JP2002184307A - ディスプレイ装置の製造方法およびレーザ加工装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 大がかりな装置を必要とせず、かつ、省資源
化および省エネルギー化を図れ、黒色膜のパターンを正
確かつ容易に形成できるディスプレイ装置の黒色膜形成
方法、および、その装置とそれに用いるアパチャマスク
を提供すること。 【解決手段】 レーザ光Ｌを照射する光学系９に、黒色
膜３のパターンに対応した開口部１８ａ〜１８ｅのパタ
ーンが形成されたガラス製のアパチャマスク１７、１７
Ａ、１７Ｂを用いる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、ディスプレイ装置
のパネル部に所定形状で規則的な黒色膜パターンを形成
するディスプレイ装置の製造方法と、レーザ加工装置に
関する。

【０００２】

【従来の技術】一般に、ディスプレイのパネルの製造工
程では、図９（ａ）および（ｂ）に示すように、ガラス
製のパネル５１の面形状あるいは平面状に形成させるフ
ェース部５２のフェース内面５２ａに、所定形状で規則
的な黒色膜５３のパターンが形成される。この黒色膜５
３のパターンは、図２に示すように、円形等の所定形状
の多数の孔やストライプが、規則性を持って配列される
ものである。

【０００３】そして、それらの従来、一般に行われてい
る黒色膜のパターンの形成方法を図１０（ａ）〜（ｆ）
を参照して説明する。

【０００４】所望の温度に保たれたパネル５１のフェー
ス内面５２ａにレジスト６１を塗布し、乾燥工程を経
て、シャドウマスク６２とパネル５１を合体し、シャド
ウマスク６２の孔６２ａを通じて光６３をレジスト６１
に照射して露光する。そして、所望の温度にコントロー
ルされた水で現像し、シャドウマスク６２の孔６２ａを
通じて光６３で露光された部分のレジスト６１が除去さ
れる。これがレジスト現像工程（図１０（ａ）〜（ｄ）
である。

【０００５】次に、乾燥工程を経て、所望の温度にコン
トロールされたパネル５１のフェース内面５２ａにダグ
（黒色膜）６４を塗布する。そして、スルファミン酸に
よる侵せき工程を経て、乾燥後、再び水で現像、乾燥す
ると、残ったレジスト６１の部分にダグ６４が浸せきし
て、所望の黒色膜５３のパターンが形成される。なお、
図中の線ａ−ａはダグ６４の中心位置を示している。つ
まり、この工程では、シャドウマスク６２の孔６２ａを
通過した光が当たった部分以外にダグ６４が残る。

【０００６】次に、緑の蛍光体を塗布し、パネル５１と
シャドウマスク６２を合体し、シャドウマスク６２の孔
６２ａを通じて露光した後、シャドウマスク６２を外
し、パネル５１を現像、乾燥し、露光された部分に第１
色目の緑の蛍光体を形成する。以下、青、赤の蛍光体に
ついてそれぞれ塗布、露光、現像を繰り返して、最終的
に、シャドウマスク６２の孔６２ａに相当する部分に、
緑、青、赤の３色の蛍光体を塗布する。そして、このパ
ネル５１と、電子源である陰極線管７１を備えたファン
ネル部７２とを貼り合せて封止する。ＣＲＴの場合はこ
こで内部を真空にする（図１１（ａ）〜（ｂ）に示
す）。

【０００７】なお、上記の場合は、黒色膜５３のパター
ンが孔の場合で説明したが、ストライプの場合も同様で
ある。

【０００８】また、レーザトリミング装置やマーキング
装置では、レーザ光を直接的に集光し所定のパターン加
工を行う方法と、ガラスマスク等を用い、所定のパター
ンをレンズで結像する方法のパターン加工が行なわれて
いる。ガラスマスクにはＬＣＤを利用してパターンを表
示画面に生成し、これをマスクにしてパターン加工を行
うものや、ガラスの１面に対してリソグラフィー技術に
より、パターン膜をつけたもの、またパターンエッチン
グしたガラスをマスクとしたパターン加工が実用されて
いる。このようなマスクを用いた光学系は、マスクと結
像用レンズが基本構成であり、マスク面のパターン像を
レンズで被加工物に結像して所定のパターン加工を行う
ものである。被加工物の対象としては電子部品、半導体
部品、各種スイッチ部品等あらゆる部品に適用されてき
ている。

【０００９】また、リソグラフィー技術に使われている
ステッパ等もマスクとレンズを用いた結像方式である。
特にステッパ等に使われているレンズは、結像における
あらゆる歪を極小にしたものである。一般のマーキング
等のレンズの場合は、それ程パターン精度が問われてい
るものではなく、いかに認識できるかが主たるポイント
になっている。

【００１０】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
黒色膜の形成方法では、レジストの塗布工程、乾燥工
程、露光工程、ダグの塗布、スルファミン酸による侵せ
き工程を経るため、大がかりな装置を必要とする。そし
て、現像に使われる大量の水、スルファミン酸などの薬
液が排出されると共に、特に乾燥工程においては、多大
な電力エネルギを要するという問題がある。

【００１１】また、リソグラフィーの精度を要求される
プロセスに展開する場合には、ステッパと同様に歪の少
ないパターン加工が要求される。一般に、リソグラフィ
ー技術を用いた加工プロセスとレーザ加工を比較した場
合、レーザ加工の方がはるかに輝度が高いため、マスク
へのダメージが間題となってくる。そこでこのマスク材
としては、金属板を用いたりガラス板、またはＬＣＤそ
のものを用いたりしている。よって、ブラウン管等の大
きいパネルを対象としてリソグラフィー技術をレーザ加
工に置き換えて考えた場合、マスクには高精度のパター
ンをしかも大面積化が要求される。

【００１２】また、結像レンズもステッパに匹敵する程
の収差の少ないレンズが要求される。大面積化として
は、例えば４０インチクラスのパネルをパターン加工す
る揚合、加工時間を短縮するため、１回当りの加工エリ
アを出来るだけ大きくする必要がある。そのため結像レ
ンズ倍率は１／１もしくは逆に拡大系が必要である。こ
のため、なおさらマスクへのダメージが問題になってく
る。

【００１３】また、レーザ加工の加工対象がカーボン系
の膜では、レーザ光の吸収が大きいので加工しやすい材
料ではあるが、ダメージも受けやすいという欠点があ
る。そのため、マスクとしてはこれまで使われている金
属マスク、ガラスマスク、ＬＣＤ材が対象となるが、金
属マスクでは、微細パターンを大面積に精度良く成形す
ることは不可能である。

【００１４】また、ＬＣＤでは微細パターンの生成，節
度の高いビームに対するＬＣＤへのダメージの点で問題
がある。

【００１５】これらの理由から、ガラスマスクが用いら
れることが多いが、ガラスマスクには、ガラス基板上に
ＣＶＤやＰＶＤで金属膜をパターニングしたものや、前
述のようにパターンエッチングしたものがある。しか
し、前者はダメージの問題で実用は難しい。そこで高輝
度のレーザ光に対して耐久性の高いエッチングマスク
（後者）が有利となる。

【００１６】しかしながら、この場合も、エッチングに
より粗面となる部分は散乱光となってマスクを通過す
る。この散乱光が結像レンズに投光されると、加工パタ
ーン以外を加工してしまう場合がある。この散乱光は光
量的には１％程度であるが、加工されやすいカーボン膜
等はこの量でも容易に加工される。特に大面積化を目的
とした結像レンズではこの量が無視できないレべルであ
る。

【００１７】したがって、加工スレッシュを相対的に向
上させる方法、つまり、マスクに投光するレーザ出力を
下げて使う以外の方法は行なわれていなかった。このこ
とは、加工によるシャープさが失われる結果を引き起し
ていた。本発明は、このような点に鑑みなされたもの
で、従来のようにシャドウマスクを介して露光、現像す
るような大がかりな装置を必要とせず、かつ、従来に比
べて省資源化および省エネルギー化を図れ、黒色膜のパ
ターンを正確かつ容易に形成できるディスプレイ装置の
製造方法、および、レーザ加工装置を提供することを目
的としている。

【００１８】

【課題を解決するための手段】本発明の手段によれば、
パネル部にレーザ光を光学系を介して照射する工程と、
このレーザ光によって前記パネルの一方の面に形成され
ている黒色膜を選択的に除去して前記パネルに黒色膜の
バターンを形成する工程と、前記バネル部と基台とを貼
り合わせて封止する工程とを有するディスプレイ装置の
製造方法において、前記光学系は、前記黒色膜のパター
ンに対応して遮光パターンが形成された透光部材からな
るマスクを有することを特徴とするディスプレイ装置の
製造方法である。

【００１９】また本発明の手段によれば、前記レーザ光
の照射は前記黒色膜が形成されていない前記パネル部の
他方の面から行なうことを特徴とするディスプレイ装置
の製造方法である。

【００２０】また本発明の手段によれば、前記レーザ光
の照射によって除去された前記黒色膜が吸引される吸引
工程を有することを特徴とするディスプレイ装置の製造
方法である。

【００２１】また本発明の手段によれば、前記レーザ光
は前記バネルに対する複数の照射面を有することを特徴
とするディスプレイ装置の製造方法である。

【００２２】また本発明の手段によれば、レーザ光によ
る選択的な加工によって被加工物上ヘパターンを形成す
る光学系を具備したレーザ加工装置において、前記光学
系は前記パターンに対応した遮光部が形成された透光部
材からなる２枚のマスクを有し、これらのマスクはお互
いに粗面同士を対向させていることを特徴とするレーザ
加工装置である。

【００２３】また本発明の手段によれば、レーザ光が通
過する開口部が形成された２枚のガラスマスクの粗面同
士を貼り合わせて形成することを特徴とするアパチャマ
スクである。また本発明の手段によれば、レーザ光が通
過する開口部が形成された複数枚のガラスマスクを光軸
上に所定間隔で配置し、前記開口部のサイズをレーザ光
の光束より小さく、かつ、入射側から順次小さくしたこ
とを特徴とするアパチャマスクである。

【００２４】

【発明の実施の形態】以下、本発明の一実施の形態を図
面を参照して説明する。

【００２５】まず、最初に本発明のディスプレイ装置の
製造方法に用いられる黒色膜のパターンを形成するレー
ザ加工装置で加工されるディスプレイ装置を説明する
と、図１に示すように、ガラス製のパネル１のフェース外
面２ｂが平面状に形成されたフェース部２のフェース内
面２ａに、所定形状で規則的な黒色膜３のパターンが形
成されており、この黒色膜３のパターンは、図２（ａ）
に示すように、円形などの所定形状の多数の孔や、図２
（ｂ）に示すように、ストライプが規則性を有して配列
されている。

【００２６】次に、本発明のディスプレイ装置の製造方
法に用いる黒色膜のパターンを形成するレーザ加工装置
を説明する。図３はこの黒色膜パターン形成装置の斜視
図で、図４はその光学系の模式図である。

【００２７】レーザ加工装置は、下部に除去物吸引装置
７を備えたＸＹテーブル８が設けられている。また、Ｘ
Ｙテーブル８の上方には照射光学系９が設けられてい
る。ＸＹテーブル８の上面には、ディスプレイ装置のパ
ネル１がトレイ１０に載置されて固定されている。パネ
ル１は図１に示したようにフェース内面２ａの黒色膜３
のパターンの形成される鏡域の全体に黒色膜３（ダグが
塗布された）が形成され、フェース内面２ａを下方に向
けるとともに、フェース外面２ｂを上方に向けた状態で
位置決めされてトレイ１０に取り付けられている。

【００２８】ＸＹテーブル８の下方に設けられた除去物
吸引装置７は、除去された黒色膜除去物（ダグ）を吸引
して回収する吸引回収手段としてのバキューム装置（不
図示）を具備している。照射光学系９は、ＹＡＧレーザ等
により形成されたレーザ発振器１２からのレーザ光Ｌ
が、ガラスファイバ１３により導かれた光軸上の前方
に、順次コリメートレンズ１４、反射手段であり走査装置
として機能する２枚のスキャナミラー１５ａ、１５ｂ、
リレーレンズ１６、所望のパターン形状を持つアパチャ
マスク１７、結像レンズ１８が設けられて構成されてい
る。なお、アパチャマスク１７の位置は、パターンがパネ
ル１のフェース内面２ｂに形成されている黒色膜３上に
結像されるような構成および配置されている。そして、
アパチャマスク１７には、このパターンに対応してパネ
ルに転写される遮光パターンが形成されているが、ネガ
の状態でもポジの状態でもよい。

【００２９】また、これらの照射光学系９は、一つのレ
ーザ発振器１２からのレーザ光がガラスファイバ１３群
（不図示）に導入され、ガラスファイバ１３が離散して、
それぞれにコリメートレンズ１４等の光学手段が光学的
に配置されている。これらの構成による装置により、パ
ネル１１のフェース内面２ａに所定の形状をもつ規則的
な黒色膜３のパターンを形成するには、まず、フェース
内面２ａの黒色膜３が形成される領域全体に、既に黒色
膜３が形成されたパネル１１を、フェース外面２ｂを上
方に向けた状態でトレイ１０に位置決めし、このトレイ
１０を介してＸＹテーブル８に装着する。

【００３０】パネル１の黒色膜３に光学系の焦点を合わ
せ、パネル１をＸＹテーブル８でＸ方向に開始位置まで
移動させる。ここで、レーザ発振器１２からガラスファ
イバ１３を経由して照射されるレーザ光Ｌは、順次、コ
リメートレンズ１４、スキャナミラー１５ａ、１５ｂ、
リレーレンズ１６、アパチャマスク１７そして結像レン
ズ１８を介してパネル１の上方からパネル１に形成され
た黒色膜３を照射する。

【００３１】この照射では、複数の光学系を介して同時
にレーザ光を複数の照射面で照射するので、各々の光学
系がパネル１のそれぞれの担当領域に対する照射が終了
するまで、ＸＹテーブル８は停止している。照射が終了
すると、パネル１はＸＹテーブル８により、次のステッ
プまでＸ方向に移動される。そこで、再び各々の光学系
がパネル１のそれぞれの担当領域を照射する。

【００３２】これらのガラスファイバ１３から照射され
るレーザ光Ｌは、コリメートレンズ１４により絞られて
ほぼ平行光となり、さらに、２枚のスキヤンミラー１５
ａ、１５ｂでの反射により、リレーレンズ１６を介して
アパチャマスク１７における光が照射される面の全体を
一様に照射する。アパチャマスク１７によりレーザ光Ｌ
は所望のパターンに整形され、結像レンズ１８で結像さ
れて、パネル１を照射し、パネル１の内部を透過して、
フェース内面２ａの黒色膜３を照射してその照射部分の
黒色膜３を除去する。

【００３３】以上の手順を繰り返し、パネル１の全面に
わたってレーザ光を走査し、所定形状をもつ規則的な黒
色膜３のパターンを形成する。このパターンは、例え
ば、黒色膜３はストライプの幅が１００μｍ、ストライ
プのピッチが２００μｍ程度である。

【００３４】なお、アパチャマスク１７は、図５に摸式
図を示すように、パターンエッチングされたガラスマス
ク１８ａ、１８ｂを２枚用い、ガラスマスク１８ａ、１
８ｂの互いの粗面１８−ｄ１、１８−ｄ２同士を貼り合
わせた構造である。中央部にはパターンエッチングによ
りそれぞれのガラスマスク１８ａ、１８ｂに開口部１８
−ｅ１、１８−ｅ２が形成されている。貼り合せたアパ
チャマスク１７Ａは、ガラスマスク１８ａ、１８ｂ間に
隙間が殆ど存在しないため、光学的にレーザ光が照射さ
れた時のフォーカスずれの許容値を満足しており、その
結果、このアパチャマスク１７Ａを用いてパターン加工
を行なう際のシャープネスを十分満足している。

【００３５】また、図６は別の変形例で、光軸上にガラ
スマスク１８ｃ、１８ｄ、１８ｅを順次配列して組合
せ、アパチャマスク１７Ｂを構成したものである。た
だ、この場合は、レーザ光の入射角θに制限がある。そ
れは、ガラスマスク１８ｃの開口部１８−ｅ３、ガラス
マスク１８ｄの開口部１８−ｅ４、ガラスマスク１８ｅ
の開口部１８−ｅ５の大きさと、これらのガラスマスク
１８ｃ、１８ｄ、１８ｅの相互の間隔により決定され、
常にこの入射角θと同じかそれより大きいことが必要条
件になる。つまり、ガラスマスク１８ｃ、１８ｄ、１８
ｅに入射するレーザ光の光束は、その断面が各ガラスマ
スク１８ｃ、１８ｄ、１８ｅに入射する際に、各ガラス
マスク１８ｃ、１８ｄ、１８ｅに形成された開口部１８
−ｅ３、１８−ｅ４、１８−ｅ５より少なくとも同じか
大きいことが必要になり、また、開口部部１８−ｅ３、
１８−ｅ４、１８−ｅ５はレーザ光の通過方向に従っ
て、断面積が順次小さくなるように形成されている。図７
（ａ）および（ｂ）は、従来のアパチャマスク１７Ｚと
本発明のアパチャマスク１７Ａとをそれぞれ用いた加工
光学系によるパターン加工を比較した説明図である。図
７（ａ）は従来のアパチャマスク１７Ｚを用いた加工例
であり、アパチャマスク１７Ｚに入射するレーザ光Ｌ１
は、アパチャマスク１７Ｚの透明な部分を通過したレー
ザ光Ｌ２はレンズ２２ａにより被加工物２３ａ上のカー
ボンによる黒色膜２４ａに集光されて、パターン除去部
２５ａが形成される。その一方、粗面部２６ａを通過し
たレーザ光Ｌ３の一部はレンズ２２ａを通過した光の
み、黒色膜２４ａに集光される。この結果、加工パター
ン以外にダメージ部（除去部）２７ａが形成されて欠陥
となる場合がある。

【００３６】一方、図７（ｂ）は、本発明のパターン加
工を示すものでアパチャマスク１７Ａに入射するレーザ
Ｌ５は直進する成分Ｌ６と散乱光成分Ｌ７に分かれる。
直進するレーザＬ６はレンズ２２ｂにより被加工物２３
ｂ上のカーボンによる黒色膜２４ｂに集光されて、パタ
ーン除去部２５ｂが形成される。一方、散乱光成分Ｌ７
は２枚のガラス１８ａ、１８ｂの粗面効果によりレンズ
２２ｂまで到遠する光量レべルを大幅に滅少し、加工パ
ターン以外へのダメージを無くすることができた。遮光
効果としてはガラスマスク１枚の粗面による遮光量が９
９％以上であるため、これまではレーザ光の約１％が問
題になっているのに対し、本発明によりこれが０．０１
％以下に低減することができた。図８（ａ）および
（ｂ）は、従来のアパチャマスクと本発明のアパチャマ
スクを用いて、実際にカーボン製の黒色膜をパターン除
去加工した比較サンプル例である。

【００３７】図８（ａ）は従来例の場合で、加工パター
ン以外の部分に欠陥となる白点状のダメージ部が点在し
ている。それに対して、図８（ｂ）の本発明の場合で、
白点状のダメージ部等の無い欠陥のないシャープな加工
パターンが形成されている。

【００３８】また、レーザ光Ｌの照射によって除去され
てパネル１の下方に飛散する黒色膜除去物（ダグ）は除
去物吸引装置７によって吸引されて回収される。そのた
め、レーザ光Ｌの照射箇所を常に清浄化でき、黒色膜除
去物の影響がなく、黒色膜３のパターンを正確に形成で
きる。しかも、飛散した黒色膜除去物がパネル１の有効
面に付着するのを防止できる。

【００３９】以上のように、本発明ではパネルのフェー
ス内面の黒色膜が形成される領域の全体に形成された黒
色膜に対し、レーザ光を照射して黒色膜のパターンを形
成するので、従来のようにシャドウマスクを介して露
光、現像する方法とは異なり、レジスト塗布装置、乾燥
装置、露光装置、現像装置など工程がなくなるため、大
掛かりな装置を必要とせず、しかも、スルファミン酸な
どの薬液、および現像に使われる大量の水、および特に
乾燥工程においては多大な電力エネルギーを費やすこと
なく、従来に比べて省資源化および省エネルギー化を図
れて、黒色膜３のパターンを正確、かつ、容易に形成で
きる。

【００４０】なお、本実施の形態では、パネルをＸＹテ
ーブルによって移動させながらレーザ光を照射して不要
な黒色膜を除去したが、その逆にパネルを停止させてレ
ーザ照射手段を移動させても、もちろん同様の作用効果
を得られる。

【００４１】上述のように、本実施の形態のディスプレ
イ装置の製造方法において、黒色膜のパターンを形成す
る方法は、レーザ光を２枚のスキャンミラーと、一様に
照明するための光学素子群を有する光学系により黒色膜
のパターンに対応する開口パターンが形成されたアパチ
ャマスクに照射する光学系と、前記アパチャマスクによ
り所定のパターンに成型されたレーザ光を光軸中央に対
して点対称に配置された光学素子群を有する光学系を介
して黒色膜に結像するように照射することによって、黒
色膜の一部を除去して所定形状のパターンとする工程を
具備しているので、従来のようにシャドウマスクを介し
て露光、現像するような大がかりな装置を必要とせず、
かつ、従来の方法に比べて省資源化および省エネルギー
化を図れ、また結像光学系を具備するため黒色膜のパタ
ーンを高精度に形成することができる。

【００４２】また、黒色膜にレーザ光を照射して黒色膜
の不要な部分を除去する工程では、レーザ光をパネル上
の蛍光体スクリーン面とは反対の面側から照射すること
により、レーザ光の輻射圧と同方向に不要な黒色膜を飛
散させることができるため、少ないレーザエネルギーで
不要な黒色膜を除去すること可能となった。さらに、レ
ーザ光を照射する側と反対の面側に向けて黒色膜が除去
されるため、光学系に遮られることなくパネル全域にわ
たって排気することにより、除去された黒色膜を効率よ
く回収することができる。

【００４３】また、黒色膜にレーザ光を照射して黒色膜
の不要な部分を除去する工程では、規則的に並列に配列
された複数の光学系を介して各々同時に隣接する領域を
並列的に照射することにより、大面積のディスプレイパ
ネルの黒色膜を高速でパターン形成することができる。

【００４４】また、これまでの方法では１枚のガラスマ
スクを使うことで、加工パターン以外への熱影響やダメ
ージが発生しており、これを抑制するために、レーザ発
振器の出力を下げることで対応してきた。それにより、
熱影響やダメージは減少したが、最も重要な加工パター
ンのシャープさが失われていた。それに対して本発明の
ガラスマスクやその手法、装置を使うこと熱ダメージの
抑制されたシャープな加工パターンを提供することがで
きるようになった。

【００４５】それにより、従来はウェットプロセスいわ
ゆるリソグラフィー技術でしか作れなかつたパターン形
成が、レーザ光を用いたドライプロセスでのパターン形
成が可能となった。したがって、多くの材質の部品のパ
ターン加工に適用できるようになった。

【００４６】また、さらに、設備コストの低下やウエッ
トプロセスで扱う薬品等による環境汚染の問題を防ぐこ
とができる等の大きな効果が得られた。

【００４７】また、上述の実施の形態ではディスプレイ
装置としてＣＲＴを対象とした場合について説明した
が、ディスプレイ装置としては、その他にＬＣＤ、ＰＤ
Ｐ、ＦＥＤ等に対しても同様に適用することができる。

【００４８】

【発明の効果】本発明によれば、ＣＲＴ等のディスプレ
イ装置の製造で、従来のような大がかりな装置を必要と
せず、かつ、従来に比べて省資源化で省エネルギー化が
図れる。

【図面の簡単な説明】

【図１】ディスプレイ装置のパネルの説明図。

【図２】（ａ）ディスプレイ装置のパネルのパターン
図、（ｂ）別のパターン図。

【図３】本発明のディスプレイ装置の黒色膜パターン形
成装置の斜視図。

【図４】本発明のディスプレイ装置の黒色膜パターン形
成装置の光学系の模式図。

【図５】本発明のアパチャマスクの構成図。

【図６】本発明の別のアパチャマスクの構成図。

【図７】（ａ）従来のアパチャマスクを用いた加工光学
系によるパターン加工の光学的な説明図。（ｂ）本発明
のアパチャマスクを用いた加工光学系によるパターン加
工の光学的な説明図。

【図８】（ａ）従来のアパチャマスクと本発明のアパチ
ャマスクを用いて、実際にカーボン製の黒色膜をパター
ン除去加工した比較サンプル例、（ｂ）本発明のアパチ
ャマスクと本発明のアパチャマスクを用いて、実際にカ
ーボン製の黒色膜をパターン除去加工した比較サンプル
例。

【図９】（ａ）および（ｂ）は、ディスプレイ装置のパ
ネルの説明図。

【図１０】（ａ）〜（ｆ）は、黒色膜のパターンの形成
方法の説明図。

【図１１】（ａ）および（ｂ）は、ディスプレイ装置の
パネルとファンネル部貼り合せを示す説明図。

【符号の説明】

１…パネル、２…フェース部、３…黒色膜、４…、５
…、６…、７…除去物吸引装置、８…ＸＹテーブル、９
…照明光学系、１７、１７Ａ、１７Ｂ…アパチャマス
ク、１８ａ〜１８ｅ…ガラスマスク

フロントページの続き (72)発明者 伊藤 弘 神奈川県横浜市磯子区新磯子町33番地 株 式会社東芝生産技術センター内 Ｆターム(参考） 4E068 AC00 CD04 CG02 DA00 5C028 JJ09

Claims (5)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 パネル部にレーザ光を光学系を介して照
   射する工程と、このレーザ光によって前記パネルの一方
   の面に形成されている黒色膜を選択的に除去して前記パ
   ネルに黒色膜のバターンを形成する工程と、前記バネル
   部と基台とを貼り合わせて封止する工程とを有するディ
   スプレイ装置の製造方法において、 前記光学系は、前記黒色膜のパターンに対応して遮光パ
   ターンが形成された透光部材からなるマスクを有するこ
   とを特徴とするディスプレイ装置の製造方法。
2. 【請求項２】 前記レーザ光の照射は前記黒色膜が形成
   されていない前記パネル部の他方の面から行なうことを
   特徴とする請求項１に記載のディスプレイ装置の製造方
   法。
3. 【請求項３】 前記レーザ光の照射によって除去された
   前記黒色膜が吸引される吸引工程を有することを特徴と
   する請求項１に記載のディスプレイ装置の製造方法。
4. 【請求項４】 前記レーザ光は前記バネルに対する複数
   の照射面を有することを特徴とする請求項１に記載のデ
   ィスプレイ装置の製造方法。
5. 【請求項５】 レーザ光による選択的な加工によって被
   加工物上ヘパターンを形成する光学系を具備したレーザ
   加工装置において、前記光学系は前記パターンに対応し
   た遮光部が形成された透光部材からなる２枚のマスクを
   有し、これらのマスクはお互いに粗面同士を対向させて
   いることを特徴とするレーザ加工装置。