JP2002173458A - トリフルオロメチル基含有アセトフェノン化合物の製造方法 - Google Patents
トリフルオロメチル基含有アセトフェノン化合物の製造方法Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】作業性が向上し、工業的に有用で、効率的なト
リフルオロメチル基含有アセトフェノン化合物の製造方
法の提供。 【解決手段】３，５−ビス（トリフルオロメチル）ブロ
モベンゼン等のトリフルオロメチル基含有ハロゲノベン
ゼンとエチルマグネシウムブロミド等のアルキルマグネ
シウムハライドとを反応させ、ついで得られた３，５−
ビス（トリフルオロメチル）フェニルマグネシウムブロ
ミド等のトリフルオロメチル基含有フェニルマグネシウ
ムハライドと無水酢酸とを反応させる、３，５−ビス
（トリフルオロメチル）アセトフェノン等のトリフルオ
ロメチル基含有アセトフェノン化合物の製造方法。
リフルオロメチル基含有アセトフェノン化合物の製造方
法の提供。 【解決手段】３，５−ビス（トリフルオロメチル）ブロ
モベンゼン等のトリフルオロメチル基含有ハロゲノベン
ゼンとエチルマグネシウムブロミド等のアルキルマグネ
シウムハライドとを反応させ、ついで得られた３，５−
ビス（トリフルオロメチル）フェニルマグネシウムブロ
ミド等のトリフルオロメチル基含有フェニルマグネシウ
ムハライドと無水酢酸とを反応させる、３，５−ビス
（トリフルオロメチル）アセトフェノン等のトリフルオ
ロメチル基含有アセトフェノン化合物の製造方法。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、医農薬中間体等と
して有用なトリフルオロメチル基含有アセトフェノン化
合物の製造方法および該トリフルオロメチル基含有アセ
トフェノン化合物を製造する際の中間体等として有用な
トリフルオロメチル基含有フェニルマグネシウムハライ
ドの製造方法に関する。
して有用なトリフルオロメチル基含有アセトフェノン化
合物の製造方法および該トリフルオロメチル基含有アセ
トフェノン化合物を製造する際の中間体等として有用な
トリフルオロメチル基含有フェニルマグネシウムハライ
ドの製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】一般に、トリフルオロメチル基を有する
フェニルマグネシウムハライド類は、相当するハロゲノ
ベンゼン類と金属マグネシウムとをエーテル系溶媒中で
反応させることにより製造される。たとえば、１）ＵＳ
Ｐ３６２５９７１には、３，５−ビス（トリフルオロメ
チル）ブロモベンゼンと金属マグネシウムとをエーテル
中で反応させる３，５−ビス（トリフルオロメチル）フ
ェニルマグネシウムブロミドの製造方法が開示されてい
る。
フェニルマグネシウムハライド類は、相当するハロゲノ
ベンゼン類と金属マグネシウムとをエーテル系溶媒中で
反応させることにより製造される。たとえば、１）ＵＳ
Ｐ３６２５９７１には、３，５−ビス（トリフルオロメ
チル）ブロモベンゼンと金属マグネシウムとをエーテル
中で反応させる３，５−ビス（トリフルオロメチル）フ
ェニルマグネシウムブロミドの製造方法が開示されてい
る。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかし、２）Ｃｈｅ
ｍ．Ｉｎｄ．，１２０（１９７１）には、３−トリフル
オロメチルブロモベンゼンと金属マグネシウムとを反応
させて３−トリフルオロメチルフェニルマグネシウムブ
ロミドを製造する際に、突然爆発が生じたとの報告があ
る。
ｍ．Ｉｎｄ．，１２０（１９７１）には、３−トリフル
オロメチルブロモベンゼンと金属マグネシウムとを反応
させて３−トリフルオロメチルフェニルマグネシウムブ
ロミドを製造する際に、突然爆発が生じたとの報告があ
る。
【０００４】本発明は上記課題に鑑みなされたものであ
り、作業性が向上し、工業的に有用で、効率的なトリフ
ルオロメチル基含有アセトフェノン化合物の製造方法を
提供することを目的とする。
り、作業性が向上し、工業的に有用で、効率的なトリフ
ルオロメチル基含有アセトフェノン化合物の製造方法を
提供することを目的とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、トリフル
オロメチル基含有アセトフェノン化合物の効率的な製造
方法について鋭意検討を重ね、トリフルオロメチル基含
有ハロゲノベンゼンとアルキルマグネシウムハライドと
を反応させることにより、容易にトリフルオロメチル基
含有フェニルマグネシウムハライドを製造できることを
見出し本発明に至った。すなわち、本発明は、下記
（１）〜（６）に開示される。 （１）トリフルオロメチル基含有ハロゲノベンゼンとア
ルキルマグネシウムハライドとを反応させ、得られたト
リフルオロメチル基含有フェニルマグネシウムハライド
と無水酢酸とを反応させることを特徴とするトリフルオ
ロメチル基含有アセトフェノン化合物の製造方法。
オロメチル基含有アセトフェノン化合物の効率的な製造
方法について鋭意検討を重ね、トリフルオロメチル基含
有ハロゲノベンゼンとアルキルマグネシウムハライドと
を反応させることにより、容易にトリフルオロメチル基
含有フェニルマグネシウムハライドを製造できることを
見出し本発明に至った。すなわち、本発明は、下記
（１）〜（６）に開示される。 （１）トリフルオロメチル基含有ハロゲノベンゼンとア
ルキルマグネシウムハライドとを反応させ、得られたト
リフルオロメチル基含有フェニルマグネシウムハライド
と無水酢酸とを反応させることを特徴とするトリフルオ
ロメチル基含有アセトフェノン化合物の製造方法。
【０００６】（２）トリフルオロメチル基含有ハロゲノ
ベンゼンが式２で示される化合物である（１）に記載の
製造方法。ただし、式２中のＸはハロゲン原子を示し、
ｎは１または２を示す。
ベンゼンが式２で示される化合物である（１）に記載の
製造方法。ただし、式２中のＸはハロゲン原子を示し、
ｎは１または２を示す。
【０００７】
【化５】
【０００８】（３）トリフルオロメチル基含有フェニル
マグネシウムハライドが式３で示される化合物である
（１）に記載の製造方法。ただし、式３中のＸ1はハロ
ゲン原子を示し、ｎは１または２を示す。
マグネシウムハライドが式３で示される化合物である
（１）に記載の製造方法。ただし、式３中のＸ1はハロ
ゲン原子を示し、ｎは１または２を示す。
【０００９】
【化６】
【００１０】（４）トリフルオロメチル基含有アセトフ
ェノン化合物が式１で示される化合物である（１）に記
載の製造方法。ただし、式１中のｎは１または２を示
す。
ェノン化合物が式１で示される化合物である（１）に記
載の製造方法。ただし、式１中のｎは１または２を示
す。
【００１１】
【化７】
【００１２】（５）式２（ただし、式２中のＸはハロゲ
ン原子を示し、ｎは１または２を示す。）で示される化
合物と式４（ただし、式４中のＲはアルキル基を示し、
Ｘ1はハロゲン原子を示す。）で示される化合物とを反
応させ、得られた式３（ただし、式３中のＸ1はハロゲ
ン原子を示し、ｎは１または２を示す。）で示される化
合物と無水酢酸とを反応させることを特徴とする、式１
（ただし、式１中のｎは１または２を示す。）で示され
る化合物の製造方法。
ン原子を示し、ｎは１または２を示す。）で示される化
合物と式４（ただし、式４中のＲはアルキル基を示し、
Ｘ1はハロゲン原子を示す。）で示される化合物とを反
応させ、得られた式３（ただし、式３中のＸ1はハロゲ
ン原子を示し、ｎは１または２を示す。）で示される化
合物と無水酢酸とを反応させることを特徴とする、式１
（ただし、式１中のｎは１または２を示す。）で示され
る化合物の製造方法。
【００１３】
【化８】 （６）トリフルオロメチル基含有ハロゲノベンゼンとア
ルキルマグネシウムハライドとを反応させることを特徴
とするトリフルオロメチル基含有フェニルマグネシウム
ハライドの製造方法。
ルキルマグネシウムハライドとを反応させることを特徴
とするトリフルオロメチル基含有フェニルマグネシウム
ハライドの製造方法。
【００１４】
【発明の実施の形態】本発明で用いられるトリフルオロ
メチル基含有ハロゲノベンゼンとしては、たとえば式２
で示される化合物が挙げられる。ただし、式２中のＸは
ハロゲン原子を示し、ｎは１または２を示す。なお、式
２中のトリフルオロメチル基はベンゼン環に結合した基
であり、また、ｎはベンゼン環に結合したトリフルオロ
メチル基の数を示す。
メチル基含有ハロゲノベンゼンとしては、たとえば式２
で示される化合物が挙げられる。ただし、式２中のＸは
ハロゲン原子を示し、ｎは１または２を示す。なお、式
２中のトリフルオロメチル基はベンゼン環に結合した基
であり、また、ｎはベンゼン環に結合したトリフルオロ
メチル基の数を示す。
【００１５】式２において、Ｘで示されるハロゲン原子
としては、フッ素原子以外のハロゲン原子が好ましく、
たとえば塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等が挙げられ
る。
としては、フッ素原子以外のハロゲン原子が好ましく、
たとえば塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等が挙げられ
る。
【００１６】式２で示されるトリフルオロメチル基含有
ハロゲノベンゼンの具体例としては、たとえば２−トリ
フルオロメチルブロモベンゼン、３−トリフルオロメチ
ルブロモベンゼン、４−トリフルオロメチルブロモベン
ゼン、２−トリフルオロメチルクロロベンゼン、３−ト
リフルオロメチルクロロベンゼン、４−トリフルオロメ
チルクロロベンゼン、２，４−ビス（トリフルオロメチ
ル）ブロモベンゼン、３，５−ビス（トリフルオロメチ
ル）ブロモベンゼン、２，５−ビス（トリフルオロメチ
ル）ブロモベンゼン、２，４−ビス（トリフルオロメチ
ル）クロロベンゼン、３，５−ビス（トリフルオロメチ
ル）クロロベンゼン、２，５−ビス（トリフルオロメチ
ル）クロロベンゼン等が挙げられる。
ハロゲノベンゼンの具体例としては、たとえば２−トリ
フルオロメチルブロモベンゼン、３−トリフルオロメチ
ルブロモベンゼン、４−トリフルオロメチルブロモベン
ゼン、２−トリフルオロメチルクロロベンゼン、３−ト
リフルオロメチルクロロベンゼン、４−トリフルオロメ
チルクロロベンゼン、２，４−ビス（トリフルオロメチ
ル）ブロモベンゼン、３，５−ビス（トリフルオロメチ
ル）ブロモベンゼン、２，５−ビス（トリフルオロメチ
ル）ブロモベンゼン、２，４−ビス（トリフルオロメチ
ル）クロロベンゼン、３，５−ビス（トリフルオロメチ
ル）クロロベンゼン、２，５−ビス（トリフルオロメチ
ル）クロロベンゼン等が挙げられる。
【００１７】本発明で用いられるアルキルマグネシウム
ハライドとしては、たとえば式４で示される化合物が挙
げられる。ただし、式４中のＲはアルキル基を示し、Ｘ
1はハロゲン原子を示す。
ハライドとしては、たとえば式４で示される化合物が挙
げられる。ただし、式４中のＲはアルキル基を示し、Ｘ
1はハロゲン原子を示す。
【００１８】式４において、Ｒで示されるアルキル基と
しては、直鎖状でも分岐状でもよく、たとえば炭素数１
〜８のアルキル基が挙げられ、具体的にはメチル基、エ
チル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソ
ブチル基、ｔ−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘ
プチル基、オクチル基、２−エチルヘキシル基等が挙げ
られる。Ｘ1で示されるハロゲン原子としては、たとえ
ば塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等が挙げられる。
しては、直鎖状でも分岐状でもよく、たとえば炭素数１
〜８のアルキル基が挙げられ、具体的にはメチル基、エ
チル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソ
ブチル基、ｔ−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘ
プチル基、オクチル基、２−エチルヘキシル基等が挙げ
られる。Ｘ1で示されるハロゲン原子としては、たとえ
ば塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等が挙げられる。
【００１９】式４で示されるアルキルマグネシウムハラ
イドの具体例としては、たとえばメチルマグネシウムブ
ロミド、エチルマグネシウムブロミド、イソプロピルマ
グネシウムブロミド等が挙げられる。
イドの具体例としては、たとえばメチルマグネシウムブ
ロミド、エチルマグネシウムブロミド、イソプロピルマ
グネシウムブロミド等が挙げられる。
【００２０】トリフルオロメチル基含有ハロゲノベンゼ
ンとアルキルマグネシウムハライドとを反応させること
により得られるトリフルオロメチル基含有フェニルマグ
ネシウムハライドとしては、たとえば式３で示される化
合物が挙げられる。ただし、式３中のＸ1はハロゲン原
子を示し、ｎは１または２を示す。また、式３におい
て、Ｘ1は、式４におけるＸ1と同様の意味を示す。
ンとアルキルマグネシウムハライドとを反応させること
により得られるトリフルオロメチル基含有フェニルマグ
ネシウムハライドとしては、たとえば式３で示される化
合物が挙げられる。ただし、式３中のＸ1はハロゲン原
子を示し、ｎは１または２を示す。また、式３におい
て、Ｘ1は、式４におけるＸ1と同様の意味を示す。
【００２１】式３で示される化合物は、式２で示される
化合物と式４で示される化合物とを反応させることによ
り得られる化合物である。また、式３中のトリフルオロ
メチル基の位置は、式２で示される化合物におけるトリ
フルオロメチル基の位置と同じである。
化合物と式４で示される化合物とを反応させることによ
り得られる化合物である。また、式３中のトリフルオロ
メチル基の位置は、式２で示される化合物におけるトリ
フルオロメチル基の位置と同じである。
【００２２】式３で示されるフェニルマグネシウムハラ
イドの具体例としては、たとえば２−トリフルオロメチ
ルフェニルマグネシウムブロミド、３−トリフルオロメ
チルフェニルマグネシウムブロミド、４−トリフルオロ
メチルフェニルマグネシウムブロミド、２−トリフルオ
ロメチルフェニルマグネシウムクロリド、３−トリフル
オロメチルフェニルマグネシウムクロリド、４−トリフ
ルオロメチルフェニルマグネシウムクロリド、２，４−
ビス（トリフルオロメチル）フェニルマグネシウムブロ
ミド、３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニルマ
グネシウムブロミド、２，５−ビス（トリフルオロメチ
ル）フェニルマグネシウムブロミド、２，４−ビス（ト
リフルオロメチル）フェニルマグネシウムクロリド、
３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニルマグネシ
ウムクロリド、２，５−ビス（トリフルオロメチル）フ
ェニルマグネシウムクロリド等が挙げられる。
イドの具体例としては、たとえば２−トリフルオロメチ
ルフェニルマグネシウムブロミド、３−トリフルオロメ
チルフェニルマグネシウムブロミド、４−トリフルオロ
メチルフェニルマグネシウムブロミド、２−トリフルオ
ロメチルフェニルマグネシウムクロリド、３−トリフル
オロメチルフェニルマグネシウムクロリド、４−トリフ
ルオロメチルフェニルマグネシウムクロリド、２，４−
ビス（トリフルオロメチル）フェニルマグネシウムブロ
ミド、３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニルマ
グネシウムブロミド、２，５−ビス（トリフルオロメチ
ル）フェニルマグネシウムブロミド、２，４−ビス（ト
リフルオロメチル）フェニルマグネシウムクロリド、
３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニルマグネシ
ウムクロリド、２，５−ビス（トリフルオロメチル）フ
ェニルマグネシウムクロリド等が挙げられる。
【００２３】本発明の製造方法により得られるトリフル
オロメチル基含有アセトフェノン化合物としては、たと
えば式１で示される化合物が挙げられる。ただし、式１
中のｎは１または２を示す。
オロメチル基含有アセトフェノン化合物としては、たと
えば式１で示される化合物が挙げられる。ただし、式１
中のｎは１または２を示す。
【００２４】式１で示される化合物は、式３で示される
化合物と無水酢酸とを反応させることにより得られる化
合物である。また、式１中のトリフルオロメチル基の位
置は、式２で示される化合物におけるトリフルオロメチ
ル基の位置と同じである。
化合物と無水酢酸とを反応させることにより得られる化
合物である。また、式１中のトリフルオロメチル基の位
置は、式２で示される化合物におけるトリフルオロメチ
ル基の位置と同じである。
【００２５】式１で示されるトリフルオロメチル基含有
アセトフェノン化合物の具体例としては、たとえば２−
トリフルオロメチルアセトフェノン、３−トリフルオロ
メチルアセトフェノン、４−トリフルオロメチルアセト
フェノン、２，４−ビス（トリフルオロメチル）アセト
フェノン、３，５−ビス（トリフルオロメチル）アセト
フェノン、２，５−ビス（トリフルオロメチル）アセト
フェノン等が挙げられる。
アセトフェノン化合物の具体例としては、たとえば２−
トリフルオロメチルアセトフェノン、３−トリフルオロ
メチルアセトフェノン、４−トリフルオロメチルアセト
フェノン、２，４−ビス（トリフルオロメチル）アセト
フェノン、３，５−ビス（トリフルオロメチル）アセト
フェノン、２，５−ビス（トリフルオロメチル）アセト
フェノン等が挙げられる。
【００２６】本発明においては、まず、トリフルオロメ
チル基含有ハロゲノベンゼンとアルキルマグネシウムハ
ライドとを適当な溶媒中、必要であれば不活性ガス雰囲
気下で反応させてトリフルオロメチル基含有フェニルマ
グネシウムハライドを得る。
チル基含有ハロゲノベンゼンとアルキルマグネシウムハ
ライドとを適当な溶媒中、必要であれば不活性ガス雰囲
気下で反応させてトリフルオロメチル基含有フェニルマ
グネシウムハライドを得る。
【００２７】トリフルオロメチル基含有ハロゲノベンゼ
ンおよびアルキルマグネシウムハライドの使用量は、ア
ルキルマグネシウムハライドをトリフルオロメチル基含
有ハロゲノベンゼンに対して通常０．８〜１．５倍当
量、好ましくは１〜１．２倍当量である。
ンおよびアルキルマグネシウムハライドの使用量は、ア
ルキルマグネシウムハライドをトリフルオロメチル基含
有ハロゲノベンゼンに対して通常０．８〜１．５倍当
量、好ましくは１〜１．２倍当量である。
【００２８】溶媒としては、エーテル系溶媒が好まし
く、たとえばジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテ
ル、ｔ−ブトキシメタン、エチレングリコールジメチル
エーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテ
ル類等が挙げられる。溶媒の使用量は、トリフルオロメ
チル基含有ハロゲノベンゼンに対して通常０．５〜１０
倍容量、好ましくは１〜５倍容量の範囲から適宜選択さ
れる。必要に応じて用いられる不活性ガスとしては、窒
素ガス、アルゴンガス等が挙げられる。
く、たとえばジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテ
ル、ｔ−ブトキシメタン、エチレングリコールジメチル
エーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテ
ル類等が挙げられる。溶媒の使用量は、トリフルオロメ
チル基含有ハロゲノベンゼンに対して通常０．５〜１０
倍容量、好ましくは１〜５倍容量の範囲から適宜選択さ
れる。必要に応じて用いられる不活性ガスとしては、窒
素ガス、アルゴンガス等が挙げられる。
【００２９】トリフルオロメチル基含有ハロゲノベンゼ
ンとアルキルマグネシウムハライドとを反応させる際の
反応温度は、０℃から使用する溶媒の還流温度程度がよ
く、好ましくは０℃〜６５℃、より好ましくは１０〜４
０℃の範囲から適宜選択される。また、反応時間は１〜
４８時間が好ましい。なお、上記トリフルオロメチル基
含有ハロゲノベンゼンおよび上記アルキルマグネシウム
ハライドは、市販品を用いてもよく、適宜製造したもの
を用いてもよい。
ンとアルキルマグネシウムハライドとを反応させる際の
反応温度は、０℃から使用する溶媒の還流温度程度がよ
く、好ましくは０℃〜６５℃、より好ましくは１０〜４
０℃の範囲から適宜選択される。また、反応時間は１〜
４８時間が好ましい。なお、上記トリフルオロメチル基
含有ハロゲノベンゼンおよび上記アルキルマグネシウム
ハライドは、市販品を用いてもよく、適宜製造したもの
を用いてもよい。
【００３０】つぎに、トリフルオロメチル基含有ハロゲ
ノベンゼンとアルキルマグネシウムハライドとを反応さ
せた後、得られたトリフルオロメチル基含有フェニルマ
グネシウムハライドと無水酢酸とを反応させることによ
り所望のトリフルオロメチル基含有アセトフェノン化合
物を得ることができる。無水酢酸の使用量は、トリフル
オロメチル基含有マグネシウムハライドに対して通常１
〜５倍当量、好ましくは１．５〜３倍当量の範囲から適
宜選択される。
ノベンゼンとアルキルマグネシウムハライドとを反応さ
せた後、得られたトリフルオロメチル基含有フェニルマ
グネシウムハライドと無水酢酸とを反応させることによ
り所望のトリフルオロメチル基含有アセトフェノン化合
物を得ることができる。無水酢酸の使用量は、トリフル
オロメチル基含有マグネシウムハライドに対して通常１
〜５倍当量、好ましくは１．５〜３倍当量の範囲から適
宜選択される。
【００３１】トリフルオロメチル基含有フェニルマグネ
シウムハライドと無水酢酸とを反応させる際の反応温度
は、通常−７８℃〜６５℃、好ましくは−７８℃〜４０
℃、より好ましくは−２０℃〜２０℃の範囲から適宜選
択される。また、反応時間は０．５〜２４時間が好まし
い。
シウムハライドと無水酢酸とを反応させる際の反応温度
は、通常−７８℃〜６５℃、好ましくは−７８℃〜４０
℃、より好ましくは−２０℃〜２０℃の範囲から適宜選
択される。また、反応時間は０．５〜２４時間が好まし
い。
【００３２】なお、トリフルオロメチル基含有フェニル
マグネシウムハライドと無水酢酸との反応は、トリフル
オロメチル基含有ハロゲノベンゼンとアルキルマグネシ
ウムハライドとの反応終了後、得られたトリフルオロメ
チル基含有フェニルマグネシウムハライドをそのまま無
水酢酸と反応させてもよく、適宜後処理等を行った後に
無水酢酸と反応させてもよい。このようにして得られた
トリフルオロメチル基含有アセトフェノン化合物は、た
とえば医薬中間体等に好適である。
マグネシウムハライドと無水酢酸との反応は、トリフル
オロメチル基含有ハロゲノベンゼンとアルキルマグネシ
ウムハライドとの反応終了後、得られたトリフルオロメ
チル基含有フェニルマグネシウムハライドをそのまま無
水酢酸と反応させてもよく、適宜後処理等を行った後に
無水酢酸と反応させてもよい。このようにして得られた
トリフルオロメチル基含有アセトフェノン化合物は、た
とえば医薬中間体等に好適である。
【００３３】
【実施例】以下に実施例を挙げて本発明を更に詳細に説
明するが、本発明はこれらにより限定されない。 ［例１］４−トリフルオロメチルフェニルマグネシウム
ブロミドの製造 ４−トリフルオロメチルブロモベンゼン５ｇ（２２．２
ｍｍｏｌ）およびテトラヒドロフラン１０ｍＬを混合
し、これにエチルマグネシウムブロミドの１ｍｏｌ／Ｌ
のテトラヒドロフラン溶液２４．４ｍＬ（２４．４ｍｍ
ｏｌ）を氷冷下で滴下した後、室温で１２時間撹拌反応
させた。反応終了後、４−トリフルオロメチルフェニル
マグネシウムブロミドが生成したことを確認するため
に、以下の操作を行った。すなわち、反応終了後の反応
液に氷冷下で１ｍｏｌ／Ｌ塩酸２０ｍＬを加え、酢酸エ
チル２０ｍＬで抽出した。抽出した有機相を１０％食塩
水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した。乾燥後、有
機相をガスクロマトグラフィーで分析した結果から、４
−トリフルオロメチルフェニルマグネシウムブロミドが
加水分解して生成した４−トリフルオロメチルベンゼン
を確認し、また、４−トリフルオロメチルベンゼンと４
−トリフルオロメチルブロモベンゼンとの比は９７：３
であった。
明するが、本発明はこれらにより限定されない。 ［例１］４−トリフルオロメチルフェニルマグネシウム
ブロミドの製造 ４−トリフルオロメチルブロモベンゼン５ｇ（２２．２
ｍｍｏｌ）およびテトラヒドロフラン１０ｍＬを混合
し、これにエチルマグネシウムブロミドの１ｍｏｌ／Ｌ
のテトラヒドロフラン溶液２４．４ｍＬ（２４．４ｍｍ
ｏｌ）を氷冷下で滴下した後、室温で１２時間撹拌反応
させた。反応終了後、４−トリフルオロメチルフェニル
マグネシウムブロミドが生成したことを確認するため
に、以下の操作を行った。すなわち、反応終了後の反応
液に氷冷下で１ｍｏｌ／Ｌ塩酸２０ｍＬを加え、酢酸エ
チル２０ｍＬで抽出した。抽出した有機相を１０％食塩
水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した。乾燥後、有
機相をガスクロマトグラフィーで分析した結果から、４
−トリフルオロメチルフェニルマグネシウムブロミドが
加水分解して生成した４−トリフルオロメチルベンゼン
を確認し、また、４−トリフルオロメチルベンゼンと４
−トリフルオロメチルブロモベンゼンとの比は９７：３
であった。
【００３４】［例２］３−トリフルオロメチルフェニル
マグネシウムブロミドの製造 例１において、４−トリフルオロメチルブロモベンゼン
５ｇ（２２．２ｍｍｏｌ）の代わりに３−トリフルオロ
メチルブロモベンゼン５ｇ（２２．２ｍｍｏｌ）を用い
た以外は例１と同様にして反応および３−トリフルオロ
メチルフェニルマグネシウムブロミドの生成を確認する
ための操作を行った。その結果、３−トリフルオロメチ
ルフェニルマグネシウムブロミドが加水分解して生成し
た３−トリフルオロメチルベンゼンを確認し、また、３
−トリフルオロメチルベンゼンと３−トリフルオロメチ
ルブロモベンゼンとの比は９８：２であった。
マグネシウムブロミドの製造 例１において、４−トリフルオロメチルブロモベンゼン
５ｇ（２２．２ｍｍｏｌ）の代わりに３−トリフルオロ
メチルブロモベンゼン５ｇ（２２．２ｍｍｏｌ）を用い
た以外は例１と同様にして反応および３−トリフルオロ
メチルフェニルマグネシウムブロミドの生成を確認する
ための操作を行った。その結果、３−トリフルオロメチ
ルフェニルマグネシウムブロミドが加水分解して生成し
た３−トリフルオロメチルベンゼンを確認し、また、３
−トリフルオロメチルベンゼンと３−トリフルオロメチ
ルブロモベンゼンとの比は９８：２であった。
【００３５】［例３］３，５−ビス（トリフルオロメチ
ル）フェニルマグネシウムブロミドの製造 例１において、４−トリフルオロメチルブロモベンゼン
５ｇ（２２．２ｍｍｏｌ）の代わりに３，５−ビス（ト
リフルオロメチル）ブロモベンゼン６．５ｇ（２２．２
ｍｍｏｌ）を用いた以外は例１と同様にして反応および
３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニルマグネシ
ウムブロミドの生成を確認するための操作を行った。そ
の結果、３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル
マグネシウムブロミドが加水分解して生成した１，３−
ビス（トリフルオロメチル）メチルベンゼンを確認し、
また、１，３−ビス（トリフルオロメチル）メチルベン
ゼンと３，５−ビス（トリフルオロメチル）ブロモベン
ゼンとの比は９８：２であった。
ル）フェニルマグネシウムブロミドの製造 例１において、４−トリフルオロメチルブロモベンゼン
５ｇ（２２．２ｍｍｏｌ）の代わりに３，５−ビス（ト
リフルオロメチル）ブロモベンゼン６．５ｇ（２２．２
ｍｍｏｌ）を用いた以外は例１と同様にして反応および
３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニルマグネシ
ウムブロミドの生成を確認するための操作を行った。そ
の結果、３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル
マグネシウムブロミドが加水分解して生成した１，３−
ビス（トリフルオロメチル）メチルベンゼンを確認し、
また、１，３−ビス（トリフルオロメチル）メチルベン
ゼンと３，５−ビス（トリフルオロメチル）ブロモベン
ゼンとの比は９８：２であった。
【００３６】［例４］３，５−ビス（トリフルオロメチ
ル）アセトフェノンの製造 ３，５−ビス（トリフルオロメチル）ブロモベンゼン７
６２ｇ（２．６ｍｏｌ）およびテトラヒドロフラン１２
８５ｍＬを混合し、これにエチルマグネシウムブロミド
の１ｍｏｌ／Ｌのテトラヒドロフラン溶液２８６０ｍＬ
（２．８６ｍｏｌ）を氷冷下で滴下した後、室温で１２
時間撹拌反応させた。反応終了後、反応液を、氷冷下、
無水酢酸９２９ｇ（９．１ｍｏｌ）中に滴下し、１時間
撹拌反応させた。反応終了後、反応液に水を加えてさら
に１時間撹拌した後、ｔ−ブトキシメタン１３００ｍＬ
を加えて有機相を分離した。分離した有機相を飽和重曹
水２０００ｍＬおよび１０％食塩水２０００ｍＬで順次
洗浄し、溶媒を留去した後、得られた残渣を蒸留精製
（７４℃〜７６℃、５ｍｍＨｇ）して目的の３，５−ビ
ス（トリフルオロメチル）アセトフェノン５６０ｇ（収
率８４％）を得た。
ル）アセトフェノンの製造 ３，５−ビス（トリフルオロメチル）ブロモベンゼン７
６２ｇ（２．６ｍｏｌ）およびテトラヒドロフラン１２
８５ｍＬを混合し、これにエチルマグネシウムブロミド
の１ｍｏｌ／Ｌのテトラヒドロフラン溶液２８６０ｍＬ
（２．８６ｍｏｌ）を氷冷下で滴下した後、室温で１２
時間撹拌反応させた。反応終了後、反応液を、氷冷下、
無水酢酸９２９ｇ（９．１ｍｏｌ）中に滴下し、１時間
撹拌反応させた。反応終了後、反応液に水を加えてさら
に１時間撹拌した後、ｔ−ブトキシメタン１３００ｍＬ
を加えて有機相を分離した。分離した有機相を飽和重曹
水２０００ｍＬおよび１０％食塩水２０００ｍＬで順次
洗浄し、溶媒を留去した後、得られた残渣を蒸留精製
（７４℃〜７６℃、５ｍｍＨｇ）して目的の３，５−ビ
ス（トリフルオロメチル）アセトフェノン５６０ｇ（収
率８４％）を得た。
【００３７】
【発明の効果】本発明は、作業性が向上したトリフルオ
ロメチル基含有フェニルマグネシウムハライドの製造方
法を提供するものであり、得られたトリフルオロメチル
基含有フェニルマグネシウムハライドから効率よくトリ
フルオロメチル基含有アセトフェノン化合物を製造でき
る。
ロメチル基含有フェニルマグネシウムハライドの製造方
法を提供するものであり、得られたトリフルオロメチル
基含有フェニルマグネシウムハライドから効率よくトリ
フルオロメチル基含有アセトフェノン化合物を製造でき
る。
Claims (6)
- 【請求項１】トリフルオロメチル基含有ハロゲノベンゼ
ンとアルキルマグネシウムハライドとを反応させ、得ら
れたトリフルオロメチル基含有フェニルマグネシウムハ
ライドと無水酢酸とを反応させることを特徴とするトリ
フルオロメチル基含有アセトフェノン化合物の製造方
法。 - 【請求項２】トリフルオロメチル基含有ハロゲノベンゼ
ンが式２で示される化合物である請求項１に記載の製造
方法。ただし、式２中のＸはハロゲン原子を示し、ｎは
１または２を示す。 【化１】 - 【請求項３】トリフルオロメチル基含有フェニルマグネ
シウムハライドが式３で示される化合物である請求項１
に記載の製造方法。ただし、式３中のＸ1はハロゲン原
子を示し、ｎは１または２を示す。 【化２】 - 【請求項４】トリフルオロメチル基含有アセトフェノン
化合物が式１で示される化合物である請求項１に記載の
製造方法。ただし、式１中のｎは１または２を示す。 【化３】 - 【請求項５】式２（ただし、式２中のＸはハロゲン原子
を示し、ｎは１または２を示す。）で示される化合物と
式４（ただし、式４中のＲはアルキル基を示し、Ｘ1は
ハロゲン原子を示す。）で示される化合物とを反応さ
せ、得られた式３（ただし、式３中のＸ1はハロゲン原
子を示し、ｎは１または２を示す。）で示される化合物
と無水酢酸とを反応させることを特徴とする、式１（た
だし、式１中のｎは１または２を示す。）で示される化
合物の製造方法。 【化４】 - 【請求項６】トリフルオロメチル基含有ハロゲノベンゼ
ンとアルキルマグネシウムハライドとを反応させること
を特徴とするトリフルオロメチル基含有フェニルマグネ
シウムハライドの製造方法。
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|---|---|---|---|
| JP2000369054A JP4649733B2 (ja) | 2000-12-04 | 2000-12-04 | トリフルオロメチル基含有アセトフェノン化合物の製造方法 |
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|---|---|---|---|
| JP2000369054A JP4649733B2 (ja) | 2000-12-04 | 2000-12-04 | トリフルオロメチル基含有アセトフェノン化合物の製造方法 |
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| Publication Number | Publication Date |
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Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006265133A (ja) * | 2005-03-23 | 2006-10-05 | Central Glass Co Ltd | ４−メチル−３−トリフルオロメチル安息香酸の製造方法 |
| CN105461538A (zh) * | 2016-01-06 | 2016-04-06 | 辽宁天予化工有限公司 | 一种间三氟甲基苯乙酮及其中间体的制备方法 |
| CN111302916A (zh) * | 2020-03-18 | 2020-06-19 | 湖南复瑞生物医药技术有限责任公司 | 一种3,5-双三氟甲基苯乙酮的制备方法 |
| CN113956143A (zh) * | 2021-11-15 | 2022-01-21 | 山东华阳农药化工集团有限公司 | 一种间三氟甲基苯乙酮的制备方法 |
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| JP2000355566A (ja) * | 1999-06-10 | 2000-12-26 | Central Glass Co Ltd | ビス（トリフルオロメチル）アセトフェノン類の製造方法 |
| JP2002504133A (ja) * | 1997-06-19 | 2002-02-05 | バイエル アクチェンゲゼルシャフト | トリフルオロメチルアセトフェノンの製造方法 |
| JP2003502300A (ja) * | 1999-06-11 | 2003-01-21 | メルク エンド カムパニー インコーポレーテッド | １−（３，５−ビス（トリフルオロメチル）−フェニル）エタン−１−オンの合成プロセス |
-
2000
- 2000-12-04 JP JP2000369054A patent/JP4649733B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| S531 | Written request for registration of change of domicile |
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