JP2002208508A - 耐酸化性に優れた希土類永久磁石及びその製造方法 - Google Patents
耐酸化性に優れた希土類永久磁石及びその製造方法Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 Ｎｄ２Ｆｅ１４Ｂ系合金を代表とする希土類
永久磁石の表面に、信頼性の優れた耐酸化性被膜を形成
すること。 【解決手段】 トリアゾンジチオール誘導体を有機溶媒
に溶解した電解液中で、希土類永久磁石を陽極として電
解を行うことにより、前記化合物の電解によって得られ
る被膜を、希土類永久磁石の表面に形成し、更にこの耐
酸化性被膜の上に高分子化合物からなる耐酸化性被膜を
形成する。前者の被膜の形成には錆発生の要因となる水
を用いず、形成された被膜は撥水性を有し、かつ方向性
を持たないので、従来の耐酸化性被膜に比較して信頼性
に優れる。そして、更にこの上に高分子化合物の被膜を
形成するので、酸化に対する信頼性は大幅に向上する。
永久磁石の表面に、信頼性の優れた耐酸化性被膜を形成
すること。 【解決手段】 トリアゾンジチオール誘導体を有機溶媒
に溶解した電解液中で、希土類永久磁石を陽極として電
解を行うことにより、前記化合物の電解によって得られ
る被膜を、希土類永久磁石の表面に形成し、更にこの耐
酸化性被膜の上に高分子化合物からなる耐酸化性被膜を
形成する。前者の被膜の形成には錆発生の要因となる水
を用いず、形成された被膜は撥水性を有し、かつ方向性
を持たないので、従来の耐酸化性被膜に比較して信頼性
に優れる。そして、更にこの上に高分子化合物の被膜を
形成するので、酸化に対する信頼性は大幅に向上する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、Ｎｄ２Ｆｅ１４Ｂ
系合金で代表される、希土類元素：Ｒと、遷移金属：Ｔ
とを含むＲ２Ｔ１４Ｂ系金属間化合物磁石に関し、特に
耐酸化性を向上したＲ２Ｔ１４Ｂ系希土類永久磁石、及
びその製造方法に関するものである、
系合金で代表される、希土類元素：Ｒと、遷移金属：Ｔ
とを含むＲ２Ｔ１４Ｂ系金属間化合物磁石に関し、特に
耐酸化性を向上したＲ２Ｔ１４Ｂ系希土類永久磁石、及
びその製造方法に関するものである、
【０００２】
【従来の技術】Ｎｄ−Ｆｅ−Ｂで代表されるＲ−Ｆｅ−
Ｂ系磁石は、従来の希土類永久磁石であるＳｍ−Ｃｏ系
磁石に比較して、高い磁気特性を有する。しかし、この
ような磁石合金は、組織中に極めて酸化しやすいＮｄ−
Ｆｅ合金相を含み、さらにＲ２Ｆｅ１４Ｂも酸化しやす
いため、Ｓｍ−Ｃｏに比較して磁石の酸化による磁気特
性の劣化やバラツキが大きい。
Ｂ系磁石は、従来の希土類永久磁石であるＳｍ−Ｃｏ系
磁石に比較して、高い磁気特性を有する。しかし、この
ような磁石合金は、組織中に極めて酸化しやすいＮｄ−
Ｆｅ合金相を含み、さらにＲ２Ｆｅ１４Ｂも酸化しやす
いため、Ｓｍ−Ｃｏに比較して磁石の酸化による磁気特
性の劣化やバラツキが大きい。
【０００３】さらに、磁気回路などの装置に組み込んだ
場合、磁石から発生した酸化物の飛散による周辺部品へ
の汚染を引き起こす虞がある。
場合、磁石から発生した酸化物の飛散による周辺部品へ
の汚染を引き起こす虞がある。
【０００４】この問題を解決する方法として、特開昭６
０−５４４０６号公報や特開昭６０−６３９０３号公報
が提案されている。しかしながら、これらの公報に提案
されている耐酸化性被膜は、被膜形成工程中で多量の水
を使用するため、処理工程中で磁石材料が酸化したり、
処理後であっても微量の水分の残留が原因となって酸化
したりする場合が多く、耐酸化性が十分とは言い難い。
０−５４４０６号公報や特開昭６０−６３９０３号公報
が提案されている。しかしながら、これらの公報に提案
されている耐酸化性被膜は、被膜形成工程中で多量の水
を使用するため、処理工程中で磁石材料が酸化したり、
処理後であっても微量の水分の残留が原因となって酸化
したりする場合が多く、耐酸化性が十分とは言い難い。
【０００５】また、金属の防錆表面処理の一般的方法で
ある塗装法では、塗料の基材が有機高分子であるため、
金属との親和性が不十分で、磁石の部品化工程や使用時
において亀裂や剥離を生じ易いこと、また特に反応硬化
型の塗料の場合は、痕跡程度の未反応官能基の経時変化
が錆発生の原因となることもあり、特に、このような合
金系では、信頼性が不十分で、用途が限定されているの
が現状である。
ある塗装法では、塗料の基材が有機高分子であるため、
金属との親和性が不十分で、磁石の部品化工程や使用時
において亀裂や剥離を生じ易いこと、また特に反応硬化
型の塗料の場合は、痕跡程度の未反応官能基の経時変化
が錆発生の原因となることもあり、特に、このような合
金系では、信頼性が不十分で、用途が限定されているの
が現状である。
【０００６】さらに、スパッター、イオン蒸着法を用い
た金属被膜形成による酸化防止法は、磁石全体への均一
コーティングが困難であること、また被覆層組織が下地
面に垂直方向に方向性を持つため、被覆層に微細な間隙
を生じ、十分な耐酸化性が期待できないなどの問題があ
る。
た金属被膜形成による酸化防止法は、磁石全体への均一
コーティングが困難であること、また被覆層組織が下地
面に垂直方向に方向性を持つため、被覆層に微細な間隙
を生じ、十分な耐酸化性が期待できないなどの問題があ
る。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】そこで、本発明の技術
的課題は、上記欠点に鑑み、より耐酸化性に優れた希土
類永久磁石およびその製造方法を提供することにある。
的課題は、上記欠点に鑑み、より耐酸化性に優れた希土
類永久磁石およびその製造方法を提供することにある。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明は、従来の塗装、
電解めっき、スパッター、イオン蒸着などと、これらの
方法とはまったく異なった方法を併用することにより、
Ｒ２Ｔ１４Ｂ系希土類永久磁石に、より強固な耐酸化性
の被膜を形成する方法を検討した結果なされたものであ
る。
電解めっき、スパッター、イオン蒸着などと、これらの
方法とはまったく異なった方法を併用することにより、
Ｒ２Ｔ１４Ｂ系希土類永久磁石に、より強固な耐酸化性
の被膜を形成する方法を検討した結果なされたものであ
る。
【０００９】即ち、本発明は、Ｒ−Ｔ−Ｂを主成分とす
るＲ２Ｔ１４Ｂ系合金（Ｒ：Ｙを含む希土類元素のうち
少なくとも１種以上、Ｔ：遷移金属、Ｂ：ホウ素）から
なる焼結型希土類永久磁石の表面に、１，３，５−トリ
アジンの２、４、６の位置のいずれかを−Ｒ、残部を−
ＳＭ（ＲはＳＨまたはＮＲ１Ｒ２で、Ｒ１、Ｒ２は水
素、アルキル基、フェニル基のいずれか、Ｍは水素、ア
ルカリ金属、アルカリ土類金属のいずれか）で置換した
トリアジンジチオール誘導体の少なくとも１種の電解に
よって得られる耐酸化性被膜と、前記耐酸化性被膜の上
に形成されてなる高分子化合物の被膜を有することを特
徴とする希土類永久磁石である。
るＲ２Ｔ１４Ｂ系合金（Ｒ：Ｙを含む希土類元素のうち
少なくとも１種以上、Ｔ：遷移金属、Ｂ：ホウ素）から
なる焼結型希土類永久磁石の表面に、１，３，５−トリ
アジンの２、４、６の位置のいずれかを−Ｒ、残部を−
ＳＭ（ＲはＳＨまたはＮＲ１Ｒ２で、Ｒ１、Ｒ２は水
素、アルキル基、フェニル基のいずれか、Ｍは水素、ア
ルカリ金属、アルカリ土類金属のいずれか）で置換した
トリアジンジチオール誘導体の少なくとも１種の電解に
よって得られる耐酸化性被膜と、前記耐酸化性被膜の上
に形成されてなる高分子化合物の被膜を有することを特
徴とする希土類永久磁石である。
【００１０】また、本発明は、Ｒ−Ｔ−Ｂを主成分とす
るＲ２Ｔ１４Ｂ系合金［Ｒ：イットリウム（Ｙ）を含む
希土類元素のうち少なくとも１種以上、Ｔ：遷移金属、
Ｂ：ホウ素］の焼結型希土類永久磁石を、１，３，５−
トリアジンの２、４、６の位置のいずれかを−Ｒ、残部
を−ＳＭ［ＲはＳＨまたはＮＲ１Ｒ２で、Ｒ１、Ｒ２は
水素、アルキル基、フェニル基のいずれか、Ｍは水素、
アルカリ金属、アルカリ土類金属のいずれか、Ｓはイオ
ウ、Ｎは窒素］で置換したトリアジンジチオール誘導体
の少なくとも１種の溶液中で、電解処理することによ
り、前記焼結型希土類永久磁石の表面に耐酸化性被膜を
形成し、更に前記耐酸化性被膜の上に、高分子化合物の
被膜を形成することを特徴とする、希土類永久磁石の製
造方法である。
るＲ２Ｔ１４Ｂ系合金［Ｒ：イットリウム（Ｙ）を含む
希土類元素のうち少なくとも１種以上、Ｔ：遷移金属、
Ｂ：ホウ素］の焼結型希土類永久磁石を、１，３，５−
トリアジンの２、４、６の位置のいずれかを−Ｒ、残部
を−ＳＭ［ＲはＳＨまたはＮＲ１Ｒ２で、Ｒ１、Ｒ２は
水素、アルキル基、フェニル基のいずれか、Ｍは水素、
アルカリ金属、アルカリ土類金属のいずれか、Ｓはイオ
ウ、Ｎは窒素］で置換したトリアジンジチオール誘導体
の少なくとも１種の溶液中で、電解処理することによ
り、前記焼結型希土類永久磁石の表面に耐酸化性被膜を
形成し、更に前記耐酸化性被膜の上に、高分子化合物の
被膜を形成することを特徴とする、希土類永久磁石の製
造方法である。
【００１１】また、本発明は、前記の希土類永久磁石の
製造方法において、前記溶液の溶媒が、有機溶媒である
ことを特徴とする、希土類永久磁石の製造方法である。
製造方法において、前記溶液の溶媒が、有機溶媒である
ことを特徴とする、希土類永久磁石の製造方法である。
【００１２】また、本発明は、前記の希土類永久磁石の
製造方法において、前記溶液の温度を０〜８０℃とする
ことを特徴とする、希土類永久磁石の製造方法である。
製造方法において、前記溶液の温度を０〜８０℃とする
ことを特徴とする、希土類永久磁石の製造方法である。
【００１３】また、本発明は、前記の希土類永久磁石の
製造方法において、電解処理を、電圧が２０Ｖ以下（０
を含まず）、電流密度が１０ｍＡ／ｄｍ２〜１０Ａ／ｄ
ｍ２の範囲で行うことを特徴とする、希土類永久磁石の
製造方法である。
製造方法において、電解処理を、電圧が２０Ｖ以下（０
を含まず）、電流密度が１０ｍＡ／ｄｍ２〜１０Ａ／ｄ
ｍ２の範囲で行うことを特徴とする、希土類永久磁石の
製造方法である。
【００１４】また、本発明は、前記の希土類永久磁石の
製造方法において、電解処理時間を、０.１秒〜１０分
とすることを特徴とする希土類永久磁石の製造方法であ
る。
製造方法において、電解処理時間を、０.１秒〜１０分
とすることを特徴とする希土類永久磁石の製造方法であ
る。
【００１５】
【作用】本発明の耐酸化性被膜の形成方法によれば、電
解液中で、トリアジンジチオール誘導体が電離して、マ
イナスイオンを生じるため、磁石を陽極とすることによ
って、磁石表面にトリアジンジチオール誘導体が与える
マイナスイオンが電着して、被膜を形成することができ
る。
解液中で、トリアジンジチオール誘導体が電離して、マ
イナスイオンを生じるため、磁石を陽極とすることによ
って、磁石表面にトリアジンジチオール誘導体が与える
マイナスイオンが電着して、被膜を形成することができ
る。
【００１６】また、トリアジンチオール誘導体から得ら
れる耐酸化性被膜の上に、更に高分子化合物からなる被
膜を形成することにより、耐酸化性の被膜をより強固に
し、極めて耐酸化性が大きい希土類永久磁石を得ること
ができる。
れる耐酸化性被膜の上に、更に高分子化合物からなる被
膜を形成することにより、耐酸化性の被膜をより強固に
し、極めて耐酸化性が大きい希土類永久磁石を得ること
ができる。
【００１７】トリアジンジチオール誘導体より磁石表面
に生成された被膜は、従来の化成被膜などに比較して極
めて耐食性、耐久性に優れ、金属表面との結合力が大き
い。更に撥水性及び潤滑性が付与されるので着水、着氷
などを防止できる。また安価で短時間に、剥離し難い薄
膜が形成できる。
に生成された被膜は、従来の化成被膜などに比較して極
めて耐食性、耐久性に優れ、金属表面との結合力が大き
い。更に撥水性及び潤滑性が付与されるので着水、着氷
などを防止できる。また安価で短時間に、剥離し難い薄
膜が形成できる。
【００１８】そして、電解液は、トリアゾンジチオール
誘導体を有機溶媒に溶解させることにより調整できる。
溶媒として有機化合物を用いる理由は、溶媒として水を
用いた場合では、被膜への水の残留により、磁石表面で
の錆の発生を完全に防止できないためである。
誘導体を有機溶媒に溶解させることにより調整できる。
溶媒として有機化合物を用いる理由は、溶媒として水を
用いた場合では、被膜への水の残留により、磁石表面で
の錆の発生を完全に防止できないためである。
【００１９】有機溶媒としては、０〜８０℃の温度範囲
で低粘度の液体であれば、特に限定されるものではな
く、殆どのものを使用できる。例えば、メチルアルコー
ル、エチルアルコール、イソプロピルアルコール、エチ
ルセルソルブのようなアルコール、アセトン、メチルエ
チルケトンのようなケトン、ジメチルホルムアミドのよ
うなアミド、酢酸エチルのようなエステル、テトラヒド
ロフランのようなフラン、ベンゼン、トルエンのような
芳香族炭化水素などを使用することができる。溶液の濃
度は、トリアゾンジチオール化合物が１×１０−１〜１
×１０−６モル／ｌ、好ましくは５×１０−２〜５×１
０−４モル／ｌになるようにする。
で低粘度の液体であれば、特に限定されるものではな
く、殆どのものを使用できる。例えば、メチルアルコー
ル、エチルアルコール、イソプロピルアルコール、エチ
ルセルソルブのようなアルコール、アセトン、メチルエ
チルケトンのようなケトン、ジメチルホルムアミドのよ
うなアミド、酢酸エチルのようなエステル、テトラヒド
ロフランのようなフラン、ベンゼン、トルエンのような
芳香族炭化水素などを使用することができる。溶液の濃
度は、トリアゾンジチオール化合物が１×１０−１〜１
×１０−６モル／ｌ、好ましくは５×１０−２〜５×１
０−４モル／ｌになるようにする。
【００２０】また、陰極には、陰極からの溶出物が被膜
中に混入するのを避けるため、不溶性材料を使用する。
このような材料としては、例えば、白金、チタン、ステ
ンレス鋼、カーボン、グラファイトなどがある。
中に混入するのを避けるため、不溶性材料を使用する。
このような材料としては、例えば、白金、チタン、ステ
ンレス鋼、カーボン、グラファイトなどがある。
【００２１】電解は溶液の温度を０〜８０℃に調整し
て、電圧２０Ｖ以下、電流密度１０ｍＡ／ｄｍ２〜１０
Ａ／ｄｍ２で０.１秒〜１０分間電解する。溶液の温度
を限定した理由は、温度を０℃より低くすると、被膜を
形成するために長時間を要し、８０℃より高くすると、
被膜の厚さをコントロールするのが困難となるからであ
る。
て、電圧２０Ｖ以下、電流密度１０ｍＡ／ｄｍ２〜１０
Ａ／ｄｍ２で０.１秒〜１０分間電解する。溶液の温度
を限定した理由は、温度を０℃より低くすると、被膜を
形成するために長時間を要し、８０℃より高くすると、
被膜の厚さをコントロールするのが困難となるからであ
る。
【００２２】また、電圧を限定した理由は、電圧を２０
Ｖより高くすると、磁石表面への被膜の形成が不均一と
なるからである。さらに、電流密度を限定した理由は、
電流密度を１０ｍＡ／ｄｍ２より小さくすると、被膜が
形成されず、電流密度を１０Ａ／ｄｍ２より大きくする
と、被膜形成が不均一となるからである。
Ｖより高くすると、磁石表面への被膜の形成が不均一と
なるからである。さらに、電流密度を限定した理由は、
電流密度を１０ｍＡ／ｄｍ２より小さくすると、被膜が
形成されず、電流密度を１０Ａ／ｄｍ２より大きくする
と、被膜形成が不均一となるからである。
【００２３】また、電解時間を限定した理由は、電解時
間が０.１秒未満であると、電流密度を１０Ａ／ｄｍ２
にしても、磁石表面全体に被膜を形成できず、１０分を
超えると、被膜が絶縁体として機能することから、電解
が実質的に不可能となるからである。
間が０.１秒未満であると、電流密度を１０Ａ／ｄｍ２
にしても、磁石表面全体に被膜を形成できず、１０分を
超えると、被膜が絶縁体として機能することから、電解
が実質的に不可能となるからである。
【００２４】なお、一般に電解に用いる溶液には、溶液
の伝導性を向上したり、泳動電流を減少したりするた
め、電極で酸化還元を受け難い塩などを支持電解質とし
て加えるが、この場合も支持電解質の添加は一定の効果
を発現する。
の伝導性を向上したり、泳動電流を減少したりするた
め、電極で酸化還元を受け難い塩などを支持電解質とし
て加えるが、この場合も支持電解質の添加は一定の効果
を発現する。
【００２５】また、トリアジンチオール誘導体による対
酸化性被膜の上に形成する高分子化合物の被膜形成に用
いる材料としては、エポキシ樹脂、エポキシ化合物など
で変性した熱硬化型アクリル樹脂、シリコン樹脂などが
挙げられるが、基本的に前記耐酸化性被膜に接着する材
料であれば、とくに限定されず、それらを混合して用い
ることも可能である。また、それらの樹脂に、硬化反応
を妨げない物質という限定条件付きで、酸化亜鉛、ベン
ゾトリアゾールなどの防錆剤を添加してもよい。
酸化性被膜の上に形成する高分子化合物の被膜形成に用
いる材料としては、エポキシ樹脂、エポキシ化合物など
で変性した熱硬化型アクリル樹脂、シリコン樹脂などが
挙げられるが、基本的に前記耐酸化性被膜に接着する材
料であれば、とくに限定されず、それらを混合して用い
ることも可能である。また、それらの樹脂に、硬化反応
を妨げない物質という限定条件付きで、酸化亜鉛、ベン
ゾトリアゾールなどの防錆剤を添加してもよい。
【００２６】そして、高分子化合物の被膜の成膜方法と
しては、スプレー法、電着法、刷毛塗り法などの一般的
な塗装方法が挙げられ、焼き付けを施してもよい。被膜
の厚さは、５μｍ以上２５μｍ以下が望ましく、その理
由は、５μｍ以下では、十分な耐酸化性が得られず、２
５μｍ以上では、製品の寸法精度の確保が困難となるか
らである。
しては、スプレー法、電着法、刷毛塗り法などの一般的
な塗装方法が挙げられ、焼き付けを施してもよい。被膜
の厚さは、５μｍ以上２５μｍ以下が望ましく、その理
由は、５μｍ以下では、十分な耐酸化性が得られず、２
５μｍ以上では、製品の寸法精度の確保が困難となるか
らである。
【００２７】
【実施例】以下に、本発明について具体的な実施例を挙
げ、説明する。
げ、説明する。
【００２８】（実施例１）純度９９％以上のＮｄ、純度
９９％の電解鉄、フェロボロン合金をそれぞれ所要量秤
量し、アルゴン雰囲気中で高周波加熱により溶解して鋳
込み、６４.９重量％Ｆｅ−３４重量％Ｎｄ−１.１重量
％Ｂのインゴットを得た。次に、このインゴットをディ
スクミルで粗粉砕し、更にボールミルで微粉砕し、平均
粒径が３μｍの原料粉末を得た。
９９％の電解鉄、フェロボロン合金をそれぞれ所要量秤
量し、アルゴン雰囲気中で高周波加熱により溶解して鋳
込み、６４.９重量％Ｆｅ−３４重量％Ｎｄ−１.１重量
％Ｂのインゴットを得た。次に、このインゴットをディ
スクミルで粗粉砕し、更にボールミルで微粉砕し、平均
粒径が３μｍの原料粉末を得た。
【００２９】この原料粉末を２０ｋＯｅの磁界中で、１
トン／ｍ２の圧力で成形した。得られた成形体を１０５
０〜１１００℃、２時間真空焼結後、炉冷して焼結体を
得、この焼結体を５００〜６００℃で１時間熱処理した
後、急冷した。このようにして得られた希土類永久磁石
を１辺が１０ｍｍの立方体形状に切断し、耐酸化性を評
価するための試験片とした。
トン／ｍ２の圧力で成形した。得られた成形体を１０５
０〜１１００℃、２時間真空焼結後、炉冷して焼結体を
得、この焼結体を５００〜６００℃で１時間熱処理した
後、急冷した。このようにして得られた希土類永久磁石
を１辺が１０ｍｍの立方体形状に切断し、耐酸化性を評
価するための試験片とした。
【００３０】次に、トリアジンジチオール誘導体とし
て、化１に示した２−ジブチルアミノ−４，６−ジチオ
ール−トリアジンを５×１０−２モル／ｌの濃度となる
ように、支持電解質として、過塩素酸リチウム（ＬｉＣ
ｌＯ４）を５×１０−４モル／ｌとなるように、それぞ
れエチルアルコールに溶解し、電解液を調製した。
て、化１に示した２−ジブチルアミノ−４，６−ジチオ
ール−トリアジンを５×１０−２モル／ｌの濃度となる
ように、支持電解質として、過塩素酸リチウム（ＬｉＣ
ｌＯ４）を５×１０−４モル／ｌとなるように、それぞ
れエチルアルコールに溶解し、電解液を調製した。
【００３１】
【化１】
【００３２】次に、この電解液を用いて、アセトンで洗
浄した前記の試験片を陽極、ステンレス（ＳＵＳ３０
４）鋼板を陰極として、溶液温度２５〜３０℃、電流密
度０.１〜２.０Ａ／ｄｍ２で、１０〜２４０秒間電解
し、耐酸化性被膜を得た。
浄した前記の試験片を陽極、ステンレス（ＳＵＳ３０
４）鋼板を陰極として、溶液温度２５〜３０℃、電流密
度０.１〜２.０Ａ／ｄｍ２で、１０〜２４０秒間電解
し、耐酸化性被膜を得た。
【００３３】その後、この試験片に、アクリル系塗料を
スプレーを用いて塗布し、１５０℃で３０分間、焼き付
け処理を行い、厚さ１０μｍの高分子化合物の被膜を形
成した。また、同様にエポキシ系塗料をスプレーを用い
て塗布し、８０℃で３０分間、焼き付け処理を行い、厚
さ１２μｍの高分子化合物の被膜を形成した。このよう
にして２種類の試験片を調製した。
スプレーを用いて塗布し、１５０℃で３０分間、焼き付
け処理を行い、厚さ１０μｍの高分子化合物の被膜を形
成した。また、同様にエポキシ系塗料をスプレーを用い
て塗布し、８０℃で３０分間、焼き付け処理を行い、厚
さ１２μｍの高分子化合物の被膜を形成した。このよう
にして２種類の試験片を調製した。
【００３４】（実施例２）トリアジンジチオール誘導体
として、化２に示した２−オレイルアミノ−４，６−ジ
メルカプト−トリアジンモノナトリウムを、濃度が５×
１０−４モル／ｌとなるように、支持電解質として、フ
ッ化ホウ素酸リチウム（ＬｉＢＦ４）を、濃度が５×１
０−４／ｌとなるように、それぞれエチルアルコールに
溶解して、電解液を調製した。
として、化２に示した２−オレイルアミノ−４，６−ジ
メルカプト−トリアジンモノナトリウムを、濃度が５×
１０−４モル／ｌとなるように、支持電解質として、フ
ッ化ホウ素酸リチウム（ＬｉＢＦ４）を、濃度が５×１
０−４／ｌとなるように、それぞれエチルアルコールに
溶解して、電解液を調製した。
【００３５】
【化２】
【００３６】この電解液を用い、実施例１と同様に電解
を行い、耐酸化性被膜を得た。その後、この試験片に対
し、実施例１と同様にして、アクリル系塗料、エポキシ
系塗料を用いて、それぞれ高分子化合物の被膜を形成し
た。
を行い、耐酸化性被膜を得た。その後、この試験片に対
し、実施例１と同様にして、アクリル系塗料、エポキシ
系塗料を用いて、それぞれ高分子化合物の被膜を形成し
た。
【００３７】次に、実施例１と実施例２で得た試験片、
及び比較のために対酸化性被膜を形成していない試験片
を用い、７２時間５％食塩水噴霧試験、及び碁盤目テス
トを行った。その結果を表１に示した。
及び比較のために対酸化性被膜を形成していない試験片
を用い、７２時間５％食塩水噴霧試験、及び碁盤目テス
トを行った。その結果を表１に示した。
【００３８】
【表１】
【００３９】表１に示したように、本発明の方法で対酸
化性被膜を形成した試験片は、錆などの発生が見られ
ず、外観的な変化は何ら観察されなかった。これに対
し、耐酸性被膜を形成していない試験片では、著しい腐
食が認められ、本発明による耐酸化性被膜の効果が明ら
かであった。
化性被膜を形成した試験片は、錆などの発生が見られ
ず、外観的な変化は何ら観察されなかった。これに対
し、耐酸性被膜を形成していない試験片では、著しい腐
食が認められ、本発明による耐酸化性被膜の効果が明ら
かであった。
【００４０】
【発明の効果】以上に説明したように、本発明によれ
ば、表面に異なる方法で２層に形成した耐酸化性被膜を
具備した希土類永久磁石が得られ、希土類永久磁石の信
頼性及び耐久性を大幅に向上することが可能となる。
ば、表面に異なる方法で２層に形成した耐酸化性被膜を
具備した希土類永久磁石が得られ、希土類永久磁石の信
頼性及び耐久性を大幅に向上することが可能となる。
Claims (6)
- 【請求項１】 Ｒ−Ｔ−Ｂを主成分とするＲ２Ｔ１４Ｂ
系合金［Ｒ：イットリウム（Ｙ）を含む希土類元素のう
ち少なくとも１種以上、Ｔ：遷移金属、Ｂ：ホウ素］か
らなる焼結型希土類永久磁石の表面に、１，３，５−ト
リアジンの２、４、６の位置のいずれかを−Ｒ、残部を
−ＳＭ［ＲはＳＨまたはＮＲ１Ｒ２で、Ｒ１、Ｒ２は水
素、アルキル基、フェニル基のいずれか、Ｍは水素、ア
ルカリ金属、アルカリ土類金属のいずれか、Ｓはイオ
ウ、Ｎは窒素］で置換したトリアジンジチオール誘導体
の少なくとも１種の電解によって形成されてなる耐酸化
性被膜と、前記耐酸化性被膜の上に形成されてなる高分
子化合物の被膜を有することを特徴とする希土類永久磁
石。 - 【請求項２】 Ｒ−Ｔ−Ｂを主成分とするＲ２Ｔ１４Ｂ
系合金［Ｒ：イットリウム（Ｙ）を含む希土類元素のう
ち少なくとも１種以上、Ｔ：遷移金属、Ｂ：ホウ素］の
焼結型希土類永久磁石を、１，３，５−トリアジンの
２、４、６の位置のいずれかを−Ｒ、残部を−ＳＭ［Ｒ
はＳＨまたはＮＲ１Ｒ２で、Ｒ１、Ｒ２は水素、アルキ
ル基、フェニル基のいずれか、Ｍは水素、アルカリ金
属、アルカリ土類金属のいずれか、Ｓはイオウ、Ｎは窒
素］で置換したトリアジンジチオール誘導体の少なくと
も１種の溶液中で、電解処理することにより、前記焼結
型希土類永久磁石の表面に耐酸化性被膜を形成し、更に
前記耐酸化性被膜の上に、高分子化合物の被膜を形成す
ることを特徴とする、請求項１に記載の希土類永久磁石
の製造方法。 - 【請求項３】 請求項２に記載の希土類永久磁石の製造
方法において、前記溶液の溶媒は、有機溶媒であること
を特徴とする、希土類永久磁石の製造方法。 - 【請求項４】 請求項２もしくは請求項３のいずれかに
記載の希土類永久磁石の製造方法において、前記溶液の
温度を０〜８０℃とすることを特徴とする、希土類永久
磁石の製造方法。 - 【請求項５】 請求項２ないし請求項４のいずれかに記
載の希土類永久磁石の製造方法において、電解処理を、
電圧が２０Ｖ以下（０を含まず）、電流密度が１０ｍＡ
／ｄｍ２〜１０Ａ／ｄｍ２の範囲で行うことを特徴とす
る、希土類永久磁石の製造方法。 - 【請求項６】 請求項２ないし請求項５のいずれかに記
載の希土類永久磁石の製造方法において、電解処理時間
を、０.１秒〜１０分とすることを特徴とする希土類永
久磁石の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001001314A JP2002208508A (ja) | 2001-01-09 | 2001-01-09 | 耐酸化性に優れた希土類永久磁石及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001001314A JP2002208508A (ja) | 2001-01-09 | 2001-01-09 | 耐酸化性に優れた希土類永久磁石及びその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002208508A true JP2002208508A (ja) | 2002-07-26 |
Family
ID=18869970
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001001314A Pending JP2002208508A (ja) | 2001-01-09 | 2001-01-09 | 耐酸化性に優れた希土類永久磁石及びその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2002208508A (ja) |
-
2001
- 2001-01-09 JP JP2001001314A patent/JP2002208508A/ja active Pending
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