JP2711754B2 - 光学活性ジヒドロピラン誘導体の製造法 - Google Patents

光学活性ジヒドロピラン誘導体の製造法

Info

Publication number
JP2711754B2
JP2711754B2 JP2235102A JP23510290A JP2711754B2 JP 2711754 B2 JP2711754 B2 JP 2711754B2 JP 2235102 A JP2235102 A JP 2235102A JP 23510290 A JP23510290 A JP 23510290A JP 2711754 B2 JP2711754 B2 JP 2711754B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
optically active
binaphthol
lower alkyl
added
glyoxylate
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP2235102A
Other languages
English (en)
Other versions
JPH04117375A (ja
Inventor
幸一 三上
眞浩 寺田
武 中井
昇 佐用
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Takasago International Corp
Original Assignee
Takasago International Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Takasago International Corp filed Critical Takasago International Corp
Priority to JP2235102A priority Critical patent/JP2711754B2/ja
Priority to US07/668,656 priority patent/US5155240A/en
Priority to CA002038243A priority patent/CA2038243A1/en
Publication of JPH04117375A publication Critical patent/JPH04117375A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP2711754B2 publication Critical patent/JP2711754B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02PCLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
    • Y02P20/00Technologies relating to chemical industry
    • Y02P20/50Improvements relating to the production of bulk chemicals
    • Y02P20/52Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts

Landscapes

  • Pyrane Compounds (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
  • Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は次の一般式(I)、 (式中、R1及びR2はそれぞれ水素原子、低級アルキル基
又はOR3基(但し、R3は低級アルキル基又はジ低級アル
キルカルバモイル基)を示す。但し、R1及びR2が共に水
素原子となることはない。R4は低級アルキル基を示す) で表わされる光学活性ジヒドロピラン誘導体の製造法に
関する。
〔従来の技術〕
上記一般式(I)で表わされる光学活性ジヒドロピラ
ン誘導体は、例えば、A.KONOWAら; Tetrahedron.32巻,2957−2959頁(1976)に記載のサッ
カライドあるいは、STEVEN D.BURKELら;Tetrahedron,42
巻,2787−2801頁(1986)に記載の抗生物質等の合成中
間体として有用な化合物である。
従来、光学活性ジヒドロピラン誘導体(I)を製造す
る方法としては、1−メトキシ−1,3−ブタジエン又は
1,3−ペンタジエンにグリオキシル酸エステルを、二塩
化メントキシアルミニウムあるいはBu(hfc)(トリ
ス−〔3−(ヘプタフルオロプロピルヒドロキシメチレ
ン)−(+)−カンフォラート〕ユウロピウム(II
I))の触媒の存在下に反応せしめる方法が報告されて
いる〔M.Quimpreら;J.Chem.Soc.,Chem.Commun.,676−
677頁(1987)〕。
〔発明が解決しようとする課題〕
しかしながら、上記公知方法で使用する触媒の光学活
性部位は、どちらも天然物由来、すなわち、二塩化メン
トキシアルミニウムでは(−)−メントールを、Eu(hf
c)では(+)−カンファーを由来とする特定の絶対
配置を有するものであるが、それぞれに対応した絶対配
置を有する生成物を得ようとしても、二塩化メントキシ
アルミニウムを用いた場合には工業的に利用可能な光学
純度を有する生成物を得ることができず、実際には
(+)−カンファー由来のEu(hfc)触媒から得られ
る特定の絶対配置を有する生成物しか得ることができな
かった。しかも、Eu(hfc)触媒として用いた場合で
も、生成物の光学純度は、最も高い(2R,6S)−2−メ
トキシ−6−メトキシカルボニルジヒドロピランで64%
eeであり、更に高い光学純度を有するジヒドロピラン誘
導体を得る方法が望まれていた。
〔課題を解決するための手段〕
このような実情において、本発明者らは、前記課題を
解決せんと鋭意研究を行った結果、光学活性なビナフト
ール−チタン錯体を触媒として用いれば、高い光学純度
を有するジヒドロピラン誘導体を効率よく得ることがで
きることを見出し、本発明を完成した。
本発明の方法は、次の反応式で示される。
(式中、R1、R2及びR4は前記と同じ意味を有する) すなわち、本発明は、ジエン化合物(II)とグリオキ
シル酸エステル(III)とを、ビナフトール−チタン錯
体(IV)の存在下に反応せしめて光学活性ジヒドロピラ
ン誘導体(I)を製造する方法である。
本発明の原料であるジエン化合物(II)の置換基であ
るR1及びR2は、それぞれ水素原子、低級アルキル基又は
基OR3を示し、R3は低級アルキル基又はジ低級アルキル
カルバモイル基を示す。ここで、「低級」とは、炭素数
1〜4の分岐してもよい炭素鎖を意味する。R1及びR
2は、同一あるいは異なる置換基を示すが、ともに水素
原子である場合は目的とする反応が進まないため好まし
くない。ジエン化合物(II)を具体的に例示すれば、2
−メチル−1,3−ブタジエン、2−メトキシ−1,3−ブタ
ジエン、2−ジエチルアミノカルボニルオキシ−1,3−
ブタジエン、1−メトキシ−1,3−ブタジエン、1−ジ
メチルアミノカルボニルオキシ−1,3−ブタジエン、2
−エトキシ−1,3−ペンタジエン、3−エトキシ−1−
ジメチルアミノカルボニルオキシ−1,3−ブタジエン、
1,3−ジメトキシ−1,3−ブタジエン、1−tert−ブトキ
シ−3−メトキシ−1,3−ブタジエン等が挙げられる。
また、もう一方の原料であるグリオキシル酸エステル
(III)のR4は低級アルキル基を示し、ここで「低級」
とは前記と同様の意味を有する。グリオキシル酸エステ
ル(III)を具体的に例示すれば、グリオキシル酸メチ
ル、グリオキシル酸エチル、グリオキシル酸イソプロピ
ル、グリオキシル酸t−ブチル等が挙げられ、これら
は、例えばT.ROSS KELLYらの方法〔Synthesis,544−545
頁(1972)〕によって製造される。
触媒として使用される光学活性ビナフトール−チタン
錯体は次の一般式(IV) (式中、Xは塩素原子又は臭素原子を示す) で表わされる。
このビナフトール−チタン錯体(IV)は、例えば特開
平2−40344号公報記載の方法によって調製される。す
なわち、まず四ハロゲン化チタン(ハロゲンは塩素又は
臭素)とテトライソプロポキシチタンをヘキサン中で混
合してジイソプロポキシ−ジハロゲノチタンの結晶を調
製し、これをトルエンに溶解する。別に基質1ミリモル
に対し0.5g以上の量の粉末のモレキュラーシーブ4A(市
販品)を塩化メチレンに加え、これに上で調製したジイ
ソプロポキシ−ジハロゲノチタンのトルエン溶液、次い
でビナフトールを加えて約1時間撹拌すればビナフトー
ル−チタン錯体(IV)を得ることができる。
また、ビナフトール−チタン錯体(IV)には、(R)
−ビナフトール又は(S)−ビナフトールから合成され
る(R)体と(S)体が存在し、これらは目的とする生
成物の光学活性ジヒドロピラン誘導体(I)の絶対配置
に応じて使いわけることができる。すなわち、前記一般
式(I)のジヒドロピラン環の6位の不斉炭素におい
て、(R)体を得ようとする時は(R)−(IV)を、
(S)体を得ようとする時は(S)−(IV)を用いれば
よい。このように、本発明によれば、用いる錯体(IV)
の選択によって6位の炭素の絶対配置を自由自在に決定
することができる。更に、置換基R1が水素原子以外の場
合は2位についても不斉炭素となるが、この場合は、用
いる錯体(IV)の絶対配置によって、(R)体もしくは
(S)体のどちらか一方が有利な比率で得られる。
本発明方法を実施するには、ビナフトール−チタン錯
体の有機溶媒溶液にジエン化合物(II)及びグリオキシ
ル酸エステル(III)を加えて反応せしめる。
使用する有機溶媒としては、塩化メチレン、クロロホ
ルム、四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素;ベンゼン、
トルエン等の芳香族炭化水素;テトラヒドロフラン、ジ
エチルエーテル、ジメトキシエタン等の非プロトン性溶
媒等が挙げられる。
触媒のビナフトール−チタン錯体(IV)は原料(II)
及び(III)に対し0.02〜1モル倍、特に0.05〜0.1モル
倍使用するのが、高い光学収率の生成物を得る上で好ま
しい。また、反応温度は−50℃〜0℃、特に−30℃〜−
10℃が好ましく、反応時間は3〜20時間が好ましい。
反応後、反応混合物に炭酸水素ナトリウム水溶液等の
アルカリ剤を加え、ジエチルエーテル、酢酸エチル等の
溶媒で抽出し、乾燥後溶媒を留去し、残留物をシリカゲ
ルカラム等のカラムクロマトグラフィーで精製すれば、
目的とする光学活性ジヒドロピラン誘導体を高収率で得
ることができる。
〔実施例〕
次に実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本
発明は以下の実施例に限定されるものではない。
尚、実施例中の分析は次の分析機器を用いて行った。1 H核磁気共鳴スペクトル(以下1H−NMRと略す): GEMINI 200型(200MHz)(バイアン社製) 旋光度計:DIP−370型(日本電子株式会社製) 実施例1 予め、アルゴン置換を行った50mlのシュレンク管に、
テトライソプロポキシチタン2.98ml(10ミリモル)とヘ
キサン5mlを加え、これに四塩化チタン1.10ml(10ミリ
モル)を加え、室温で10分間撹拌した。その後、室温で
3時間放置し白色の結晶を沈殿させた。溶媒をシリンジ
で抜取り、ヘキサン5mlを加え再結晶を行った。この操
作を2回繰り返し、減圧下で乾燥すると白色のジイソプ
ロポキシジクロロチタンが3.09g得られた。これに、ト
ルエン43mlを加えて、0.3Nの溶液を調製した。
一方、25mlのフラスコにモレキュラーシーブ4A(アル
ドリッチ社製)の粉末を0.5g入れ、アルゴン置換を充分
行った後、塩化メチレン5mlを加え、更に上記で調製し
たジイソプロポキシジクロロチタンのトルエン溶液を0.
33ml(0.1ミリモル)、(R)−ビナフトール28.6mg
(0.1ミリモル)を加え、室温で1時間撹拌し、(R)
−ビナフトール−ジクロロチタン錯体を調製した。
この溶液をドライアイス−アセトン浴で−70℃に冷却
した後、グリオキシル酸メチル88mg(1ミリモル)を加
え、更に、1−メトキシ−1,3−ブタジエンを0.168g
(2ミリモル)加えた。−30℃で3時間反応した後、炭
酸水素ナトリウム水溶液10mlを加え反応を停止し、セラ
イトで濾過し、ジエチルエーテル20mlで1回、酢酸エチ
ルで2回抽出を行い無水硫酸マグネシウムで乾燥した。
溶媒を留去し、シリカゲルカラムクロマトグラフィー
(200メッシュ、展開溶媒はヘキサン:酢酸エチル=10:
1)で精製し、目的とする光学活性な2−メトキシ−6
−メトキシカルボニル−5,6−ジヒドロピランを0.12g
(収率79%)得た。
1H−NMRの結果より、シス体:トランス体の生成比
は、78:22であった。1 H−NMR(CDCl3)δppm; シス体:2.3−2.6(m,1H),3.49(s,3H),3.77(s,3
H),4.41(t,J=6.0Hz,1H),5.03(m,1H),5.69(m,1
H),6.04(m,1H) トランス体:2.3−2.4(m,1H),3.46(s,3H),3.81
(s,3H),4.52(dd,J=7.4Hz,J=8.4Hz,1H),4.99(m,1
H),5.77(m,1H),6.04(m,1H) 生成物の光学純度は、光学活性なシフト試薬(+)−
Eu(DPPM)〔(+)−トリス〔ジ(ペルフルオロ−2
−プロポキシプロピオニル)メタナート〕ユウロピウム
(III)、第一化学薬品株式会社製)〕を用いて、1H+N
MR分析により測定したところ、シス体94%ee、トランス
体90%eeであった。
絶対配置は、まず、生成物のジヒドロピラン誘導体を
メタノール中で塩酸を触媒として95%トランス体に異性
化した後、ジエチルエーテル中で水素化アルミニウムリ
チウムを用いてエステルをアルコールとし、次いで、メ
タノール中で二酸化白金を用いて二重結合を水素化して
トランス−6−ヒドロキシメチル−2−メトキシ−3,4,
5,6−テトラヒドロピランに導いて旋光度を測定するこ
とにより決定した。すなわち、J.Jurczakら:J.Chem.So
c.,Chem.Commun.,540−542頁(1983)記載の(2S,6S)
−6−ヒドロキシメチル−2−メトキシテトラヒドロピ
ランの旋光度は▲〔α〕20 D▼=+129.7゜(c=4.3,ベ
ンゼン)であり、本実施例の実測値は▲〔α〕20 D▼=
−119.9゜(c=1.07,ベンゼン)であったことより、ト
ランス体は(2R,6R)体、一方のシス体は(2S,6R)体と
決定した。
実施例2 実施例1と同様の試薬量及び操作により(R)−ビナ
フトール−ジクロロチタン錯体の溶液を得、このものを
ドライアイス−アセトン浴で−70℃に冷却した後、グリ
オキシル酸メチル88mg(1ミリモル)を加え、更に、2
−メチル−1,3−ブタジエン136mg(2ミリモル)を加え
た。−30℃で3時間反応した後、炭酸水素ナトリウム水
溶液10mlを加え反応を停止し、セライト上で濾過し、ジ
エチルエーテル20mlで1回、酢酸エチル20mlで2回抽出
を行い無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を留去
し、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(200メッシ
ュ、展開溶媒はヘキサン:酢酸エチル=10:1)で精製
し、目的とする光学活性な(6R)−6−メトキシカルボ
ニル−4−メチル−5,6−ジヒドロピランを34mg(収率2
2%)得た。1 H−NMR(CDCl3)δppm; 1.71(s,3H),2.19(dd,J=16.5Hz,J=4.1Hz,1H),2.
28(dd,J=16.5Hz,J=9.6Hz,1H),3.77(s,3H),4.18
(d,J=16.0Hz,1H),4.20(dd,J=4.1Hz,J=9.6Hz,1
H),4.31(d,J=16.0Hz,1H),5.41(m,1H) 光学純度;96%ee 実施例3 実施例1と同様の試薬量及び操作により(R)−ビナ
フトール−ジクロロチタン錯体の溶液を得、このものを
ドライアイス−アセトン浴で−70℃に冷却した後、グリ
オキシル酸メチル88mg(1ミリモル)を加え、更に、1
−ジメチルアミノカルボニルオキシ−1,3−ブタジエン2
82mg(2ミリモル)を加えた。−30℃で10時間反応した
後、炭酸水素ナトリウム水溶液10mlを加え反応を停止
し、セライト上で濾過し、ジエチルエーテル20mlで1
回、酢酸エチル20mlで2回抽出を行い無水硫酸マグネシ
ウムで乾燥した。溶媒を留去し、シリカゲルカラムクロ
マトグラフィー(200メッシュ、展開溶媒はヘキサン:
酢酸エチル=10:1)で精製し、目的とする光学活性な6
−メトキシカルボニル−2−ジメチルアミノカルボニル
オキシ−5,6−ジヒドロピラン82mg(収率36%)得た。
1H−NMRの結果より、シス体:トランス体の生成比
は、97:3であった。1 H−NMR(CDCl3)δppm; シス体:2.91(s,3H),2.93(s,3H),2.97(m,2H),3.
79(s,3H),4.51(dd,J=5.0Hz,J=10.1Hz,1H),5.80
(m,1H),6.11(m,1H),6.36(m,1H) トランス体:2.91(s,3H),2.93(s,3H),2.97(m,2
H),3.79(s,3H),4.65(m,1H),5.80(m,1H),6.11
(m,1H),6.36(m,1H) 光学純度; シス体(2S,6R)体:88%ee トランス体は収量がごくわずかであるため測定不能。
〔発明の効果〕
本発明は、触媒として光学活性なビナフトール−チタ
ン錯体を使用することにより、ジエン化合物とグリオキ
シル酸エステルとから高い光学純度で光学活性ジヒドロ
ピラン誘導体を製造することができる工業的に優れた方
法である。

Claims (1)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】一般式(II) (式中、R1及びR2はそれぞれ水素原子、低級アルキル基
    又はOR3基(但し、R3は低級アルキル基又はジ低級アル
    キルカルバモイル基)を示す。但し、R1及びR2が共に水
    素原子となることはない) で表わされるジエン化合物と、一般式(III)、 (式中、R4は低級アルキル基を示す) で表わされるグリオキシル酸エステルとを、式(IV)、 (式中、Xは塩素原子又は臭素原子を示す) で表わされるビナフトール−チタン錯体の存在下に反応
    せしめることを特徴とする一般紙(I) (式中、R1、R2及びR4は前記と同じ意味を有する) で表わされる光学活性ジヒドロピラン誘導体の製造法。
JP2235102A 1990-09-05 1990-09-05 光学活性ジヒドロピラン誘導体の製造法 Expired - Fee Related JP2711754B2 (ja)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2235102A JP2711754B2 (ja) 1990-09-05 1990-09-05 光学活性ジヒドロピラン誘導体の製造法
US07/668,656 US5155240A (en) 1990-09-05 1991-03-13 Process for producing optically active dihydropyran derivative
CA002038243A CA2038243A1 (en) 1990-09-05 1991-03-14 Process for producing optically active dihydropyran derivative

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2235102A JP2711754B2 (ja) 1990-09-05 1990-09-05 光学活性ジヒドロピラン誘導体の製造法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH04117375A JPH04117375A (ja) 1992-04-17
JP2711754B2 true JP2711754B2 (ja) 1998-02-10

Family

ID=16981089

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2235102A Expired - Fee Related JP2711754B2 (ja) 1990-09-05 1990-09-05 光学活性ジヒドロピラン誘導体の製造法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2711754B2 (ja)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5276339B2 (ja) * 2008-03-11 2013-08-28 東ソー・ファインケム株式会社 ジヒドロピラン化合物の製造方法

Also Published As

Publication number Publication date
JPH04117375A (ja) 1992-04-17

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2711754B2 (ja) 光学活性ジヒドロピラン誘導体の製造法
JP2704794B2 (ja) 光学活性ジヒドロピラン誘導体の製法
JP2917552B2 (ja) α−メチレンシクロペンタノン誘導体の製造法
JPH08311025A (ja) 4−ヒドロキシ−2−ピロリドンの製法
US5155240A (en) Process for producing optically active dihydropyran derivative
JPH0714898B2 (ja) 光学活性α−ヒドロキシカルボン酸エステルの製造法
JP2867847B2 (ja) 5−メチレン−1,3−ジオキソラン−4−オン類の製造方法
JPH0940684A (ja) 新規ホスフィン−ホスフィナイト化合物およびそれを用いた4−[(r)−1’−ホルミルエチル]アゼチジン−2−オン誘導体の製造方法
JP3873118B2 (ja) アリールスルホンの製造方法
JPH05140157A (ja) フエノチアジン誘導体
WO1996026891A1 (fr) Derives de cyclopentene substitues et leur procede de preparation
JPH04244076A (ja) ビタミンa酸エステル化合物
JP3468211B2 (ja) (+)−エストロン誘導体
Atkinson et al. Carbon–hydrogen bond insertion reactions of 3-acetoxy-aminoquinazolin-4 (3H)-ones with cyclic dienes: stereochemistry and mechanism
JP3917674B2 (ja) ブレフェルジン類化合物の合成方法
JP2509078B2 (ja) ビシクロ[3.3.0]オクタン類の製法
JP2600107B2 (ja) 含フッ素化合物の製造方法
JPH04270241A (ja) β−ケトエステルの製造方法
JP2000026407A (ja) (3s,4r)−4−〔(r)−1’−ホルミルエチル〕アゼチジン−2−オン誘導体の製造方法
JPH0637431B2 (ja) ビシクロ(3.3.0)オクタン類の製法
WO1995033707A1 (en) Process for producing 4-oxo-2-alkenoic ester
JPS631930B2 (ja)
JPS5910577A (ja) 7−ヒドロキシプロスタサイクリン誘導体の製造法
JPH083115A (ja) イソカルバサイクリン誘導体及びその製造方法
JPH029856A (ja) 新規なヒドロキシスルホンおよびその製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
LAPS Cancellation because of no payment of annual fees