JP2002202404A - 光学部品およびその製造方法 - Google Patents
光学部品およびその製造方法Info
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- JP2002202404A JP2002202404A JP2000399171A JP2000399171A JP2002202404A JP 2002202404 A JP2002202404 A JP 2002202404A JP 2000399171 A JP2000399171 A JP 2000399171A JP 2000399171 A JP2000399171 A JP 2000399171A JP 2002202404 A JP2002202404 A JP 2002202404A
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- Lens Barrels (AREA)
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
- Electrical Discharge Machining, Electrochemical Machining, And Combined Machining (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 本発明は、基材に開口孔を形成してなる空間
フィルタ，アパーチャ，マスク等の光学部品およびその
製造方法に関し、基材の剛性を低下することなく高い精
度の開口孔を形成することを目的とする。 【解決手段】 本発明の光学部品は、基材と、前記基材
の一側に形成される凹部と、前記基材の他側に形成され
前記凹部の底面に開口する前記凹部の径より小さい開口
孔とを有することを特徴とする。また、本発明の光学部
品の製造方法は、基材の一側に所望の開口孔より大きな
径の凹部を形成する工程と、前記基材の他側に前記凹部
の底面に開口する前記開口孔を形成する工程とを有する
ことを特徴とする。
フィルタ，アパーチャ，マスク等の光学部品およびその
製造方法に関し、基材の剛性を低下することなく高い精
度の開口孔を形成することを目的とする。 【解決手段】 本発明の光学部品は、基材と、前記基材
の一側に形成される凹部と、前記基材の他側に形成され
前記凹部の底面に開口する前記凹部の径より小さい開口
孔とを有することを特徴とする。また、本発明の光学部
品の製造方法は、基材の一側に所望の開口孔より大きな
径の凹部を形成する工程と、前記基材の他側に前記凹部
の底面に開口する前記開口孔を形成する工程とを有する
ことを特徴とする。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、基材に開口孔を形
成してなる空間フィルタ，アパーチャ，マスク等の光学
部品およびその製造方法に関する。
成してなる空間フィルタ，アパーチャ，マスク等の光学
部品およびその製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、各種の光学装置において、通過光
束の径や形状を制限するために、空間フィルタ，アパー
チャ，マスク等の光学部品が使用されている。そして、
このような光学部品のサイズや形状は様々であるが、そ
の開口孔の加工には、±２μｍ以下の精度が要求される
場合が多い。
束の径や形状を制限するために、空間フィルタ，アパー
チャ，マスク等の光学部品が使用されている。そして、
このような光学部品のサイズや形状は様々であるが、そ
の開口孔の加工には、±２μｍ以下の精度が要求される
場合が多い。
【０００３】図５は、例えば、レーザ光を用いて形状測
定を行うフィゾー式干渉計に使用される空間フィルタを
示している。この空間フィルタでは、円板状のステンレ
ス製の基材１に開口孔１ａが形成されている。
定を行うフィゾー式干渉計に使用される空間フィルタを
示している。この空間フィルタでは、円板状のステンレ
ス製の基材１に開口孔１ａが形成されている。
【０００４】基材１の外径Ｄ１は、例えば１０ｍｍ、板
厚Ｗ１は、例えば０．１ｍｍとされ、開口孔１ａの孔径
Ｄ２が、例えば２０μｍとされている。そして、開口孔
１ａが、例えば、微細放電加工により±２μｍ以下の加
工精度で形成されている。
厚Ｗ１は、例えば０．１ｍｍとされ、開口孔１ａの孔径
Ｄ２が、例えば２０μｍとされている。そして、開口孔
１ａが、例えば、微細放電加工により±２μｍ以下の加
工精度で形成されている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うな従来の空間フィルタでは、基材１の板厚Ｗ１が、開
口孔１ａの直径Ｄ２の５倍程度と比較的大きい寸法を有
しているため、開口孔１ａの加工時に発生する加工屑等
の影響により孔径Ｄ２のバラツキが大きく、歩留まりが
悪いという問題があった。
うな従来の空間フィルタでは、基材１の板厚Ｗ１が、開
口孔１ａの直径Ｄ２の５倍程度と比較的大きい寸法を有
しているため、開口孔１ａの加工時に発生する加工屑等
の影響により孔径Ｄ２のバラツキが大きく、歩留まりが
悪いという問題があった。
【０００６】なお、基材１の板厚Ｗ１を薄くすることに
より加工精度は向上するが、この場合には、基材１の剛
性が低下し、加工後の洗浄工程、あるいは、光学装置へ
の取り付け，交換等の作業の際に、基材１が変形して使
用不能になるおそれがある。本発明は、かかる従来の問
題を解決するためになされたもので、基材の剛性を低下
することなく高い精度の開口孔を形成することができる
光学部品およびその製造方法を提供することを目的とす
る。
より加工精度は向上するが、この場合には、基材１の剛
性が低下し、加工後の洗浄工程、あるいは、光学装置へ
の取り付け，交換等の作業の際に、基材１が変形して使
用不能になるおそれがある。本発明は、かかる従来の問
題を解決するためになされたもので、基材の剛性を低下
することなく高い精度の開口孔を形成することができる
光学部品およびその製造方法を提供することを目的とす
る。
【０００７】
【課題を解決するための手段】請求項１の光学部品は、
基材と、前記基材の一側に形成される凹部と、前記基材
の他側に形成され前記凹部の底面に開口する前記凹部の
径より小さい開口孔とを有することを特徴とする。請求
項２の光学部品は、請求項１記載の光学部品において、
前記開口孔は、光路制限用孔であることを特徴とする。
基材と、前記基材の一側に形成される凹部と、前記基材
の他側に形成され前記凹部の底面に開口する前記凹部の
径より小さい開口孔とを有することを特徴とする。請求
項２の光学部品は、請求項１記載の光学部品において、
前記開口孔は、光路制限用孔であることを特徴とする。
【０００８】請求項３の光学部品の製造方法は、基材の
一側に所望の開口孔より大きな径の凹部を形成する工程
と、前記基材の他側に前記凹部の底面に開口する前記開
口孔を形成する工程とを有することを特徴とする。
一側に所望の開口孔より大きな径の凹部を形成する工程
と、前記基材の他側に前記凹部の底面に開口する前記開
口孔を形成する工程とを有することを特徴とする。
【０００９】（作用）請求項１の光学部品では、基材の
一側に凹部が形成され、この凹部の底面に開口孔が形成
される。従って、剛性を確保するために基材の厚みを充
分に厚くした場合にも、凹部の深さを深くすることによ
り開口孔の長さを短くすることが容易に可能になり、開
口孔を高い精度で加工することが可能になる。
一側に凹部が形成され、この凹部の底面に開口孔が形成
される。従って、剛性を確保するために基材の厚みを充
分に厚くした場合にも、凹部の深さを深くすることによ
り開口孔の長さを短くすることが容易に可能になり、開
口孔を高い精度で加工することが可能になる。
【００１０】請求項２の光学部品では、開口孔が、空間
フィルタ，アパーチャ，マスク等の光学部品の光路制限
用孔とされる。請求項３の光学部品の製造方法では、先
ず、基材の一側に所望の開口孔より大きな径の凹部が形
成される。そして、次に、基材の他側に、凹部の底面に
開口する開口孔が形成される。
フィルタ，アパーチャ，マスク等の光学部品の光路制限
用孔とされる。請求項３の光学部品の製造方法では、先
ず、基材の一側に所望の開口孔より大きな径の凹部が形
成される。そして、次に、基材の他側に、凹部の底面に
開口する開口孔が形成される。
【００１１】従って、凹部の深さだけ開口孔の長さが短
くなり、開口孔を高い精度で加工することが可能にな
る。
くなり、開口孔を高い精度で加工することが可能にな
る。
【００１２】
【発明の実施の形態】以下、本発明を図面を用いて詳細
に説明する。
に説明する。
【００１３】図１および図２は、本発明の光学部品の一
実施形態を示している。この実施形態では、本発明が、
例えば、レーザ光を用いて形状測定を行うフィゾー式干
渉計に使用される空間フィルタに適用される。この空間
フィルタでは、円板状のステンレス鋼（例えば、ＳＵＳ
３０４）製の基材１１の一側に、円形状の凹部１１ａが
形成されている。
実施形態を示している。この実施形態では、本発明が、
例えば、レーザ光を用いて形状測定を行うフィゾー式干
渉計に使用される空間フィルタに適用される。この空間
フィルタでは、円板状のステンレス鋼（例えば、ＳＵＳ
３０４）製の基材１１の一側に、円形状の凹部１１ａが
形成されている。
【００１４】基材１１の外径Ｄは、例えば１０ｍｍ、板
厚Ｗは、例えば０．１ｍｍとされている。また、凹部１
１ａの直径Ｄ３は、例えば０．３ｍｍ、深さＬは、例え
ば８０μｍとされている。
厚Ｗは、例えば０．１ｍｍとされている。また、凹部１
１ａの直径Ｄ３は、例えば０．３ｍｍ、深さＬは、例え
ば８０μｍとされている。
【００１５】そして、基材１１の他側には、光路制限用
孔となる開口孔１１ｂが形成されている。この開口孔１
１ｂは、円形状をしており凹部１１ａの底面１１ｃの中
心に開口されている。開口孔１１ｂの直径Ｄ４は、例え
ば２０μｍとされ、開口孔１１ｂの長さＬ１と同一の寸
法を有している。
孔となる開口孔１１ｂが形成されている。この開口孔１
１ｂは、円形状をしており凹部１１ａの底面１１ｃの中
心に開口されている。開口孔１１ｂの直径Ｄ４は、例え
ば２０μｍとされ、開口孔１１ｂの長さＬ１と同一の寸
法を有している。
【００１６】そして、この開口孔１１ｂは、例えば、微
細放電加工により±２μｍ以下の加工精度で形成されて
いる。図３は、上述した空間フィルタの製造方法の一実
施形態を示すもので、この実施形態では、先ず、図の
（ａ）に示すように、基材１１の一側に凹部１１ａが形
成され、この後、（ｃ）に示すように、凹部１１ａの底
面１１ｃに開口孔１１ｂが形成される。
細放電加工により±２μｍ以下の加工精度で形成されて
いる。図３は、上述した空間フィルタの製造方法の一実
施形態を示すもので、この実施形態では、先ず、図の
（ａ）に示すように、基材１１の一側に凹部１１ａが形
成され、この後、（ｃ）に示すように、凹部１１ａの底
面１１ｃに開口孔１１ｂが形成される。
【００１７】凹部１１ａおよび開口孔１１ｂの形成は、
微細放電加工機を使用して行われる。微細放電加工機
は、（ａ）に示すように、ワーク台１３を有しており、
ワーク台１３の上面に基材１１が固定される。ワーク台
１３および基材１１は、オイル１５内に浸漬されてい
る。ワーク台１３の上方には、タングステン，炭化タン
グステン等からなる電極１７が配置されている。
微細放電加工機を使用して行われる。微細放電加工機
は、（ａ）に示すように、ワーク台１３を有しており、
ワーク台１３の上面に基材１１が固定される。ワーク台
１３および基材１１は、オイル１５内に浸漬されてい
る。ワーク台１３の上方には、タングステン，炭化タン
グステン等からなる電極１７が配置されている。
【００１８】電極１７とワーク台１３との間には、電圧
電源Ｖと抵抗Ｒが直列に配置され、電圧電源Ｖに並列に
コンデンサＣが配置されている。そして、（ａ）の状態
では、電極１７の先端に直径が０．３ｍｍの放電加工部
１７ａが形成されている。そして、電極１７を、例えば
３０００ｒｐｍの回転数で回転しながら、下方に向けて
移動し、微細放電加工をすることにより直径０．３ｍｍ
の凹部１１ａが形成される。
電源Ｖと抵抗Ｒが直列に配置され、電圧電源Ｖに並列に
コンデンサＣが配置されている。そして、（ａ）の状態
では、電極１７の先端に直径が０．３ｍｍの放電加工部
１７ａが形成されている。そして、電極１７を、例えば
３０００ｒｐｍの回転数で回転しながら、下方に向けて
移動し、微細放電加工をすることにより直径０．３ｍｍ
の凹部１１ａが形成される。
【００１９】次に、この実施形態では、（ｂ）に示すよ
うに、直径が０．３ｍｍの放電加工部１７ａの先端に直
径が２０μｍの放電加工部１７ｂが形成される。この放
電加工部１７ｂの形成は、電極１７を、例えば３０００
ｒｐｍの回転数で回転しながら、真鍮製の走行ワイヤ１
９に接近させて微細放電することにより行われる。
うに、直径が０．３ｍｍの放電加工部１７ａの先端に直
径が２０μｍの放電加工部１７ｂが形成される。この放
電加工部１７ｂの形成は、電極１７を、例えば３０００
ｒｐｍの回転数で回転しながら、真鍮製の走行ワイヤ１
９に接近させて微細放電することにより行われる。
【００２０】そして、（ｃ）に示すように、先端に直径
が２０μｍの放電加工部１７ｂが形成された電極１７
を、例えば３０００ｒｐｍの回転数で回転しながら、下
方に向けて移動し、微細放電加工をすることにより直径
２０μｍの開口孔１１ｂが形成される。上述した空間フ
ィルタでは、基材１１の一側に凹部１１ａを形成し、こ
の凹部１１ａの底面１１ｃに開口孔１１ｂを形成したの
で、基材１１の剛性を低下することなく高い精度の開口
孔１１ｂを形成することができる。
が２０μｍの放電加工部１７ｂが形成された電極１７
を、例えば３０００ｒｐｍの回転数で回転しながら、下
方に向けて移動し、微細放電加工をすることにより直径
２０μｍの開口孔１１ｂが形成される。上述した空間フ
ィルタでは、基材１１の一側に凹部１１ａを形成し、こ
の凹部１１ａの底面１１ｃに開口孔１１ｂを形成したの
で、基材１１の剛性を低下することなく高い精度の開口
孔１１ｂを形成することができる。
【００２１】すなわち、剛性を確保するために基材１１
の板厚Ｗを充分に厚くした場合にも、凹部１１ａの深さ
Ｌを深くすることにより開口孔１１ｂの長さＬ１を短く
することが容易に可能になり、開口孔１１ｂを高い精度
で加工することが可能になる。そして、上述した空間フ
ィルタでは、開口孔１１ｂの長さＬ１を、開口孔１１ｂ
の直径Ｄ４と同一の寸法、すなわち、開口孔１１ｂの長
さＬ１と直径Ｄ４との比を微細放電加工を行うのに望ま
しい１対１にしたので、より高い加工精度を得ることが
できる。
の板厚Ｗを充分に厚くした場合にも、凹部１１ａの深さ
Ｌを深くすることにより開口孔１１ｂの長さＬ１を短く
することが容易に可能になり、開口孔１１ｂを高い精度
で加工することが可能になる。そして、上述した空間フ
ィルタでは、開口孔１１ｂの長さＬ１を、開口孔１１ｂ
の直径Ｄ４と同一の寸法、すなわち、開口孔１１ｂの長
さＬ１と直径Ｄ４との比を微細放電加工を行うのに望ま
しい１対１にしたので、より高い加工精度を得ることが
できる。
【００２２】また、上述した空間フィルタでは、光軸上
の位置調整を容易に行うことができる。すなわち、従来
の空間フィルタでは、図４の（ａ）に示すように、開口
孔１ａの光入射側１ｂおよび光出射側１ｃの２個所で通
過光束の径を制限している。そのため、基材１の板厚Ｗ
１方向の中心Ｏを、図示しない集光レンズからのビーム
径が一番小さくなる個所に一致させる必要があった。
の位置調整を容易に行うことができる。すなわち、従来
の空間フィルタでは、図４の（ａ）に示すように、開口
孔１ａの光入射側１ｂおよび光出射側１ｃの２個所で通
過光束の径を制限している。そのため、基材１の板厚Ｗ
１方向の中心Ｏを、図示しない集光レンズからのビーム
径が一番小さくなる個所に一致させる必要があった。
【００２３】このような光軸上の位置調整は、先ず、集
光レンズを通過したビームのスポットが、光入射側１ｂ
の表面で最小になるように、空間フィルタの光軸Ｘ上の
位置を調整することにより行われる。このような調整作
業は、スポットの大きさを顕微鏡等で観察できるので、
高精度かつ容易に行うことができる。
光レンズを通過したビームのスポットが、光入射側１ｂ
の表面で最小になるように、空間フィルタの光軸Ｘ上の
位置を調整することにより行われる。このような調整作
業は、スポットの大きさを顕微鏡等で観察できるので、
高精度かつ容易に行うことができる。
【００２４】そして、次に、空間フィルタを基材１の板
厚Ｗ１の半分だけ光入射側１ｂへずらすことにより、基
材１１の板厚Ｗ１方向の中心Ｏにビームのスポットが位
置される。しかしながら、この調整作業は、高精度な調
整が要求され、スポットの位置を確認する手段がないた
め非常に困難な作業となっていた。
厚Ｗ１の半分だけ光入射側１ｂへずらすことにより、基
材１１の板厚Ｗ１方向の中心Ｏにビームのスポットが位
置される。しかしながら、この調整作業は、高精度な調
整が要求され、スポットの位置を確認する手段がないた
め非常に困難な作業となっていた。
【００２５】一方、上述した本発明の空間フィルタで
は、図４の（ｂ）に示すように、通過光束の径が、開口
孔１１ｂの光入射側１１ｄで専ら制限されることにな
る。従って、光軸Ｘ上の位置調整において、光入射側１
１ｄの面でスポットが略最小になるように調整すれば良
く、光軸Ｘ上の位置調整を容易に行うことができる。そ
して、上述した空間フィルタの製造方法では、基材１１
の一側に凹部１１ａを形成し、この凹部１１ａの底面１
１ｃに開口孔１１ｂを形成したので、凹部１１ａの深さ
Ｌだけ開口孔１１ｂの長さＬ１が短くなり、これにより
高い精度の開口孔１１ｂを形成することができる。
は、図４の（ｂ）に示すように、通過光束の径が、開口
孔１１ｂの光入射側１１ｄで専ら制限されることにな
る。従って、光軸Ｘ上の位置調整において、光入射側１
１ｄの面でスポットが略最小になるように調整すれば良
く、光軸Ｘ上の位置調整を容易に行うことができる。そ
して、上述した空間フィルタの製造方法では、基材１１
の一側に凹部１１ａを形成し、この凹部１１ａの底面１
１ｃに開口孔１１ｂを形成したので、凹部１１ａの深さ
Ｌだけ開口孔１１ｂの長さＬ１が短くなり、これにより
高い精度の開口孔１１ｂを形成することができる。
【００２６】なお、上述した空間フィルタの製造方法に
おいて、反射防止を目的としたメッキ処理が基材１１に
必要な場合には、凹部１１ａを加工した後にメッキ処理
を行い、この後、開口孔１１ｂが加工される。また、上
述した実施形態では、本発明を空間フィルタに適用した
例について説明したが、本発明はかかる実施形態に限定
されるものではなく、基材に開口孔を形成してなるアパ
ーチャ，マスク等の光学部品にも適用することができ
る。
おいて、反射防止を目的としたメッキ処理が基材１１に
必要な場合には、凹部１１ａを加工した後にメッキ処理
を行い、この後、開口孔１１ｂが加工される。また、上
述した実施形態では、本発明を空間フィルタに適用した
例について説明したが、本発明はかかる実施形態に限定
されるものではなく、基材に開口孔を形成してなるアパ
ーチャ，マスク等の光学部品にも適用することができ
る。
【００２７】そして、上述した実施形態では、基材１１
に１つの開口孔１１ｂを形成した例について説明した
が、本発明はかかる実施形態に限定されるものではな
く、基材に複数の開口孔を形成しても良い。また、上述
した実施形態では、基材１１に円形の開口孔１１ｂを形
成した例について説明したが、本発明はかかる実施形態
に限定されるものではなく、例えば、基材に長孔状等の
開口孔を形成しても良い。
に１つの開口孔１１ｂを形成した例について説明した
が、本発明はかかる実施形態に限定されるものではな
く、基材に複数の開口孔を形成しても良い。また、上述
した実施形態では、基材１１に円形の開口孔１１ｂを形
成した例について説明したが、本発明はかかる実施形態
に限定されるものではなく、例えば、基材に長孔状等の
開口孔を形成しても良い。
【００２８】
【発明の効果】以上述べたように、請求項１の光学部品
では、基材の一側に凹部を形成し、この凹部の底面に開
口孔を形成したので、基材の剛性を低下することなく高
い精度の開口孔を形成することができる。請求項２の光
学部品では、空間フィルタ，アパーチャ，マスク等の光
学部品の光路制限用孔を高い精度で加工することができ
る。
では、基材の一側に凹部を形成し、この凹部の底面に開
口孔を形成したので、基材の剛性を低下することなく高
い精度の開口孔を形成することができる。請求項２の光
学部品では、空間フィルタ，アパーチャ，マスク等の光
学部品の光路制限用孔を高い精度で加工することができ
る。
【００２９】請求項３の光学部品の製造方法では、基材
の一側に凹部を形成し、この凹部の底面に開口孔を形成
したので、凹部の深さだけ開口孔の長さが短くなり、こ
れにより高い精度の開口孔を形成することができる。
の一側に凹部を形成し、この凹部の底面に開口孔を形成
したので、凹部の深さだけ開口孔の長さが短くなり、こ
れにより高い精度の開口孔を形成することができる。
【図１】本発明の光学部品の一実施形態を示す断面図で
ある。
ある。
【図２】図１の空間フィルタを示す正面図である。
【図３】本発明の光学部品の製造方法の一実施形態を示
す説明図である。
す説明図である。
【図４】図１の空間フィルタの光軸上の位置調整を示す
説明図である。
説明図である。
【図５】従来の空間フィルタを示す断面図である。
１１ 基材 １１ａ 凹部 １１ｂ 開口孔 １１ｃ 底面
Claims (3)
- 【請求項１】 基材と、 前記基材の一側に形成される凹部と、 前記基材の他側に形成され前記凹部の底面に開口する前
記凹部の径より小さい開口孔と、 を有することを特徴とする光学部品。 - 【請求項２】 請求項１記載の光学部品において、 前記開口孔は、光路制限用孔であることを特徴とする光
学部品。 - 【請求項３】 基材の一側に所望の開口孔より大きな径
の凹部を形成する工程と、 前記基材の他側に前記凹部の底面に開口する前記開口孔
を形成する工程と、 を有することを特徴とする光学部品の製造方法。
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000399171A JP2002202404A (ja) | 2000-12-27 | 2000-12-27 | 光学部品およびその製造方法 |
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000399171A JP2002202404A (ja) | 2000-12-27 | 2000-12-27 | 光学部品およびその製造方法 |
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| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002202404A true JP2002202404A (ja) | 2002-07-19 |
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ID=18864002
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| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000399171A Pending JP2002202404A (ja) | 2000-12-27 | 2000-12-27 | 光学部品およびその製造方法 |
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| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2002202404A (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006072151A (ja) * | 2004-09-03 | 2006-03-16 | Fujinon Corp | 絞り板 |
| US7680153B2 (en) | 2005-10-11 | 2010-03-16 | Hui Ma | Method and device for stream synchronization of real-time multimedia transport over packet network |
| CN102990850A (zh) * | 2011-09-14 | 2013-03-27 | 鸿富锦精密工业（深圳）有限公司 | 镜片制造方法 |
| RU2573465C2 (ru) * | 2014-01-09 | 2016-01-20 | Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Воронежский государственный технический университет" | Способ электрохимического изготовления углублений, образующих турбулизаторы на ребрах и в донной части охлаждающих каналов теплонапряженных машин, и устройство для его осуществления |
| RU2634834C1 (ru) * | 2016-09-12 | 2017-11-03 | Публичное акционерное общество "Научно-производственное объединение "Сатурн" | Способ электрохимической обработки высокоточных профильных углублений |
| JP7491172B2 (ja) | 2020-09-30 | 2024-05-28 | Ｔｏｐｐａｎホールディングス株式会社 | 金属遮光板 |
-
2000
- 2000-12-27 JP JP2000399171A patent/JP2002202404A/ja active Pending
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