JP2002169264A - フォトマスクの作製方法およびフォトマスク - Google Patents
フォトマスクの作製方法およびフォトマスクInfo
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- JP2002169264A JP2002169264A JP2000365021A JP2000365021A JP2002169264A JP 2002169264 A JP2002169264 A JP 2002169264A JP 2000365021 A JP2000365021 A JP 2000365021A JP 2000365021 A JP2000365021 A JP 2000365021A JP 2002169264 A JP2002169264 A JP 2002169264A
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- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 ガラス乾板を用いたフォトマスクを使用する
場合に、ガラスの破損などにより露光機を傷つけてしま
うことなく、露光精度及び生産性を低下させることのな
いフォトマスクを提供することを目的とする。 【解決手段】 ガラス支持体の一方の面に露光用パター
ンを形成し、他方の面には粘着剤層、透明フィルム、透
過率向上層をこの順に積層したフォトマスク。
場合に、ガラスの破損などにより露光機を傷つけてしま
うことなく、露光精度及び生産性を低下させることのな
いフォトマスクを提供することを目的とする。 【解決手段】 ガラス支持体の一方の面に露光用パター
ンを形成し、他方の面には粘着剤層、透明フィルム、透
過率向上層をこの順に積層したフォトマスク。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、プリント配線板や
プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）などを作製するための
フォトマスクに関し、特にガラスを支持体とするフォト
マスクの破損などから露光機を保護することができるフ
ォトマスクに関する。
プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）などを作製するための
フォトマスクに関し、特にガラスを支持体とするフォト
マスクの破損などから露光機を保護することができるフ
ォトマスクに関する。
【０００２】
【従来の技術】通常、プリント配線板は、基板材料の表
面にドライフィルムなどのフォトレジストを積層し、こ
のフォトレジストの表面にフォトマスクの露光用パター
ンが形成された面を密着し、フォトマスクを介してフォ
トレジストを露光した後、フォトマスクを剥離し、フォ
トレジストを現像し、エッチング処理が施されることに
より製造される。この際に剥離されたフォトマスクは、
次のプリント配線板の作製へと繰り返し使用される。
面にドライフィルムなどのフォトレジストを積層し、こ
のフォトレジストの表面にフォトマスクの露光用パター
ンが形成された面を密着し、フォトマスクを介してフォ
トレジストを露光した後、フォトマスクを剥離し、フォ
トレジストを現像し、エッチング処理が施されることに
より製造される。この際に剥離されたフォトマスクは、
次のプリント配線板の作製へと繰り返し使用される。
【０００３】近年、プリント配線板などの高密度化への
要求が著しく、これに使用するフォトマスクの寸法精度
の向上が必要となってきている。このために、ガラスを
支持体として、この上に感光乳剤からなる層を設けたガ
ラス乾板を用いたフォトマスクが使用されている。この
ようなフォトマスクには、フォトレジストの付着を防止
したりする目的で、露光用パターンの形成された面に数
μｍの厚みの透明保護フィルムを貼り合わせることがあ
る。
要求が著しく、これに使用するフォトマスクの寸法精度
の向上が必要となってきている。このために、ガラスを
支持体として、この上に感光乳剤からなる層を設けたガ
ラス乾板を用いたフォトマスクが使用されている。この
ようなフォトマスクには、フォトレジストの付着を防止
したりする目的で、露光用パターンの形成された面に数
μｍの厚みの透明保護フィルムを貼り合わせることがあ
る。
【０００４】このようなガラスを支持体とするフォトマ
スクは、フィルムを支持体とするフォトマスクに比べて
プリント配線板の露光作業工程中の寸法変化を著しく改
善し、高精度な原稿の露光を可能とするものであるが、
何度も露光作業を行っているうちにガラスの破損などが
生じて露光機を傷つけてしまう、という問題がある。し
かし上記のように露光用パターンの形成された面に透明
保護フィルムを貼り合わせただけでは、これらの保護フ
ィルムが露光精度を低下させないために極めて薄いもの
を使用しているため、ガラスの破損などによる問題は防
止しえない。
スクは、フィルムを支持体とするフォトマスクに比べて
プリント配線板の露光作業工程中の寸法変化を著しく改
善し、高精度な原稿の露光を可能とするものであるが、
何度も露光作業を行っているうちにガラスの破損などが
生じて露光機を傷つけてしまう、という問題がある。し
かし上記のように露光用パターンの形成された面に透明
保護フィルムを貼り合わせただけでは、これらの保護フ
ィルムが露光精度を低下させないために極めて薄いもの
を使用しているため、ガラスの破損などによる問題は防
止しえない。
【０００５】一方、窓ガラスなどの飛散を防止するため
に、二枚の窓ガラスをプラスチックフィルムを介して貼
り合わせたり、窓ガラスの一方の面に粘着剤層を介して
プラスチックフィルムを貼り合わせたりする方法が一般
に行われている。しかし、感光材料の密着焼付けを行う
ような分野においては、露光光源と感光材料との間に余
分なフィルムや粘着剤層などを存在させると層界面が多
く存在することとなり、これらの界面での光の屈折や反
射によって精度の高い画線を再現できなくなるとの理由
から露光光源と感光材料との間の界面をできる限り少な
くする必要があると共に、介在する層の厚みをできる限
り薄くする必要があると考えられている。従って、ガラ
ス乾板にガラスの破損による問題を防止できる程度の厚
みをもった粘着フィルムを貼り合わせるということは、
精度を向上させるためにガラス乾板を用いるという考え
方に反するものであり、まったく無意味であると考えら
れていた。
に、二枚の窓ガラスをプラスチックフィルムを介して貼
り合わせたり、窓ガラスの一方の面に粘着剤層を介して
プラスチックフィルムを貼り合わせたりする方法が一般
に行われている。しかし、感光材料の密着焼付けを行う
ような分野においては、露光光源と感光材料との間に余
分なフィルムや粘着剤層などを存在させると層界面が多
く存在することとなり、これらの界面での光の屈折や反
射によって精度の高い画線を再現できなくなるとの理由
から露光光源と感光材料との間の界面をできる限り少な
くする必要があると共に、介在する層の厚みをできる限
り薄くする必要があると考えられている。従って、ガラ
ス乾板にガラスの破損による問題を防止できる程度の厚
みをもった粘着フィルムを貼り合わせるということは、
精度を向上させるためにガラス乾板を用いるという考え
方に反するものであり、まったく無意味であると考えら
れていた。
【０００６】しかし、ガラス支持体の破損により生じた
ガラスの破片が露光機を傷つけてしまうという問題は深
刻であり、露光機を守るため敢えてこのような粘着フィ
ルムを貼り合わせて使用する場合が多く、この場合フォ
トマスクの紫外線透過率は粘着フィルムを貼り合わせて
ないものと比べて低下してしまうため、より多くの露光
量が必要となる。露光量を増やすため必然的に露光時間
が長くなり、生産性の著しい低下を招いている。
ガラスの破片が露光機を傷つけてしまうという問題は深
刻であり、露光機を守るため敢えてこのような粘着フィ
ルムを貼り合わせて使用する場合が多く、この場合フォ
トマスクの紫外線透過率は粘着フィルムを貼り合わせて
ないものと比べて低下してしまうため、より多くの露光
量が必要となる。露光量を増やすため必然的に露光時間
が長くなり、生産性の著しい低下を招いている。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】そこで本発明は、ガラ
ス乾板を用いたフォトマスクを使用する場合に、ガラス
の破損などにより露光機を傷つけてしまうことなく、更
に露光精度及び生産性を低下させることのないフォトマ
スクの作製方法およびフォトマスクを提供することを目
的とする。
ス乾板を用いたフォトマスクを使用する場合に、ガラス
の破損などにより露光機を傷つけてしまうことなく、更
に露光精度及び生産性を低下させることのないフォトマ
スクの作製方法およびフォトマスクを提供することを目
的とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】上記目的を解決する本発
明のフォトマスクの作製方法は、一方の面に露光用パタ
ーンが形成されたガラス支持体の前記露光用パターンの
形成された面の反対面に、粘着剤層を介して、少なくと
も一方の面に透過率向上層が設けられた透明フィルムを
貼合することを特徴とするものである。
明のフォトマスクの作製方法は、一方の面に露光用パタ
ーンが形成されたガラス支持体の前記露光用パターンの
形成された面の反対面に、粘着剤層を介して、少なくと
も一方の面に透過率向上層が設けられた透明フィルムを
貼合することを特徴とするものである。
【０００９】また、本発明のフォトマスクは、ガラス支
持体の一方の面には露光用パターンが形成され、他方の
面には粘着剤層と、少なくとも一方の面に透過率向上層
が設けられた透明フィルムがこの順に積層されてなるこ
とを特徴とするものである。
持体の一方の面には露光用パターンが形成され、他方の
面には粘着剤層と、少なくとも一方の面に透過率向上層
が設けられた透明フィルムがこの順に積層されてなるこ
とを特徴とするものである。
【００１０】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態とし
て、ガラス支持体の一方の面には露光用パターンが形成
され、他方の面には粘着剤層、透明フィルム、透過率向
上層がこの順に積層されたフォトマスク及びフォトマス
クの作製方法を例として説明する。
て、ガラス支持体の一方の面には露光用パターンが形成
され、他方の面には粘着剤層、透明フィルム、透過率向
上層がこの順に積層されたフォトマスク及びフォトマス
クの作製方法を例として説明する。
【００１１】本発明のフォトマスクの作製方法およびフ
ォトマスクに用いられるガラス支持体の一方の面に露光
用パターンを形成する方法としては、通常、ガラス乾板
用のガラスとして用いられている厚み数ｍｍのガラス板
に銀塩感光乳剤などの感光液を均一な厚みに塗布し乾燥
したものに、露光用パターンを焼き付けて現像すること
により得ることができる。
ォトマスクに用いられるガラス支持体の一方の面に露光
用パターンを形成する方法としては、通常、ガラス乾板
用のガラスとして用いられている厚み数ｍｍのガラス板
に銀塩感光乳剤などの感光液を均一な厚みに塗布し乾燥
したものに、露光用パターンを焼き付けて現像すること
により得ることができる。
【００１２】このようにして一方の面に露光用パターン
が形成されたガラス支持体は、プリント基板材料の表面
に積層されたドライフィルムなどのフォトレジストを配
線パターン状に露光するために、フォトレジストの表面
にガラス支持体の露光用パターンが形成された面を密着
し、露光するのに供される。この際、ガラス支持体の露
光用パターンが形成された面の傷を防止したり、フォト
レジストの付着を防止するために、必要に応じて露光用
パターンの形成された面に１〜２０μｍ程度の薄い透明
保護フィルムを貼り合わせることが可能である。
が形成されたガラス支持体は、プリント基板材料の表面
に積層されたドライフィルムなどのフォトレジストを配
線パターン状に露光するために、フォトレジストの表面
にガラス支持体の露光用パターンが形成された面を密着
し、露光するのに供される。この際、ガラス支持体の露
光用パターンが形成された面の傷を防止したり、フォト
レジストの付着を防止するために、必要に応じて露光用
パターンの形成された面に１〜２０μｍ程度の薄い透明
保護フィルムを貼り合わせることが可能である。
【００１３】次に、本発明のフォトマスクの作製方法と
しては、上記一方の面に露光用パターンが形成されたガ
ラス支持体の露光用パターンの形成された面の反対面
に、一方の面に粘着剤層を設け他方の面に透過率向上層
を設けた透明フィルムを、前記粘着剤層を介して貼合す
る方法があげられる。また、このようにして作製された
フォトマスクは、ガラス支持体の一方の面には露光用パ
ターンが形成され、他方の面には粘着剤層、透明フィル
ム、透過率向上層がこの順に積層されたものである。こ
のようにガラス支持体に透明フィルムが貼合されること
により、従来問題となっていた露光作業工程におけるガ
ラス支持体の破損などが生じても、ガラスの飛散を防止
でき露光機を傷つけてしまうのを防止できるのみなら
ず、露光作業工程におけるガラス支持体の破損自体を軽
減できるものである。
しては、上記一方の面に露光用パターンが形成されたガ
ラス支持体の露光用パターンの形成された面の反対面
に、一方の面に粘着剤層を設け他方の面に透過率向上層
を設けた透明フィルムを、前記粘着剤層を介して貼合す
る方法があげられる。また、このようにして作製された
フォトマスクは、ガラス支持体の一方の面には露光用パ
ターンが形成され、他方の面には粘着剤層、透明フィル
ム、透過率向上層がこの順に積層されたものである。こ
のようにガラス支持体に透明フィルムが貼合されること
により、従来問題となっていた露光作業工程におけるガ
ラス支持体の破損などが生じても、ガラスの飛散を防止
でき露光機を傷つけてしまうのを防止できるのみなら
ず、露光作業工程におけるガラス支持体の破損自体を軽
減できるものである。
【００１４】しかし、単に粘着フィルムのみを貼合する
とすれば、露光の際に照射される紫外線の透過率が低下
してしまうが、本発明においては透明フィルムに透過率
向上層を設けているため、紫外線の透過率が低下するの
を防止することができる。
とすれば、露光の際に照射される紫外線の透過率が低下
してしまうが、本発明においては透明フィルムに透過率
向上層を設けているため、紫外線の透過率が低下するの
を防止することができる。
【００１５】ここで透明フィルムに設けられた透過率向
上層としては、露光機より照射された紫外線を光の干渉
を利用して透明フィルムの表面での反射を防止すること
によって透過率を向上させるものがあげられる。このよ
うな透過率向上層は、透明フィルムの屈折率よりも低い
屈折率を有する高透明性の層であり、この高透明性の低
屈折率層を露光機から照射される紫外線の波長に対し
て、波長の１／４の光学膜厚を設けて単層とする他、こ
の低屈折率層に紫外線の波長に基づいた光学膜厚の高屈
折率層、中屈折率層、低屈折率層を適宜一層以上積層し
多層とすることができる。なお、ここでいう光学膜厚と
は、層の屈折率ｎと機械的な膜厚ｄとの積ｎｄによって
求められる膜厚のことである。
上層としては、露光機より照射された紫外線を光の干渉
を利用して透明フィルムの表面での反射を防止すること
によって透過率を向上させるものがあげられる。このよ
うな透過率向上層は、透明フィルムの屈折率よりも低い
屈折率を有する高透明性の層であり、この高透明性の低
屈折率層を露光機から照射される紫外線の波長に対し
て、波長の１／４の光学膜厚を設けて単層とする他、こ
の低屈折率層に紫外線の波長に基づいた光学膜厚の高屈
折率層、中屈折率層、低屈折率層を適宜一層以上積層し
多層とすることができる。なお、ここでいう光学膜厚と
は、層の屈折率ｎと機械的な膜厚ｄとの積ｎｄによって
求められる膜厚のことである。
【００１６】これら透過率向上層を形成する方法として
は、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティ
ング法などの真空製膜法や、ブレードコータ法、ロッド
コータ法、グラビアコータ法などの塗布法等により設け
る方法が採用できる。
は、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティ
ング法などの真空製膜法や、ブレードコータ法、ロッド
コータ法、グラビアコータ法などの塗布法等により設け
る方法が採用できる。
【００１７】ここで真空製膜法において、低屈折率層を
構成する材料としては、Ｓｉの酸化物やＬｉ、Ｎａ、Ｍ
ｇ、Ａｌ、Ｃａ等のフッ化物があげられ、高屈折率層を
構成する材料としては、Ｔｉ、Ｃｒ、Ｚｒ、Ｎｉ、Ｍｏ
等の単体やＴｉ、Ｚｎ、Ｙ、Ｚｒ、Ｉｎ、Ｓｎ、Ｓｂ、
Ｈｆ、Ｔａ、Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎｄ等の酸化物があげられ、
中屈折率層を構成する材料としては、Ｌａ、Ｎｄ、Ｐｂ
等のフッ化物があげられる。
構成する材料としては、Ｓｉの酸化物やＬｉ、Ｎａ、Ｍ
ｇ、Ａｌ、Ｃａ等のフッ化物があげられ、高屈折率層を
構成する材料としては、Ｔｉ、Ｃｒ、Ｚｒ、Ｎｉ、Ｍｏ
等の単体やＴｉ、Ｚｎ、Ｙ、Ｚｒ、Ｉｎ、Ｓｎ、Ｓｂ、
Ｈｆ、Ｔａ、Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎｄ等の酸化物があげられ、
中屈折率層を構成する材料としては、Ｌａ、Ｎｄ、Ｐｂ
等のフッ化物があげられる。
【００１８】また塗布法において、低屈折率層を構成す
る材料としては、フッ素原子が導入された樹脂や、有機
珪素化合物や、フッ化マグネシウムやシリカ等の低屈折
率微粒子を分散した樹脂や、珪素アルコキシドを加水分
解して調整した酸化珪素ゾル等があげられ、高屈折率層
を構成する材料としては、フッ素以外のハロゲン、硫
黄、窒素、燐等の原子又は芳香族環等が導入された樹脂
や、金属酸化物等からなる高屈折率微粒子を分散した樹
脂や、珪素以外の金属アルコキシドを加水分解して調整
した金属酸化物ゾル等があげられ、中屈折率層を構成す
る材料としてはこれらの材料の中間の屈折率となる適宜
の材料を採用することができる。
る材料としては、フッ素原子が導入された樹脂や、有機
珪素化合物や、フッ化マグネシウムやシリカ等の低屈折
率微粒子を分散した樹脂や、珪素アルコキシドを加水分
解して調整した酸化珪素ゾル等があげられ、高屈折率層
を構成する材料としては、フッ素以外のハロゲン、硫
黄、窒素、燐等の原子又は芳香族環等が導入された樹脂
や、金属酸化物等からなる高屈折率微粒子を分散した樹
脂や、珪素以外の金属アルコキシドを加水分解して調整
した金属酸化物ゾル等があげられ、中屈折率層を構成す
る材料としてはこれらの材料の中間の屈折率となる適宜
の材料を採用することができる。
【００１９】以上のような多層の透過率向上層とした場
合の厚みは、照射される紫外線の波長の反射防止を好適
に行うに際して、その構成中の低、高、中屈折率層の光
学膜厚が０．０１μｍ〜０．８μｍ、好ましくは、０．
０１μｍ〜０．４μｍの範囲で適宜選択した低、高、中
屈折率層を必要に応じて積層した厚みとすることができ
る。
合の厚みは、照射される紫外線の波長の反射防止を好適
に行うに際して、その構成中の低、高、中屈折率層の光
学膜厚が０．０１μｍ〜０．８μｍ、好ましくは、０．
０１μｍ〜０．４μｍの範囲で適宜選択した低、高、中
屈折率層を必要に応じて積層した厚みとすることができ
る。
【００２０】透明フィルムとしては、露光を阻害しない
程度の光透過性が必要であり、またガラス支持体の破損
による飛散を防止するために機械的強度に優れ、可撓性
を有することが必要である。このような基材としては、
ポリカーボネート、ポリエステル、ポリプロピレンなど
のフィルムがあげられ、作業性、コストなどを考慮する
と特に二軸延伸されたポリエステルフィルムが好まし
い。透明フィルムの厚みの下限としては、ガラス支持体
の破損およびガラス片の飛散を抑制するために、１０μ
ｍ以上、好ましくは２５μｍ以上、更に好ましくは１０
０μｍ以上とすることが望ましい。透明フィルムの厚み
の上限としては、光透過性および露光精度を阻害しない
ように、３５０μｍ以下、好ましくは３００μｍ以下、
更に好ましくは２５０μｍ以下であることが望ましい。
程度の光透過性が必要であり、またガラス支持体の破損
による飛散を防止するために機械的強度に優れ、可撓性
を有することが必要である。このような基材としては、
ポリカーボネート、ポリエステル、ポリプロピレンなど
のフィルムがあげられ、作業性、コストなどを考慮する
と特に二軸延伸されたポリエステルフィルムが好まし
い。透明フィルムの厚みの下限としては、ガラス支持体
の破損およびガラス片の飛散を抑制するために、１０μ
ｍ以上、好ましくは２５μｍ以上、更に好ましくは１０
０μｍ以上とすることが望ましい。透明フィルムの厚み
の上限としては、光透過性および露光精度を阻害しない
ように、３５０μｍ以下、好ましくは３００μｍ以下、
更に好ましくは２５０μｍ以下であることが望ましい。
【００２１】透明フィルムと透過率向上層との間、また
は透明フィルムと粘着剤層の間など、露光精度を阻害し
ない範囲で必要に応じて帯電防止処理などを施すことも
可能である。
は透明フィルムと粘着剤層の間など、露光精度を阻害し
ない範囲で必要に応じて帯電防止処理などを施すことも
可能である。
【００２２】粘着剤層を構成する粘着剤としては、一般
に使用されるアクリル系粘着剤、ゴム系粘着剤などが使
用されるが透明性を阻害しないことが必要である。ま
た、帯電防止などの性能を持つ粘着剤を使用しても良
い。粘着剤層の厚みの下限としては、ガラス片の飛散を
防止するために必要な粘着性が得られるように、２μｍ
以上、好ましくは３μｍ以上、更に好ましくは５μｍ以
上とすることが望ましい。粘着剤層の厚みの上限として
は、光透過性および露光精度を阻害しないように、６０
μｍ以下、好ましくは４０μｍ以下、更に好ましくは３
０μｍ以下であることが望ましい。
に使用されるアクリル系粘着剤、ゴム系粘着剤などが使
用されるが透明性を阻害しないことが必要である。ま
た、帯電防止などの性能を持つ粘着剤を使用しても良
い。粘着剤層の厚みの下限としては、ガラス片の飛散を
防止するために必要な粘着性が得られるように、２μｍ
以上、好ましくは３μｍ以上、更に好ましくは５μｍ以
上とすることが望ましい。粘着剤層の厚みの上限として
は、光透過性および露光精度を阻害しないように、６０
μｍ以下、好ましくは４０μｍ以下、更に好ましくは３
０μｍ以下であることが望ましい。
【００２３】粘着剤層は、一般には、上記粘着剤を必要
に応じて溶剤に溶解または分散して、公知の塗布方法に
よって透明フィルムやガラス支持体に塗布することによ
って積層される。
に応じて溶剤に溶解または分散して、公知の塗布方法に
よって透明フィルムやガラス支持体に塗布することによ
って積層される。
【００２４】以上、ガラス支持体の一方の面には露光用
パターンが形成され、他方の面には粘着剤層、透明フィ
ルム、透過率向上層がこの順に積層されたフォトマスク
及びフォトマスクの作製方法を例として説明したが、本
発明はこれに限られるものではなく、例えば、本発明の
フォトマスクは、ガラス支持体の一方の面には露光用パ
ターンが形成され、他方の面には粘着剤層、透過率向上
層、透明フィルム、透過率向上層がこの順に積層された
ものや、ガラス支持体の一方の面には露光用パターンが
形成され、他方の面には粘着剤層、透過率向上層、透明
フィルムがこの順に積層されたものとしてもよいことは
いうまでもない。
パターンが形成され、他方の面には粘着剤層、透明フィ
ルム、透過率向上層がこの順に積層されたフォトマスク
及びフォトマスクの作製方法を例として説明したが、本
発明はこれに限られるものではなく、例えば、本発明の
フォトマスクは、ガラス支持体の一方の面には露光用パ
ターンが形成され、他方の面には粘着剤層、透過率向上
層、透明フィルム、透過率向上層がこの順に積層された
ものや、ガラス支持体の一方の面には露光用パターンが
形成され、他方の面には粘着剤層、透過率向上層、透明
フィルムがこの順に積層されたものとしてもよいことは
いうまでもない。
【００２５】
【実施例】以下、本発明の実施例を説明する。
【００２６】［実施例１］二軸延伸された透明なポリエ
ステルフィルム（コスモシャインA4100、１８８μｍ：
東洋紡績社）の片面に、テトラエトキシシランの加水分
解液を塗布・乾燥し、厚み約０．１μｍの透過率向上層
を形成した。次にこのフィルムの透過率向上層を設けて
いない方の面に、溶剤で希釈した粘着剤（ＳＫダイン15
01B：綜研化学社）を塗布・乾燥し、厚み１０μｍの粘
着剤層を形成した。
ステルフィルム（コスモシャインA4100、１８８μｍ：
東洋紡績社）の片面に、テトラエトキシシランの加水分
解液を塗布・乾燥し、厚み約０．１μｍの透過率向上層
を形成した。次にこのフィルムの透過率向上層を設けて
いない方の面に、溶剤で希釈した粘着剤（ＳＫダイン15
01B：綜研化学社）を塗布・乾燥し、厚み１０μｍの粘
着剤層を形成した。
【００２７】次に、厚み約５ｍｍのガラス乾板（コダッ
クプレシジョンラインプレート LPFP：コダック社）の
感光面に露光用原稿を密着焼付し、現像することによ
り、一方の面に露光用パターンが形成されたガラス支持
体を得た。
クプレシジョンラインプレート LPFP：コダック社）の
感光面に露光用原稿を密着焼付し、現像することによ
り、一方の面に露光用パターンが形成されたガラス支持
体を得た。
【００２８】このガラス支持体の露光用パターンが形成
された面に、厚み６μｍのプラスチックフィルムからな
るレジスト付着防止用保護フィルム（キモテクト PA8
X：きもと社）を貼り合わせた。
された面に、厚み６μｍのプラスチックフィルムからな
るレジスト付着防止用保護フィルム（キモテクト PA8
X：きもと社）を貼り合わせた。
【００２９】次に、このガラス支持体の露光用パターン
の形成された面とは反対面に、上記において透過率向上
層と粘着剤層を形成したポリエステルフィルムの粘着剤
層を対向させてラミネートし、本発明のフォトマスクを
作製した。
の形成された面とは反対面に、上記において透過率向上
層と粘着剤層を形成したポリエステルフィルムの粘着剤
層を対向させてラミネートし、本発明のフォトマスクを
作製した。
【００３０】［比較例１］実施例のポリエステルフィル
ムに透過率向上層を設けなかった以外は実施例と同様に
してフォトマスクを作製した。
ムに透過率向上層を設けなかった以外は実施例と同様に
してフォトマスクを作製した。
【００３１】［比較例２］実施例のフォトマスクについ
て、ポリエステルフィルムをラミネートせずに保護フィ
ルムのみを貼り合わせたものをフォトマスクとした。
て、ポリエステルフィルムをラミネートせずに保護フィ
ルムのみを貼り合わせたものをフォトマスクとした。
【００３２】上記実施例及び比較例のフォトマスクにつ
いて、ガラスの飛散性と耐衝撃性について評価するた
め、ＪＩＳ−Ａ５７５９の飛散防止性能試験Ａ法で規定
する試験装置を用いて衝撃破壊試験を行った。試験片は
保護フィルムが貼合された面とは反対面から衝撃体によ
る加撃が行われるように配置し、衝撃体の質量の軽いも
のから試験を開始し、適宜重くしながらガラス支持体が
破壊するまで試験を行った。以上の試験の結果、実施例
及び比較例１のフォトマスクについては比較例２のフォ
トマスクに比べ衝撃体の加撃による強度（耐衝撃性）が
高いことが確認できた。また、ガラス片の飛散状態につ
いても、比較例２のフォトマスクはかなりの数のガラス
片が飛び散ったが、実施例及び比較例１のフォトマスク
はガラス片の飛び散りがまったく認められなかった。
いて、ガラスの飛散性と耐衝撃性について評価するた
め、ＪＩＳ−Ａ５７５９の飛散防止性能試験Ａ法で規定
する試験装置を用いて衝撃破壊試験を行った。試験片は
保護フィルムが貼合された面とは反対面から衝撃体によ
る加撃が行われるように配置し、衝撃体の質量の軽いも
のから試験を開始し、適宜重くしながらガラス支持体が
破壊するまで試験を行った。以上の試験の結果、実施例
及び比較例１のフォトマスクについては比較例２のフォ
トマスクに比べ衝撃体の加撃による強度（耐衝撃性）が
高いことが確認できた。また、ガラス片の飛散状態につ
いても、比較例２のフォトマスクはかなりの数のガラス
片が飛び散ったが、実施例及び比較例１のフォトマスク
はガラス片の飛び散りがまったく認められなかった。
【００３３】次に上記実施例及び比較例のフォトマスク
について、一般的なフォトレジストの感光波長域である
３６５ｎｍ〜４２０ｎｍ付近の紫外線透過率、可視光線
域の全光線透過率、平行光線透過率、及びＨＡＺＥを測
定し、その光学特性を評価した。なお、測定は、ガラス
支持体の露光用パターンの無い部分を用いて、保護フィ
ルムを有する面とは反対面側から光を照射することによ
り行った。また、紫外線透過率（３６５ｎｍ、４２０ｎ
ｍ）の測定は島津自記分光光度計（ＵＶ−３１１０１Ｐ
Ｃ：島津製作所）を用い、可視光線域の透過率及びＨＡ
ＺＥはヘーズメータ（ＨＧＭ−２Ｋ：スガ試験機社）を
用いた。結果を表１に示す。
について、一般的なフォトレジストの感光波長域である
３６５ｎｍ〜４２０ｎｍ付近の紫外線透過率、可視光線
域の全光線透過率、平行光線透過率、及びＨＡＺＥを測
定し、その光学特性を評価した。なお、測定は、ガラス
支持体の露光用パターンの無い部分を用いて、保護フィ
ルムを有する面とは反対面側から光を照射することによ
り行った。また、紫外線透過率（３６５ｎｍ、４２０ｎ
ｍ）の測定は島津自記分光光度計（ＵＶ−３１１０１Ｐ
Ｃ：島津製作所）を用い、可視光線域の透過率及びＨＡ
ＺＥはヘーズメータ（ＨＧＭ−２Ｋ：スガ試験機社）を
用いた。結果を表１に示す。
【００３４】
【表１】
【００３５】表１より、実施例のフォトマスクは、比較
例１のフォトマスクに比べて全ての光学特性で優れてい
ることが分かる。また、保護フィルムのみを貼合した比
較例２のフォトマスクと比較しても、３６５ｎｍ付近の
紫外線透過率が若干低下しているものの、その他の光学
特性は同等以上であることが分かる。
例１のフォトマスクに比べて全ての光学特性で優れてい
ることが分かる。また、保護フィルムのみを貼合した比
較例２のフォトマスクと比較しても、３６５ｎｍ付近の
紫外線透過率が若干低下しているものの、その他の光学
特性は同等以上であることが分かる。
【００３６】以上より、実施例のフォトマスクは、露光
精度を低下させることなく、ガラス乾板のガラスの飛散
を防止することができ、かつガラス支持体の破損自体を
軽減できるものであることが分かる。
精度を低下させることなく、ガラス乾板のガラスの飛散
を防止することができ、かつガラス支持体の破損自体を
軽減できるものであることが分かる。
【００３７】
【発明の効果】本発明によれば、寸法安定性に優れるガ
ラス乾板を用いたフォトマスクを使用する場合に、ガラ
スの破損などにより露光機を傷つけてしまうことなく、
露光精度及び生産性を低下させることのないフォトマス
クが得られる。
ラス乾板を用いたフォトマスクを使用する場合に、ガラ
スの破損などにより露光機を傷つけてしまうことなく、
露光精度及び生産性を低下させることのないフォトマス
クが得られる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 栗嶋 進 埼玉県与野市鈴谷４丁目６番35号 株式会 社きもと技術開発センター内 Ｆターム(参考） 2H095 BA11 BA12 BB06 BB14 BC06 BC19 BC21
Claims (2)
- 【請求項１】一方の面に露光用パターンが形成されたガ
ラス支持体の前記露光用パターンの形成された面の反対
面に、粘着剤層を介して、少なくとも一方の面に透過率
向上層が設けられた透明フィルムを貼合することを特徴
とするフォトマスクの作製方法。 - 【請求項２】ガラス支持体の一方の面には露光用パター
ンが形成され、他方の面には粘着剤層と、少なくとも一
方の面に透過率向上層が設けられた透明フィルムがこの
順に積層されてなることを特徴とするフォトマスク。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000365021A JP2002169264A (ja) | 2000-11-30 | 2000-11-30 | フォトマスクの作製方法およびフォトマスク |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000365021A JP2002169264A (ja) | 2000-11-30 | 2000-11-30 | フォトマスクの作製方法およびフォトマスク |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002169264A true JP2002169264A (ja) | 2002-06-14 |
Family
ID=18835866
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000365021A Pending JP2002169264A (ja) | 2000-11-30 | 2000-11-30 | フォトマスクの作製方法およびフォトマスク |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2002169264A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7592250B2 (en) | 2002-07-18 | 2009-09-22 | Hitachi Chemical Company, Ltd. | Multilayer wiring board, manufacturing method thereof, semiconductor device, and wireless electronic device |
Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS58102233A (ja) * | 1981-12-14 | 1983-06-17 | Fujitsu Ltd | フオトマスク |
| JPS62294539A (ja) * | 1986-06-09 | 1987-12-22 | 山陽国策パルプ株式会社 | 透明な耐擦傷性層を有する表面保護粘着フイルム |
| JPS6488546A (en) * | 1987-09-30 | 1989-04-03 | Fujitsu Ltd | Method for exposing thick film resist |
| JPH0545865A (ja) * | 1991-08-12 | 1993-02-26 | Asahi Chem Ind Co Ltd | フオトマスク保護用フイルム |
| JP2000082400A (ja) * | 1998-09-07 | 2000-03-21 | Dainippon Printing Co Ltd | プラズマディスプレイパネルの蛍光面形成方法及びそれに使用するフォトマスク並びに露光用光源装置 |
-
2000
- 2000-11-30 JP JP2000365021A patent/JP2002169264A/ja active Pending
Patent Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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