JP2002205929A

JP2002205929A - 口腔用組成物

Info

Publication number: JP2002205929A
Application number: JP2001003424A
Authority: JP
Inventors: Yasushi Fukuda; 康福田; Eiji Nishinaga; 英司西永
Original assignee: Lion Corp
Current assignee: Lion Corp
Priority date: 2001-01-11
Filing date: 2001-01-11
Publication date: 2002-07-23

Abstract

(57)【要約】【解決手段】下記一般式（１）で示されるヒドロキシ
−２−ピリドン誘導体又はその塩を含有する口腔用組成
物において、ヒドロキシエチルセルロース・ジメチルジ
アリルアンモニウム塩を配合することを特徴とする口腔
用組成物。【化１】（但し、式中Ｒ¹，Ｒ²はそれぞれ水素原子又は水酸基で
あり、かつＲ¹，Ｒ²の少なくとも一つは水酸基である。
また，Ｒ³，Ｒ⁴，Ｒ⁵はそれぞれ水素原子又は一価の有
機基である。）【効果】本発明によれば、ヒドロキシ−２−ピリドン
誘導体又はその塩とヒドロキシエチルセルロース・ジメ
チルジアリルアンモニウム塩とを同時に配合することに
より、口腔内でのヒドロキシ−２−ピリドン誘導体又は
その塩の滞留性が向上し、著しく歯垢形成を抑制するこ
とができる。それにより、う蝕や歯周病などの口腔疾患
予防を目的とする高機能の歯磨、洗口剤等の口腔用品の
提供を可能とするものである。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、口腔内でのヒドロ
キシ−２−ピリドン誘導体又はその塩（一般式（１））
の滞留性を向上させた口腔用組成物に関するものであ
る。

【０００２】

【従来の技術】口腔内における代表的疾患である歯周
病、う蝕は病原菌による感染症であり、その発生は、病
原菌体が歯牙表面に付着することから始まる。付着した
細菌は細菌間凝集、増殖を経て、目に見える形の歯垢を
形成していく。

【０００３】初期付着については、細胞表層のタンパク
質性付着因子と歯牙表面のペリクルとの間に、疎水性結
合、イオン性結合、レクチン様結合が形成されて付着が
成立することが知られている。また、細菌間の凝集反応
も、初期付着と同様の結合様式に依存していることが報
告されている。

【０００４】上記タンパク質性付着因子については、近
年の分子生物学の進歩に伴い、付着因子の分離、精製、
構造決定に関する研究が進んでいる。特に、成人性歯周
炎の代表的病原菌であるポルフィロモナス・ジンジバリ
ス（Ｐｏｒｐｈｙｒｏｍｏｎａｓｇｉｎｇｉｖａｌｉ
ｓ）、う蝕の主たる病原菌であるストレプトコッカス・
ミュータンス（Ｓｔｒｅｐｔｏｃｏｃｃｕｓｍｕｔａ
ｎｓ）及びストレプトコッカス・ソブリナス（Ｓｔｒｅ
ｐｔｏｃｏｃｃｕｓｓｏｂｒｉｎｕｓ）についてはか
なり詳細に研究されている。ポルフィロモナス・ジンジ
バリスの主要な付着因子は、線毛（フィンブリエ）とい
われ、分子量約４２Ｋのタンパク質が重合したものであ
る。ストレプトコッカス属の付着因子は血清型毎に類似
した構造を有しており、ｃ型のストレプトコッカス・ミ
ュータンス、ｇ型のストレプトコッカス・ソブリナス
は、各々、プロテインアンチーゲンｃ（Ｐｒｏｔｅｉｎ
Ａｎｔｉｇｅｎｃ，以下ＰＡｃという）、プロテイ
ンアンチーゲンｇ（ＰｒｏｔｅｉｎＡｎｔｉｇｅｎ
ｇ，以下ＰＡｇという）と呼ばれるタンパク質抗原を細
胞表層にもつ。ＰＡｃ、ＰＡｇは共に分子量約１９０Ｋ
で、初期付着、及び細菌間凝集に深く関与するといわれ
ている。

【０００５】なお、ストレプトコッカス属の菌体付着に
関しては、同菌が産生する多糖類に、菌体自身が付着す
ることも良く知られている。

【０００６】一方、上述したプロセスによって形成され
た歯垢は、主として菌体とその代謝物から構成されてお
り、微生物にとっては増殖の足場となり、各種疾患の原
因となる。例えば、歯周病は、歯肉縁より上に存在する
歯垢（歯肉縁上歯垢）中に存在する病原菌や、更に嫌気
度が高い歯肉縁より下の歯垢（歯肉縁下歯垢）中に存在
する病原菌により発生する。特に、歯肉縁下歯垢は、歯
肉縁上歯垢が存在するため嫌気度がより高くなってお
り、そこで生育するグラム陰性嫌気性菌は、歯周炎の病
原菌として歯周病の進行に大きく関与する。

【０００７】う蝕についても、主たる病原菌であるスト
レプトコッカス・ミュータンス、ストレプトコッカス・
ソブリナスは、歯垢内で増殖しながら糖質代謝により有
機酸を産生し、その酸が歯牙表面を脱灰することによ
り、う蝕が発生、進行することが明らかになっている。
更に、歯垢が石灰化して形成される歯石も、歯垢の直接
的な関与が知られている。

【０００８】このように、口腔内において各種疾患の原
因となっている歯垢の形成、蓄積を抑制することによ
り、病原菌の排除、及びその増殖の場を除去するという
効果が期待できる。更に、歯垢蓄積量を低減し、歯肉縁
下歯垢の嫌気度を下げることにより、歯周病原因菌であ
る嫌気性菌の生育阻害にも寄与できる。即ち、歯垢の形
成、蓄積を抑制することは、歯周病、う蝕、歯石等の口
腔内疾患の予防、進行阻止に大きく寄与するものであ
る。

【０００９】従来、歯垢形成の抑制のためにいろいろな
手段が講じられてきたが、未だ満足すべき方法がないの
が現状である。例えば、歯垢形成の抑制のために歯刷子
を用いたブラッシングが行われているが、口腔内の形状
は複雑であるため、特に隣接歯間部、裂溝部の歯垢はブ
ラッシングだけで除くことは困難である。

【００１０】また、化学的な歯垢形成抑制方法として、
病原菌を直接殺菌する方法が知られており、殺菌剤を配
合した歯磨剤や洗口剤の使用、あるいは抗生物質の投与
による歯垢内微生物の殺菌が、歯垢形成阻害に効果があ
ることが開示されている（特開昭６１−２００９０５
号、同６１−１４８１２５号公報）。しかし、強力な殺
菌剤や抗生物質の使用は正常な口腔内細菌叢を乱し、そ
の結果、特定の病原菌の異常増加という為害作用の危険
性が指摘されている。更に、薬剤耐性菌の出現も考えら
れ、必ずしも好ましい方法とはいえない。

【００１１】このため、このような問題のない優れた歯
垢形成抑制効果を発揮し得る口腔用組成物が要望され
る。

【００１２】これに対し、ヒドロキシ−２−ピリドン誘
導体又はその塩を含む口腔用組成物が開示されている
（特開平７−８２１２６号、同１０−１５８１３４号、
同１０−１５８１３５号公報）。このヒドロキシ−２−
ピリドン誘導体又はその塩は、従来の殺菌剤のように強
い抗菌力で歯垢形成抑制するものとは異なり、抗菌力を
示さないような低濃度において、優れた歯垢形成抑制効
果を有すると共に、各種口腔用組成物に安定して配合で
きることが謳われている。

【００１３】しかしながら、これら口腔用組成物の使用
後には、口濯ぎなどによりヒドロキシ−２−ピリドン誘
導体又はその塩が口腔内から流れ去り、歯周病、う蝕、
歯石等の口腔疾患の予防や進行を阻止するには、未だ不
十分である。

【００１４】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記課題を
解決したもので、口腔内でのヒドロキシ−２−ピリドン
誘導体又はその塩の滞留性を向上させ、う蝕や歯周病な
どの口腔疾患に対し、優れた予防効果を持つ高機能の歯
磨、洗口剤等の口腔用組成物を提供することを目的とす
る。

【００１５】

【課題を解決するための手段及び発明の実施の形態】本
発明者らは、前記目的を達成すべく鋭意研究を重ねた結
果、ヒドロキシ−２−ピリドン誘導体又はその塩を含有
する口腔用組成物において、ヒドロキシエチルセルロー
ス・ジメチルジアリルアンモニウム塩を配合することに
より、ヒドロキシ−２−ピリドン誘導体又はその塩の滞
留性が著しく向上し、その効果を有効に発揮して歯垢形
成を効果的に抑制し得ることを見出し、本発明を完成す
るに至った。

【００１６】即ち、本発明によれば、下記一般式（１）
で示されるヒドロキシ−２−ピリドン誘導体又はその塩
を含有する口腔用組成物が提供される。

【００１７】

【化２】（但し、式中Ｒ¹，Ｒ²はそれぞれ水素原子又は水酸基で
あり、かつＲ¹，Ｒ²の少なくとも一つは水酸基である。
また，Ｒ³，Ｒ⁴，Ｒ⁵はそれぞれ水素原子又は一価の有
機基である。）

【００１８】以下、本発明につき更に詳しく説明する。
本発明の口腔用組成物は、上記式（１）のヒドロキシ−
２−ピリドン誘導体又はその塩を含有する。

【００１９】ここで、上記式（１）において、Ｒ¹，Ｒ²
はそれぞれ水素原子又は水酸基であり、かつＲ¹，Ｒ²の
少なくとも一つは水酸基である。また、Ｒ³，Ｒ⁴，Ｒ⁵
はそれぞれ水素原子又は一価の有機基（好ましくは炭素
数１〜１８のもの）であり、一価の有機基としてはアル
キル基、アルケニル基、シクロアルキル基、ビシクロア
ルキル基、シクロアルキル−アルキル基、アリール基、
アラルキル基、アリールアルケニル基、アリールオキシ
アルキル基、アリールメルカプトアルキル基、ベンズヒ
ドリル基、フェニルスルホニルアルキル基、フリル基、
フリルアルケニル基などを挙げることができるが、炭素
数１〜１８のアルキル基、炭素数２〜１８のアルケニル
基、炭素数３〜１８のシクロアルキル基やシクロアルキ
ル−アルキル基、ベンジル基が好ましい。

【００２０】なお、上記式（１）のヒドロキシ−２−ピ
リドン誘導体は、１−ヒドロキシ−２−ピリドンあるい
は３−ヒドロキシ−２−ピリドン骨格を有するが、各々
互変異性体が存在する。１−ヒドロキシ−２−ピリドン
骨格の場合は、２−ヒドロキシピリジン−Ｎ−オキシド
骨格等が異性体として存在し、３−ヒドロキシ−２−ピ
リドン骨格の場合は、２，３−ジヒドロキシピリジン骨
格等が存在する。本発明はこれらの異性体も含むことが
できる。

【００２１】また、適当な塩基を用いた塩として用いる
ことも可能である。塩の形態としてはナトリウム、カリ
ウム、カルシウム、マグネシウム、ストロンチウム、亜
鉛、銅、アルミニウム、ランタン、鉄、スズ等の一価又
は多価の金属塩、アンモニウム塩、モノエタノールアミ
ン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、エチ
レンジアミン、ヒドロキシルアミン等のアミン類との
塩、アルギニン、リジン等の塩基性アミノ酸との塩、又
は塩基性アミノ酸を含む塩基性ペプチドや塩基性タンパ
ク質との塩等が広く利用可能であり、薬剤学的に許容で
きる範囲から適宜選択できる。

【００２２】式（１）のヒドロキシ−２−ピリドン誘導
体又はその塩の配合量は、組成物全体の０．０００５〜
１５％（質量百分率、以下同様）、特に０．０１〜１０
％、より好ましくは０．１〜１％とすることが好まし
く、０．０００５％未満の場合は歯垢形成を抑制できな
い場合があり、１５％を超えると使用感や配合上の問題
点が生じる場合がある。

【００２３】本発明の口腔用組成物は、上記ヒドロキシ
−２−ピリドン誘導体又はその塩に、カチオン性ポリマ
ーの１種であるヒドロキシエチルセルロース・ジメチル
ジアリルアンモニウム塩が選択的に併用される。ここに
いうヒドロキシエチルセルロース・ジメチルジアリルア
ンモニウム塩とは、ヒドロキシエチルセルロースにジメ
チルジアリルアンモニウム塩をグラフト重合して得られ
るカチオン性ポリマーである。対イオンは、塩化物イオ
ン等のハロゲン化物イオンや、メトサルフェートイオン
などである。本カチオン性ポリマーの平均分子量は、特
に限定されないが、数平均分子量で、好ましくは１，０
００〜１，０００，０００である。その窒素含有量は
０．１〜３％であり、より好ましくは０．５〜２．５％
である。このようなヒドロキシエチルセルロース・ジメ
チルジアリルアンモニウム塩としては、日本エヌエスシ
ー（株）から市販されているセルコートＬ−２００など
が挙げられる。これらは、対イオンが塩化物イオンであ
る。

【００２４】本カチオン性ポリマーの含有量は、通常、
組成物全体の０．００１〜２％、好ましくは０．００５
〜１％、特に好ましくは０．０１〜０．５％である。
０．００１％未満では十分な歯垢形成抑制効果が得られ
ず、２％を超えると独特の異味、異臭が発生するので好
ましくない。

【００２５】また、本発明の口腔用組成物には、フッ素
化合物を配合することが好ましい。フッ素化合物として
は、フッ化ナトリウム、フッ化第一錫などのフッ化物、
モノフルオロリン酸ナトリウム、モノフルオロリン酸カ
リウムなどのアルカリ金属モノフルオロフォスフェート
などの１種又は２種以上を使用することができ、好まし
くはフッ化ナトリウムが使用される。フッ素化合物の配
合量としては、好ましくはフッ化物イオンとして１００
〜２，０００ｐｐｍであり、より好ましくは２００〜
１，５００ｐｐｍが適当である。

【００２６】本発明の口腔用組成物は、その剤型に応じ
てその他の任意成分を配合することができる。例えば、
歯磨類の場合は、研磨剤、粘結剤、粘稠剤、界面活性
剤、甘味剤、防腐剤、着色剤、香料、保存安定化剤、ｐ
Ｈ調整剤、発泡剤、上記必須成分以外の薬用成分などを
配合し得る。

【００２７】研磨剤としては、第２リン酸カルシウム・
２水和物及び無水和物、第１リン酸カルシウム、第３リ
ン酸カルシウム、ピロリン酸カルシウム等のリン酸カル
シウム系化合物、炭酸カルシウム、水酸化カルシウム、
アルミナ、無水ケイ酸、ケイ酸アルミニウム、不溶性メ
タリン酸ナトリウム、第３リン酸マグネシウム、炭酸マ
グネシウム、硫酸カルシウム、ベントナイト、ケイ酸ジ
ルコニウム、チタニウム結合ケイ酸塩等の無機系研磨
剤、ポリメタクリル酸メチル、結晶性セルロース等の有
機系研磨剤が挙げられる。研磨剤の配合量は、通常、組
成物全体の５〜６０％、好ましくは８〜５０％である。

【００２８】粘結剤としては、カラギーナン、カルボキ
シメチルセルロースナトリウム、メチルセルロース、ヒ
ドロキシエチルセルロースなどのセルロース誘導体、キ
サンタンガム、トラガントガム、カラヤガム、アラビヤ
ガムなどのガム類、ポリビニルアルコール、架橋型ポリ
アクリル酸ナトリウム、非架橋型ポリアクリル酸ナトリ
ウム等のカルボキシビニルポリマー、ポリビニルピロリ
ドンなどの有機系粘結剤、シリカゲル、アルミニウムシ
リカゲル、ビーガム、ラポナイトなどの無機系粘結剤が
挙げられる。粘結剤の配合量は、通常、組成物全体の
０．２〜２％である。

【００２９】粘稠剤や保湿剤としては、ソルビット、グ
リセリン、エチレングリコール、プロピレングリコー
ル、１，３−ブチレングリコール、ポリエチレングリコ
ール、ポリプロピレングリコール、キシリトール、マル
チトール等の多価アルコール、糖アルコールなどが配合
される。

【００３０】甘味料としては、サッカリンナトリウム、
ステビオサイド、ネオヘスペリジルジヒドロカルコン、
グリチルリチン、ペリラルチン、ｐ−メトキシシンナミ
ックアルデヒド、アスパルテーム、キシリトール等が配
合できる。

【００３１】香料としては、ｌ−メントール、カルボ
ン、アネトール、リモネン等のテルペン類又はその誘導
体等が挙げられる。着色剤としては、青色１号、黄色４
号、緑色３号、二酸化チタン等が挙げられる。

【００３２】防腐剤としては、安息香酸ナトリウム、メ
チルパラベン、プロピルパラベン、ブチルパラベン、塩
化セチルピリジニウム、イソプロピルメチルフェノー
ル、ソルビン酸カリウム等を挙げることができる。

【００３３】保存安定化剤としては、ビタミンＣ、ビタ
ミンＥ、亜硫酸ナトリウム、ピロ亜硫酸ナトリウム、亜
硫酸水素ナトリウム、ブチルヒドロキシトルエン、没食
子酸プロピル、ブチルヒドロキシアニソール等が挙げら
れる。

【００３４】ｐＨ調整剤としては、例えば、クエン酸、
リンゴ酸、乳酸、酒石酸、酢酸、リン酸、ピロリン酸、
グリセロリン酸やこれらの各種塩、ならびに水酸化ナト
リウムを挙げることができる。本発明の口腔用組成物の
ｐＨは５〜９、好ましくは６〜８の範囲になるように調
整される。

【００３５】ヒドロキシ−２−ピリドン誘導体又はその
塩以外の薬効成分としては、例えば、クロルヘキシジ
ン、トリクロサン、塩化セチルピリジニウム、ヒノキチ
オールなどの抗菌剤、トラネキサム酸、イプシロンアミ
ノカプロン酸、アラントインなどの抗プラスミン剤、ポ
リリン酸類などの歯石予防剤、塩化ナトリウムなどの歯
茎引き締め剤、酢酸トコフェロールなどの各種ビタミン
などが挙げられる。

【００３６】なお、本発明の組成物は、通常の口腔用組
成物に適用されている容器に充填して用いることができ
る。具体的には、ポリエチレン層、エチレンメタクリル
酸共重合体層、ポリエチレンテレフタレート層、アルミ
ニウム層、ガラス蒸着層、ポリビニルアルコール層、エ
チレンビニルアルコール共重合体層、リサイクルプラス
チック層等からなるラミネート容器のほか、機械的又は
差圧によるディスペンサー容器及びスクイズ容器、ボト
ル等にも充填することができる。ボトルの材質は特に限
定されないが、ポリエチレン、ポリエチレンテレフタレ
ート、ポリエステル、ポリプロピレン等の合成樹脂、ガ
ラスが好ましい。

【００３７】

【発明の効果】本発明によれば、ヒドロキシ−２−ピリ
ドン誘導体又はその塩とヒドロキシエチルセルロース・
ジメチルジアリルアンモニウム塩とを同時に配合するこ
とにより、口腔内でのヒドロキシ−２−ピリドン誘導体
又はその塩の滞留性が向上し、著しく歯垢形成を抑制す
ることができる。それにより、う蝕や歯周病などの口腔
疾患予防を目的とする高機能の歯磨、洗口剤等の口腔用
品の提供を可能とするものである。

【００３８】

【実施例】以下、実験例及び実施例を示し、本発明を具
体的に説明するが、本発明は下記の実施例に制限される
ものではない。なお、下記の例において％は質量百分率
を示す。

【００３９】［実験例］歯垢形成抑制試験３．７％ブレ
インハートインフュージョン（以下、ＢＨＩ）培地に、
一定の濁度でストレプトコッカス・ミュータンス（以
下、Ｓ．ｍ）１０４４９菌を含む前培養懸濁液を、４０
倍になるように１％ショ糖を含む３．７％ＢＨＩ培地に
懸濁した。その懸濁液を、予め滅菌したガラスチューブ
に４ｍｌずつ加え、３７℃で２４時間嫌気状態で傾斜培
養をした。その後培地を捨て、ガラスチューブ内に形成
された人工歯垢を生理食塩水で軽く濯いだ。更に濾過滅
菌した被験サンプル（表１）を４ｍｌ静かにガラスチュ
ーブ内に加え、１分間静置した。その後生理食塩水４ｍ
ｌで２回濯ぎ、３．７％ＢＨＩ培地４ｍｌをガラスチュ
ーブに加え、３７℃で嫌気培養した。この操作を１日朝
晩２回行い、２日間繰り返した。

【００４０】ガラスチューブ内に形成した人工歯垢を生
理食塩水４ｍｌで３回濯ぎ、予め精秤したポリチューブ
にかきとった。その人工歯垢を４０℃で一晩乾燥させ、
電子天秤にて精秤した。

【００４１】この時の人工歯垢量をガラスチューブ内で
の歯垢形成量とみなし、対照として、ヒドロキシエチル
セルロース・ジメチルジアリルアンモニウム塩（セルコ
ートＬ−２００）及びヒドロキシ−２−ピリドン誘導体
又はその塩を含まないサンプルについても同様の実験を
行い、下記式に従い、歯垢形成抑制率を算出した。結果
を表２に示す。

【００４２】

【数１】

【００４３】

【表１】

【００４４】

【表２】

【００４５】表２の結果から、ヒドロキシ−２−ピリド
ン誘導体又はその塩を含有する口腔用組成物にヒドロキ
シエチルセルロース・ジメチルジアリルアンモニウム塩
（セルコートＬ−２００）を配合することにより、ヒド
ロキシ−２−ピリドン誘導体又はその塩の人工歯垢への
滞留性が促進され、効果的に歯垢形成が抑制されること
が確認された。

【００４６】次に、本発明の組成物の具体的処方例を示
す。［実施例１］（歯磨） 1-ヒト゛ロキシ-4-メチル-6-(2,4,4-トリメチルヘ゜ンチル)-2-ヒ゜リト゛ンモノエタノールアミン塩０．１％セルコートＬ−２０００．０５無水ケイ酸１０ソルビット４０ラウリル硫酸ナトリウム０．８アルギン酸ナトリウム０．８カラギーナン０．７サッカリンナトリウム０．２フッ化ナトリウム０．２プロピレングリコール３．０香料１．０水残計１００．０％

【００４７】［実施例２］（歯磨） 1-ヒト゛ロキシ-4-メチル-6-(2,4,4-トリメチルヘ゜ンチル)-2-ヒ゜リト゛ンモノエタノールアミン塩０．３％セルコートＬ−２０００．１炭酸カルシウム４０ソルビット２０ラウリル硫酸ナトリウム０．８カルボキシメチルセルロース（ＣＭＣ）１．４サッカリンナトリウム０．２モノフルオロリン酸ナトリウム０．７プロピレングリコール３．０安息香酸ナトリウム０．５香料１．０水残計１００．０％

【００４８】［実施例３］（歯磨） 1-ヒト゛ロキシ-4-メチル-6-(2,4,4-トリメチルヘ゜ンチル)-2-ヒ゜リト゛ンモノエタノールアミン塩０．５％セルコートＬ−２０００．０３第２リン酸カルシウム４５グリセリン２５ラウリル硫酸ナトリウム０．８カルボキシメチルセルロース（ＣＭＣ）１．０カラギーナン０．３サッカリンナトリウム０．２モノフルオロリン酸ナトリウム０．７プロピレングリコール３．０安息香酸ナトリウム０．３香料１．０水残計１００．０％

【００４９】［実施例４］（歯磨） 1-ヒト゛ロキシ-4-メチル-6-(2,4,4-トリメチルヘ゜ンチル)-2-ヒ゜リト゛ンモノエタノールアミン塩０．５％セルコートＬ−２０００．０５水酸化アルミニウム４５ソルビット２５ラウリル硫酸ナトリウム０．８ラウロイルサルコシンナトリウム０．３アルギン酸ナトリウム１．０カラギーナン０．３サッカリンナトリウム０．２デキストラナーゼ０．２ミリスチン酸ジエタノールアミド１．２モノフルオロリン酸ナトリウム０．７プロピレングリコール３．０メチルパラベン０．１ブチルパラベン０．０１香料１．２水残計１００．０％

【００５０】［実施例５］（歯磨） 1-ヒト゛ロキシ-4-メチル-6-(2,4,4-トリメチルヘ゜ンチル)-2-ヒ゜リト゛ンモノエタノールアミン塩０．５％セルコートＬ−２００１．０無水ケイ酸２０ソルビット４０ラウリル硫酸ナトリウム１．２ポリアクリル酸ナトリウム１．０カルボキシメチルセルロース０．３サッカリンナトリウム０．２フッ化ナトリウム０．２グリチルレチン酸０．０５ビタミンＥ０．０５オオバクエキス０．０５プロピレングリコール３．０香料１．０水残計１００．０％

【００５１】［実施例６］（歯磨）３−ヒドロキシ−２−ピリドン０．３％セルコートＬ−２０００．０３第２リン酸カルシウム５０ソルビット３０ラウリル硫酸ナトリウム０．８キサンタンガム１．０カラギーナン０．３サッカリンナトリウム０．２モノフルオロリン酸ナトリウム０．７プロピレングリコール３．０香料１．０水残計１００．０％

【００５２】［実施例７］（歯磨）１−ヒドロキシ−２−ピリドン０．３％セルコートＬ−２０００．０５無水ケイ酸１０ソルビット３０キシリトール９．０ラウリル硫酸ナトリウム０．８キサンタンガム０．８カラギーナン０．７サッカリンナトリウム０．２フッ化ナトリウム０．２プロピレングリコール３．０香料１．０水残計１００．０％

【００５３】［実施例８］（歯磨）３−ヒドロキシ−２−ピリドン０．３％セルコートＬ−２０００．１炭酸カルシウム４０ソルビット２０ラウリル硫酸ナトリウム０．８キサンタンガム０．８アルギン酸ナトリウム０．８サッカリンナトリウム０．２モノフルオロリン酸ナトリウム０．８プロピレングリコール２．０安息香酸ナトリウム０．３香料１．０水残計１００．０％

【００５４】［実施例９］（洗口剤） 1-ヒト゛ロキシ-4-メチル-6-(2,4,4-トリメチルヘ゜ンチル)-2-ヒ゜リト゛ンモノエタノールアミン塩０．５％セルコートＬ−２０００．０５変性エタノール８ポリオキシエチレン硬化ヒマシ油２グリセリン１０パルミトイルサルコシンナトリウム０．１クエン酸０．０１クエン酸３ナトリウム０．３サッカリンナトリウム０．１フッ化ナトリウム０．２０．１％緑色３号０．８香料０．３水残計１００．０％

【００５５】［実施例１０］（洗口剤）１−ヒドロキシ−２−ピリドン０．１％セルコートＬ−２００１．０変性エタノール１０ポリオキシエチレン硬化ヒマシ油２グリセリン５キシリトール９パルミトイルサルコシンナトリウム０．１クエン酸０．０１クエン酸３ナトリウム０．３サッカリンナトリウム０．１フッ化ナトリウム０．０５塩化セチルピリジニウム０．０５香料０．５水残計１００．０％

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続きＦターム(参考） 4C083 AA032 AA112 AB032 AB172 AB282 AB292 AB322 AB472 AC102 AC122 AC132 AC302 AC312 AC432 AC482 AC642 AC662 AC692 AC782 AC851 AC852 AC862 AD092 AD272 AD302 AD352 AD532 AD662 DD22 EE32 EE36

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】下記一般式（１）で示されるヒドロキシ
−２−ピリドン誘導体又はその塩を含有する口腔用組成
物において、ヒドロキシエチルセルロース・ジメチルジ
アリルアンモニウム塩を配合することを特徴とする口腔
用組成物。【化１】（但し、式中Ｒ¹，Ｒ²はそれぞれ水素原子又は水酸基で
あり、かつＲ¹，Ｒ²の少なくとも一つは水酸基である。
また，Ｒ³，Ｒ⁴，Ｒ⁵はそれぞれ水素原子又は一価の有
機基である。）