JP2002194203A - 導電性ゴム材料及び電子写真用導電性部材の製造方法 - Google Patents
導電性ゴム材料及び電子写真用導電性部材の製造方法Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 良好な電気特性を維持したまま、加工性に優
れ、表面欠陥を防止できる導電性ゴム材料及びそれを用
いた電子写真用導電性部材の製造方法を提供する。 【解決手段】 エピクロルヒドリンと、エチレンオキサ
イド及び／又はアリルグリシジルエーテルとを共重合し
てなる導電性ゴム１００重量部、並びに、炭酸カルシウ
ム３０〜１５０重量部からなる導電性ゴム材料であっ
て、前記炭酸カルシウムは、前記導電性ゴム中に、最大
粒径が３０μｍ以下であり、平均粒径が１〜８μｍであ
り、かつ、粒径１５μｍ以上の分散粒子の割合が１０％
以下である状態で分散している導電性ゴム材料。
れ、表面欠陥を防止できる導電性ゴム材料及びそれを用
いた電子写真用導電性部材の製造方法を提供する。 【解決手段】 エピクロルヒドリンと、エチレンオキサ
イド及び／又はアリルグリシジルエーテルとを共重合し
てなる導電性ゴム１００重量部、並びに、炭酸カルシウ
ム３０〜１５０重量部からなる導電性ゴム材料であっ
て、前記炭酸カルシウムは、前記導電性ゴム中に、最大
粒径が３０μｍ以下であり、平均粒径が１〜８μｍであ
り、かつ、粒径１５μｍ以上の分散粒子の割合が１０％
以下である状態で分散している導電性ゴム材料。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、ＯＡ機器等に用い
られ、特に、帯電、転写、現像等の目的のために用いら
れる導電性ゴム材料及びそれを用いた電子写真用導電性
部材の製造方法に関する。
られ、特に、帯電、転写、現像等の目的のために用いら
れる導電性ゴム材料及びそれを用いた電子写真用導電性
部材の製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】ＯＡ機器等の各部材には、必要に応じ
て、電気抵抗性、バラツキ安定性、環境安定性等を伴う
導電性能、非汚染性、低硬度、低摩擦係数、耐摩耗性、
寸法安定性等が求められる。しかしながら、特に体積固
有抵抗値が１０6 〜１０10Ω・ｃｍである中抵抗領域に
おける電気抵抗のバラツキを抑えることは、カーボン導
電機構を用いたゴム配合設計では、混練状態の違いや加
硫時のゴム流動等の加工条件によって電気抵抗が大きく
変動するので困難であった。
て、電気抵抗性、バラツキ安定性、環境安定性等を伴う
導電性能、非汚染性、低硬度、低摩擦係数、耐摩耗性、
寸法安定性等が求められる。しかしながら、特に体積固
有抵抗値が１０6 〜１０10Ω・ｃｍである中抵抗領域に
おける電気抵抗のバラツキを抑えることは、カーボン導
電機構を用いたゴム配合設計では、混練状態の違いや加
硫時のゴム流動等の加工条件によって電気抵抗が大きく
変動するので困難であった。
【０００３】この問題点を解決するために、イオン導電
機構を有するポリマーとして、エピクロルヒドリンの単
独重合体、又は、エピクロルヒドリンとエチレンオキサ
イド、更に、架橋成分としてのアリルグルシジルエーテ
ル等を用いた２元又は３元共重合体を使用して電子写真
用導電部材とする方法が特開昭５８−８７５７２号公
報、特開昭６０−１５００７１号公報、特開平８−２９
２６４０号公報等において多数提案されている。
機構を有するポリマーとして、エピクロルヒドリンの単
独重合体、又は、エピクロルヒドリンとエチレンオキサ
イド、更に、架橋成分としてのアリルグルシジルエーテ
ル等を用いた２元又は３元共重合体を使用して電子写真
用導電部材とする方法が特開昭５８−８７５７２号公
報、特開昭６０−１５００７１号公報、特開平８−２９
２６４０号公報等において多数提案されている。
【０００４】一方、エピクロルヒドリン系重合体に対し
て、ゴム混練加工時のロール作業及び押出成形加工作業
を行うことは困難である。一般にこの問題は、ゴム配合
中に充填材を加えることにより解決可能であることが知
られている。エピクロルヒドリン系重合体が本来持つ良
好な電気特性を維持したまま加工性を向上させるには、
補強性、電気伝導性が低く、かつ、充填量を多くできる
炭酸カルシウム系の充填材が好適である。しかしなが
ら、通常の炭酸カルシウムを配合混練するだけでは、ロ
ール加工性が改良されたとしても押出時の表面肌や研削
加工を施したときの表面粗度は満足の得られる水準には
達しない。
て、ゴム混練加工時のロール作業及び押出成形加工作業
を行うことは困難である。一般にこの問題は、ゴム配合
中に充填材を加えることにより解決可能であることが知
られている。エピクロルヒドリン系重合体が本来持つ良
好な電気特性を維持したまま加工性を向上させるには、
補強性、電気伝導性が低く、かつ、充填量を多くできる
炭酸カルシウム系の充填材が好適である。しかしなが
ら、通常の炭酸カルシウムを配合混練するだけでは、ロ
ール加工性が改良されたとしても押出時の表面肌や研削
加工を施したときの表面粗度は満足の得られる水準には
達しない。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記現状に
鑑み、良好な電気特性を維持したまま、加工性に優れ、
表面欠陥を防止できる導電性ゴム材料及びそれを用いた
電子写真用導電性部材の製造方法を提供することを目的
とするものである。
鑑み、良好な電気特性を維持したまま、加工性に優れ、
表面欠陥を防止できる導電性ゴム材料及びそれを用いた
電子写真用導電性部材の製造方法を提供することを目的
とするものである。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明は、エピクロルヒ
ドリンと、エチレンオキサイド及び／又はアリルグリシ
ジルエーテルとを共重合してなる導電性ゴム１００重量
部、並びに、炭酸カルシウム３０〜１５０重量部からな
る導電性ゴム材料であって、前記炭酸カルシウムは、前
記導電性ゴム中に、最大粒径が３０μｍ以下であり、平
均粒径が１〜８μｍであり、かつ、１５μｍ以上の分散
粒子の割合が１０％以下である状態で分散している導電
性ゴム材料である。以下に本発明を詳述する。
ドリンと、エチレンオキサイド及び／又はアリルグリシ
ジルエーテルとを共重合してなる導電性ゴム１００重量
部、並びに、炭酸カルシウム３０〜１５０重量部からな
る導電性ゴム材料であって、前記炭酸カルシウムは、前
記導電性ゴム中に、最大粒径が３０μｍ以下であり、平
均粒径が１〜８μｍであり、かつ、１５μｍ以上の分散
粒子の割合が１０％以下である状態で分散している導電
性ゴム材料である。以下に本発明を詳述する。
【０００７】本発明の導電性ゴム材料は、エピクロルヒ
ドリンと、エチレンオキサイド及び／又はアリルグリシ
ジルエーテルとを共重合してなる導電性ゴム及び、並び
に、炭酸カルシウムからなるものである。
ドリンと、エチレンオキサイド及び／又はアリルグリシ
ジルエーテルとを共重合してなる導電性ゴム及び、並び
に、炭酸カルシウムからなるものである。
【０００８】上記導電性ゴムとしては、エピクロルヒド
リン及びエチレンオキサイドからなる２元共重合体、エ
ピクロルヒドリン及びアリルグリシジルエーテルからな
る２元共重合体、エピクロルヒドリン、エチレンオキサ
イド及びアリルグリシジルエーテルからなる３元共重合
体を挙げることができる。なかでも、エピクロルヒドリ
ン、エチレンオキサイド及びアリルグリシジルエーテル
からなる３元共重合体が好ましい。
リン及びエチレンオキサイドからなる２元共重合体、エ
ピクロルヒドリン及びアリルグリシジルエーテルからな
る２元共重合体、エピクロルヒドリン、エチレンオキサ
イド及びアリルグリシジルエーテルからなる３元共重合
体を挙げることができる。なかでも、エピクロルヒドリ
ン、エチレンオキサイド及びアリルグリシジルエーテル
からなる３元共重合体が好ましい。
【０００９】本発明で用いられる炭酸カルシウムとして
は、軽質炭酸カルシウムであるのが好ましい。重質炭酸
カルシウムは粒径が大きく、また微粉砕品であっても粒
径分布が広いので、混練後所定の分散状態を得にくい。
は、軽質炭酸カルシウムであるのが好ましい。重質炭酸
カルシウムは粒径が大きく、また微粉砕品であっても粒
径分布が広いので、混練後所定の分散状態を得にくい。
【００１０】上記軽質炭酸カルシウムとしては、更に、
２次粒径が５μｍ以下であり、かつ、１次粒径の平均値
が０．０３〜１．５μｍであるものが好ましい。ここ
で、１次粒径とは炭酸カルシウム粒子を電子顕微鏡で撮
影したときの１粒子の大きさを意味し、２次粒径とは炭
酸カルシウムの水中分散液を遠心沈降法にて測定したと
きに得られる平均粒径を意味する。
２次粒径が５μｍ以下であり、かつ、１次粒径の平均値
が０．０３〜１．５μｍであるものが好ましい。ここ
で、１次粒径とは炭酸カルシウム粒子を電子顕微鏡で撮
影したときの１粒子の大きさを意味し、２次粒径とは炭
酸カルシウムの水中分散液を遠心沈降法にて測定したと
きに得られる平均粒径を意味する。
【００１１】２次粒径が５μｍを超えると、混練操作に
よる炭酸カルシウムの粉砕・分散が困難となり、所望の
分散状態が得られなくなる。より好ましくは、３．５μ
ｍ以下である。１次粒径の平均値が０．０３μｍ未満で
あると、成形表面の見かけのゴム分率が大きくなるため
加工装置の金属表面への粘着挙動が現れる一方、表面状
態改良効果は小さくなることがあり、１．５μｍを超え
ると、押出成形時に異物による表面欠陥及び研削時の炭
酸カルシウム脱落による表面欠陥が顕著に表れることが
ある。
よる炭酸カルシウムの粉砕・分散が困難となり、所望の
分散状態が得られなくなる。より好ましくは、３．５μ
ｍ以下である。１次粒径の平均値が０．０３μｍ未満で
あると、成形表面の見かけのゴム分率が大きくなるため
加工装置の金属表面への粘着挙動が現れる一方、表面状
態改良効果は小さくなることがあり、１．５μｍを超え
ると、押出成形時に異物による表面欠陥及び研削時の炭
酸カルシウム脱落による表面欠陥が顕著に表れることが
ある。
【００１２】本発明における上記炭酸カルシウムの含有
量は、上記導電性ゴム１００重量部に対して３０〜１５
０重量部である。３０重量部未満であると、所望の加工
性改良効果が得られず、１５０重量部を超えると、充填
材が多すぎ、混練時の分散不良、炭酸カルシウム粉残留
による不良、硬度の必要以上の増大等の不具合を生じ
る。好ましくは、５０〜１２０重量部であり、より好ま
しくは、９０〜１１０重量部である。
量は、上記導電性ゴム１００重量部に対して３０〜１５
０重量部である。３０重量部未満であると、所望の加工
性改良効果が得られず、１５０重量部を超えると、充填
材が多すぎ、混練時の分散不良、炭酸カルシウム粉残留
による不良、硬度の必要以上の増大等の不具合を生じ
る。好ましくは、５０〜１２０重量部であり、より好ま
しくは、９０〜１１０重量部である。
【００１３】上記炭酸カルシウムは、上記導電性ゴム中
に、最大粒径が３０μｍ以下であり、平均粒径が１〜８
μｍであり、かつ、粒径１５μｍ以上の分散粒子の割合
が１０％以下である状態で分散している。
に、最大粒径が３０μｍ以下であり、平均粒径が１〜８
μｍであり、かつ、粒径１５μｍ以上の分散粒子の割合
が１０％以下である状態で分散している。
【００１４】最大粒径が３０μｍを超えると、押出成形
時に異物による表面欠陥及び研削時の炭酸カルシウム脱
落による表面欠陥が顕著に表れる。好ましくは、２５μ
ｍ以下である。
時に異物による表面欠陥及び研削時の炭酸カルシウム脱
落による表面欠陥が顕著に表れる。好ましくは、２５μ
ｍ以下である。
【００１５】平均粒径が１μｍ未満であると、成形表面
の見かけのゴム分率が大きくなるため加工装置の金属表
面への粘着挙動が現れる一方、表面状態改良効果は小さ
くなる。更に、このような分散状態を得るには必要以上
の混練分散操作が必要であり、生産コストに問題を生じ
る。一方、８μｍを超えると、所望の加工性改良効果が
得られず、押出成形時の表面肌が悪くなり、研削加工時
の表面粗度も大きくなる。好ましくは、１〜４μｍであ
る。
の見かけのゴム分率が大きくなるため加工装置の金属表
面への粘着挙動が現れる一方、表面状態改良効果は小さ
くなる。更に、このような分散状態を得るには必要以上
の混練分散操作が必要であり、生産コストに問題を生じ
る。一方、８μｍを超えると、所望の加工性改良効果が
得られず、押出成形時の表面肌が悪くなり、研削加工時
の表面粗度も大きくなる。好ましくは、１〜４μｍであ
る。
【００１６】上記導電性ゴム中に分散している炭酸カル
シウムのうち粒径が１５μｍ以上であるものは、相手材
との接触を不均一にし、画像欠陥の原因になり、また、
最外層をコーティングにより形成する場合も、凹凸を減
少させる効果をカバーしきれない。１５μｍ以上の分散
粒子の割合が１０％を超えると、押出成形時に異物によ
る表面欠陥及び研削時の炭酸カルシウム脱落による表面
欠陥が発生する。好ましくは、５％以下である。
シウムのうち粒径が１５μｍ以上であるものは、相手材
との接触を不均一にし、画像欠陥の原因になり、また、
最外層をコーティングにより形成する場合も、凹凸を減
少させる効果をカバーしきれない。１５μｍ以上の分散
粒子の割合が１０％を超えると、押出成形時に異物によ
る表面欠陥及び研削時の炭酸カルシウム脱落による表面
欠陥が発生する。好ましくは、５％以下である。
【００１７】本発明の導電性ゴム材料で用いられる加硫
剤としては特に限定されず、例えば、オイルサルファ
ー、６−メチルキノキサリン−２，３−ジチオカルバメ
ート等を挙げることができる。
剤としては特に限定されず、例えば、オイルサルファ
ー、６−メチルキノキサリン−２，３−ジチオカルバメ
ート等を挙げることができる。
【００１８】本発明の導電性ゴム材料で用いられる加硫
促進剤としては特に限定されず、例えば、ジエチルジチ
オカルバミン酸テルル、Ｎ−シクロヘキシル−２−ベン
ゾチアゾル−スルフェンアミド、ジフェニルグアニジ
ン、テトラメチルチウラムジスルフィド、メルカプトベ
ンゾチアゾール等を挙げることができる。これらは、単
独で用いられてもよく、２種以上が併用されてもよい。
本発明の導電性ゴム材料は、更に、公知のゴム添加剤が
添加されてもよい。
促進剤としては特に限定されず、例えば、ジエチルジチ
オカルバミン酸テルル、Ｎ−シクロヘキシル−２−ベン
ゾチアゾル−スルフェンアミド、ジフェニルグアニジ
ン、テトラメチルチウラムジスルフィド、メルカプトベ
ンゾチアゾール等を挙げることができる。これらは、単
独で用いられてもよく、２種以上が併用されてもよい。
本発明の導電性ゴム材料は、更に、公知のゴム添加剤が
添加されてもよい。
【００１９】上記導電性ゴム、炭酸カルシウム、及び、
適宜選択されたゴム添加剤は、所定の混練操作により炭
酸カルシウムが上記の分散状態を得られるように混練さ
れる。混練条件の設定が適切でないと炭酸カルシウムの
分散状態が悪くなり、充分な加工性改良効果が得られな
い。例えば、混練装置としてニーダーを用い、途中に天
地返し操作を加える等の常法を用いて残留粉体のない均
一な混練物を得ることが好ましい。
適宜選択されたゴム添加剤は、所定の混練操作により炭
酸カルシウムが上記の分散状態を得られるように混練さ
れる。混練条件の設定が適切でないと炭酸カルシウムの
分散状態が悪くなり、充分な加工性改良効果が得られな
い。例えば、混練装置としてニーダーを用い、途中に天
地返し操作を加える等の常法を用いて残留粉体のない均
一な混練物を得ることが好ましい。
【００２０】本発明の導電性ゴム材料は、エピクロルヒ
ドリン系共重合体に混練分散せしめた炭酸カルシウムの
分散状態を規定することによって、エピクロルヒドリン
系共重合体が持つ良好な電気特性を維持したまま混練加
工時のシート肌の悪化や、加工性の低下を招くことな
く、押出時の表面肌を改良し、研削加工を施したときの
表面粗度を小さくして表面欠陥を防止できる。
ドリン系共重合体に混練分散せしめた炭酸カルシウムの
分散状態を規定することによって、エピクロルヒドリン
系共重合体が持つ良好な電気特性を維持したまま混練加
工時のシート肌の悪化や、加工性の低下を招くことな
く、押出時の表面肌を改良し、研削加工を施したときの
表面粗度を小さくして表面欠陥を防止できる。
【００２１】本発明の導電性ゴム材料を導電性軸芯上又
は導電性円筒支持体上に同心円状に成形し、加硫した後
に円筒研削盤等を用いて表面を研削することにより電子
写真用導電性部材を製造することができる。本発明の導
電性ゴム材料を導電性軸芯上に成形した場合は、図１に
示すような帯電ローラ、現像ローラ、転写ローラ等の導
電性ローラが得られ、また、本発明の導電性ゴム材料を
導電性円筒支持体上に成形した場合は、図２に示すよう
な導電性ベルトを得ることができる。
は導電性円筒支持体上に同心円状に成形し、加硫した後
に円筒研削盤等を用いて表面を研削することにより電子
写真用導電性部材を製造することができる。本発明の導
電性ゴム材料を導電性軸芯上に成形した場合は、図１に
示すような帯電ローラ、現像ローラ、転写ローラ等の導
電性ローラが得られ、また、本発明の導電性ゴム材料を
導電性円筒支持体上に成形した場合は、図２に示すよう
な導電性ベルトを得ることができる。
【００２２】上記電子写真用導電性部材を製造する方法
もまた、本発明の１つである。上記の電子写真用導電性
部材の製造方法においては、研削後の表面粗度Ｒｚが１
５μｍ以下であることが好ましい。表面粗度Ｒｚが１５
μｍ以下であれば、研削時に炭酸カルシウムの脱落によ
って発生する穴状の表面欠陥が発生しない。従って、電
子写真用導電性部材として使用したときに、相手材との
均一な接触性が得られ、所望の機能を充分に発揮するこ
とができる。より好ましくは、１３μｍ以下である。本
発明の導電性ゴム材料は、更に、帯電ブレード、クリー
ニングブレード、トナー規制ブレード等の電子写真用部
材に用いてもよい。
もまた、本発明の１つである。上記の電子写真用導電性
部材の製造方法においては、研削後の表面粗度Ｒｚが１
５μｍ以下であることが好ましい。表面粗度Ｒｚが１５
μｍ以下であれば、研削時に炭酸カルシウムの脱落によ
って発生する穴状の表面欠陥が発生しない。従って、電
子写真用導電性部材として使用したときに、相手材との
均一な接触性が得られ、所望の機能を充分に発揮するこ
とができる。より好ましくは、１３μｍ以下である。本
発明の導電性ゴム材料は、更に、帯電ブレード、クリー
ニングブレード、トナー規制ブレード等の電子写真用部
材に用いてもよい。
【００２３】
【実施例】以下に実施例を掲げて本発明を更に詳しく説
明するが、本発明はこれら実施例のみに限定されるもの
ではない。
明するが、本発明はこれら実施例のみに限定されるもの
ではない。
【００２４】〈実施例１〉表１に示した配合１からなる
ゴム配合物に対して、接線式ニーダー（モリヤマ社製、
実容量７５Ｌ）を用い、混練操作を行い、ゴム混練物を
得た。得られたゴム混練物からランダムに１０ヵ所サン
プリングを行い、各サンプル毎に厚さ２ｍｍのゴムシー
トを１６０℃で３０分加硫して作製した。なお、各配合
で用いられた炭酸カルシウムは表２に示した。
ゴム配合物に対して、接線式ニーダー（モリヤマ社製、
実容量７５Ｌ）を用い、混練操作を行い、ゴム混練物を
得た。得られたゴム混練物からランダムに１０ヵ所サン
プリングを行い、各サンプル毎に厚さ２ｍｍのゴムシー
トを１６０℃で３０分加硫して作製した。なお、各配合
で用いられた炭酸カルシウムは表２に示した。
【００２５】得られた各ゴムシートの任意の４ヵ所か
ら、２０ｍｍ×２０ｍｍのゴム試験片を打ち抜き、その
断面を走査型電子顕微鏡にて倍率２００倍で観察した。
図３に画像の一例を示した。得られた画像の炭酸カルシ
ウム分散状態を画像解析装置を用いて解析した。その結
果、分散している炭酸カルシウムの平均粒径は２．７８
μｍであり、最大粒径は２４．１５μｍであり、計測粒
子全数に対する粒径１５μｍ以上の粒子の占める割合は
０．２％であった。
ら、２０ｍｍ×２０ｍｍのゴム試験片を打ち抜き、その
断面を走査型電子顕微鏡にて倍率２００倍で観察した。
図３に画像の一例を示した。得られた画像の炭酸カルシ
ウム分散状態を画像解析装置を用いて解析した。その結
果、分散している炭酸カルシウムの平均粒径は２．７８
μｍであり、最大粒径は２４．１５μｍであり、計測粒
子全数に対する粒径１５μｍ以上の粒子の占める割合は
０．２％であった。
【００２６】また、得られたゴム混練物をクロスヘッド
押出機にて押出成形し、押出成形物の表面状態（押出成
形肌）を目視で確認した。その結果、表面肌が良好であ
ることを確認した。更に、本押出成形物を金型内で１６
０℃で３０分加硫し、冷却後円筒研削盤（砥石：ＧＣ８
０）で研削した。研削表面を表面粗度測定装置（東京精
機製作所社製、サーフテスタ）で測定した結果、表面粗
度Ｒｚは１１．５μｍであった。表面状態を走査型電子
顕微鏡にて倍率２００倍で観察した結果、良好な研削表
面が得られていることが確認された。
押出機にて押出成形し、押出成形物の表面状態（押出成
形肌）を目視で確認した。その結果、表面肌が良好であ
ることを確認した。更に、本押出成形物を金型内で１６
０℃で３０分加硫し、冷却後円筒研削盤（砥石：ＧＣ８
０）で研削した。研削表面を表面粗度測定装置（東京精
機製作所社製、サーフテスタ）で測定した結果、表面粗
度Ｒｚは１１．５μｍであった。表面状態を走査型電子
顕微鏡にて倍率２００倍で観察した結果、良好な研削表
面が得られていることが確認された。
【００２７】〈実施例２〉表１に示した配合２からなる
ゴム配合物を用い、実施例１と同様の方法で混練物の作
製及び評価を行った。その結果、分散している炭酸カル
シウムの平均粒径は２．４７μｍであり、最大粒径は１
５．３５μｍであり、計測粒子全数に対する粒径１５μ
ｍ以上の粒子の占める割合は０．０５％であった。押出
成形後の表面肌も良好で、研削表面の表面粗度Ｒｚは１
０．８μｍであった。表面状態を走査型電子顕微鏡にて
倍率２００倍で観察した結果、良好な研削表面が得られ
ていることが確認された。
ゴム配合物を用い、実施例１と同様の方法で混練物の作
製及び評価を行った。その結果、分散している炭酸カル
シウムの平均粒径は２．４７μｍであり、最大粒径は１
５．３５μｍであり、計測粒子全数に対する粒径１５μ
ｍ以上の粒子の占める割合は０．０５％であった。押出
成形後の表面肌も良好で、研削表面の表面粗度Ｒｚは１
０．８μｍであった。表面状態を走査型電子顕微鏡にて
倍率２００倍で観察した結果、良好な研削表面が得られ
ていることが確認された。
【００２８】〈実施例３〉表１に示した配合２からなる
ゴム配合物を用い、混練機にバンバリーミキサー（神戸
製鋼所社製、３号バンバリーミキサー）を用いた以外は
実施例１と同様の方法で混練物の作製及び評価を行っ
た。各ゴムシートから打ち抜いたゴム試験片断面の走査
型電子顕微鏡の画像の一例は図４に示した。その結果、
分散している炭酸カルシウムの平均粒径は２．７１μｍ
であり、最大粒径は１８．６５μｍであり、計測粒子全
数に対する粒径１５μｍ以上の粒子の占める割合は０．
３４％であった。押出成形後の表面肌も良好で、研削表
面の表面粗度Ｒｚは１２．１μｍであった。表面状態を
走査型電子顕微鏡にて倍率２００倍で観察した結果、良
好な研削表面が得られていることが確認された。
ゴム配合物を用い、混練機にバンバリーミキサー（神戸
製鋼所社製、３号バンバリーミキサー）を用いた以外は
実施例１と同様の方法で混練物の作製及び評価を行っ
た。各ゴムシートから打ち抜いたゴム試験片断面の走査
型電子顕微鏡の画像の一例は図４に示した。その結果、
分散している炭酸カルシウムの平均粒径は２．７１μｍ
であり、最大粒径は１８．６５μｍであり、計測粒子全
数に対する粒径１５μｍ以上の粒子の占める割合は０．
３４％であった。押出成形後の表面肌も良好で、研削表
面の表面粗度Ｒｚは１２．１μｍであった。表面状態を
走査型電子顕微鏡にて倍率２００倍で観察した結果、良
好な研削表面が得られていることが確認された。
【００２９】〈比較例１〉表１に示した配合１からなる
ゴム配合物を用い、混練機にバンバリーミキサー（神戸
製鋼所社製、３号バンバリーミキサー）を用いた以外は
実施例１と同様の方法で混練物の作製及び評価を行っ
た。各ゴムシートから打ち抜いたゴム試験片断面の走査
型電子顕微鏡の画像の一例は図４に示した。その結果、
分散している炭酸カルシウムの平均粒径は６．０８μｍ
であり、最大粒径は３１．３μｍであり、計測粒子全数
に対する粒径１５μｍ以上の粒子の占める割合は１１．
０％であった。押出成形後の表面肌はやや悪く、研削表
面の表面粗度Ｒｚは１６．２μｍであった。表面状態を
走査型電子顕微鏡にて倍率２００倍で観察した結果、研
削表面に炭酸カルシウムの脱落跡と思われる凹部が多数
観察された。
ゴム配合物を用い、混練機にバンバリーミキサー（神戸
製鋼所社製、３号バンバリーミキサー）を用いた以外は
実施例１と同様の方法で混練物の作製及び評価を行っ
た。各ゴムシートから打ち抜いたゴム試験片断面の走査
型電子顕微鏡の画像の一例は図４に示した。その結果、
分散している炭酸カルシウムの平均粒径は６．０８μｍ
であり、最大粒径は３１．３μｍであり、計測粒子全数
に対する粒径１５μｍ以上の粒子の占める割合は１１．
０％であった。押出成形後の表面肌はやや悪く、研削表
面の表面粗度Ｒｚは１６．２μｍであった。表面状態を
走査型電子顕微鏡にて倍率２００倍で観察した結果、研
削表面に炭酸カルシウムの脱落跡と思われる凹部が多数
観察された。
【００３０】〈比較例２〉表１に示した配合３からなる
ゴム配合物を用いた以外は実施例１と同様の方法で混練
物の作製及び評価を行った。各ゴムシートから打ち抜い
たゴム試験片断面の走査型電子顕微鏡の画像の一例は図
５に示した。その結果、分散している炭酸カルシウムの
平均粒径は８．４６μｍであり、最大粒径は３６．８μ
ｍであり、計測粒子全数に対する粒径１５μｍ以上の粒
子の占める割合は１３．１％であった。押出成形後の表
面肌はやや悪く、研削表面の表面粗度Ｒｚは１８．５μ
ｍであった。表面状態を走査型電子顕微鏡にて倍率２０
０倍で観察した結果、研削表面に炭酸カルシウムの脱落
跡と思われる凹部が多数観察された。
ゴム配合物を用いた以外は実施例１と同様の方法で混練
物の作製及び評価を行った。各ゴムシートから打ち抜い
たゴム試験片断面の走査型電子顕微鏡の画像の一例は図
５に示した。その結果、分散している炭酸カルシウムの
平均粒径は８．４６μｍであり、最大粒径は３６．８μ
ｍであり、計測粒子全数に対する粒径１５μｍ以上の粒
子の占める割合は１３．１％であった。押出成形後の表
面肌はやや悪く、研削表面の表面粗度Ｒｚは１８．５μ
ｍであった。表面状態を走査型電子顕微鏡にて倍率２０
０倍で観察した結果、研削表面に炭酸カルシウムの脱落
跡と思われる凹部が多数観察された。
【００３１】
【表１】
【００３２】
【表２】
【００３３】なお、各実施例及び比較例における押出成
形肌の評価は以下のような基準にて行った。 ［押出成形肌］ ○：押出成形物の表面が滑らかである。 △：押出成形物の表面に僅かの凹凸が認められる。 ×：押出成形物の表面に多数の凹凸が認められる。
形肌の評価は以下のような基準にて行った。 ［押出成形肌］ ○：押出成形物の表面が滑らかである。 △：押出成形物の表面に僅かの凹凸が認められる。 ×：押出成形物の表面に多数の凹凸が認められる。
【００３４】更に、各実施例及び比較例において以下の
ような評価を行った。 ［混練物の状態］各実施例及び比較例で得られたゴム混
練物の状態の評価を以下の基準で目視にて行った。 ○：炭酸カルシウムの分散が良好である。 ×：炭酸カルシウムの分散が不良である。
ような評価を行った。 ［混練物の状態］各実施例及び比較例で得られたゴム混
練物の状態の評価を以下の基準で目視にて行った。 ○：炭酸カルシウムの分散が良好である。 ×：炭酸カルシウムの分散が不良である。
【００３５】［ロール加工性］各実施例及び比較例で得
られたゴム混練物を用いてゴムシートを作製する際のロ
ール加工性を以下の基準で評価した。 ○：ロールから取り出すことができる。 ×：ロールから取り出すことができない。
られたゴム混練物を用いてゴムシートを作製する際のロ
ール加工性を以下の基準で評価した。 ○：ロールから取り出すことができる。 ×：ロールから取り出すことができない。
【００３６】［ムーニー粘度］ＪＩＳ Ｋ ６３００に
準拠して測定した。 ［加硫速度］ＪＩＳ Ｋ ６３００のダイ加硫試験Ｂ法
（ねじり振動式円錐ダイ加硫試験機）に準拠して測定し
た。 ［破断強度］ＪＩＳ Ｋ ６２５１に準拠して測定し
た。 ［破断伸び］ＪＩＳ Ｋ ６２５１に準拠して測定し
た。 ［体積固有抵抗］印加電圧２５０Ｖにおける抵抗値を測
定した。
準拠して測定した。 ［加硫速度］ＪＩＳ Ｋ ６３００のダイ加硫試験Ｂ法
（ねじり振動式円錐ダイ加硫試験機）に準拠して測定し
た。 ［破断強度］ＪＩＳ Ｋ ６２５１に準拠して測定し
た。 ［破断伸び］ＪＩＳ Ｋ ６２５１に準拠して測定し
た。 ［体積固有抵抗］印加電圧２５０Ｖにおける抵抗値を測
定した。
【００３７】以上の結果を表３に示した。更に、各実施
例及び比較例における炭酸カルシウムの分散状態を表す
ヒストグラムを図６に示し、例として、実施例１及び比
較例１における研削表面の走査電子顕微鏡写真を図７に
示した。
例及び比較例における炭酸カルシウムの分散状態を表す
ヒストグラムを図６に示し、例として、実施例１及び比
較例１における研削表面の走査電子顕微鏡写真を図７に
示した。
【００３８】
【表３】
【００３９】
【発明の効果】本発明は、上述の構成よりなるので、良
好な電気特性を維持したまま混練加工時にシート肌が悪
くなることや加工性の低下を招くことなく、押出時の表
面肌を改良し、研削加工を施したときの表面粗度を小さ
くかつ表面欠陥を防止できる。
好な電気特性を維持したまま混練加工時にシート肌が悪
くなることや加工性の低下を招くことなく、押出時の表
面肌を改良し、研削加工を施したときの表面粗度を小さ
くかつ表面欠陥を防止できる。
【図１】導電性ローラの断面模式図である。
【図２】導電性ベルトの模式図である。
【図３】実施例１、２における走査電子顕微鏡写真での
炭酸カルシウム分散状態観察の一例を示す図である。
炭酸カルシウム分散状態観察の一例を示す図である。
【図４】実施例３、比較例１における走査電子顕微鏡写
真での炭酸カルシウム分散状態観察の一例を示す図であ
る。
真での炭酸カルシウム分散状態観察の一例を示す図であ
る。
【図５】比較例２における走査電子顕微鏡写真での炭酸
カルシウム分散状態観察の一例を示す図である。
カルシウム分散状態観察の一例を示す図である。
【図６】各実施例及び比較例における炭酸カルシウムの
分散状態を示すヒストグラムである。
分散状態を示すヒストグラムである。
【図７】実施例１及び比較例１における研削表面の走査
電子顕微鏡写真である。
電子顕微鏡写真である。
１ 芯金 ２ 導電性ゴム材料層
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｇ０３Ｇ 15/08 ５０１ Ｇ０３Ｇ 15/08 ５０１Ｄ ４Ｊ００２ 15/16 １０３ 15/16 １０３ // Ｂ２９Ｋ 21:00 Ｂ２９Ｋ 21:00 Ｂ２９Ｌ 31:32 Ｂ２９Ｌ 31:32 Ｆターム(参考） 2H003 BB11 CC05 2H032 AA05 BA08 BA19 2H077 AC04 AD06 AD14 FA01 FA22 FA25 3J103 AA02 AA12 AA85 BA41 EA03 EA20 FA15 FA18 GA02 GA57 GA58 GA60 HA03 HA12 HA20 HA53 4F207 AD03 AD18 AE03 AH04 AH33 AH53 KA01 KB18 KW26 KW41 4J002 CH021 CH041 DE236 GQ00
Claims (6)
- 【請求項１】 エピクロルヒドリンと、エチレンオキサ
イド及び／又はアリルグリシジルエーテルとを共重合し
てなる導電性ゴム１００重量部、並びに、炭酸カルシウ
ム３０〜１５０重量部からなる導電性ゴム材料であっ
て、前記炭酸カルシウムは、前記導電性ゴム中に、最大
粒径が３０μｍ以下であり、平均粒径が１〜８μｍであ
り、かつ、粒径１５μｍ以上の分散粒子の割合が１０％
以下である状態で分散していることを特徴とする導電性
ゴム材料。 - 【請求項２】 炭酸カルシウムは、２次粒径が５μｍ以
下であり、かつ、１次粒径の平均値が０．０３〜１．５
μｍである軽質炭酸カルシウムであることを特徴とする
請求項１記載の導電性ゴム材料。 - 【請求項３】 請求項１又は２記載の導電性ゴム材料か
らなることを特徴とする電子写真装置用導電性部材。 - 【請求項４】 請求項１又は２記載の導電性ゴム材料を
導電性軸芯上に同心円状に成形し、加硫した後に表面を
研削することを特徴とする電子写真用導電性部材の製造
方法。 - 【請求項５】 請求項１又は２記載の導電性ゴム材料を
導電性円筒支持体上に同心円状に成形し、加硫した後に
表面を研削することを特徴とする電子写真用導電性部材
の製造方法。 - 【請求項６】 研削後の表面粗度Ｒｚが１５μｍ以下で
あることを特徴とする請求項４又は５記載の電子写真用
導電性部材の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000396128A JP3541369B2 (ja) | 2000-12-26 | 2000-12-26 | 導電性ゴム材料及び電子写真用導電性部材の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000396128A JP3541369B2 (ja) | 2000-12-26 | 2000-12-26 | 導電性ゴム材料及び電子写真用導電性部材の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002194203A true JP2002194203A (ja) | 2002-07-10 |
| JP3541369B2 JP3541369B2 (ja) | 2004-07-07 |
Family
ID=18861479
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000396128A Expired - Fee Related JP3541369B2 (ja) | 2000-12-26 | 2000-12-26 | 導電性ゴム材料及び電子写真用導電性部材の製造方法 |
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| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3541369B2 (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7070552B2 (en) | 2002-11-22 | 2006-07-04 | Sumitomo Rubber Industries, Ltd. | Electroconductive rubber roller |
| JP2007086498A (ja) * | 2005-09-22 | 2007-04-05 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 電子写真式画像形成用ゴム部材及び電子写真式画像形成装置 |
| US7406277B2 (en) | 2005-05-31 | 2008-07-29 | Sumitomo Rubber Industries, Ltd. | Semiconductive rubber member |
| JP2009009057A (ja) * | 2007-06-29 | 2009-01-15 | Canon Inc | 帯電部材及び電子写真画像形成装置 |
| JP2009009056A (ja) * | 2007-06-29 | 2009-01-15 | Canon Inc | 帯電部材及び電子写真画像形成装置 |
| JP2009025527A (ja) * | 2007-07-19 | 2009-02-05 | Canon Chemicals Inc | 導電性ゴムローラの製造方法 |
-
2000
- 2000-12-26 JP JP2000396128A patent/JP3541369B2/ja not_active Expired - Fee Related
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7070552B2 (en) | 2002-11-22 | 2006-07-04 | Sumitomo Rubber Industries, Ltd. | Electroconductive rubber roller |
| US7406277B2 (en) | 2005-05-31 | 2008-07-29 | Sumitomo Rubber Industries, Ltd. | Semiconductive rubber member |
| JP2007086498A (ja) * | 2005-09-22 | 2007-04-05 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 電子写真式画像形成用ゴム部材及び電子写真式画像形成装置 |
| JP2009009057A (ja) * | 2007-06-29 | 2009-01-15 | Canon Inc | 帯電部材及び電子写真画像形成装置 |
| JP2009009056A (ja) * | 2007-06-29 | 2009-01-15 | Canon Inc | 帯電部材及び電子写真画像形成装置 |
| JP2009025527A (ja) * | 2007-07-19 | 2009-02-05 | Canon Chemicals Inc | 導電性ゴムローラの製造方法 |
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|---|---|
| JP3541369B2 (ja) | 2004-07-07 |
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