜実施例
９）ならば、塗布面質及び感度変化のいずれの評価も良
好であり、実用上全く問題や不都合が生じていない。ま
た、塗布間隔を２０秒よりも長くして２回塗布した場合
（実施例１２）には、平版印刷版の種類や用途、使用状
況等によって若干の感度変化が生じることがあるが、実
用上は問題や不都合は生じない。なお、この若干の感度
変化は、表１の塗布量を見ても分かるように、塗布間隔
を長くしたことで、１回目の塗布による塗布液の乾燥が
進んである程度の厚さの塗布膜が形成され、さらにその
上に２回目の塗布を行ったため、結果として塗布量（塗
布膜の厚み）が増大したためであると考えられる。

【００５９】また、塗布を３回行った場合（実施例１
０）及び４回行った場合（実施例１１）においても、塗
布面質及び感度変化のいずれの評価も良好であり、実用
上全く問題や不都合が生じていない。塗布を５回行った
場合（実施例１３）では、平版印刷版の種類や用途、使
用状況等によって若干の感度変化が生じることがある
が、実用上は問題や不都合は生じない。なお、この若干
の感度変化は、表１の塗布量を見ても分かるように、塗
布回数を多くしたことで、塗布液の総量が増大したため
塗布膜の厚みも増大したためであると考えられる。

【００６０】これらに対し、塗布を１回のみ行う場合
（比較例）では、塗布面質が低下しており、平版印刷版
の種類や用途、使用状況等によっては実用上の問題や不
都合は概ね生じないケースもあるが、平版印刷版の種類
や用途、使用状況等に関わらず、実用上の問題や不都合
が生じるケースがある。これは、平版印刷版用支持体に
付着していた異物による影響の他、塗布装置３４のコー
ティングロッド６４の僅かな形状異常部分によって、塗
布面質が低下したためであると考えられる。

【００６１】

【発明の効果】請求項１に記載の発明では、平版印刷版
用支持体に所望の塗布液を塗布するための塗布液塗布方
法であって、平版印刷版に形成される塗布膜と同一成分
の主塗布液を塗布する主塗布工程と、この主塗布工程に
加えて、平版印刷版に形成される塗布膜と実質的に同一
の成分とされた副塗布液を主塗布工程に対し塗布液が乾
燥しない一定範囲内の時間間隔で塗布する副塗布工程、
を含む複数回の塗布工程によって塗布液を平版印刷版用
支持体に塗布するので、良好な塗布面質の塗布膜を形成
することができる。

【００６２】請求項２に記載の発明では、請求項１に記
載の発明において、前記複数回の塗布工程のうち少なく
とも最終の塗布工程が前記主塗布工程とされるととも
に、この主塗布工程がロッド塗布方法により行われるの
で、塗布膜の最も表面部分を主塗布工程によって形成す
ることができ、しかも、ロッド塗布方式による行うこと
で、より良好な塗布面質の塗布膜を形成することが可能
となる。

【００６３】請求項３に記載の発明では、請求項１又は
請求項２に記載の発明において、前記時間間隔が２０秒
以内とされているので、塗布液の乾燥を確実に防止でき
る。

【００６４】請求項４に記載の発明では、請求項１〜請
求項３のいずれかに記載の発明において、前記塗布工程
が４回以内とされているので、塗布膜の感度変化を抑え
ることができる。

【００６５】請求項５に記載の発明では、平版印刷版用
支持体に所望の塗布液を塗布するための塗布液塗布装置
であって、平版印刷版に形成される塗布膜と同一成分の
主塗布液を塗布する主塗布装置と、平版印刷版に形成さ
れる塗布膜と実質的に同一の成分とされた副塗布液を主
塗布装置による塗布に対し塗布液が乾燥しない一定範囲
内の時間間隔で塗布する副塗布装置と、を有するので良
好な塗布面質の塗布膜を形成することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の一実施形態に係る塗布液塗布装置を備
えた平版印刷版製造ラインを示す概略構成図である。

【図２】本発明の一実施形態に係る塗布液塗布装置を部
分的に拡大して示す断面図である。

【符号の説明】

１０製造ライン２６下塗り装置（塗布装置）３０本塗布装置（塗布装置）３４塗布装置４０副塗布装置４２主塗布装置６４ロッド

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号ＦＩテーマコート゛(参考）Ｇ０３Ｆ 7/16 Ｇ０３Ｆ 7/16 Ｆターム(参考） 2C250 DA07 DB19 DC07 EA22 EB50 2H025 AA18 AB03 EA04 4D075 AC22 AC27 AC72 AC80 AC88 AC99 AE06 DA04 DB07 DC27 EA07 EA45 4F040 AA22 AC01 AC04 BA25 CB18 CB23 CB27 DA18 4F042 AA22 BA04 BA25 DD09 DD46 ED02

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】平版印刷版用支持体に所望の塗布液を塗
布するための塗布液塗布方法であって、平版印刷版に形成される塗布膜と同一成分の主塗布液を
塗布する主塗布工程と、この主塗布工程に加えて、平版
印刷版に形成される塗布膜と実質的に同一の成分とされ
た副塗布液を塗布液が乾燥しない一定範囲内の時間間隔
で塗布する副塗布工程、を含む複数回の塗布工程によって塗布液を平版印刷版用
支持体に塗布することを特徴とする塗布液塗布方法。
【請求項２】前記複数回の塗布工程のうち少なくとも
最終の塗布工程が前記主塗布工程とされるとともに、こ
の主塗布工程がロッド塗布方法により行われることを特
徴とする塗布液塗布方法。
【請求項３】前記時間間隔が２０秒以内とされている
ことを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の塗布液
塗布方法。
【請求項４】前記塗布工程が４回以内とされているこ
とを特徴とする請求項１〜請求項３のいずれかに記載の
塗布液塗布方法。
【請求項５】平版印刷版用支持体に所望の塗布液を塗
布するための塗布液塗布装置であって、平版印刷版に形成される塗布膜と同一成分の主塗布液を
塗布する主塗布装置と、平版印刷版に形成される塗布膜
と実質的に同一の成分とされた副塗布液を主塗布装置に
よる塗布に対し塗布液が乾燥しない一定範囲内の時間間
隔で塗布する副塗布装置と、を有することを特徴とする塗布液塗布装置。