JP2002206493A - スクリュー式ドライ真空ポンプ - Google Patents
スクリュー式ドライ真空ポンプInfo
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- F04C18/08—Rotary-piston pumps specially adapted for elastic fluids of intermeshing-engagement type, i.e. with engagement of co-operating members similar to that of toothed gearing
- F04C18/082—Details specially related to intermeshing engagement type pumps
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- F04D19/02—Multi-stage pumps
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- F04D19/044—Holweck-type pumps
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- F04C—ROTARY-PISTON, OR OSCILLATING-PISTON, POSITIVE-DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; ROTARY-PISTON, OR OSCILLATING-PISTON, POSITIVE-DISPLACEMENT PUMPS
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- F04C2220/10—Vacuum
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- General Engineering & Computer Science (AREA)
- Applications Or Details Of Rotary Compressors (AREA)
- Compressors, Vaccum Pumps And Other Relevant Systems (AREA)
- Non-Positive Displacement Air Blowers (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 ポンプの内部に反応副生成物が堆積しないよ
うにした真空ポンプを提供する。 【解決手段】 ねじ溝を有するロータ１２がケーシング
１１内に配置され、ロータの回転により気体を排気する
スクリュー式ドライ真空ポンプにおいて、ロータの外周
部を覆うケーシング１１の形状を、吐出端部においてロ
ータよりも短くした（符号２１）。
うにした真空ポンプを提供する。 【解決手段】 ねじ溝を有するロータ１２がケーシング
１１内に配置され、ロータの回転により気体を排気する
スクリュー式ドライ真空ポンプにおいて、ロータの外周
部を覆うケーシング１１の形状を、吐出端部においてロ
ータよりも短くした（符号２１）。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、ねじ溝を有するロ
ータがケーシング内に配置され、ロータの回転により気
体を排気するスクリュー式ドライ真空ポンプに関する。
ータがケーシング内に配置され、ロータの回転により気
体を排気するスクリュー式ドライ真空ポンプに関する。
【０００２】
【従来の技術】スクリュー式ドライ真空ポンプは、例え
ば２軸のロータにそれぞれねじ溝を備え、２軸のロータ
間及びロータとケーシングとの隙間が微少であり、２軸
のロータが互いに逆方向に同期して回転することで、回
転するねじ溝に沿って気体が移送される。このような形
式の真空ポンプは、半導体製造装置等におけるチャンバ
内の排気等に広く用いられている。
ば２軸のロータにそれぞれねじ溝を備え、２軸のロータ
間及びロータとケーシングとの隙間が微少であり、２軸
のロータが互いに逆方向に同期して回転することで、回
転するねじ溝に沿って気体が移送される。このような形
式の真空ポンプは、半導体製造装置等におけるチャンバ
内の排気等に広く用いられている。
【０００３】半導体の製造プロセスでは、気相成長（Ｃ
ＶＤ）装置、ドライエッチング装置、スパッタ装置など
真空環境を作り出してその中で反応ガスを用いてシリコ
ン等の半導体ウェハを加工する工程が広く用いられてい
る。半導体製造装置においては、例えばチャンバ内にお
いて気相成長等の各種の処理が行われるが、これらの処
理ガスの排気には、処理ガスが固体成分を含む、或いは
固体化する場合があり、係る処理ガスの排気にはねじ溝
を有するロータの回転により気体を移送する形式のスク
リュー式ドライ真空ポンプが好適である。これは、スク
リュー式（ねじ溝式）ロータの形状から、ロータとケー
シング間のねじ溝内の空間に堆積する固体成分を、ロー
タの回転に伴い排気側に掻き出せる効果があるからであ
る。
ＶＤ）装置、ドライエッチング装置、スパッタ装置など
真空環境を作り出してその中で反応ガスを用いてシリコ
ン等の半導体ウェハを加工する工程が広く用いられてい
る。半導体製造装置においては、例えばチャンバ内にお
いて気相成長等の各種の処理が行われるが、これらの処
理ガスの排気には、処理ガスが固体成分を含む、或いは
固体化する場合があり、係る処理ガスの排気にはねじ溝
を有するロータの回転により気体を移送する形式のスク
リュー式ドライ真空ポンプが好適である。これは、スク
リュー式（ねじ溝式）ロータの形状から、ロータとケー
シング間のねじ溝内の空間に堆積する固体成分を、ロー
タの回転に伴い排気側に掻き出せる効果があるからであ
る。
【０００４】図４は、２軸容積型流体機械の一種である
従来のスクリュー式ドライ真空ポンプの一例を示す断面
図である。円筒状のケーシング１１内には、ねじ溝を有
するロータ１２が、その外周がケーシングに対して僅か
な隙間を介して回転可能に配置されている。ロータ１２
は主軸１５に接続され、主軸１５が吐出側軸受１６によ
り支持され、図示しない外部に設けられたモータにより
回転駆動される。ロータ１２の回転により吸込口１７か
ら吸い込まれた気体は、ねじ溝の回転に伴って吐出側に
移送され、吐出口１８より排出される。
従来のスクリュー式ドライ真空ポンプの一例を示す断面
図である。円筒状のケーシング１１内には、ねじ溝を有
するロータ１２が、その外周がケーシングに対して僅か
な隙間を介して回転可能に配置されている。ロータ１２
は主軸１５に接続され、主軸１５が吐出側軸受１６によ
り支持され、図示しない外部に設けられたモータにより
回転駆動される。ロータ１２の回転により吸込口１７か
ら吸い込まれた気体は、ねじ溝の回転に伴って吐出側に
移送され、吐出口１８より排出される。
【０００５】係るスクリュー式ドライ真空ポンプを用い
て、例えば半導体製造装置用のチャンバを排気する場合
には、排気対象の反応ガス中に固化する成分が含まれて
おり、これにより反応副生成物２０がロータの吐出側に
堆積する場合がある。即ち、上述したように、ねじ溝を
有するロータの回転により気体を移送する真空ポンプに
おいては、真空ポンプ内部において堆積する固体成分を
ねじ溝の回転に伴い排気側に掻き出すことができる。し
かしながら、図示するようにケーシング１１内の吐出側
端部においては、ロータ１２とケーシング１１間の隙間
が反応副生成物２０により埋められてしまうという問題
がある。このように真空ポンプの排気側に固体分が堆積
し、ロータとケーシングとの間が埋められると、これに
よりモータが過負荷となりポンプが停止してしまい、ポ
ンプ及びモータの損傷の原因となる。
て、例えば半導体製造装置用のチャンバを排気する場合
には、排気対象の反応ガス中に固化する成分が含まれて
おり、これにより反応副生成物２０がロータの吐出側に
堆積する場合がある。即ち、上述したように、ねじ溝を
有するロータの回転により気体を移送する真空ポンプに
おいては、真空ポンプ内部において堆積する固体成分を
ねじ溝の回転に伴い排気側に掻き出すことができる。し
かしながら、図示するようにケーシング１１内の吐出側
端部においては、ロータ１２とケーシング１１間の隙間
が反応副生成物２０により埋められてしまうという問題
がある。このように真空ポンプの排気側に固体分が堆積
し、ロータとケーシングとの間が埋められると、これに
よりモータが過負荷となりポンプが停止してしまい、ポ
ンプ及びモータの損傷の原因となる。
【０００６】また、排気対象の反応ガス中に反応副生成
物の塊や異物などが含まれる場合があり、これらの粒径
が、ロータ形状やロータ間またはロータとケーシングと
のクリアランスに比して小さい場合には、上述したよう
に、ロータの排気作用により排出されるが、粒径が大き
いものは排気される過程でロータ間の隙間やロータとケ
ーシングとの間の隙間に噛み込んで、ロータの回転に支
障をきたすといった問題がある。
物の塊や異物などが含まれる場合があり、これらの粒径
が、ロータ形状やロータ間またはロータとケーシングと
のクリアランスに比して小さい場合には、上述したよう
に、ロータの排気作用により排出されるが、粒径が大き
いものは排気される過程でロータ間の隙間やロータとケ
ーシングとの間の隙間に噛み込んで、ロータの回転に支
障をきたすといった問題がある。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】本発明は上述した事情
に鑑みて為されたもので、ポンプの内部に反応副生成物
が堆積しないようにした真空ポンプを提供することを目
的とする。
に鑑みて為されたもので、ポンプの内部に反応副生成物
が堆積しないようにした真空ポンプを提供することを目
的とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明の真空ポンプは、
ねじ溝を有するロータがケーシング内に配置され、前記
ロータの回転により気体を排気するスクリュー式ドライ
真空ポンプにおいて、前記ロータの外周部を覆うケーシ
ングの形状を、吐出端部において前記ロータよりも短く
したことを特徴とする。
ねじ溝を有するロータがケーシング内に配置され、前記
ロータの回転により気体を排気するスクリュー式ドライ
真空ポンプにおいて、前記ロータの外周部を覆うケーシ
ングの形状を、吐出端部において前記ロータよりも短く
したことを特徴とする。
【０００９】上述した本発明によれば、ロータの外周部
を覆うケーシングの形状を吐出端部においてロータより
も短くしたことから、ロータの吐出側においてケーシン
グとの間隔が広くなる。このため、ロータとケーシング
との間の微少隙間に反応副生成物が堆積して、これによ
りポンプが停止する等の問題が解決される。従って、固
体成分である反応副生成物の生成しやすいガスを排気す
る場合においても、安定した真空ポンプの運転が可能と
なる。なお、ロータの外周部を覆うケーシングの形状
を、吸込端部においてもロータよりも短くしてもよく、
更にまた、複数のロータを備える場合には、これらの複
数のロータ間に位置するケーシングに、反応副生成物を
堆積させるための凹部を設けてもよい。
を覆うケーシングの形状を吐出端部においてロータより
も短くしたことから、ロータの吐出側においてケーシン
グとの間隔が広くなる。このため、ロータとケーシング
との間の微少隙間に反応副生成物が堆積して、これによ
りポンプが停止する等の問題が解決される。従って、固
体成分である反応副生成物の生成しやすいガスを排気す
る場合においても、安定した真空ポンプの運転が可能と
なる。なお、ロータの外周部を覆うケーシングの形状
を、吸込端部においてもロータよりも短くしてもよく、
更にまた、複数のロータを備える場合には、これらの複
数のロータ間に位置するケーシングに、反応副生成物を
堆積させるための凹部を設けてもよい。
【００１０】また、本発明の好ましい他の態様は、前記
ケーシングの内部に堆積した反応副生成物を外部に排出
するための排出手段を設けたことを特徴とする。このよ
うに構成された本発明によれば、反応副生成物がケーシ
ング内部に大量に溜まった場合でも、この反応副生成物
を外部に排出することができるので、真空ポンプの突発
的な停止を未然に防止し、安定した運転が可能となる。
ケーシングの内部に堆積した反応副生成物を外部に排出
するための排出手段を設けたことを特徴とする。このよ
うに構成された本発明によれば、反応副生成物がケーシ
ング内部に大量に溜まった場合でも、この反応副生成物
を外部に排出することができるので、真空ポンプの突発
的な停止を未然に防止し、安定した運転が可能となる。
【００１１】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て図面を参照しながら説明する。
て図面を参照しながら説明する。
【００１２】図１は、本発明の第１の実施形態につい
て、図４に対応した２軸スクリュー式ドライ真空ポンプ
の一方の軸に沿った断面を示す。図４に示す真空ポンプ
と同様に、このスクリュー式ドライ真空ポンプもねじ溝
を有するロータ１２が主軸（回転軸）１５に接続され、
図示しないモータにより駆動されて回転することで、吸
気口１７から吸気した気体をロータ１２の回転によって
移送し、排気口１８より大気側に排出する。これによ
り、吸気口１７に接続されたチャンバ等が真空排気され
る。
て、図４に対応した２軸スクリュー式ドライ真空ポンプ
の一方の軸に沿った断面を示す。図４に示す真空ポンプ
と同様に、このスクリュー式ドライ真空ポンプもねじ溝
を有するロータ１２が主軸（回転軸）１５に接続され、
図示しないモータにより駆動されて回転することで、吸
気口１７から吸気した気体をロータ１２の回転によって
移送し、排気口１８より大気側に排出する。これによ
り、吸気口１７に接続されたチャンバ等が真空排気され
る。
【００１３】ケーシング１１は、ねじ溝を有するロータ
１２の外周部とわずかな隙間を介してこれを覆うように
配置されているが、吐出端部においてロータ１２よりも
短くしてある。すなわちケーシング１１はロータ吐出端
部において拡大部２１を備え、この部分においてロータ
１２の外周部よりもケーシングとの隙間が大きくなるよ
うに構成されている。その他の構成、例えば固定部１３
に固定された吐出側軸受１６により回転軸１５を主とし
て支持する構造等は、上述した図４に示す従来の真空ポ
ンプの構成と同一である。
１２の外周部とわずかな隙間を介してこれを覆うように
配置されているが、吐出端部においてロータ１２よりも
短くしてある。すなわちケーシング１１はロータ吐出端
部において拡大部２１を備え、この部分においてロータ
１２の外周部よりもケーシングとの隙間が大きくなるよ
うに構成されている。その他の構成、例えば固定部１３
に固定された吐出側軸受１６により回転軸１５を主とし
て支持する構造等は、上述した図４に示す従来の真空ポ
ンプの構成と同一である。
【００１４】このようなドライ真空ポンプにおいては、
ロータ外周部とわずかな隙間を介して配置されているケ
ーシングの長さが、ロータのねじ溝部を有する部分の長
さと比較して短いので、以下に説明するように排気ガス
中の反応副生成物がロータ吐出端部側で固化してこれを
閉塞するという問題が解決される。すなわち、一般に半
導体製造装置等における真空チャンバを排気する場合に
は、上述したように排気ガス中に固化した成分または固
化する成分が含まれている場合がある。
ロータ外周部とわずかな隙間を介して配置されているケ
ーシングの長さが、ロータのねじ溝部を有する部分の長
さと比較して短いので、以下に説明するように排気ガス
中の反応副生成物がロータ吐出端部側で固化してこれを
閉塞するという問題が解決される。すなわち、一般に半
導体製造装置等における真空チャンバを排気する場合に
は、上述したように排気ガス中に固化した成分または固
化する成分が含まれている場合がある。
【００１５】このスクリュー式ドライ真空ポンプにおい
ては、吐出側軸受１６にてロータ１２の位置決めを行っ
ているので、運転中は吐出側の温度が上昇する傾向があ
る。さらにロータ１２の回転に伴う気体の圧縮熱によ
り、真空ポンプ内部の吐出端側においてさらに内部温度
が上昇するという傾向がある。このためロータを構成す
る部材等においては、ロータ吐出端側において熱膨張を
起こしている。一方でケーシング１１は一般に空冷等に
より冷却されており、ロータ外周部とケーシングとの微
細な隙間が吐出端側において狭くなる傾向がある。ま
た、排気口近辺においては、温度が低いので、気化して
いる反応副生成物が固体として凝固し易い。従って、上
流側から送られてくる反応副生成物がロータ吐出部側に
おいて堆積しやすいという傾向があることは上述した通
りである。
ては、吐出側軸受１６にてロータ１２の位置決めを行っ
ているので、運転中は吐出側の温度が上昇する傾向があ
る。さらにロータ１２の回転に伴う気体の圧縮熱によ
り、真空ポンプ内部の吐出端側においてさらに内部温度
が上昇するという傾向がある。このためロータを構成す
る部材等においては、ロータ吐出端側において熱膨張を
起こしている。一方でケーシング１１は一般に空冷等に
より冷却されており、ロータ外周部とケーシングとの微
細な隙間が吐出端側において狭くなる傾向がある。ま
た、排気口近辺においては、温度が低いので、気化して
いる反応副生成物が固体として凝固し易い。従って、上
流側から送られてくる反応副生成物がロータ吐出部側に
おいて堆積しやすいという傾向があることは上述した通
りである。
【００１６】一般にロータの吐出端部側において固体成
分が堆積してしまうと、真空ポンプの運転停止時に温度
が下がった場合にはロータ吐出端部と固体堆積物とが接
触してしまい、再起動できなくなるという問題があるこ
とは、上述した通りである。
分が堆積してしまうと、真空ポンプの運転停止時に温度
が下がった場合にはロータ吐出端部と固体堆積物とが接
触してしまい、再起動できなくなるという問題があるこ
とは、上述した通りである。
【００１７】本発明の真空ポンプにおいては、上述した
ようにロータ吐出端部側においてロータ外周部とわずか
な隙間を介して配置されているケーシングがロータ吐出
端部に存在しておらず、そのかわりに拡大部２１が配置
されている。そのためロータ吐出端部において、従来の
真空ポンプに存在した固体成分による閉塞という問題が
回避される。
ようにロータ吐出端部側においてロータ外周部とわずか
な隙間を介して配置されているケーシングがロータ吐出
端部に存在しておらず、そのかわりに拡大部２１が配置
されている。そのためロータ吐出端部において、従来の
真空ポンプに存在した固体成分による閉塞という問題が
回避される。
【００１８】すなわち、排ガス中に含まれる反応副生成
物は、ロータ吐出端部においてロータ外周部とケーシン
グとの隙間が広くなっているので、この間に堆積して隙
間を閉塞するということがなく、広い空間を流れて排気
口より排出される。従って、排気ガス中に反応副生成物
が含まれるような排ガスを排気しても、これにより反応
副生成物の堆積によりロータの回転に支障をきたした
り、起動時にモータに過負荷が生じて回転せずこれを損
壊するというような問題が防止され、機器の長寿命化が
図れる。
物は、ロータ吐出端部においてロータ外周部とケーシン
グとの隙間が広くなっているので、この間に堆積して隙
間を閉塞するということがなく、広い空間を流れて排気
口より排出される。従って、排気ガス中に反応副生成物
が含まれるような排ガスを排気しても、これにより反応
副生成物の堆積によりロータの回転に支障をきたした
り、起動時にモータに過負荷が生じて回転せずこれを損
壊するというような問題が防止され、機器の長寿命化が
図れる。
【００１９】次に、本発明の第２の実施形態について、
図２を参照して説明する。図２は、本実施形態における
スクリュー式ドライ真空ポンプの回転軸に沿った断面図
である。なお、特に説明しない構成および効果について
は第１の実施形態と同様であるので説明を省略する。
図２を参照して説明する。図２は、本実施形態における
スクリュー式ドライ真空ポンプの回転軸に沿った断面図
である。なお、特に説明しない構成および効果について
は第１の実施形態と同様であるので説明を省略する。
【００２０】本実施形態においては、ケーシング１１
は、吸込端部および吐出端部においてロータ１２よりも
短くしてある。すなわち、ケーシング１１はロータ吐出
端部だけでなく吸込端部においても拡大部２１を備え、
この部分においてロータ１２の外周部よりもケーシング
との隙間が大きくなるように構成されている。また、吐
出端部に形成された拡大部２１には着脱可能な蓋２４が
取り付けられており、拡大部２１に堆積した反応副生成
物を外部に排出するための排出手段として機能してい
る。なお、本実施形態では、吐出側に吐出側軸受１６が
配置されているが、吸込側に軸受を設けてもよい。
は、吸込端部および吐出端部においてロータ１２よりも
短くしてある。すなわち、ケーシング１１はロータ吐出
端部だけでなく吸込端部においても拡大部２１を備え、
この部分においてロータ１２の外周部よりもケーシング
との隙間が大きくなるように構成されている。また、吐
出端部に形成された拡大部２１には着脱可能な蓋２４が
取り付けられており、拡大部２１に堆積した反応副生成
物を外部に排出するための排出手段として機能してい
る。なお、本実施形態では、吐出側に吐出側軸受１６が
配置されているが、吸込側に軸受を設けてもよい。
【００２１】このように構成された本実施形態によれ
ば、粒径の大きい反応副生成物や異物がポンプ内部に流
入した場合でも、この反応副生成物等は吸込端部に設け
られた拡大部２１に堆積し、回転するロータ１２側に入
り込むことが防止されるため、ポンプの突発的な停止を
未然に防止することが可能となる。
ば、粒径の大きい反応副生成物や異物がポンプ内部に流
入した場合でも、この反応副生成物等は吸込端部に設け
られた拡大部２１に堆積し、回転するロータ１２側に入
り込むことが防止されるため、ポンプの突発的な停止を
未然に防止することが可能となる。
【００２２】次に、本発明の第３の実施形態について図
３を参照して説明する。図３は、本実施形態におけるス
クリュー式ドライ真空ポンプの回転軸に沿った断面図で
ある。なお、特に説明しない構成および効果については
第１および第２の実施形態と同様であるので説明を省略
する。
３を参照して説明する。図３は、本実施形態におけるス
クリュー式ドライ真空ポンプの回転軸に沿った断面図で
ある。なお、特に説明しない構成および効果については
第１および第２の実施形態と同様であるので説明を省略
する。
【００２３】図３に示すように、本実施形態は、主軸１
５に２つのロータ１２ａ，１２ｂを直列に配置して構成
された多段スクリュー式ドライ真空ポンプである。ケー
シング１１は、２つのロータ１２ａ，１２ｂのそれぞれ
の吸込端部および吐出端部においてロータ１２ａ，１２
ｂよりも短くしてある。すなわち、拡大部２１は、吸気
口１７側と、排気口１８側と、２つのロータ１２ａ，１
２ｂの間の３箇所において形成されている。また、２つ
のロータ１２ａ，１２ｂの間に形成された拡大部２１に
は凹部２２が設けており、この凹部２２に反応副生成物
が堆積するようになっている。さらに、この凹部２２に
は排出口２３が設けられ、この排出口２３を閉じるため
の蓋２４が取り付けられている。この排出口２３および
蓋２４は、凹部２２に堆積した反応副生成物をケーシン
グ１１の外部に排出するための排出手段として機能す
る。なお、排気口１８側に形成された拡大部２１にも反
応副生成物を排出するための排出口および蓋を設けても
よい。また、本実施形態では、吐出側に吐出側軸受１６
が配置されているが、吸込側に軸受を設けてもよい。
５に２つのロータ１２ａ，１２ｂを直列に配置して構成
された多段スクリュー式ドライ真空ポンプである。ケー
シング１１は、２つのロータ１２ａ，１２ｂのそれぞれ
の吸込端部および吐出端部においてロータ１２ａ，１２
ｂよりも短くしてある。すなわち、拡大部２１は、吸気
口１７側と、排気口１８側と、２つのロータ１２ａ，１
２ｂの間の３箇所において形成されている。また、２つ
のロータ１２ａ，１２ｂの間に形成された拡大部２１に
は凹部２２が設けており、この凹部２２に反応副生成物
が堆積するようになっている。さらに、この凹部２２に
は排出口２３が設けられ、この排出口２３を閉じるため
の蓋２４が取り付けられている。この排出口２３および
蓋２４は、凹部２２に堆積した反応副生成物をケーシン
グ１１の外部に排出するための排出手段として機能す
る。なお、排気口１８側に形成された拡大部２１にも反
応副生成物を排出するための排出口および蓋を設けても
よい。また、本実施形態では、吐出側に吐出側軸受１６
が配置されているが、吸込側に軸受を設けてもよい。
【００２４】本実施形態によれば、反応副生成物は吸気
口１７側のロータ１２ａによって吐出側に送り出された
後、排気口１８側のロータ１２ｂに入り込む前に凹部２
２に堆積するため、回転するロータ１２ａ，１２ｂの停
止が防止され、より安定してポンプを運転することが可
能となる。
口１７側のロータ１２ａによって吐出側に送り出された
後、排気口１８側のロータ１２ｂに入り込む前に凹部２
２に堆積するため、回転するロータ１２ａ，１２ｂの停
止が防止され、より安定してポンプを運転することが可
能となる。
【００２５】また、ケーシング内に堆積した反応副生成
物の量は時間の経過とともに増加し、やがて堆積した反
応副生成物が下流側へ流出して、ロータ１２ａ，１２ｂ
とケーシング１１との間に入り込んでロータの回転に支
障をきたすおそれがあるが、本実施形態によれば、凹部
２２に溜まった反応副生成物を排出口２３および蓋２４
を介してポンプ外部に排出することができる。その結
果、さらに安定してポンプを運転することが可能とな
り、また、ポンプを交換する頻度を少なくすることが可
能となる。そして、このような効果は、本真空ポンプが
使用される半導体製造工場などにおいて、製造中の半導
体製品の損失を抑えることに繋がり、生産性を向上させ
ることが可能となる。
物の量は時間の経過とともに増加し、やがて堆積した反
応副生成物が下流側へ流出して、ロータ１２ａ，１２ｂ
とケーシング１１との間に入り込んでロータの回転に支
障をきたすおそれがあるが、本実施形態によれば、凹部
２２に溜まった反応副生成物を排出口２３および蓋２４
を介してポンプ外部に排出することができる。その結
果、さらに安定してポンプを運転することが可能とな
り、また、ポンプを交換する頻度を少なくすることが可
能となる。そして、このような効果は、本真空ポンプが
使用される半導体製造工場などにおいて、製造中の半導
体製品の損失を抑えることに繋がり、生産性を向上させ
ることが可能となる。
【００２６】尚、上述した実施形態は、２軸スクリュー
式ドライ真空ポンプの例について説明したが、本発明の
趣旨を逸脱することなく、他の形式のスクリュー式ドラ
イ真空ポンプにも適用可能なことは勿論である。
式ドライ真空ポンプの例について説明したが、本発明の
趣旨を逸脱することなく、他の形式のスクリュー式ドラ
イ真空ポンプにも適用可能なことは勿論である。
【００２７】また、本発明のドライ真空ポンプと同様の
構成を有するドライ圧縮機においても、同様に適用が可
能である。
構成を有するドライ圧縮機においても、同様に適用が可
能である。
【００２８】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
ケーシングの構造を部分的に変更することにより、排気
ガス中の反応副生成物等の固化した成分の堆積を防止す
ることができ、これにより真空ポンプの安定した運転及
び長寿命化が可能となる。従って、排気ガス中に固化し
た成分または固化する成分が含まれているような場合に
も、このようなガスの排気に好適な真空ポンプが提供さ
れた。
ケーシングの構造を部分的に変更することにより、排気
ガス中の反応副生成物等の固化した成分の堆積を防止す
ることができ、これにより真空ポンプの安定した運転及
び長寿命化が可能となる。従って、排気ガス中に固化し
た成分または固化する成分が含まれているような場合に
も、このようなガスの排気に好適な真空ポンプが提供さ
れた。
【図１】本発明の第１の実施形態のスクリュー式ドライ
真空ポンプの回転軸に沿った断面図である。
真空ポンプの回転軸に沿った断面図である。
【図２】本発明の第２の実施形態のスクリュー式ドライ
真空ポンプの回転軸に沿った断面図である。
真空ポンプの回転軸に沿った断面図である。
【図３】本発明の第３の実施形態のスクリュー式ドライ
真空ポンプの回転軸に沿った断面図である。
真空ポンプの回転軸に沿った断面図である。
【図４】従来のスクリュー式ドライ真空ポンプの回転軸
に沿った断面図である。
に沿った断面図である。
１１ ケーシング １２ ねじ溝を有するロータ １５ 主軸 １６ 吐出側軸受 １７ 吸気口 １８ 排気口 ２０ 反応副生成物 ２１ ケーシングの拡大部 ２２ 凹部 ２３ 排出口 ２４ 蓋
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 3H029 AA03 AA09 AA17 AA24 AB06 BB36 CC03 CC05 CC09 CC24 CC25 3H076 AA16 AA21 AA38 BB13 CC28 CC31 CC46
Claims (4)
- 【請求項１】 ねじ溝を有するロータがケーシング内に
配置され、前記ロータの回転により気体を排気するスク
リュー式ドライ真空ポンプにおいて、前記ロータの外周
部を覆うケーシングの形状を、吐出端部において前記ロ
ータよりも短くしたことを特徴とするスクリュー式ドラ
イ真空ポンプ。 - 【請求項２】 前記ロータの外周部を覆うケーシングの
形状を、吸込端部においても前記ロータよりも短くした
ことを特徴とする請求項１に記載のスクリュー式ドライ
真空ポンプ。 - 【請求項３】 ねじ溝を有する複数のロータがケーシン
グ内に直列に配置され、前記複数のロータの回転により
気体を排気するスクリュー式ドライ真空ポンプにおい
て、前記複数のロータ間に位置する前記ケーシングに、
反応副生成物を堆積させるための凹部を設けたことを特
徴とするスクリュー式ドライ真空ポンプ。 - 【請求項４】 前記ケーシングの内部に堆積した反応副
生成物を外部に排出するための排出手段を設けたことを
特徴とする請求項１乃至３のいずれかに記載のスクリュ
ー式ドライ真空ポンプ。
Priority Applications (6)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001226195A JP2002206493A (ja) | 2000-11-10 | 2001-07-26 | スクリュー式ドライ真空ポンプ |
| US09/985,529 US6655938B2 (en) | 2000-11-10 | 2001-11-05 | Screw-type dry vacuum pump having an enlarged casing portion |
| TW090127618A TW546441B (en) | 2000-11-10 | 2001-11-07 | Screw-type dry vacuum pump |
| SG200106862A SG101508A1 (en) | 2000-11-10 | 2001-11-07 | Screw-type dry vacuum pump |
| KR1020010069669A KR20020036746A (ko) | 2000-11-10 | 2001-11-09 | 스크루식 드라이 진공펌프 |
| EP01126891A EP1205666A3 (en) | 2000-11-10 | 2001-11-12 | Screw-type dry vacuum pump |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000343870 | 2000-11-10 | ||
| JP2000-343870 | 2000-11-10 | ||
| JP2001226195A JP2002206493A (ja) | 2000-11-10 | 2001-07-26 | スクリュー式ドライ真空ポンプ |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002206493A true JP2002206493A (ja) | 2002-07-26 |
| JP2002206493A5 JP2002206493A5 (ja) | 2004-12-09 |
Family
ID=26603765
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001226195A Pending JP2002206493A (ja) | 2000-11-10 | 2001-07-26 | スクリュー式ドライ真空ポンプ |
Country Status (6)
| Country | Link |
|---|---|
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| EP (1) | EP1205666A3 (ja) |
| JP (1) | JP2002206493A (ja) |
| KR (1) | KR20020036746A (ja) |
| SG (1) | SG101508A1 (ja) |
| TW (1) | TW546441B (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003090292A (ja) * | 2001-09-17 | 2003-03-28 | Ebara Corp | 容積式ドライ真空ポンプ |
| US7108492B2 (en) | 2003-05-19 | 2006-09-19 | Kabushiki Kaisha Toyota Jidoshokki | Roots pump |
| KR20200060303A (ko) * | 2018-11-22 | 2020-05-29 | (주)엘오티베큠 | 마모 발생을 방지하는 진공펌프 |
| JP2022120715A (ja) * | 2021-02-05 | 2022-08-18 | 株式会社アルバック | スクリューポンプ及びスクリューロータ |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| TWI510715B (zh) * | 2009-09-25 | 2015-12-01 | Ulvac Inc | 真空乾式泵浦 |
| KR101641887B1 (ko) * | 2016-01-15 | 2016-07-25 | 이영수 | 스크류 로터와 그루브를 구비한 건식진공펌프 |
| US20190128261A1 (en) * | 2017-11-02 | 2019-05-02 | Carrier Corporation | Opposed screw compressor with staggered screw rotor |
| CN110725796B (zh) * | 2019-11-11 | 2021-08-13 | 浙江思科瑞真空技术有限公司 | 一种具有多段转子结构的螺杆泵 |
Family Cites Families (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US1635271A (en) * | 1925-08-12 | 1927-07-12 | Laval Separator Co De | Vacuum pump |
| FR1409698A (fr) | 1964-09-30 | 1965-08-27 | Svenska Rotor Maskiner Ab | Compresseur à pistons rotatifs à déplacement positif |
| GB1518271A (en) * | 1974-07-01 | 1978-07-19 | Svenska Rotor Maskiner Ab | Method for the compression ratio of a screw compressor and prime mover |
| JPH06103030B2 (ja) | 1985-10-21 | 1994-12-14 | 株式会社日立製作所 | スクリユ−真空ポンプ |
| JPH01247787A (ja) * | 1988-02-29 | 1989-10-03 | Leybold Ag | 多段真空ポンプ |
| JPH07111184B2 (ja) * | 1988-12-05 | 1995-11-29 | 株式会社荏原製作所 | スクリュ−圧縮機 |
| NL8803199A (nl) * | 1988-12-29 | 1990-07-16 | Skf Ind Trading & Dev | Schroefcompressor. |
| JPH02245493A (ja) | 1989-03-20 | 1990-10-01 | Hitachi Ltd | スクリュー真空ポンプ |
| JP2981276B2 (ja) * | 1990-11-01 | 1999-11-22 | 株式会社日立製作所 | 多段スクリュー圧縮機 |
| JPH109163A (ja) | 1996-06-25 | 1998-01-13 | Hitachi Ltd | スクリュ式ドライ真空ポンプ |
| US6371744B1 (en) | 1998-03-23 | 2002-04-16 | Taiko Kikai Industries Co., Ltd. | Dry screw vacuum pump having spheroidal graphite cast iron rotors |
-
2001
- 2001-07-26 JP JP2001226195A patent/JP2002206493A/ja active Pending
- 2001-11-05 US US09/985,529 patent/US6655938B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2001-11-07 TW TW090127618A patent/TW546441B/zh not_active IP Right Cessation
- 2001-11-07 SG SG200106862A patent/SG101508A1/en unknown
- 2001-11-09 KR KR1020010069669A patent/KR20020036746A/ko not_active Application Discontinuation
- 2001-11-12 EP EP01126891A patent/EP1205666A3/en not_active Withdrawn
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| KR20200060303A (ko) * | 2018-11-22 | 2020-05-29 | (주)엘오티베큠 | 마모 발생을 방지하는 진공펌프 |
| KR102178374B1 (ko) * | 2018-11-22 | 2020-11-13 | (주)엘오티베큠 | 마모 발생을 방지하는 진공펌프 |
| JP2022120715A (ja) * | 2021-02-05 | 2022-08-18 | 株式会社アルバック | スクリューポンプ及びスクリューロータ |
| JP7244554B2 (ja) | 2021-02-05 | 2023-03-22 | 株式会社アルバック | スクリューポンプ |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP1205666A2 (en) | 2002-05-15 |
| KR20020036746A (ko) | 2002-05-16 |
| US20020057964A1 (en) | 2002-05-16 |
| EP1205666A3 (en) | 2003-02-26 |
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| US6655938B2 (en) | 2003-12-02 |
| TW546441B (en) | 2003-08-11 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20051209 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20051220 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20060220 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20060322 |