JP2002169269A - フォトマスクの作製方法およびフォトマスク - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 繰り返し露光を行っても寸法に狂いが生じに
くく、プリント配線板作製コストを上昇させることな
く、更に露光精度及び生産性を低下させることのないフ
ォトマスクを提供することを目的とする。 【解決手段】 フィルムベースの一方の面に露光用パタ
ーンが形成し、他方の面には粘着剤層、透明フィルム、
透過率向上層をこの順に積層したフォトマスク。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、プリント配線板や
プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）などを作製するための
フォトマスクに関し、特に長時間の露光に用いても寸法
変化の少ないフォトマスクに関する。

【０００２】

【従来の技術】通常、プリント配線板は、基板材料の表
面にドライフィルムなどのフォトレジストを積層し、こ
のフォトレジストの表面にフォトマスクの露光用パター
ンが形成された面を密着し、フォトマスクを介してフォ
トレジストを露光した後、フォトマスクを剥離し、フォ
トレジストを現像し、エッチング処理が施されることに
より製造される。この際に剥離されたフォトマスクは、
次のプリント配線板の作製へと繰り返し使用される。

【０００３】このようなフォトマスクには、通常、フィ
ルムベースの一方の面に銀塩感光乳剤からなる感光層を
積層した銀塩フィルムなどに露光用パターンを形成し、
必要に応じて露光用パターンの形成された感光層表面に
数μｍの厚みの透明保護フィルムを貼り合わせたものが
使用される。

【０００４】しかし、プリント配線板作製の露光作業環
境とは異なる保管環境にあったフォトマスクは、露光作
業を何度も行っているうちに、フォトマスクの寸法が次
第に変化し、このように寸法の狂ったフォトマスクを使
用して作製されたプリント配線板は使用に耐え得ないも
のとなってしまう。

【０００５】このため、フォトマスクの交換を頻繁に行
うことが必要となり、銀塩フィルムの大量使用や作業の
煩雑化などが生じ、結果としてプリント配線板製造コス
トを上昇させることになっていた。

【０００６】一方、このような寸法の狂いを生じさせな
いように、ガラス板の上に感光乳剤を塗布したガラス乾
板をフォトマスクとして使用することも行われている
が、現像装置の大型化やフォトマスクのコストアップを
招き、その結果前記と同様にプリント配線板製造コスト
を上昇させることになっていた。

【０００７】そこで本発明者らは、フォトマスクについ
て鋭意研究した結果、一方の面に露光用パターンが形成
されたフィルムベースの前記露光用パターンの形成され
た面の反対面に、粘着剤層を介して透明フィルムを貼合
することにより、高い寸法安定性のフォトマスクが得ら
れることを見出した。しかし、このような構成のフォト
マスクは、露光光源と感光材料との間に余分なフィルム
や粘着剤層を存在させることとなり、層界面が多く存在
しこれらの界面での光の屈折や反射によって精度の高い
画線を再現できなくなるという問題が生じた。また、こ
のようなフォトマスクの紫外線透過率は、何も貼り合わ
せてないものと比べて低下してしまうため、より多くの
露光量が必要となる。露光量を増やすため必然的に露光
時間が長くなり、生産性の著しい低下を招いてしまう。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】そこで本発明は、繰り
返し露光を行っても寸法に狂いが生じにくく、プリント
配線板作製コストを上昇させることなく、更に露光精度
及び生産性を低下させることのないフォトマスクの作製
方法およびフォトマスクを提供することを目的とする。

【０００９】

【課題を解決するための手段】上記目的を解決する本発
明のフォトマスクの作製方法は、一方の面に露光用パタ
ーンが形成されたフィルムの前記露光用パターンの形成
された面の反対面に、粘着剤層を介して、少なくとも一
方の面に透過率向上層が設けられた透明フィルムを貼合
することを特徴とするものである。

【００１０】また、本発明のフォトマスクは、フィルム
ベースの一方の面には露光用パターンが形成され、他方
の面には粘着剤層と、少なくとも一方の面に透過率向上
層が設けられた透明フィルムがこの順に積層されてなる
ことを特徴とするものである。

【００１１】また、本発明のフォトマスクは、透明フィ
ルムとして高防湿性物質層を透明プラスチックフィルム
の少なくとも片面に設けたものを用いたことを特徴とす
るものである。

【００１２】また、本発明のフォトマスクは、透明フィ
ルムとして環状オレフィン系フィルムを用いたことを特
徴とするものである。

【００１３】

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態とし
て、フィルムベースの一方の面には露光用パターンが形
成され、他方の面には粘着剤層、透明フィルム、透過率
向上層がこの順に積層されたフォトマスク及びフォトマ
スクの作製方法を例として説明する。

【００１４】本発明のフォトマスクおよびフォトマスク
の作製方法に用いられる一方の面に露光用パターンが形
成されたフィルムは、通常プリント配線板作製用のフォ
トマスクとして使用されているフィルムが使用される。
このフィルムとしては、一般に一方の面に銀塩感光乳剤
などの感光層を積層した銀塩フィルムなどの感光性フィ
ルムが用いられる。この感光性フィルムに露光用パター
ンを焼き付け、現像することにより、一方の面に露光用
パターンが形成されたフィルムが得られる。

【００１５】このようなフィルムは、基板材料の表面に
積層されたドライフィルムなどのフォトレジストを配線
パターン状に露光するために、フォトレジストの表面に
フィルムの露光用パターンが形成された面を密着し、露
光するのに供される。この際、フィルムの露光用パター
ンが形成された面の傷を防止したり、フォトレジストの
付着を防止するために、必要に応じて露光用パターンの
形成された面に１〜２０μｍ程度の薄い透明保護フィル
ムを貼り合わせることが可能である。

【００１６】次に、本発明のフォトマスクの作製方法と
しては、上記一方の面に露光用パターンが形成されたフ
ィルムの露光用パターンの形成された面の反対面に、一
方の面に粘着剤層を設け他方の面に透過率向上層を設け
た透明フィルムを、前記粘着剤層を介して貼合する方法
があげられる。また、このようにして作製されたフォト
マスクは、フィルムベースの一方の面には露光用パター
ンが形成され、他方の面には粘着剤層、透明フィルム、
透過率向上層がこの順に積層されたものである。

【００１７】フォトマスクの寸法変化については、フォ
トマスクの保管環境及び、プリント配線板作製時の露光
作業環境における湿度の変化に大きく依存するものと思
われる。すなわち、寸法変化の原因は、フォトマスクの
吸水性に起因しており、湿度の変化に合わせてフォトマ
スクから水分が出入りするためフォトマスクの含水量が
変化し、伸縮して寸法変化を起こすものと考えられる。
また、露光される際に発せられる熱により、フォトマス
クが伸縮して寸法変化を起こすことも考えられる。

【００１８】そこで、本発明においては、フォトマスク
の露光用パターンの形成された面とは反対面に、粘着剤
層を介して透明フィルムを貼合しフォトマスクの寸法変
化を防止する。すなわち、露光用パターンの形成された
フィルムが湿度や温度の変化によって伸縮しようとして
も、この粘着剤層を介した透明フィルムが押さえつける
ことによって伸縮を防ぎ、寸法変化を防止するのであ
る。

【００１９】しかし、単にこのような透明フィルムのみ
を貼合するとすれば、露光の際に照射される紫外線の透
過率が低下してしまうが、本発明においては透明フィル
ムに透過率向上層を設けているため、紫外線の透過率が
低下するのを防止することができる。

【００２０】ここで透明フィルムに設けられた透過率向
上層としては、露光機より照射された紫外線を光の干渉
を利用して、透明フィルムの表面での反射を防止するこ
とによって透過率を向上させるものがあげられる。この
ような透過率向上層は、透明フィルムの屈折率よりも低
い屈折率を有する高透明性の層であり、この高透明性の
低屈折率層を露光機から照射される紫外線の波長に対し
て、波長の１／４の光学膜厚を設けて単層とする他、こ
の低屈折率層に紫外線の波長に基づいた光学膜厚の高屈
折率層、中屈折率層、低屈折率層を適宜一層以上積層し
多層とすることができる。なお、ここでいう光学膜厚と
は、層の屈折率ｎと機械的な膜厚ｄとの積ｎｄによって
求められる膜厚のことである。

【００２１】これら透過率向上層を形成する方法として
は、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティ
ング法などの真空製膜法や、ブレードコータ法、ロッド
コータ法、グラビアコータ法などの塗布法等により設け
る方法が採用できる。

【００２２】ここで真空製膜法において、低屈折率層を
構成する材料としては、Ｓｉの酸化物やＬｉ、Ｎａ、Ｍ
ｇ、Ａｌ、Ｃａ等のフッ化物があげられ、高屈折率層を
構成する材料としては、Ｔｉ、Ｃｒ、Ｚｒ、Ｎｉ、Ｍｏ
等の単体やＴｉ、Ｚｎ、Ｙ、Ｚｒ、Ｉｎ、Ｓｎ、Ｓｂ、
Ｈｆ、Ｔａ、Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎｄ等の酸化物があげられ、
中屈折率層を構成する材料としては、Ｌａ、Ｎｄ、Ｐｂ
等のフッ化物があげられる。

【００２３】また塗布法において、低屈折率層を構成す
る材料としては、フッ素原子が導入された樹脂や、有機
珪素化合物や、フッ化マグネシウムやシリカ等の低屈折
率微粒子を分散した樹脂や、珪素アルコキシドを加水分
解して調整した酸化珪素ゾル等があげられ、高屈折率層
を構成する材料としては、フッ素以外のハロゲン、硫
黄、窒素、燐等の原子又は芳香族環等が導入された樹脂
や、金属酸化物等からなる高屈折率微粒子を分散した樹
脂や、珪素以外の金属アルコキシドを加水分解して調整
した金属酸化物ゾル等があげられ、中屈折率層を構成す
る材料としてはこれらの材料の中間の屈折率となる適宜
の材料を採用することができる。

【００２４】以上のような多層の透過率向上層とした場
合の厚みは、照射される紫外線の波長の反射防止を好適
に行うに際して、その構成中の低、高、中屈折率層の光
学膜厚が０．０１μｍ〜０．８μｍ、好ましくは、０．
０１μｍ〜０．４μｍの範囲で適宜選択した低、高、中
屈折率層を必要に応じて積層した厚みとすることができ
る。

【００２５】透明フィルムとしては、露光を阻害しない
よう光透過性に優れ、またフォトマスク全体としての寸
法変化を抑えるために湿度依存性が低く、耐熱性に優れ
たものが望ましい。このような透明フィルムとしては、
ポリカーボネート、ポリエステル、ポリエチレン、ポリ
プロピレン、ポリ塩化ビニリデン、フッ素樹脂、環状オ
レフィン系樹脂などの透明プラスチックフィルムがあげ
られる。

【００２６】このような透明フィルムは、ガラス板に比
べ安価であり、軽いので持ち運びの際の作業性が低下し
ない。また、フォトマスクには位置合わせのためのピン
穴が設けられ、１回の露光作業ごとにピンから抜き差し
する作業を伴う場合があるが、露光回数を重ねるごとに
ピン穴が大きくなりフォトマスクの位置ずれをおこすと
いう弊害がある。しかし、本発明においては透明フィル
ムを設けているため、このような弊害を防止できるとい
う効果をも有する。さらに、露光後にフォトマスクを剥
離したり、次の露光のためにフォトレジストに密着させ
たりする作業の際に、いわゆるペコといわれる傷がフォ
トマスクに入ってしまう場合があるが、透明フィルムを
設けているため、ペコなどの傷が入りづらく、作業性を
向上できるという効果も有する。

【００２７】透明フィルムとして上記のような透明プラ
スチックフィルムを使用する場合には、前記透明プラス
チックフィルムの少なくとも片面に、前記透明プラスチ
ックフィルムよりも水蒸気透過率の低い高防湿性物質層
を設け、これを透明フィルムとして使用することも好ま
しい。このような高防湿性物質層を設けることによっ
て、基材の厚みが薄い場合でも高い寸法安定性を得るこ
とが可能となる。

【００２８】高防湿性物質層に用いられる水蒸気透過率
の低い物質としては、珪素、アルミニウム、チタン、セ
レン、マグネシウム、バリウム、亜鉛、錫、インジウ
ム、カルシウム、タンタル、ジルコニウム、トリウム、
タリウムなどの酸化物、またはそれらのハロゲン化物の
単独または混合物などの無機金属化合物、塩化ビニリデ
ン−塩化ビニル共重合体、塩化ビニリデン−アクリロニ
トリル共重合体、塩化ビニリデン−アクリル酸共重合
体、塩化ビニリデン−アクリル酸エステル共重合体など
の塩化ビニリデン樹脂や、ポリクロロトリフルオロエチ
レン（ＰＣＴＦＥ）、テトラフルオロエチレン−ヘキサ
フルオロプロピレン共重合体（ＦＥＰ）、テトラフルオ
ロエチレン−パーフルオロアルキルビニルエーテル共重
合体（ＰＦＡ）などのフッ素樹脂などの合成樹脂があげ
られる。

【００２９】このような層を設ける手段としては、上記
水蒸気透過率の低い物質を上記透明プラスチックフィル
ムの片面または両面に真空蒸着法、スパッタリング法、
イオンプレーティング法などにより設ける方法、上記水
蒸気透過率の低い物質を溶剤に溶解または分散して公知
の塗布方法により上記透明プラスチックフィルムの片面
または両面に塗布し積層する方法、上記水蒸気透過率の
低い物質をフィルム状に成膜した後に上記透明プラスチ
ックフィルムの片面または両面にラミネートする方法等
があげられる。

【００３０】また、高防湿性物質層を設けない場合に
は、透明フィルムとして環状オレフィン系フィルムを用
いることも好ましい。環状オレフィン系フィルムを透明
フィルムとして使用すると、フィルムの表面または断面
から吸水することはないので、プリント配線板作製の露
光作業が長時間に及ぶ場合でも、湿度変化による伸縮な
どは見られない。

【００３１】本発明で使用される環状オレフィン系フィ
ルムは、環状オレフィン系ポリマーを使用して、押し出
し成形、インフレーション成形等によりシート等に成形
されたものが用いられる。フィルムは、未延伸でも一軸
もしくは二軸延伸してもよい。

【００３２】環状オレフィン系ポリマーとしては、環状
オレフィンから導かれる構成単位単独から導かれるポリ
マー、または、直鎖状、分岐状のα―オレフィンから導
かれる構成単位、芳香族ビニル化合物から導かれる構成
単位、およびアルキル（メタ）アクリレートから導かれ
る構成単位の少なくとも１種の構成単位と環状オレフィ
ンから導かれる構成単位とのコポリマーがあげられる。
各構成単位の結合はブロックであってもランダムであっ
てもよい。

【００３３】環状オレフィンとしては、ビシクロ-2-ヘ
プテン誘導体（ビシクロヘプト-2-エン誘導体）、トリ
シクロ-3-デセン誘導体、トリシクロ-3-ウンデセン誘導
体、テトラシクロ-3-ドデセン誘導体、ペンタシクロ-4-
ペンタデセン誘導体、ペンタシクロペンタデカジエン誘
導体、ペンタシクロ-3-ペンタデセン誘導体、ペンタシ
クロ-3-ヘキサデセン誘導体、ペンタシクロ-4-ヘキサデ
セン誘導体、ヘキサシクロ-4-ヘプタデセン誘導体、ヘ
プタシクロ-5-エイコセン誘導体、ヘプタシクロ-4-エイ
コセン誘導体、ヘプタシクロ-5-ヘンエイコセン誘導
体、オクタシクロ-5-ドコセン誘導体、ノナシクロ-5-ペ
ンタコセン誘導体、ノナシクロ-6-ヘキサコセン誘導
体、シクロペンタジエン-アセナフチレン付加物、1,4-
メタノ-1,4,4a,9a-テトラヒドロフルオレン誘導体、1,4
-メタノ-1,4,4a,5,10,10a-ヘキサヒドロアントラセン誘
導体等のノルボルネン環を有するものがあげられる。

【００３４】上記環状オレフィン系ポリマーとしては、
ガラス転移点（Ｔｇ）が５０〜２２０℃、好ましくは８
０〜１７０℃、吸水率が０．３％以下、好ましくは０．
１％以下であり、光線透過率が８８〜９５％と透明性の
高いものが好適である。

【００３５】透明フィルムの厚みとしては、光透過性を
阻害せずフォトマスク全体の寸法安定性の向上を図るた
め４〜３５０μｍ、好ましくは１００〜２５０μｍのも
のが採用される。

【００３６】透明フィルムと透過率向上層との間、また
は透明フィルムと粘着剤層の間など、露光精度を阻害し
ない範囲で必要に応じて帯電防止処理などを施すことも
可能である。

【００３７】粘着剤層を構成する粘着剤としては、一般
に使用されるアクリル系粘着剤、ゴム系粘着剤などが使
用されるが透明性を阻害しないことが必要である。ま
た、帯電防止などの性能を持つ粘着剤を使用しても良
い。粘着剤層の厚みは、光透過性（解像度）を阻害せ
ず、適度な粘着性が得られるように２〜６０μｍ、好ま
しくは３〜３０μｍの範囲が採用される。

【００３８】粘着剤層は、一般には、上記粘着剤を必要
に応じて溶剤に溶解または分散して、公知の塗布方法に
よって透明フィルムに塗布することによって積層され
る。

【００３９】以上、フィルムベースの一方の面には露光
用パターンが形成され、他方の面には粘着剤層、透明フ
ィルム、透過率向上層がこの順に積層されたフォトマス
ク及びフォトマスクの作製方法を例として説明したが、
本発明はこれに限られるものではなく、例えば、本発明
のフォトマスクは、フィルムベースの一方の面には露光
用パターンが形成され、他方の面には粘着剤層、透過率
向上層、透明フィルム、透過率向上層がこの順に積層さ
れたものや、フィルムベースの一方の面には露光用パタ
ーンが形成され、他方の面には粘着剤層、透過率向上
層、透明フィルムがこの順に積層されたものとしてもよ
いことはいうまでもない。

【００４０】

【実施例】以下、本発明の実施例を説明する。

【００４１】［実施例１］二軸延伸された透明なポリエ
ステルフィルム（コスモシャインA4100、１８８μｍ：
東洋紡績社）の片面に、テトラエトキシシランの加水分
解液を塗布・乾燥し、厚み約０．１μｍの透過率向上層
を形成した。次にこのフィルムの透過率向上層を設けて
いない方の面に、溶剤で希釈した粘着剤（ＳＫダイン15
01B：綜研化学社）を塗布・乾燥し、厚み１０μｍの粘
着剤層を形成した。

【００４２】次に、一方の面に露光用パターンとして測
定用の評点（評点間距離：４５０ｍｍ）が形成された銀
塩フィルム（ＡＧＸ−７、約１９０μｍ：Ｋｏｄａｋ
社）の露光用パターンの形成された面に、レジスト付着
防止用保護フィルム（キモテクトＰＡ８Ｘ、６μｍ：き
もと社）をラミネートし、反対面には上記において透過
率向上層と粘着剤層を形成したポリエステルフィルムの
粘着剤層を対向させてラミネートし、本発明のフォトマ
スクを作製した。

【００４３】［実施例２］二軸延伸された透明なポリエ
ステルフィルム（コスモシャインA4100、１００μｍ：
東洋紡績社）の片面に実施例１と同様にして透過率向上
層を形成した。次にこのフィルムの透過率向上層を設け
ていない方の面にフッ素樹脂（オプスターJE4200：ＪＳ
Ｒ社）を塗布・乾燥し厚み１μｍの高防湿性物質層を設
け、その上層に実施例１と同様にして粘着剤層を形成し
た以外は、実施例１と同様にして本発明のフォトマスク
を作製した。

【００４４】［実施例３］実施例１のポリエステルフィ
ルム（コスモシャインA4100、１８８μｍ：東洋紡績
社）を環状オレフィン系フィルム（ゼオノア1420R、１
８８μｍ：日本ゼオン社）に変更した以外は実施例１と
同様にして本発明のフォトマスクを作製した。

【００４５】［比較例１］実施例１のポリエステルフィ
ルムに透過率向上層を設けなかった以外は実施例１と同
様にしてフォトマスクを作製した。

【００４６】［比較例２］実施例２のポリエステルフィ
ルムに透過率向上層を設けなかった以外は実施例２と同
様にしてフォトマスクを作製した。

【００４７】［比較例３］実施例３の環状オレフィン系
フィルムに透過率向上層を設けなかった以外は実施例３
と同様にしてフォトマスクを作製した。

【００４８】［比較例４］実施例１のフォトマスクにつ
いて、ポリエステルフィルムをラミネートせずに保護フ
ィルムのみを貼り合わせたものをフォトマスクとした。

【００４９】上記実施例および比較例のフォトマスクに
ついて、湿度の変化による伸縮試験を行った。実施例１
〜３および比較例１〜４のフォトマスクを５００ｍｍ×
５００ｍｍの大きさに切り試験片を作製した。各試験片
を２０℃・６５％ＲＨの環境に７２時間放置した後、評
点間の距離を測定した。その後２０℃・２０％の環境に
移して、３時間後、８時間後、２４時間後の評点間の距
離を測定し、これらの寸法変化をみた。結果を表１に示
す。なお、寸法変化の欄における「−」は、試験片が縮
んだことを意味する。

【００５０】また、実施例１および比較例４のフォトマ
スクについて、露光の際に発せられる熱による伸縮試験
を行った。実施例１および比較例４のフォトマスクを５
００ｍｍ×５００ｍｍの大きさに切り試験片を作製し
た。各試験片を露光作業場所に７２時間放置した後、評
点間の距離を測定した。次に、露光装置（ジェットライ
トＵＶ４３０ＡＰ１：オーク製作所社）を用いて、一定
時間をおきながら２００回の露光を行った後、評点間の
距離を測定した。なお、１回あたりの露光量は５０mJ/c
m²で行った。結果を表１に示す。

【００５１】

【表１】

【００５２】次に実施例及び比較例のフォトマスクにつ
いて、一般的なフォトレジストの感光波長域である３６
５ｎｍ〜４２０ｎｍ付近の紫外線透過率と、可視光線域
の全光線透過率、平行光線透過率、及びＨＡＺＥを測定
し、その光学特性を評価した。なお、測定は銀塩フィル
ムの露光用パターンの無い部分を用いて、保護フィルム
を有する面とは反対面側から光を照射することにより行
った。また、紫外線透過率（３６５ｎｍ、４２０ｎｍ）
の測定は島津自記分光光度計（ＵＶ−３１１０１ＰＣ：
島津製作所社）を用い、可視光線域の透過率及びＨＡＺ
Ｅはヘーズメータ（ＨＧＭ−２Ｋ：スガ試験機社）を用
いた。結果を表２に示す。なお、表中の単位は「％」で
ある。

【００５３】

【表２】

【００５４】表１より透明フィルムを貼合したフォトマ
スク（実施例１〜３、比較例１〜３）は、保護フィルム
のみ貼合したフォトマスク（比較例４）と比べて寸法安
定性に優れていることが分かる。特に、実施例３のフォ
トマスクについては、４８時間経過後の評点間の距離を
測定したところ、２４時間経過後からの寸法変化はまっ
たくみられず、優れた寸法安定性のフォトマスクである
ことが分かった。また、表２より透明フィルムに透過率
向上層を設けたフォトマスク（実施例１〜３）は、透過
率向上層を設けていないフォトマスク（比較例１〜３）
に比べて、全ての光学特性で優れていることが分かる。
また、保護フィルムしか貼合していないフォトマスク
（比較例４）と比較しても、実施例３のフォトマスクに
おいては全ての光学特性で優れており、実施例１、２の
フォトマスクにおいては３６５ｎｍ付近の紫外線透過率
がわずかに低下しているものの、その他の光学特性は同
等以上であることが分かる。

【００５５】以上より、実施例のフォトマスクは、露光
精度を低下させることなく、寸法安定性に優れたフォト
マスクであることが分かる。

【００５６】

【発明の効果】本発明によれば、繰り返し露光を行って
も寸法に狂いが生じにくく、プリント配線板作製コスト
を上昇させることなく、更に露光精度及び生産性を低下
させることのないフォトマスクが得られる。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 栗嶋 進 埼玉県与野市鈴谷４丁目６番35号 株式会 社きもと技術開発センター内 Ｆターム(参考） 2H095 BA04 BA11 BC06 BC20 2H097 GA00 JA02 LA09

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】一方の面に露光用パターンが形成されたフ
   ィルムの前記露光用パターンの形成された面の反対面
   に、粘着剤層を介して、少なくとも一方の面に透過率向
   上層が設けられた透明フィルムを貼合することを特徴と
   するフォトマスクの作製方法。
2. 【請求項２】フィルムベースの一方の面には露光用パタ
   ーンが形成され、他方の面には粘着剤層と、少なくとも
   一方の面に透過率向上層が設けられた透明フィルムがこ
   の順に積層されてなることを特徴とするフォトマスク。
3. 【請求項３】請求項２記載のフォトマスクであって、前
   記透明フィルムとして高防湿性物質層を透明プラスチッ
   クフィルムの少なくとも片面に設けたものを用いたこと
   を特徴とするフォトマスク。
4. 【請求項４】請求項２記載のフォトマスクであって、前
   記透明フィルムとして環状オレフィン系フィルムを用い
   たことを特徴とするフォトマスク。