JP2557551Y2 - 真空ポンプ - Google Patents
真空ポンプInfo
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- JP2557551Y2 JP2557551Y2 JP1989087629U JP8762989U JP2557551Y2 JP 2557551 Y2 JP2557551 Y2 JP 2557551Y2 JP 1989087629 U JP1989087629 U JP 1989087629U JP 8762989 U JP8762989 U JP 8762989U JP 2557551 Y2 JP2557551 Y2 JP 2557551Y2
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- Japan
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- stator
- rotor
- screw groove
- vacuum pump
- process gas
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Description
【考案の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本考案は、真空チャンバ等を真空にする真空ポンプに
関する。
関する。
従来、例えばIC製品等を製造する場合に、各工程を各
作業室内において行っており、一作業室内で一工程が完
了すると、被作業物をゲートバルブを経由して次の作業
室へ搬送している。ここで、一作業室においてはこの室
内を真空にする必要がある場合があり、この場合には半
導体製造装置に真空ポンプを使用していた。
作業室内において行っており、一作業室内で一工程が完
了すると、被作業物をゲートバルブを経由して次の作業
室へ搬送している。ここで、一作業室においてはこの室
内を真空にする必要がある場合があり、この場合には半
導体製造装置に真空ポンプを使用していた。
このような真空ポンプとして、例えば第２図に示すよ
うな複合型ターボ分子ポンプがある。同図において、符
号101はケーシングであり、このケーシング101には吸込
口部102および吐出口部103が形成され、ケーシング101
内にはロータ104が収装されている。ロータ104にはケー
シング101内周壁面に向ってロータ翼105とらせん状のネ
ジ溝部108（ネジ溝およびネジ山を含む）が形成され、
このロータ翼105およびネジ溝部108に対向してステータ
翼106およびステータ109がケーシング101内周壁面に取
り付けられている。ロータ104はケーシング101内に収装
されたモータ107によって回転され、ロータ翼105がステ
ータ翼106に対して相対的に高速回転する。
うな複合型ターボ分子ポンプがある。同図において、符
号101はケーシングであり、このケーシング101には吸込
口部102および吐出口部103が形成され、ケーシング101
内にはロータ104が収装されている。ロータ104にはケー
シング101内周壁面に向ってロータ翼105とらせん状のネ
ジ溝部108（ネジ溝およびネジ山を含む）が形成され、
このロータ翼105およびネジ溝部108に対向してステータ
翼106およびステータ109がケーシング101内周壁面に取
り付けられている。ロータ104はケーシング101内に収装
されたモータ107によって回転され、ロータ翼105がステ
ータ翼106に対して相対的に高速回転する。
ここで、ロータ104をモータ107によって回転駆動させ
ると、ロータ翼105がステータ翼106に対して相対的に高
速回転するが、このロータ翼105およびネジ溝部108とス
テータ翼106およびステータ109との協働によって、作業
室内の半導体製造時のプロセスガス等の分子を吸入口部
102から吸込んでいる。吸い込まれた前記分子はステー
タ109とロータ104の間を通り、さらにステータ109に固
設されたベース110内の連通路111を通って、吐出口部10
3から排出している。
ると、ロータ翼105がステータ翼106に対して相対的に高
速回転するが、このロータ翼105およびネジ溝部108とス
テータ翼106およびステータ109との協働によって、作業
室内の半導体製造時のプロセスガス等の分子を吸入口部
102から吸込んでいる。吸い込まれた前記分子はステー
タ109とロータ104の間を通り、さらにステータ109に固
設されたベース110内の連通路111を通って、吐出口部10
3から排出している。
しかしながら、このような従来の真空ポンプにあって
は、半導体製造時に作業室内でプロセスガスが使用され
た場合、このプロセスガスは吸引されて排気される途中
で反応して固体の生成物となり、この真空ポンプ内に付
着していた。特に、プロセスガス（例えばAlエッチング
装置のSiCl4等）が水分の含有量の多い低真空領域（760
torr〜10-2torr）にあるときに反応は促進され、かつ温
度が低い（20℃程度）とさらに促進され、固体生成物
（例えばAlCl3等）となって真空ポンプ内に多量に付着
する。
は、半導体製造時に作業室内でプロセスガスが使用され
た場合、このプロセスガスは吸引されて排気される途中
で反応して固体の生成物となり、この真空ポンプ内に付
着していた。特に、プロセスガス（例えばAlエッチング
装置のSiCl4等）が水分の含有量の多い低真空領域（760
torr〜10-2torr）にあるときに反応は促進され、かつ温
度が低い（20℃程度）とさらに促進され、固体生成物
（例えばAlCl3等）となって真空ポンプ内に多量に付着
する。
ここで、モータ107はロータ104を高速回転させるため
に高温になりやすくなり、このために真空ポンプに冷却
機構を設けている。このように冷却機構を設けているの
で、排気されるプロセスガスは低温に冷やされる。ま
た、真空ポンプのロータ104のネジ溝部108とステータ10
9との間は吐出口部103に近いので低真空領域となる。し
たがって、ネジ溝部108とステータ109との間は低真空領
域であり、かつ低温となっているので、前記したように
プロセスガスは反応が一層促進されて固体生成物とな
り、このネジ溝部108とステータ109とに多量に付着して
堆積する。その結果、ネジ溝部108あるいはステータ109
に堆積した固体生成物によりネジ溝部108とステータ109
の隙間が埋まり、回転できなくなるという虞があった。
に高温になりやすくなり、このために真空ポンプに冷却
機構を設けている。このように冷却機構を設けているの
で、排気されるプロセスガスは低温に冷やされる。ま
た、真空ポンプのロータ104のネジ溝部108とステータ10
9との間は吐出口部103に近いので低真空領域となる。し
たがって、ネジ溝部108とステータ109との間は低真空領
域であり、かつ低温となっているので、前記したように
プロセスガスは反応が一層促進されて固体生成物とな
り、このネジ溝部108とステータ109とに多量に付着して
堆積する。その結果、ネジ溝部108あるいはステータ109
に堆積した固体生成物によりネジ溝部108とステータ109
の隙間が埋まり、回転できなくなるという虞があった。
このような課題を解決するために、本考案にあって
は、ステータに対して相対回転するロータと、このロー
タを回転自在に支持する支持部材と、前記ステータを内
包し、ステータを外気から隔絶する円筒状のケーシング
と、前記ロータの高真空側に多段に形成されたロータ翼
部と、前記ロータとステータの互いに対抗する壁面のう
ち少なくとも一方の吐出部側の壁面に形成されたネジ溝
部と、前記ネジ溝部の外周部と内周部に隣接配置される
前記ステータと前記支持部材の、前記ネジ溝部と対応す
る吐出部側の位置にそれぞれ加熱部を設けた構成とする
ものである。
は、ステータに対して相対回転するロータと、このロー
タを回転自在に支持する支持部材と、前記ステータを内
包し、ステータを外気から隔絶する円筒状のケーシング
と、前記ロータの高真空側に多段に形成されたロータ翼
部と、前記ロータとステータの互いに対抗する壁面のう
ち少なくとも一方の吐出部側の壁面に形成されたネジ溝
部と、前記ネジ溝部の外周部と内周部に隣接配置される
前記ステータと前記支持部材の、前記ネジ溝部と対応す
る吐出部側の位置にそれぞれ加熱部を設けた構成とする
ものである。
作業室内のプロセスガスを吸引排気するときに、真空
ポンプの吐出口部に近いネジ溝部とロータまたはステー
タとの間は水分が多い低真空領域となり、また冷却水等
によって冷却されているので約20℃程の低温となってい
る。そうすると、このプロセスガスは反応が促進されて
固体生成物となる。そこで加熱部によってネジ溝部とロ
ータまたはステータとを加熱すると、排気されるプロセ
スガスは高温に温められ、プロセスガスにはあまり反応
が起らず固体生成物となるようなことはない。
ポンプの吐出口部に近いネジ溝部とロータまたはステー
タとの間は水分が多い低真空領域となり、また冷却水等
によって冷却されているので約20℃程の低温となってい
る。そうすると、このプロセスガスは反応が促進されて
固体生成物となる。そこで加熱部によってネジ溝部とロ
ータまたはステータとを加熱すると、排気されるプロセ
スガスは高温に温められ、プロセスガスにはあまり反応
が起らず固体生成物となるようなことはない。
以下、本考案を図面に基づいて説明する。第１図は本
考案に係る真空ポンプの一実施例を示す図である。
考案に係る真空ポンプの一実施例を示す図である。
まず構成を説明する。
同図において、符号１は複合型ターボ分子ポンプのケ
ーシングであり、このケーシング１は全体が略円筒状と
なっており、このケーシング１の上方には真空チャンバ
としての作業室（図示せず）の開口部と接続する吸込口
部２と、下方には吐出口部３とが形成されている。ケー
シング１内の中心線方向にはロータ４が収装されてお
り、このロータ４の第１図中略上半部にはケーシング１
内壁面に向って複数のロータ翼５が形成されており、ま
たこのロータ翼５はロータ４の軸線方向に多段に形成さ
れている。ロータ翼５には同じように複数形成されたス
テータ翼６が対向して配設されるとともに、多段のロー
タ翼５間に位置し、かつケーシング１の略上半部に取り
付けられている。また、ロータ４の略下半部の外周壁に
はらせん状のネジ溝部15（ネジ溝およびネジ山を含む）
が形成され、このネジ溝部15と対向して略円筒状のステ
ータ16がケーシング１の内周壁の略下半部に取り付けら
れている。ロータ翼５およびネジ溝部15が静止している
ステータ翼６およびステータ16に対して相対的に高速回
転すると、作業室内のプロセスガス等の分子は吸込口部
２から強制的に吸い込まれ吐出口部３から排出される。
ーシングであり、このケーシング１は全体が略円筒状と
なっており、このケーシング１の上方には真空チャンバ
としての作業室（図示せず）の開口部と接続する吸込口
部２と、下方には吐出口部３とが形成されている。ケー
シング１内の中心線方向にはロータ４が収装されてお
り、このロータ４の第１図中略上半部にはケーシング１
内壁面に向って複数のロータ翼５が形成されており、ま
たこのロータ翼５はロータ４の軸線方向に多段に形成さ
れている。ロータ翼５には同じように複数形成されたス
テータ翼６が対向して配設されるとともに、多段のロー
タ翼５間に位置し、かつケーシング１の略上半部に取り
付けられている。また、ロータ４の略下半部の外周壁に
はらせん状のネジ溝部15（ネジ溝およびネジ山を含む）
が形成され、このネジ溝部15と対向して略円筒状のステ
ータ16がケーシング１の内周壁の略下半部に取り付けら
れている。ロータ翼５およびネジ溝部15が静止している
ステータ翼６およびステータ16に対して相対的に高速回
転すると、作業室内のプロセスガス等の分子は吸込口部
２から強制的に吸い込まれ吐出口部３から排出される。
一方、ロータ４の半径内方には円筒状の支持部材とし
ての固定筒７が設けられ、この固定筒７の軸線部分には
ロータ軸８がロータ４と一体的に回転するように配設さ
れている。固定筒７の内側には、ロータ軸８を回転駆動
してロータ翼５およびネジ溝部15をステータ翼６および
ステータ16に対して回転させるモータ９と、ロータ軸８
を半径方向に磁気浮上させて無接触で回転支持する半径
方向電磁石10と、ロータ軸８を軸方向に磁気浮上させて
無接触で回転支持する軸方向電磁石11とが設けられてい
る。なお、ロータ軸８の図中上端部および下端部の周囲
には保護用ドライベアリング13および14が設けられてい
る。
ての固定筒７が設けられ、この固定筒７の軸線部分には
ロータ軸８がロータ４と一体的に回転するように配設さ
れている。固定筒７の内側には、ロータ軸８を回転駆動
してロータ翼５およびネジ溝部15をステータ翼６および
ステータ16に対して回転させるモータ９と、ロータ軸８
を半径方向に磁気浮上させて無接触で回転支持する半径
方向電磁石10と、ロータ軸８を軸方向に磁気浮上させて
無接触で回転支持する軸方向電磁石11とが設けられてい
る。なお、ロータ軸８の図中上端部および下端部の周囲
には保護用ドライベアリング13および14が設けられてい
る。
ここで、ロータ翼５およびネジ溝部15が静止している
ステータ翼６およびステータ16に対して相対的に高速回
転すると、前述したように作業室内のプロセスガス等の
分子は吸込口部２から強制的に吸込まれ、ネジ溝部15の
ネジ溝とステータ16との間を通って吐出口部３から排出
される。この排気されるプロセスガスの下流側、すなわ
ちステータ16および固定筒７の外周壁であって第１図中
下半分部分には、加熱部としてニクロム線17,18（Ni85
％−Cr15％の合金線）がそれぞれ巻回されて取り付けら
れている。また、排気路を構成している固定筒７の外周
壁には、外周壁の温度を検出するための温度センサ19が
取り付けられている。
ステータ翼６およびステータ16に対して相対的に高速回
転すると、前述したように作業室内のプロセスガス等の
分子は吸込口部２から強制的に吸込まれ、ネジ溝部15の
ネジ溝とステータ16との間を通って吐出口部３から排出
される。この排気されるプロセスガスの下流側、すなわ
ちステータ16および固定筒７の外周壁であって第１図中
下半分部分には、加熱部としてニクロム線17,18（Ni85
％−Cr15％の合金線）がそれぞれ巻回されて取り付けら
れている。また、排気路を構成している固定筒７の外周
壁には、外周壁の温度を検出するための温度センサ19が
取り付けられている。
一方、この真空ポンプにはロータ４を高速回転させる
モータ９を冷却するための冷却水路（図示せず）が設け
られている。
モータ９を冷却するための冷却水路（図示せず）が設け
られている。
次に作用を説明する。
作業室を作業内容に応じて真空にする必要がある場合
は、複合型ターボ分子ポンプによって作業室を真空にす
る。それには、まずモータ９を起動させてロータ４を回
転駆動させ、ロータ翼５およびネジ溝部15を静止してい
るステータ翼６およびステータ16に対して相対的に高速
回転させる。このように、ロータ翼５およびネジ溝部15
がステータ翼６およびステータ16に対して相対回転する
と、作業室内で半導体製造時に用いられたプロセスガス
等の分子は強制的に吸入口部２から吸引され、ステータ
16とネジ溝部15のネジ溝との間から吐出口部３を通って
排除される。
は、複合型ターボ分子ポンプによって作業室を真空にす
る。それには、まずモータ９を起動させてロータ４を回
転駆動させ、ロータ翼５およびネジ溝部15を静止してい
るステータ翼６およびステータ16に対して相対的に高速
回転させる。このように、ロータ翼５およびネジ溝部15
がステータ翼６およびステータ16に対して相対回転する
と、作業室内で半導体製造時に用いられたプロセスガス
等の分子は強制的に吸入口部２から吸引され、ステータ
16とネジ溝部15のネジ溝との間から吐出口部３を通って
排除される。
ここで、作業室内で例えばCl系のプロセスガスが使用
されると、吐出口部３に近いネジ溝部15とステータ16と
の間は水分が多い低真空領域となり、また冷却水路によ
って冷却されているので約20℃程の低温となる。そうす
ると、前記したように、このプロセスガスは反応が促進
されて、例えばAlCl3の固体生成物となる。そこで、温
度センサ19によってネジ溝部15とステータ16との間が60
℃〜80℃を保つように制御する。
されると、吐出口部３に近いネジ溝部15とステータ16と
の間は水分が多い低真空領域となり、また冷却水路によ
って冷却されているので約20℃程の低温となる。そうす
ると、前記したように、このプロセスガスは反応が促進
されて、例えばAlCl3の固体生成物となる。そこで、温
度センサ19によってネジ溝部15とステータ16との間が60
℃〜80℃を保つように制御する。
このように、ネジ溝部15とステータ16とを加熱する
と、排気されるプロセスガスは60℃〜80℃の高温に温め
られ、かつ低真空領域であってもネジ溝部15およびステ
ータ16の表面における水分が減少して、プロセスガスに
はあまり反応が起らず固体生成物となるようなことはな
い。このため、プロセスガスは固体生成物となってネジ
溝部15とステータ16とに付着することなく、気体のまま
で吐出口部３から排出される。したがって、ロータ４が
回転できなくなるという虞はなくなり、このロータ４は
円滑に高速回転することができる。
と、排気されるプロセスガスは60℃〜80℃の高温に温め
られ、かつ低真空領域であってもネジ溝部15およびステ
ータ16の表面における水分が減少して、プロセスガスに
はあまり反応が起らず固体生成物となるようなことはな
い。このため、プロセスガスは固体生成物となってネジ
溝部15とステータ16とに付着することなく、気体のまま
で吐出口部３から排出される。したがって、ロータ４が
回転できなくなるという虞はなくなり、このロータ４は
円滑に高速回転することができる。
なお、前記実施例にあってはロータにネジ溝部を形成
したが、ステータにネジ溝部を形成してもよい。また、
真空ポンプとして複合型ターボ分子ポンプの例を挙げた
が、これに限らずネジ溝式真空ポンプにこの考案を適用
しても、前記同様の効果が得られる。
したが、ステータにネジ溝部を形成してもよい。また、
真空ポンプとして複合型ターボ分子ポンプの例を挙げた
が、これに限らずネジ溝式真空ポンプにこの考案を適用
しても、前記同様の効果が得られる。
また、図面には記載しなかったが、プロセスガスの温
度を一定の範囲内（たとえば60℃〜80℃）に保つため
に、この真空ポンプは冷却水の温度を一定に保ち、温度
センサからの信号により水量を制御する装置を有してい
る。
度を一定の範囲内（たとえば60℃〜80℃）に保つため
に、この真空ポンプは冷却水の温度を一定に保ち、温度
センサからの信号により水量を制御する装置を有してい
る。
以上説明したように、本考案によれば、ネジ溝部に対
向するステータあるいはネジ溝部が設けられたステータ
と支持部材との少くともいずれか一方に加熱部を設けた
ので、この加熱部によってステータを加熱すると、排気
されるプロセスガスは高温に温められ、かつ低真空領域
であってもネジ溝部およびステータの表面における水分
が除去されて、プロセスガスにはあまり反応が起らず固
体生成物となるようなことはない。このため、プロセス
ガスは固体生成物となってネジ溝部とロータまたはステ
ータとに付着することなく、気体のままで吐出口部から
排出される。したがって、ロータが回転できなくなると
いう虞はなくなり、このロータは円滑に高速回転するこ
とができる。
向するステータあるいはネジ溝部が設けられたステータ
と支持部材との少くともいずれか一方に加熱部を設けた
ので、この加熱部によってステータを加熱すると、排気
されるプロセスガスは高温に温められ、かつ低真空領域
であってもネジ溝部およびステータの表面における水分
が除去されて、プロセスガスにはあまり反応が起らず固
体生成物となるようなことはない。このため、プロセス
ガスは固体生成物となってネジ溝部とロータまたはステ
ータとに付着することなく、気体のままで吐出口部から
排出される。したがって、ロータが回転できなくなると
いう虞はなくなり、このロータは円滑に高速回転するこ
とができる。
第１図は本考案に係る真空ポンプとしての複合型ターボ
分子ポンプの一実施例を示す断面図であり、第２図は従
来の真空ポンプを示す断面図である。 ４……ロータ、５……ロータ翼、６……ステータ翼、７
……固定筒（支持部材）、15……ネジ溝部、16……ステ
ータ、17,18……ニクロム線（加熱部）。
分子ポンプの一実施例を示す断面図であり、第２図は従
来の真空ポンプを示す断面図である。 ４……ロータ、５……ロータ翼、６……ステータ翼、７
……固定筒（支持部材）、15……ネジ溝部、16……ステ
ータ、17,18……ニクロム線（加熱部）。
Claims (1)
- 【請求項１】ステータに対して相対回転するロータと、 このロータを回転自在に支持する支持部材と、 前記ステータを内包し、ステータを外気から隔絶する円
筒状のケーシングと、 前記ロータの高真空側に多段に形成されたロータ翼部
と、 前記ロータとステータの互いに対抗する壁面のうち少な
くとも一方の吐出部側の壁面に形成されたネジ溝部と、 前記ネジ溝部の外周部と内周部に隣接配置される前記ス
テータと前記支持部材の、前記ネジ溝部と対応する吐出
部側の位置にそれぞれ加熱部を設けたことを特徴とする
真空ポンプ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1989087629U JP2557551Y2 (ja) | 1989-07-24 | 1989-07-24 | 真空ポンプ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1989087629U JP2557551Y2 (ja) | 1989-07-24 | 1989-07-24 | 真空ポンプ |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0325892U JPH0325892U (ja) | 1991-03-18 |
| JP2557551Y2 true JP2557551Y2 (ja) | 1997-12-10 |
Family
ID=31637274
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1989087629U Expired - Fee Related JP2557551Y2 (ja) | 1989-07-24 | 1989-07-24 | 真空ポンプ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2557551Y2 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN108412786A (zh) * | 2018-02-26 | 2018-08-17 | 北京海斯德电机技术有限公司 | 一种复合分子泵 |
| CN108412785A (zh) * | 2018-02-26 | 2018-08-17 | 北京海斯德电机技术有限公司 | 一种复合分子泵 |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61145394A (ja) * | 1984-12-18 | 1986-07-03 | Tokuda Seisakusho Ltd | 分子ポンプ |
| JPS6419198A (en) * | 1987-07-15 | 1989-01-23 | Hitachi Ltd | Vacuum pump |
-
1989
- 1989-07-24 JP JP1989087629U patent/JP2557551Y2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0325892U (ja) | 1991-03-18 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |