JP2002201195A - ７−オキサビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２−カルボン酸誘導体の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 ７−オキサビシクロ［２．２．１］ヘプト−
５−エン−２−カルボン酸誘導体を、温和な条件下に収
率よく、工業的に有利に製造する方法を提供する。 【解決手段】 一般式（Ｉ）で示されるα，β−不飽和
カルボン酸と一般式（ＩＩ）で示されるフラン誘導体
を、ルイス酸の存在下に反応させることを特徴とする一
般式（ＩＩＩ）または一般式（ＩＶ）で示される７−オ
キサビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２−カ
ルボン酸誘導体の製造方法（式中、各記号は明細書に記
載のとおりである。）。 【化１】

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、７−オキサビシク
ロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２−カルボン酸誘
導体の製造方法に関する。本発明の方法により得られる
７−オキサビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−
２−カルボン酸誘導体のエンド（ｅｎｄｏ）体は、医
薬、農薬などの合成原料として有用である。例えば７−
オキサビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２−
カルボン酸のエンド体は、抗ＨＩＶ薬であるシクロフェ
リトール（Ｃｙｃｌｏｐｈｅｌｌｉｔｏｌ）の合成中間
体［テトラヘドロン レターズ（Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏ
ｎ Ｌｅｔｔｅｒｓ）、第３７巻、３０４３頁（１９９
６年）参照］、抗生物質であるバリダマイシン（Ｖａｌ
ｉｄａｍｙｃｉｎ）Ａの合成中間体［カルボハイドレー
ト リサーチ（Ｃａｒｂｏｈｙｄｒａｔｅ Ｒｅｓｅａ
ｒｃｈ）、第５８巻、２４０頁（１９７７年）参照］、
また、抗インフルエンザウイルス薬ＧＳ４１０４の合成
中間体［ジャーナル オブ アメリカン ケミカル ソ
サエティー（Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．）、第１１
９巻、６８１頁（１９９７年）；ジャーナル オブ オ
ーガニックケミストリー（Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．）、
第６３巻、４５４５頁（１９９８年）；ＷＯ ０１／４
７９０６号明細書参照］として有用な化合物である。

【０００２】

【従来の技術】近年、オキサノルボルネン骨格から誘導
される生理活性物質が数多く発見されている。これらの
化合物の合成中間体として有用な７−オキサビシクロ
［２．２．１］ヘプト−５−エン−２−カルボン酸誘導
体の製造方法としては、アクリル酸とフランをヒドロ
キノンの存在下に反応させる方法［カルボハイドレート
リサーチ（Ｃａｒｂｏｈｙｄｒａｔｅ Ｒｅｓｅａｒｃ
ｈ）、第５８巻、２４０頁（１９７７年）参照］、ア
クリル酸誘導体とフランをテトラキス（アセトニトリ
ル）銅（I）テトラフルオロボレートおよびヒドロキノ
ンの存在下に反応させる方法［ジャーナル オブ オー
ガニック ケミストリー（Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．）、
第４８巻、１１０５頁（１９８３年）参照］、アクリ
ル酸誘導体とフランを１〜２ＭＰａ（１０〜２０ｋｂａ
ｒ）の高圧条件下で反応させる方法［ブレチン オブ
ザ ケミカル ソサイエティー オブ ジャパン（Ｂｕ
ｌｌ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．Ｊａｐａｎ）、第５５巻、４
９６９頁（１９８２年）参照］、アクリル酸エステル
とフランを塩化亜鉛、ヨウ化亜鉛または塩化チタンの存
在下で反応させ［ジャーナル オブ モレキュラー キ
ャタリシス Ａ：ケミカル（Ｊ．Ｍｏｌ．Ｃａｔａｌ．
Ａ：Ｃｈｅｍ．）、第１２３巻、４３頁（１９９７年）
参照］、次いで得られた化合物のエステル部分を加水分
解する方法［ジャーナル オブ ヘテロサイクリック
ケミストリー（Ｊ．Ｈｅｔｅｒｏｃｙｃｌ．Ｃｈｅ
ｍ．）、第９巻、５６１頁（１９７２年）参照］などが
知られている。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】アクリル酸誘導体のよ
うなジエノフィルとフランとのディールス−アルダー反
応により７−オキサビシクロ［２．２．１］ヘプト−５
−エン骨格を形成する反応は、環状付加生成物が熱的に
不安定であるため、加熱で反応を促進することができな
いと考えられていた。そこで、上記、の方法では、
重合防止剤としてヒドロキノンの存在下で長時間反応を
行い、上記の方法では高圧条件下で反応を行ってい
る。

【０００４】しかしながら、上記の方法は、反応時間
が７５日間と極めて長い上、収率が３３％と低いという
問題点を有する。上記の方法も反応時間が９日間と長
く、４８％と低収率であるという問題点を有する。上記
の方法は耐圧の反応装置が必須であり、そのための設
備負担が増大する。また、上記の方法はアクリル酸エ
ステルとフランとのディールス−アルダー反応工程およ
びエステル部分の加水分解工程が必要であり、工程数が
多いという問題点を有している。したがって、これらの
方法は、いずれも７−オキサビシクロ［２．２．１］ヘ
プト−５−エン−２−カルボン酸誘導体の工業的に有利
な製造方法とは言い難い。

【０００５】しかして、本発明の目的は、７−オキサビ
シクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２−カルボン
酸誘導体を、温和な条件下に収率よく、工業的に有利に
製造し得る方法を提供することにある。すなわち、本発
明は、アクリル酸誘導体とフラン誘導体から直接、７−
オキサビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２−
カルボン酸誘導体を製造する方法において、温和な条件
下で（すなわち、高温に加熱したり、加圧したりする必
要がなく）、より短い反応時間で収率よく、目的化合物
を製造する方法を提供することを目的とする。

【０００６】

【課題を解決するための手段】本発明は、一般式（Ｉ）

【０００７】

【化９】

【０００８】（式中、Ｒ¹、Ｒ²およびＲ³はそれぞれ独
立して水素原子、ハロゲン原子、ホルミル基、シアノ
基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、アシル
基、アシルオキシ基、有機スルフィニル基、有機スルホ
ニル基または置換基を有していてもよいアルキル基を表
す。また、Ｒ¹およびＲ²はそれらが結合する炭素原子と
一緒になって環を形成していてもよい。）で示される
α，β−不飽和カルボン酸（以下、α，β−不飽和カル
ボン酸（Ｉ）と略称する）と、一般式（ＩＩ）

【０００９】

【化１０】

【００１０】（式中、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁶およびＲ⁷はそれぞ
れ独立して水素原子、アルコキシル基、アルキルチオ基
または置換基を有していてもよいアルキル基を表す。ま
た、Ｒ ⁴およびＲ⁵ならびにＲ⁵およびＲ⁶は、それらが結
合する炭素原子と一緒になって環を形成していてもよ
い。）で示されるフラン誘導体（以下、フラン誘導体
（ＩＩ）と略称する）を、ルイス酸の存在下に反応させ
ることを特徴とする一般式（ＩＩＩ）

【００１１】

【化１１】

【００１２】（式中、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁶お
よびＲ⁷は前記定義のとおりである。）、または一般式
（ＩＶ）

【００１３】

【化１２】

【００１４】（式中、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁶お
よびＲ⁷は前記定義のとおりである。）で示される７−
オキサビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２−
カルボン酸誘導体（以下、それぞれ７−オキサビシクロ
［２．２．１］ヘプト−５−エン−２−カルボン酸誘導
体（ＩＩＩ）、７−オキサビシクロ［２．２．１］ヘプ
ト−５−エン−２−カルボン酸誘導体（ＩＶ）と略称す
る）の製造方法である。

【００１５】また、本発明は、一般式（Ｉ−１）

【００１６】

【化１３】

【００１７】（式中、Ｒ¹¹、Ｒ²¹およびＲ³¹はそれぞれ
独立して水素原子、ハロゲン原子またはカルボキシル基
を表す。また、Ｒ¹¹およびＲ²¹はそれらが結合する炭素
原子と一緒になって環を形成していてもよい。）で示さ
れるα，β−不飽和カルボン酸（以下、α，β−不飽和
カルボン酸（Ｉ−１）と略称する）と、一般式（ＩＩ−
１）

【００１８】

【化１４】

【００１９】（式中、Ｒ⁴¹、Ｒ⁵¹、Ｒ⁶¹およびＲ⁷¹はそ
れぞれ独立して水素原子または置換基を有していてもよ
いアルキル基を表す。また、Ｒ⁴¹およびＲ⁵¹ならびにＲ
⁵¹およびＲ⁶¹は、それらが結合する炭素原子と一緒にな
って環を形成していてもよい。）で示されるフラン誘導
体（以下、フラン誘導体（ＩＩ−１）と略称する）を、
ルイス酸の存在下に反応させることを特徴とする一般式
（ＩＩＩ−１）

【００２０】

【化１５】

【００２１】（式中、Ｒ¹¹、Ｒ²¹、Ｒ³¹、Ｒ⁴¹、Ｒ⁵¹、
Ｒ⁶¹およびＲ⁷¹は前記定義のとおりである。）、または
一般式（ＩＶ−１）

【００２２】

【化１６】

【００２３】（式中、Ｒ¹¹、Ｒ²¹、Ｒ³¹、Ｒ⁴¹、Ｒ⁵¹、
Ｒ⁶¹およびＲ⁷¹は前記定義のとおりである。）で示され
る７−オキサビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン
−２−カルボン酸誘導体（以下、それぞれ７−オキサビ
シクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２−カルボン
酸誘導体（ＩＩＩ−１）、７−オキサビシクロ［２．
２．１］ヘプト−５−エン−２−カルボン酸誘導体（Ｉ
Ｖ−１）と略称する）の製造方法である。

【００２４】好ましい実施態様において、ルイス酸とし
てルイス酸性を有するホウ素化合物を用いる。また、好
ましい実施態様において、ルイス酸として、ボラン−テ
トラヒドロフラン錯塩、ボラン−ジメチルスルフィド錯
塩、三フッ化ホウ素−ジエチルエーテル錯塩、トリアセ
トキシボランおよびトリプロピオニルオキシボランから
なる群より選ばれるルイス酸を用いることができる。あ
るいは、別の実施態様において、ルイス酸として、無水
塩化アルミニウム、無水塩化第二鉄および塩化亜鉛から
なる群より選ばれるルイス酸を用いることもできる。

【００２５】

【発明の実施の形態】上記一般式中、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、
Ｒ¹¹、Ｒ²¹およびＲ³¹が表すハロゲン原子としては、例
えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子など
が挙げられる。

【００２６】Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁶、Ｒ⁷、Ｒ
⁴¹、Ｒ⁵¹、Ｒ⁶¹およびＲ⁷¹が表すアルキル基としては、
例えばメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル
基、ブチル基、イソブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ヘ
キシル基などの直鎖状または分岐状の好ましくは炭素数
１〜１０、より好ましくは炭素数１〜６のアルキル基が
挙げられる。これらのアルキル基は置換基を有していて
もよく、かかる置換基としては、例えばフッ素原子、塩
素原子、臭素原子、ヨウ素原子などのハロゲン原子；メ
トキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基など
の好ましくは炭素数１〜６のアルコキシル基；ｔｅｒｔ
−ブチルジメチルシリルオキシ基、ｔｅｒｔ−ブチルジ
フェニルシリルオキシ基などの三置換シリルオキシ基な
どが挙げられる。ここで、三置換シリルオキシ基とは、
アルキル基（好ましくは炭素数１〜６のアルキル基）お
よびフェニル基から選ばれる３個の置換基で置換された
シリルオキシ基をいう。

【００２７】Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁶およびＲ⁷が表すアルコキシ
ル基としては、例えばメトキシ基、エトキシ基、プロポ
キシ基、ブトキシ基などの直鎖状または分岐状の好まし
くは炭素数１〜１０、より好ましくは炭素数１〜６のア
ルコキシル基が挙げられ、アルキルチオ基としては、例
えばメチルチオ基、エチルチオ基、プロピルチオ基、ブ
チルチオ基などの直鎖状または分岐状の好ましくは炭素
数１〜１０、より好ましくは炭素数１〜６のアルキルチ
オ基が挙げられる。

【００２８】Ｒ¹、Ｒ²およびＲ³が表すアルコキシカル
ボニル基としては、例えばメトキシカルボニル基、エト
キシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基な
どのアルコキシル部分の炭素数が好ましくは１〜１０、
より好ましくは１〜６のアルコキシカルボニル基が挙げ
られ、アシル基としては、例えばアセチル基、プロパノ
イル基、ブタノイル基、ピバロイル基などの好ましくは
炭素数２〜１０、より好ましくは炭素数２〜６のアルカ
ノイル基；ベンゾイル基などのアロイル基が挙げられ、
アシルオキシ基としては、例えばアセトキシ基、プロパ
ノイルオキシ基、ブタノイルオキシ基、ピバロイルオキ
シ基などの好ましくは炭素数２〜１０、より好ましくは
炭素数２〜６のアルカノイルオキシ基；ベンゾイルオキ
シ基などのアロイルオキシ基が挙げられる。

【００２９】Ｒ¹、Ｒ²およびＲ³が表す有機スルフィニ
ル基は、有機基が結合したスルフィニル基であり、置換
基を有していてもよいアルキルスルフィニル基、置換基
を有していてもよいアリールスルフィニル基などが含ま
れる。アルキルスルフィニル基のアルキル部分は好まし
くは炭素数１〜６のアルキル基である。アリールスルフ
ィニル基のアリール部分としては、例えばフェニル基が
挙げられる。アルキルスルフィニル基が有していてもよ
い置換基としては、例えばアルコキシル基（好ましくは
炭素数１〜６のアルコキシル基）、ハロゲン原子、シア
ノ基、ニトロ基などが挙げられる。アリールスルフィニ
ル基が芳香族環上に有していてもよい置換基としては、
例えばアルキル基（好ましくは炭素数１〜６のアルキル
基）、アルコキシル基（好ましくは炭素数１〜６のアル
コキシル基）、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基など
が挙げられる。Ｒ¹、Ｒ²およびＲ³が表す有機スルフィ
ニル基としては、例えばメタンスルフィニル基、エタン
スルフィニル基、ベンゼンスルフィニル基、ｐ−トルエ
ンスルフィニル基などが挙げられる。

【００３０】Ｒ¹、Ｒ²およびＲ³が表す有機スルホニル
基は、有機基が結合したスルホニル基であり、置換基を
有していてもよいアルキルスルホニル基、置換基を有し
ていてもよいアリールスルホニル基、ハロスルホニル
基、置換基を有していてもよいアルコキシスルホニル基
などが含まれる。アルキルスルホニル基のアルキル部分
は好ましくは炭素数１〜６のアルキル基であり、アルコ
キシスルホニル基のアルコキシル部分は好ましくは炭素
数１〜６のアルコキシル基である。アリールスルホニル
基のアリール部分としては、例えばフェニル基が挙げら
れる。アルキルスルホニル基およびアルコキシスルホニ
ル基が有していてもよい置換基としては、例えばアルコ
キシル基（好ましくは炭素数１〜６のアルコキシル
基）、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基などが挙げら
れる。アリールスルホニル基が芳香族環上に有していて
もよい置換基としては、例えばアルキル基（好ましくは
炭素数１〜６のアルキル基）、アルコキシル基（好まし
くは炭素数１〜６のアルコキシル基）、ハロゲン原子、
シアノ基、ニトロ基などが挙げられる。ハロスルホニル
基が有するハロゲン原子としては、例えば塩素原子、臭
素原子などが挙げられる。Ｒ¹、Ｒ²およびＲ³が表す有
機スルホニル基としては、例えばメタンスルホニル基、
エタンスルホニル基、ベンゼンスルホニル基、ｐ−トル
エンスルホニル基、クロロスルホニル基、ブロモスルホ
ニル基、メトキシスルホニル基、エトキシスルホニル
基、トリフルオロメトキシスルホニル基などが挙げられ
る。

【００３１】Ｒ¹およびＲ²、Ｒ⁴およびＲ⁵、Ｒ¹¹および
Ｒ²¹ならびにＲ⁴¹およびＲ⁵¹が、それらが結合する炭素
原子と一緒になって形成していてもよい環としては、４
〜７員環であるのが好ましく、一般式（Ｉ）、（Ｉ
Ｉ）、（Ｉ−１）または（ＩＩ−１）における場合は、
例えばシクロブテン環、シクロペンテン環、シクロヘキ
セン環、シクロヘプテン環などが挙げられ、一般式（Ｉ
ＩＩ）、（ＩＶ）、（ＩＩＩ−１）または（ＩＶ−１）
における場合は、例えばシクロブタン環、シクロペンタ
ン環、シクロヘキサン環、シクロヘプタン環などが挙げ
られる。また、Ｒ⁵およびＲ⁶ならびにＲ⁵¹およびＲ
⁶¹が、それらが結合する炭素原子と一緒になって形成し
ていてもよい環としては、４〜７員環であるのが好まし
く、一般式（ＩＩ）または（ＩＩ−１）における場合
は、例えばシクロブタン環、シクロペンタン環、シクロ
ヘキサン環、シクロヘプタン環などが挙げられ、一般式
（ＩＩＩ）、（ＩＶ）、（ＩＩＩ−１）または（ＩＶ−
１）における場合は、例えばシクロブテン環、シクロペ
ンテン環、シクロヘキセン環、シクロヘプテン環などが
挙げられる。これらの環は置換基を有していてもよく、
かかる置換基としては、アルキル基（好ましくは炭素数
１〜６のアルキル基）、アルコキシル基（好ましくは炭
素数１〜６のアルコキシル基）、アルコキシカルボニル
基（好ましくはアルコキシル部分の炭素数が１〜６のア
ルコキシカルボニル基）、アシル基（好ましくは炭素数
２〜６のアルカノイル基）、ハロゲン原子、シアノ基、
ニトロ基などが挙げられる。

【００３２】α，β−不飽和カルボン酸（Ｉ−１）は
α，β−不飽和カルボン酸（Ｉ）に包含される化合物で
あり、フラン誘導体（ＩＩ−１）はフラン誘導体（Ｉ
Ｉ）に包含される化合物である。７−オキサビシクロ
［２．２．１］ヘプト−５−エン−２−カルボン酸誘導
体（ＩＩＩ−１）は７−オキサビシクロ［２．２．１］
ヘプト−５−エン−２−カルボン酸誘導体（ＩＩＩ）に
包含される化合物であり、７−オキサビシクロ［２．
２．１］ヘプト−５−エン−２−カルボン酸誘導体（Ｉ
Ｖ−１）は７−オキサビシクロ［２．２．１］ヘプト−
５−エン−２−カルボン酸誘導体（ＩＶ）に包含される
化合物である。

【００３３】α，β−不飽和カルボン酸（Ｉ）とフラン
誘導体（ＩＩ）との反応は、溶媒の存在下または不存在
下に行うことができる。溶媒としては、反応に悪影響を
与えない限り特に制限されるものではなく、例えばペン
タン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、石油エーテルな
どの脂肪族炭化水素；ベンゼン、トルエン、キシレン、
エチルベンゼン、クメンなどの芳香族炭化水素；ジエチ
ルエーテル、テトラヒドロフラン、ジイソプロピルエー
テル、ジメトキシエタン、ジブチルエーテル、１，４−
ジオキサンなどのエーテル；ジクロロメタン、クロロホ
ルム、四塩化炭素、ジクロロエタン、トリクロロエタ
ン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼンなどのハロゲン
化炭化水素；またはこれらの混合溶媒などが挙げられ
る。溶媒の使用量は特に制限されないが、通常α，β−
不飽和カルボン酸（Ｉ）に対して０．１〜１００倍重量
の範囲であるのが好ましい。

【００３４】ルイス酸としては、例えば無水塩化アルミ
ニウム、臭化アルミニウム、塩化ジエチルアルミニウ
ム、塩化ガリウム、臭化ガリウム、ヨウ化ガリウム、無
水塩化第二鉄、無水臭化第二鉄、塩化亜鉛、臭化亜鉛、
ヨウ化亜鉛、塩化チタン、ヨウ化チタン、無水塩化第一
スズ、臭化第一スズ、無水塩化第二スズ、ボラン−テト
ラヒドロフラン錯塩（ＢＨ₃・ＴＨＦ）、ボラン−ジメ
チルスルフィド錯塩（ＢＨ₃・（ＣＨ₃）₂Ｓ）、三塩化
ホウ素、三臭化ホウ素、三フッ化ホウ素−ジエチルエー
テル錯塩（ＢＦ₃・（Ｃ₂Ｈ₅）₂Ｏ）、クロロボラン−ジ
エチルエーテル錯塩（ＢＨ₂Ｃｌ・（Ｃ₂Ｈ₅）₂Ｏ）、ク
ロロボラン−ジメチルスルフィド錯塩（ＢＨ₂Ｃｌ・
（ＣＨ₃）₂Ｓ）、ジクロロボラン−ジメチルスルフィド
錯塩（ＢＨＣｌ₂・（ＣＨ₃）₂Ｓ）、ブロモボラン−ジ
メチルスルフィド錯塩（ＢＨ₂Ｂｒ・（ＣＨ₃）₂Ｓ）、
ジブロモボラン−ジメチルスルフィド錯塩（ＢＨＢｒ₂
・（ＣＨ₃）₂Ｓ）；トリス（２，４，６−トリメチルベ
ンゾイルオキシ）ボラン、ビス（クロロアセトキシ）ボ
ラン、トリアセトキシボラン、トリ（フルオロアセトキ
シ）ボラン、トリプロピオニルオキシボラン、トリアク
リロイルオキシボラン、トリメタクリロイルオキシボラ
ンなどのアシルオキシボラン化合物；α−［２，６−ビ
ス（イソプロポキシ）ベンゾイル］オキシ−５−オキソ
−１，３，２−ジオキサボランなどのジオキソボラン化
合物；４−イソプロピル−３−パラトルエンスルホニル
−１，３，２−オキサザボリジン−５−オン、４−ｔ−
ブチル−３−パラトルエンスルホニル−１，３，２−オ
キサザボリジン−５−オンなどのオキサザボリジン化合
物などが挙げられる。これらの中でも、無水塩化アルミ
ニウム、無水塩化第二鉄、塩化亜鉛、ボラン−テトラヒ
ドロフラン錯塩、ボラン−ジメチルスルフィド錯塩、三
塩化ホウ素、三臭化ホウ素、三フッ化ホウ素−ジエチル
エーテル錯塩、クロロボラン−ジエチルエーテル錯塩、
クロロボラン−ジメチルスルフィド錯塩、ジクロロボラ
ン−ジメチルスルフィド錯塩、ブロモボラン−ジメチル
スルフィド錯塩、ジブロモボラン−ジメチルスルフィド
錯塩、上記したアシルオキシボラン化合物、上記したジ
オキソボラン化合物または上記したオキサザボリジン化
合物などのホウ素化合物を用いるのが好ましく、後処理
操作の容易性と目的化合物を高い選択性で得られる点か
ら、ホウ素化合物を用いるのが特に好ましい。本発明で
用いられるホウ素化合物は、ルイス酸性を有するもので
あり、ルイス酸性とは、非共有電子対を受容し得る性質
をいう。ルイス酸の使用量は、α，β−不飽和カルボン
酸（Ｉ）に対して０．００１〜１当量の範囲であるのが
好ましく、０．００５〜０．２当量の範囲であるのがよ
り好ましい。

【００３５】フラン誘導体（ＩＩ）の使用量は特に制限
されないが、α，β−不飽和カルボン酸（Ｉ）１モルに
対し、フラン誘導体（ＩＩ）を０．１モル〜３０モルの
範囲で使用するのが好ましく、１モル〜２０モルの範囲
で使用するのがより好ましい。また、反応温度は、−８
０℃〜８０℃の範囲であるのが好ましく、−２０℃〜３
０℃の範囲であるのがより好ましい。特に、７−オキサ
ビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２−カルボ
ン酸誘導体のエンド体を優先的に得る観点からは、反応
温度は−１０℃〜５℃の範囲であるのが好ましい。

【００３６】反応は、例えばα，β−不飽和カルボン酸
（Ｉ）、フラン誘導体（ＩＩ）および必要に応じて溶媒
を混合し、この混合溶液にルイス酸を添加して行うか、
またはフラン誘導体（ＩＩ）、ルイス酸および必要に応
じて溶媒を混合し、この混合溶液にα，β−不飽和カル
ボン酸（Ｉ）を添加して行うのが好ましい。

【００３７】このようにして得られた７−オキサビシク
ロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２−カルボン酸誘
導体（ＩＩＩ）または７−オキサビシクロ［２．２．
１］ヘプト−５−エン−２−カルボン酸誘導体（ＩＶ）
は、通常の有機化合物の単離・精製に用いられる方法に
より単離・精製することができる。例えば、反応混合物
に水を加え、ペンタン、ヘキサン、石油エーテル、ベン
ゼン、トルエン、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエ
ーテル、酢酸エチル、ジクロロメタン、クロロホルムな
どの有機溶媒を加えて抽出し、無水硫酸ナトリウムなど
で乾燥後、濃縮し、得られる粗生成物を必要に応じて再
結晶、蒸留、クロマトグラフィーなどにより精製する。
また、反応条件によっては、反応の進行に伴って反応系
中に生成物が析出するので、反応後の反応液をそのまま
濾別することもできるし、反応液を冷却することによっ
て生成物を析出させ、得られた結晶を濾別することによ
り単離することもできる。

【００３８】

【実施例】以下、実施例により本発明をさらに具体的に
説明するが、本発明はこれらの実施例により何ら制限さ
れるものではない。

【００３９】実施例１ 温度計およびメカニカルスターラを装備した内容積２０
００ｍｌの３口フラスコの内部を窒素置換し、ここに蒸
留したフラン８１６ｇ（１２ｍｏｌ）およびアクリル酸
２８８ｇ（４．０ｍｏｌ）を入れ、内温２℃まで冷却し
た。この混合溶液に、ボラン−テトラヒドロフラン錯塩
（ＢＨ₃・ＴＨＦ）の０．９３Ｍテトラヒドロフラン溶
液４３ｍｌ（０．０４ｍｏｌ）を、内温を２℃以下に保
ちながら２０分間で滴下し、滴下終了後、同温度で１８
時間攪拌した。生成した結晶をグラスフィルターで濾別
し、５℃以下に冷却したヘキサン３００ｍｌで洗浄後、
減圧下で２時間乾燥し、無色の結晶として、下記の物性
を有するｅｎｄｏ−７−オキサビシクロ［２．２．１］
ヘプト−５−エン−２−カルボン酸３５２ｇを得た（純
度＞９９％、アクリル酸基準の収率６３％）。

【００４０】ｅｎｄｏ−７−オキサビシクロ［２．２．
１］ヘプト−５−エン−２−カルボン酸 融点：９０．０〜９１．０℃¹ Ｈ−ＮＭＲスペクトル（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ₃，Ｔ
ＭＳ，ｐｐｍ） δ：１．５５（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１０
Ｈｚ，４Ｈｚ），２．１３（ｍ，１Ｈ），３．１７
（ｍ，１Ｈ），５．０６（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝４Ｈｚ），
５．２３（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝４Ｈｚ），６．２８（ｄｄ，
１Ｈ，Ｊ＝６Ｈｚ，４Ｈｚ），６．４５（ｄｄ，１Ｈ，
Ｊ＝６Ｈｚ，２Ｈｚ）

【００４１】なお、生成した結晶を濾別した後の母液に
メタノール５ｍｌを添加し、濃縮することにより、７−
オキサビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２−
カルボン酸１９９ｇを得た（ｅｎｄｏ体：ｅｘｏ体＝４
５：５５、純度９０％、アクリル酸基準の収率３２
％）。ｅｘｏ体の¹Ｈ−ＮＭＲスペクトルは以下のとお
りであった。

【００４２】ｅｘｏ−７−オキサビシクロ［２．２．
１］ヘプト−５−エン−２−カルボン酸 ¹ Ｈ−ＮＭＲスペクトル（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ₃，Ｔ
ＭＳ，ｐｐｍ） δ：１．５７（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１２
Ｈｚ，８Ｈｚ），２．１５（ｍ，１Ｈ），２．４５（ｄ
ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８Ｈｚ，４Ｈｚ），５．１０（ｄ，１
Ｈ，Ｊ＝４Ｈｚ），５．２３（ｓ，１Ｈ），６．３５
（ｍ，２Ｈ）

【００４３】実施例２ 温度計およびメカニカルスターラを装備した内容積５０
０ｍｌの３口フラスコの内部を窒素置換し、ここに蒸留
したフラン２０４ｇ（３．０ｍｏｌ）およびアクリル酸
７２ｇ（１．０ｍｏｌ）を入れ、内温２℃まで冷却し
た。この混合溶液に、ボラン−ジメチルスルフィド錯塩
（ＢＨ₃・Ｍｅ₂Ｓ）０．９５ｍｌ（０．０１ｍｏｌ）
を、内温を２℃以下に保ちながら２分間で滴下し、滴下
終了後、同温度で１８時間攪拌した。生成した結晶をグ
ラスフィルターで濾別し、５℃以下に冷却したヘキサン
１００ｍｌで洗浄後、減圧下で２時間乾燥し、無色の結
晶として、７−オキサビシクロ［２．２．１］ヘプト−
５−エン−２−カルボン酸８１ｇを得た（ｅｎｄｏ体：
ｅｘｏ体＝９２：８、純度＞９９％、アクリル酸基準の
収率５８％）。

【００４４】実施例３ 温度計およびメカニカルスターラを装備した内容積５０
０ｍｌの３口フラスコの内部を窒素置換し、ここに蒸留
したフラン１３６ｇ（２．０ｍｏｌ）、アクリル酸７２
ｇ（１．０ｍｏｌ）および溶媒としてジイソプロピルエ
ーテル７０ｍｌを入れ、内温２℃まで冷却した。この混
合溶液に、ボラン−テトラヒドロフラン錯塩（ＢＨ₃・
ＴＨＦ）の０．９３Ｍテトラヒドロフラン溶液１１ｍｌ
（０．０１ｍｏｌ）を、内温を２℃以下に保ちながら１
０分間で滴下し、滴下終了後、同温度で４時間攪拌し
た。生成した結晶をグラスフィルターで濾別し、５℃以
下に冷却したジイソプロピルエーテル１００ｍｌで洗浄
後、減圧下で２時間乾燥し、無色の結晶として、７−オ
キサビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２−カ
ルボン酸８１ｇを得た（ｅｎｄｏ体：ｅｘｏ体＝９５：
５、純度＞９９％、アクリル酸基準の収率５８％）。

【００４５】実施例４ 温度計およびメカニカルスターラを装備した内容積１０
０ｍｌの３口フラスコの内部を窒素置換し、ここに蒸留
したフラン４１ｇ（６００ｍｍｏｌ）およびアクリル酸
７.２ｇ（１００ｍｍｏｌ）を入れ、内温２℃まで冷却
した。この混合溶液に三フッ化ホウ素−ジエチルエーテ
ル錯塩（ＢＦ₃・（Ｃ₂Ｈ₅）₂Ｏ）０．１ｍｌ（１．０ｍ
ｍｏｌ）を、内温を２℃以下に保ちながら１分間で滴下
し、滴下終了後、同温度で５時間攪拌した。反応液に水
１０ｍｌを加え、有機層と水層を分離した。水層をジク
ロロメタン１０ｍｌで２回抽出し、抽出液を先に分離し
た有機層と合わせて無水硫酸ナトリウムで乾燥後、濃縮
し、さらに減圧下で２時間乾燥することにより、無色の
結晶として、７−オキサビシクロ［２．２．１］ヘプト
−５−エン−２−カルボン酸６．０ｇを得た（ｅｎｄｏ
体：ｅｘｏ体＝６９：３１、純度９６％（未反応のアク
リル酸を４％含有）、アクリル酸基準の収率４１％）。

【００４６】実施例５ 実施例４と同様の反応装置に、蒸留したフラン２０．４
ｇ（３００ｍｍｏｌ）およびアクリル酸７．２ｇ（１０
０．０ｍｍｏｌ）を入れ、内温２℃まで冷却した。この
混合溶液に、ボラン−テトラヒドロフラン錯塩（ＢＨ₃
・ＴＨＦ）の０．９３Ｍテトラヒドロフラン溶液１．１
ｍｌ（１．０ｍｍｏｌ）を、内温を２℃以下に保ちなが
ら５分間で滴下し、滴下終了後、同温度で２５時間攪拌
した。この反応液に水１０ｍｌおよびクロロホルム１０
ｍｌを加え、有機層と水層を分離した。水層をクロロホ
ルム１０ｍｌで２回抽出し、抽出液を先に分離した有機
層と合わせて無水硫酸ナトリウムで乾燥後、濃縮し、さ
らに減圧下で２時間乾燥することで、淡黄色の結晶とし
て、７−オキサビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エ
ン−２−カルボン酸１２．６ｇを得た（ｅｎｄｏ体：ｅ
ｘｏ体＝７７：２３、純度９７％（未反応のアクリル酸
を３％含有）、アクリル酸基準の収率８７％）。

【００４７】実施例６ 実施例４と同様の反応装置に、３−メチルフラン１５．
４ｇ（１８７ｍｍｏｌ）およびアクリル酸７．２ｇ（１
００ｍｍｏｌ）を入れ、内温２℃まで冷却した。この混
合溶液に、ボラン−テトラヒドロフラン錯塩（ＢＨ₃・
ＴＨＦ）の０．９３Ｍテトラヒドロフラン溶液１．１ｍ
ｌ（１．０ｍｍｏｌ）を、内温を２℃以下に保ちながら
５分間で滴下し、滴下終了後、同温度で２４時間攪拌し
た。生成した結晶をグラスフィルターで濾別し、５℃以
下に冷却したヘキサン１０ｍｌで洗浄後、減圧下で２時
間乾燥し、無色の結晶として、下記の物性を有するｅｎ
ｄｏ−６−メチル−７−オキサビシクロ［２．２．１］
ヘプト−５−エン−２−カルボン酸１．９ｇを得た（純
度＞９９％、アクリル酸基準の収率９．５％）。

【００４８】ｅｎｄｏ−６−メチル−７−オキサビシク
ロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２−カルボン酸 融点：１２９．５〜１３０．０℃¹ Ｈ−ＮＭＲスペクトル（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ₃，Ｔ
ＭＳ，ｐｐｍ） δ：１．５６（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１２
Ｈｚ，４Ｈｚ），１．８６（ｄ，３Ｈ，Ｊ＝２Ｈｚ），
２．０８（ｍ，１Ｈ），３．１８（ｍ，１Ｈ），４．７
６（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝５Ｈｚ），５．１０（ｄ，１Ｈ，Ｊ
＝４Ｈｚ），５．８２（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝２Ｈｚ）

【００４９】実施例７ 温度計およびマグネチックスターラを装備した内容積２
５ｍｌの３口フラスコの内部を窒素置換し、ここに蒸留
したフラン４．１ｇ（６０ｍｍｏｌ）およびアクリル酸
３．６ｇ（５０．０ｍｍｏｌ）を入れ、続いて塩化亜鉛
０．６８ｇ（５．０ｍｍｏｌ）を添加した後、２０℃で
２１時間攪拌した。反応液に水１０ｍｌおよびクロロホ
ルム１０ｍｌを加え、有機層と水層を分離した。水層を
クロロホルム１０ｍｌで２回抽出し、抽出液と先に分離
した有機層を合わせて無水硫酸ナトリウムで乾燥後、濃
縮し、さらに減圧下で２時間乾燥することにより、淡黄
色の結晶として、７−オキサビシクロ［２．２．１］ヘ
プト−５−エン−２−カルボン酸３．８ｇを得た（ｅｎ
ｄｏ体：ｅｘｏ体＝６４：３６、純度９５％（未反応の
アクリル酸を５％含有）、アクリル酸基準の収率５１
％）。

【００５０】実施例８ 実施例４と同様の反応装置に、蒸留したフラン１７．０
ｇ（２５０ｍｍｏｌ）およびマレイン酸５．８ｇ（５
０．０ｍｍｏｌ）を入れ、内温２℃まで冷却した。この
混合溶液に、ボラン−テトラヒドロフラン錯塩（ＢＨ₃
・ＴＨＦ）の０．９３Ｍテトラヒドロフラン溶液５．４
ｍｌ（５．０ｍｍｏｌ）を、内温を２℃以下に保ちなが
ら２０分間で滴下し、滴下終了後、同温度で５時間攪拌
した。析出した結晶をグラスフィルターで濾別し、５℃
以下に冷却したヘキサン３０ｍｌで洗浄後、減圧下で２
時間乾燥することにより、無色の結晶として、下記の物
性を有するｅｎｄｏ，ｅｎｄｏ−７−オキサビシクロ
［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボン
酸４．１ｇを得た（純度＞９９％、マレイン酸基準の収
率４５％）。

【００５１】ｅｎｄｏ，ｅｎｄｏ−７−オキサビシクロ
［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボン
酸 融点：１４８．０〜１４９．０℃¹ Ｈ−ＮＭＲスペクトル（２７０ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−
ｄ₆，ＴＭＳ，ｐｐｍ） δ：３．２５（ｓ，２Ｈ），
５．０１（ｓ，２Ｈ），６．２４（ｓ，２Ｈ）

【００５２】実施例９ 実施例７と同様の反応装置に、蒸留したフラン６．８ｇ
（１００ｍｍｏｌ）および２−ブロモアクリル酸１．０
ｇ（６．６ｍｍｏｌ）を入れ、内温２℃まで冷却した。
この混合溶液に、ボラン−テトラヒドロフラン錯塩（Ｂ
Ｈ₃・ＴＨＦ）の０．９３Ｍテトラヒドロフラン溶液
０．７ｍｌ（０．７ｍｍｏｌ）を、内温を２℃以下に保
ちながら５分間で滴下し、滴下終了後、同温度で１０時
間攪拌した。反応液に水１０ｍｌおよびクロロホルム１
０ｍｌを加え、有機層と水層を分離した。水層をクロロ
ホルム１０ｍｌで２回抽出し、抽出液を先に分離した有
機層と合わせて無水硫酸ナトリウムで乾燥後、濃縮し、
さらに減圧下で２時間乾燥することにより、淡黄色の油
状物質として、２−ブロモ−７−オキサビシクロ［２．
２．１］ヘプト−５−エン−２−カルボン酸１．３ｇを
ｅｎｄｏ体およびｅｘｏ体の混合物として得た（主成
分：少量成分＝２：１、純度７７％（未反応の２−ブロ
モアクリル酸を２３％含有）、２−ブロモアクリル酸基
準の収率７０％）。

【００５３】主成分¹ Ｈ−ＮＭＲスペクトル（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ₃，Ｔ
ＭＳ，ｐｐｍ） δ：１．７４（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１３Ｈ
ｚ），２．９４（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１３Ｈｚ，５Ｈ
ｚ），５．１０（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝５Ｈｚ，２Ｈｚ），
５．４７（ｓ，１Ｈ），６．４０（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝７
Ｈｚ，２Ｈｚ），６．５９（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝７Ｈｚ）

【００５４】少量成分¹ Ｈ−ＮＭＲスペクトル（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ₃，Ｔ
ＭＳ，ｐｐｍ） δ：２．４１（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１３Ｈ
ｚ），２．５７（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１３Ｈｚ，５Ｈ
ｚ），５．１５（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝５Ｈｚ，２Ｈｚ），
５．２１（ｓ，１Ｈ），６．５０（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝７
Ｈｚ，２Ｈｚ），６．５９（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝７Ｈｚ）

【００５５】実施例１０ 実施例７と同様の反応装置に、蒸留したフラン９．４ｇ
（１３８ｍｍｏｌ）およびアクリル酸１．８ｇ（２５．
０ｍｍｏｌ）を入れ、続いて無水塩化第二鉄０．４１ｇ
（２．５ｍｍｏｌ）を添加した後、窒素雰囲気下として
内温５℃で５時間攪拌した。この反応液に水１０ｍｌお
よびクロロホルム１０ｍｌを加え、有機層と水層を分離
した。水層をクロロホルム１０ｍｌで２回抽出し、抽出
液を先に分離した有機層と合わせて無水硫酸ナトリウム
で乾燥後、濃縮し、さらに減圧下で２時間乾燥すること
により、淡黄色の結晶として、７−オキサビシクロ
［２．２．１］ヘプト−５−エン−２−カルボン酸３．
１ｇを得た（ｅｎｄｏ体：ｅｘｏ体＝６４：３６、純度
９４％（未反応のアクリル酸を６％含有）、アクリル酸
基準の収率８３％）。

【００５６】実施例１１ 実施例７と同様の反応装置に、蒸留したフラン９．４ｇ
（１３８ｍｍｏｌ）およびアクリル酸１．８ｇ（２５．
０ｍｍｏｌ）を入れ、続いて無水塩化アルミニウム０．
３３ｇ（２．５ｍｍｏｌ）を添加した後、窒素雰囲気下
として内温５℃で５時間攪拌した。この反応液に水１０
ｍｌおよびクロロホルム１０ｍｌを加え、有機層と水層
を分離した。水層をクロロホルム１０ｍｌで２回抽出
し、抽出液を先に分離した有機層と合わせて無水硫酸ナ
トリウムで乾燥後、濃縮し、さらに減圧下で２時間乾燥
することで、淡黄色の結晶として、７−オキサビシクロ
［２．２．１］ヘプト−５−エン−２−カルボン酸３．
０ｇを得た（ｅｎｄｏ体：ｅｘｏ体＝６７：３３、純度
９３％（未反応のアクリル酸を７％含有）、アクリル酸
基準の収率８０％）。

【００５７】実施例１２ 実施例４と同様の反応装置に、蒸留したフラン１４１．
７ｇ（２．０８ｍｏｌ）およびトリアセトキシボラン
１．１９ｇ（６．６３ｍｍｏｌ）を入れ、−５℃に冷却
した。この混合液にアクリル酸３０．４ｇ（０．４２ｍ
ｏｌ）を添加した後、内温−５℃で２２時間攪拌した。
生成した結晶をグラスフィルターで濾別し、５℃以下に
冷却したジイソプロピルエーテル６０ｍｌで洗浄後、減
圧下で２時間乾燥し、無色の結晶として、７−オキサビ
シクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２−カルボン
酸１１．４ｇを得た（ｅｎｄｏ体：ｅｘｏ体＝９８：
２、純度＞９９％、アクリル酸基準の収率４３％）。

【００５８】実施例１３ 実施例４と同様の反応装置に、蒸留したフラン１４１．
７ｇ（２．０８ｍｏｌ）およびトリプロピオニルオキシ
ボラン１．５５ｇ（６．７５ｍｍｏｌ）を入れ、−５℃
に冷却した。この混合液にアクリル酸３０．１ｇ（０．
４２ｍｏｌ）を添加した後、内温−５℃で１５時間攪拌
した。生成した結晶をグラスフィルターで濾別し、５℃
以下に冷却したジイソプロピルエーテル６０ｍｌで洗浄
後、減圧下で２時間乾燥し、無色の結晶として、７−オ
キサビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２−カ
ルボン酸２２．５ｇを得た（ｅｎｄｏ体：ｅｘｏ体＝９
９：１、純度＞９９％、アクリル酸基準の収率３９
％）。

【００５９】

【発明の効果】本発明によれば、α，β−不飽和カルボ
ン酸（Ｉ）とフラン誘導体（ＩＩ）から直接、７−オキ
サビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２−カル
ボン酸誘導体、特にエンド体を温和な条件下に収率よ
く、工業的に有利に製造することができる。本発明の方
法は、従来法に比べて、温和な条件下で（すなわち、高
温に加熱したり、加圧したりする必要がなく）、より短
い反応時間で収率よく、７−オキサビシクロ［２．２．
１］ヘプト−５−エン−２−カルボン酸誘導体、特にエ
ンド体を有利に製造することができ、工業的な製造に適
している。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 宇治田 克爾 岡山県倉敷市酒津2045番地の１ 株式会社 クラレ内 (72)発明者 清水 和哉 岡山県倉敷市酒津2045番地の１ 株式会社 クラレ内 (72)発明者 寺島 孜郎 東京都世田谷区経堂２−27−４ Ｆターム(参考） 4C071 AA03 AA07 BB01 CC11 EE05 FF15 HH28 LL07 4H039 CA42 CA65 CF10 CH40

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 一般式（Ｉ） 【化１】 （式中、Ｒ¹、Ｒ²およびＲ³はそれぞれ独立して水素原
   子、ハロゲン原子、ホルミル基、シアノ基、カルボキシ
   ル基、アルコキシカルボニル基、アシル基、アシルオキ
   シ基、有機スルフィニル基、有機スルホニル基または置
   換基を有していてもよいアルキル基を表す。また、Ｒ¹
   およびＲ²はそれらが結合する炭素原子と一緒になって
   環を形成していてもよい。）で示されるα，β−不飽和
   カルボン酸と一般式（ＩＩ） 【化２】 （式中、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁶およびＲ⁷はそれぞれ独立して水
   素原子、アルコキシル基、アルキルチオ基または置換基
   を有していてもよいアルキル基を表す。また、Ｒ ⁴およ
   びＲ⁵ならびにＲ⁵およびＲ⁶は、それらが結合する炭素
   原子と一緒になって環を形成していてもよい。）で示さ
   れるフラン誘導体を、ルイス酸の存在下に反応させるこ
   とを特徴とする一般式（ＩＩＩ） 【化３】 （式中、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁶およびＲ⁷は前
   記定義のとおりである。）、または一般式（ＩＶ） 【化４】 （式中、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁶およびＲ⁷は前
   記定義のとおりである。）で示される７−オキサビシク
   ロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２−カルボン酸誘
   導体の製造方法。
2. 【請求項２】 一般式（Ｉ−１） 【化５】 （式中、Ｒ¹¹、Ｒ²¹およびＲ³¹はそれぞれ独立して水素
   原子、ハロゲン原子またはカルボキシル基を表す。ま
   た、Ｒ¹¹およびＲ²¹はそれらが結合する炭素原子と一緒
   になって環を形成していてもよい。）で示されるα，β
   −不飽和カルボン酸と、一般式（ＩＩ−１） 【化６】 （式中、Ｒ⁴¹、Ｒ⁵¹、Ｒ⁶¹およびＲ⁷¹はそれぞれ独立し
   て水素原子または置換基を有していてもよいアルキル基
   を表す。また、Ｒ⁴¹およびＲ⁵¹ならびにＲ⁵¹およびＲ⁶¹
   は、それらが結合する炭素原子と一緒になって環を形成
   していてもよい。）で示されるフラン誘導体を、ルイス
   酸の存在下に反応させることを特徴とする一般式（ＩＩ
   Ｉ−１） 【化７】 （式中、Ｒ¹¹、Ｒ²¹、Ｒ³¹、Ｒ⁴¹、Ｒ⁵¹、Ｒ⁶¹およびＲ
   ⁷¹は前記定義のとおりである。）、または一般式（ＩＶ
   −１） 【化８】 （式中、Ｒ¹¹、Ｒ²¹、Ｒ³¹、Ｒ⁴¹、Ｒ⁵¹、Ｒ⁶¹およびＲ
   ⁷¹は前記定義のとおりである。）で示される７−オキサ
   ビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２−カルボ
   ン酸誘導体の製造方法。
3. 【請求項３】 ルイス酸としてルイス酸性を有するホウ
   素化合物を用いる請求項１または２記載の製造方法。
4. 【請求項４】 ルイス酸が、ボラン−テトラヒドロフラ
   ン錯塩、ボラン−ジメチルスルフィド錯塩、三フッ化ホ
   ウ素−ジエチルエーテル錯塩、トリアセトキシボランお
   よびトリプロピオニルオキシボランからなる群より選ば
   れる請求項１または２記載の製造方法。