JP2003090292A - 容積式ドライ真空ポンプ - Google Patents

容積式ドライ真空ポンプ

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Abstract

(57)【要約】 【課題】 反応副生成物がポンプ内に導入されることに
よるポンプ及びモータの損傷を防止し、ポンプの長寿命
化を図り、稼働率を改善することができる容積式ドライ
真空ポンプを提供する。 【解決手段】 ねじ溝22を有するロータ20がケーシ
ング10内に配置され、ロータ20の回転により気体を
排気する容積式ドライ真空ポンプにおいて、反応副生成
物30,31を堆積させる複数の堆積手段16,18を
ロータ20の上流側に設ける。また、堆積手段18に
は、内部に堆積した反応副生成物31を外部に排出可能
なシャッター18aを設けた。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、容積式ドライ真空
ポンプ、特に半導体製造装置等の真空チャンバを真空に
排気するために用いる容積式ドライ真空ポンプに関する
ものである。
【0002】
【従来の技術】半導体製造装置などにおいて使用される
真空ポンプは、清浄雰囲気を維持するために、ポンプ内
部のガス通路に油を使用しないドライポンプであること
が必要とされる。ドライ式の2軸容積式真空ポンプに
は、ルーツ型、スクリュー型などのポンプがある。
【0003】図6は従来の横型スクリュー式ドライ真空
ポンプを示す概略図、図7は従来の縦型スクリュー式ド
ライ真空ポンプを示す概略図である。図6及び図7に示
すように、スクリュー式ドライ真空ポンプは、ケーシン
グ110の内部にロータ120が配置されている。この
ロータ120の外周面にはねじ溝122が形成されてい
る。そして、ロータ120とケーシング110との隙間
は微小になるように構成されており、このロータ120
が回転することで、回転するねじ溝122に沿って気体
が移送される。このような形式の真空ポンプは、半導体
製造装置におけるチャンバ内の排気などに広く用いられ
ている。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うな容積式ドライ真空ポンプを用いて例えば半導体製造
装置用のチャンバを排気する場合には、排気対象の反応
ガス中に固化する成分が含まれており、これにより反応
副生成物が上流側配管において固形化する場合がある。
このような反応副生成物が大きな塊となって、上流側配
管から剥がれ落ちドライ真空ポンプの内部に入ってしま
うと、その自然落下やポンプ内のガス流れによってロー
タ120とケーシング110との間の隙間や一対のロー
タ120のねじ溝122間に入り込むおそれがある(こ
のような反応副生成物を符号130で示す)。このよう
にロータ120とケーシング110との間の隙間や一対
のロータ120のねじ溝122間に反応副生成物が入り
込んでしまうと、モータが過負荷となりポンプが停止し
てしまい、ポンプ及びモータの損傷の原因となる。
【0005】本発明は、このような従来技術の問題点に
鑑みてなされたもので、反応副生成物がポンプ内に導入
されることによるポンプ及びモータの損傷を防止し、ポ
ンプの長寿命化を図り、稼働率を改善することができる
容積式ドライ真空ポンプを提供することを目的とする。
【0006】
【課題を解決するための手段】このような従来技術にお
ける問題点を解決するために、本発明の一態様は、ねじ
溝を有するロータがケーシング内に配置され、上記ロー
タの回転により気体を排気する容積式ドライ真空ポンプ
において、反応副生成物を堆積させる堆積手段を上記ロ
ータの上流側に設けたことを特徴とする。この場合にお
いて、上記堆積手段を複数設けるのが好ましい。
【0007】このような構成により、反応副生成物がロ
ータとケーシングとの間の隙間やねじ溝間に入り込むこ
とがなく、反応副生成物に起因するポンプ及びモータの
損傷を防止することが可能となる。従って、ポンプの長
寿命化を図ると同時にポンプの稼働率を改善することが
可能となる。
【0008】また、本発明の好ましい一態様は、上記堆
積手段には、内部に堆積した反応副生成物を外部に排出
可能な排出手段を設けたことを特徴とする。
【0009】このような排出手段によって堆積した反応
副生成物を外部に排出すれば、ポンプのメンテナンスを
行うことができ、より一層ポンプの長寿命化を図ること
が可能となる。
【0010】また、本発明の好ましい一態様は、上記堆
積手段は、上記ケーシングの一部によって構成されてい
ることを特徴とする。
【0011】
【発明の実施の形態】以下、本発明に係る容積式ドライ
真空ポンプの第1の実施形態について図1を参照して詳
細に説明する。図1は、第1の実施形態における容積式
ドライ真空ポンプを示す概略図である。
【0012】本実施形態におけるドライ真空ポンプは、
横型のスクリュー式ドライ真空ポンプであり、横置きに
されたケーシング10の内部に水平方向に延びるロータ
20が配置されている。このロータ20の外周面にはね
じ溝22が形成されている。そして、ロータ20とケー
シング10との隙間は微小になるように構成されてお
り、このロータ20が回転することで、回転するねじ溝
22に沿って気体が移送される。
【0013】ケーシング10内部には、ロータ20の吸
込側にガス導入室12が形成されている。また、ケーシ
ング10の上部にはガスを吸い込む吸込ポート14が設
けられている。ガス導入室12と吸込ポート14とは、
ロータ20の軸方向に延びる流路16によって接続され
ている。この吸込ポート14とガス導入室12との間に
形成された流路16は、反応生成物を堆積させる(第1
の)堆積手段として機能する。
【0014】また、ケーシング10内部のガス導入室1
2の底部には、第2の堆積手段としての凹部18がケー
シング10の一部として形成されている。この凹部18
には、反応副生成物を外部に排出可能な排出手段として
のシャッター18aが設けられており、このシャッター
18aは開閉可能とされている。
【0015】吸込ポート14から導入されたガスは、矢
印で示すように、吸込流路16を通ってケーシング10
内のガス導入室12に導入される。ガス導入室12に導
入されたガスは、ロータ20のねじ溝22によって排気
側に移送される。
【0016】ここで、ポンプの上流側の配管から反応副
生成物が落下してきた場合、この反応副生成物は流路1
6の吸込ポート14側に堆積する(符号30で表す)の
で、ガス導入室12にまで流れ込むことがなくなる。ま
た、このような反応副生成物がガス導入室12に導入さ
れたとしても、自然落下によりガス導入室12の底部に
設けられた凹部18に堆積することとなる(符号31で
表す)。従って、本発明に係る容積式ドライ真空ポンプ
によれば、反応副生成物がロータ20とケーシング10
との間の隙間やねじ溝22間に入り込むことがなく、反
応副生成物に起因するポンプ及びモータの損傷を防止す
ることが可能となる。
【0017】凹部18に堆積した反応副生成物は、上述
したシャッター18aを開けることによって外部に排出
することができる。このようなシャッター18aによっ
て、堆積した反応副生成物を外部に排出すれば、ポンプ
のメンテナンスを行うことができ、より一層ポンプの長
寿命化を図ることが可能となる。なお、このような排出
手段を開閉自在の蓋などによって構成することも可能で
ある。
【0018】次に、本発明に係る容積式ドライ真空ポン
プの第2の実施形態について図2を参照して詳細に説明
する。図2は、第2の実施形態における容積式ドライ真
空ポンプを示す概略図である。なお、上述の第1の実施
形態における部材又は要素と同一の作用又は機能を有す
る部材又は要素には同一の符号を付し、特に説明しない
部分については第1の実施形態と同様である。
【0019】本実施形態においては、吸込ポート14の
下方に堆積手段としての堆積用容器50がケーシング4
0の一部として設けられている。この堆積用容器50
は、その上部に設けられた連絡流路52を介してケーシ
ング40内のガス導入室12と連通している。その他の
点は上述した第1の実施形態と同様である。
【0020】吸込ポート14から導入されたガスは、矢
印で示すように、堆積用容器50の連絡流路52を通っ
てケーシング40内のガス導入室12に導入される。ガ
ス導入室12に導入されたガスは、ロータ20のねじ溝
22によって排気側に移送される。
【0021】ここで、ポンプの上流側の配管から反応副
生成物が落下してきた場合、この反応副生成物は自然落
下により堆積用容器50の内部に堆積する(符号33で
表す)ので、ガス導入室12にまで流れ込むことがなく
なる。また、このような反応副生成物がガス導入室12
に導入されたとしても、自然落下によりガス導入室12
の底部に設けられた凹部18に堆積することとなる(符
号34で表す)。従って、本発明に係る容積式ドライ真
空ポンプによれば、反応副生成物がロータ20とケーシ
ング40との間の隙間やねじ溝22間に入り込むことが
なく、反応副生成物に起因するポンプ及びモータの損傷
を防止することが可能となる。
【0022】なお、堆積用容器50から反応副生成物を
外部に排出可能な排出手段50aとしてシャッターや蓋
などを堆積用容器50に設けることとしてもよい。
【0023】次に、本発明に係る容積式ドライ真空ポン
プの第3の実施形態について図3を参照して詳細に説明
する。図3は、第3の実施形態における容積式ドライ真
空ポンプを示す概略図である。
【0024】本実施形態におけるドライ真空ポンプは、
縦型のスクリュー式ドライ真空ポンプであり、縦置きに
されたケーシング60の内部に垂直方向に延びるロータ
70が配置されている。このロータ70の外周面にはね
じ溝72が形成されている。そして、ロータ70とケー
シング60との隙間は微小になるように構成されてお
り、このロータ70が回転することで、回転するねじ溝
72に沿って気体が移送される。
【0025】ケーシング60内部には、ロータ70の吸
込側(上側)にガス導入室62が形成されている。ま
た、ケーシング60の上部にはガスを吸い込む吸込ポー
ト64が設けられている。この吸込ポート64の下方に
は、堆積手段としての堆積用容器80がケーシング60
の一部として設けられている。この堆積用容器80は、
その上部に設けられた連絡流路82を介してケーシング
60内のガス導入室62と連通している。また、堆積用
容器80には、反応副生成物を外部に排出可能な排出手
段としてのシャッター80aが設けられており、このシ
ャッター80aは開閉可能とされている。
【0026】吸込ポート64から導入されたガスは、矢
印で示すように、堆積用容器80の連絡流路82を通っ
てケーシング60内のガス導入室62に導入される。ガ
ス導入室62に導入されたガスは、ロータ70のねじ溝
72によって排気側に移送される。
【0027】ここで、ポンプの上流側の配管から反応副
生成物が落下してきた場合、この反応副生成物は自然落
下により堆積用容器80の内部に堆積する(符号35で
表す)ので、ガス導入室62にまで流れ込むことがなく
なる。従って、本発明に係る容積式ドライ真空ポンプに
よれば、反応副生成物がロータ70とケーシング60と
の間の隙間やねじ溝72間に入り込むことがなく、反応
副生成物に起因するポンプ及びモータの損傷を防止する
ことが可能となる。
【0028】また、堆積用容器80の内部に堆積した反
応副生成物は、上述したシャッター80aを開けること
によって外部に排出することができる。このようなシャ
ッター80aによって、堆積した反応副生成物を外部に
排出すれば、ポンプのメンテナンスを行うことができ、
より一層ポンプの長寿命化を図ることが可能となる。な
お、このような排出手段を開閉自在の蓋などによって構
成することも可能である。
【0029】ここで、上述の各実施形態において、吸込
ポートから導入されるガスの流れに乱れが生じた方が、
反応副生成物は重力による影響を受け易い。従って、吸
込ポートから導入されるガスは層流で流れるよりも乱流
で流れる方が好ましい。このために、例えば吸込ポート
に邪魔板を設けてガスの流速を落とすことが考えられ
る。図4は、上述の第1の実施形態における吸込ポート
14に邪魔板90を設けた例を示す。
【0030】また、吸込ポートに導入されるガスを旋回
流にし、遠心力によって反応副生成物を分離し落下させ
てもよい。図5は、第1の実施形態の吸込ポート14に
おいて旋回流を生成させる場合の一構成例を示す。図5
において、吸込ポート14の上流側には旋回流を生成す
るための配管92が設けられており、ガス及び反応副生
成物は矢印で示すように旋回して流れる。また、図5に
示す例では、反応副生成物が流路16側に流れ込まない
ように、吸込ポート14と流路16との間にフィルタ9
4が設けられている。
【0031】上述の実施形態においては、スクリュー式
ドライ真空ポンプを例に挙げて説明したが、これに限ら
れるものではなく、他の容積式ドライ真空ポンプ、例え
ばルーツ式ドライ真空ポンプにも適用できる。
【0032】これまで本発明の一実施形態について説明
したが、本発明は上述の実施形態に限定されず、その技
術的思想の範囲内において種々異なる形態にて実施され
てよいことは言うまでもない。
【0033】
【発明の効果】上述したように、本発明によれば、反応
副生成物を堆積させる堆積手段を上記ロータの上流側に
設けたので、反応副生成物がロータとケーシングとの間
の隙間やねじ溝間に入り込むことがなく、反応副生成物
に起因するポンプ及びモータの損傷を防止することが可
能となる。従って、ポンプの長寿命化を図ると同時にポ
ンプの稼働率を改善することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1の実施形態におけるスクリュー式
ドライ真空ポンプを示す概略図である。
【図2】本発明の第2の実施形態におけるスクリュー式
ドライ真空ポンプを示す概略図である。
【図3】本発明の第3の実施形態におけるスクリュー式
ドライ真空ポンプを示す概略図である。
【図4】本発明の第1の実施形態の他の実施例における
部分拡大図である。
【図5】本発明の第1の実施形態の他の実施例における
部分拡大図である。
【図6】従来の横型容積式ドライ真空ポンプを示す概略
図である。
【図7】従来の縦型容積式ドライ真空ポンプを示す概略
図である。
【符号の説明】
10,40,60 ケーシング 12,62 ガス導入室 14 吸込ポート 16 流路(堆積手段) 18 凹部(堆積手段) 18a,80a シャッター(排出手段) 20,70 ロータ 22 ねじ溝 30〜35 反応副生成物 50,80 堆積用容器 52,82 連絡流路 90 邪魔板 92 配管 94 フィルタ
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 3H029 AA03 AA18 AA24 AB06 BB36 BB44 BB47 CC06 CC09 CC14 CC24 CC26 CC42

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 ねじ溝を有するロータがケーシング内に
    配置され、前記ロータの回転により気体を排気する容積
    式ドライ真空ポンプにおいて、 反応副生成物を堆積させる堆積手段を前記ロータの上流
    側に設けたことを特徴とする容積式ドライ真空ポンプ。
  2. 【請求項2】 前記堆積手段を複数設けたことを特徴と
    する請求項1に記載の容積式ドライ真空ポンプ。
  3. 【請求項3】 前記堆積手段には、内部に堆積した反応
    副生成物を外部に排出可能な排出手段を設けたことを特
    徴とする請求項1又は2に記載の容積式ドライ真空ポン
    プ。
  4. 【請求項4】 前記堆積手段は、前記ケーシングの一部
    によって構成されていることを特徴とする請求項1乃至
    3のいずれか一項に記載の容積式ドライ真空ポンプ。
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