JP2002164479A - 半導体装置およびその製造方法 - Google Patents

半導体装置およびその製造方法

Info

Publication number
JP2002164479A
JP2002164479A JP2000356672A JP2000356672A JP2002164479A JP 2002164479 A JP2002164479 A JP 2002164479A JP 2000356672 A JP2000356672 A JP 2000356672A JP 2000356672 A JP2000356672 A JP 2000356672A JP 2002164479 A JP2002164479 A JP 2002164479A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
semiconductor chip
resin coat
stopper
semiconductor device
resin
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2000356672A
Other languages
English (en)
Inventor
Takeshi Ikeda
毅 池田
Hiroshi Miyagi
弘 宮城
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
NSC Co Ltd
Original Assignee
Nigata Semitsu Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nigata Semitsu Co Ltd filed Critical Nigata Semitsu Co Ltd
Priority to JP2000356672A priority Critical patent/JP2002164479A/ja
Priority to PCT/JP2001/010097 priority patent/WO2002043135A1/ja
Publication of JP2002164479A publication Critical patent/JP2002164479A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/28Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection
    • H01L23/31Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection characterised by the arrangement or shape
    • H01L23/3107Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection characterised by the arrangement or shape the device being completely enclosed
    • H01L23/3135Double encapsulation or coating and encapsulation
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/12Mountings, e.g. non-detachable insulating substrates
    • H01L23/13Mountings, e.g. non-detachable insulating substrates characterised by the shape
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/552Protection against radiation, e.g. light or electromagnetic waves
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/4805Shape
    • H01L2224/4809Loop shape
    • H01L2224/48091Arched
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/481Disposition
    • H01L2224/48151Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
    • H01L2224/48221Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
    • H01L2224/48225Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/481Disposition
    • H01L2224/48151Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
    • H01L2224/48221Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
    • H01L2224/48225Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation
    • H01L2224/48227Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation connecting the wire to a bond pad of the item
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/481Disposition
    • H01L2224/48151Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
    • H01L2224/48221Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
    • H01L2224/48225Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation
    • H01L2224/48235Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation connecting the wire to a via metallisation of the item
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/80Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected
    • H01L2224/83Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected using a layer connector
    • H01L2224/8338Bonding interfaces outside the semiconductor or solid-state body
    • H01L2224/83385Shape, e.g. interlocking features
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L24/00Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
    • H01L24/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L24/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/0001Technical content checked by a classifier
    • H01L2924/00014Technical content checked by a classifier the subject-matter covered by the group, the symbol of which is combined with the symbol of this group, being disclosed without further technical details
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/15Details of package parts other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/151Die mounting substrate
    • H01L2924/1517Multilayer substrate
    • H01L2924/15192Resurf arrangement of the internal vias
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/15Details of package parts other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/181Encapsulation
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/30Technical effects
    • H01L2924/301Electrical effects
    • H01L2924/3025Electromagnetic shielding

Abstract

(57)【要約】 【課題】 半導体チップを高密度に実装できるように
し、半導体装置の更なる小型化、薄型化を実現できるよ
うにする。 【解決手段】 基板1上に搭載された半導体チップ3を
絶縁性の第1の樹脂コート6で封止し、当該第1の樹脂
コート6上を導電性の材料を含む第2の樹脂コート7で
覆って半導体装置を形成することにより、半導体チップ
3の周りに大きな金属製のケースや壁を設けることな
く、当該半導体チップ3を電磁的にシールドすることが
できるようにする。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は半導体装置およびそ
の製造方法に関し、例えば、テレビジョン受信機やラジ
オ受信機、あるいは移動体携帯端末などの電磁波の発生
を伴う装置などに用いて好適なものである。
【0002】
【従来の技術】現在、コンピュータ関連機器、デジタル
家電、携帯端末などの進展が目覚しく、これらの機器の
小型化、薄型化が進んでいる。通常、これら機器の電子
部品は、抵抗、コンデンサ、コイル等の受動素子と半導
体チップとを基板上に搭載した回路により構成されてい
る。そして、機器の小型化、薄型化を更に進めるため
に、半導体チップ自身を高集積化したり、半導体チップ
とその周辺回路とを基板上に高密度に実装する研究が盛
んに行われている。
【0003】ここで、コンデンサやコイル等を用いた回
路が構成されている場合、当該回路からその外部へと不
要な電磁場が放出されることがある。また、近年では、
回路のIC化が進み、それまでコンデンサやコイル等を
用いて半導体チップの外部で実装されていた回路が、半
導体チップの内部に取り込まれるようになってきてい
る。この場合は、そのような半導体チップから外部へと
不要な電磁場が放出されることになる。
【0004】このように、半導体チップなどの回路から
外部に不要な電磁場が放出されると、電子機器がその影
響を受けて、雑音障害や発振を起こすことがある。特
に、コンデンサやコイル等を用いて高周波成分の信号を
扱う回路を実装した場合には、当該回路からその外部へ
と不要な電磁場が洩れやすくなり、それが高周波成分の
ノイズとなって現れる。
【0005】例えば、テレビジョン受信機等に使用され
る高周波回路を半導体チップで実装する場合、当該半導
体チップから放出された高周波成分の不要なノイズを周
辺回路部が受けると、テレビ画面の画質が劣化してしま
うことがある。また、例えばラジオ受信機等において
は、半導体チップより発せられる高周波信号の影響を周
辺回路部が受けることにより、再生音声の音質が劣化し
てしまうことがある。
【0006】そのため、電磁場を発生する回路を半導体
チップとして基板上に実装する場合には、その半導体チ
ップからノイズの元となる電磁場を外部へ放出しないよ
うにするために、導電性のある材料を用いて半導体チッ
プの周りに壁を作ることにより、半導体チップを電磁的
に遮蔽する必要が生じてくる。
【0007】従来、この電磁的なシールドは、対象とす
る回路の外周を金属製のケースで覆うことにより行われ
ていた。したがって、当該対象とする回路が半導体チッ
プとしてIC化されている場合には、その半導体チップ
の外周を金属製のケースで覆うことによって不要な電磁
場を遮蔽していた。図6は、1つの基板上に複数の半導
体チップを備えた半導体装置の構成例を示す図であり、
図6(a)は半導体装置の斜視図を示し、図6(b)は
図6(a)中のC−C断面図を示している。
【0008】図6に示す半導体装置は、1つのプリント
基板1上に3つの半導体チップ3を搭載している。これ
らの半導体チップ3は、例えばボンディングワイヤ4に
よってプリント基板1と電気的に接続されている。ま
た、それぞれの半導体チップ3の間は、図示しない配線
や周辺回路等を介して接続されている。
【0009】このような半導体装置に対して、従来は、
図6(b)に示すように、半導体チップ3の外周を金属
製のケース2で覆うことによってそれぞれの半導体チッ
プ3を電磁的にシールドしていた。また、プリント基板
1上において、個々の半導体チップ3が存在する領域ご
とに金属製の壁で間仕切りをすることによってそれぞれ
の半導体チップ3を電磁的にシールドするものもあっ
た。
【0010】図7は、半導体装置の他の構成例を示す断
面図である。この図7に示す半導体装置は、1つのプリ
ント基板1上に1つの半導体チップ3を搭載しており、
例えばこれが基板外の他の回路と配線により接続され
る。このような半導体装置においては、半導体チップか
ら発せられた電磁場が基板外部の回路部に放出されるの
を防ぐために、プリント基板1の全体を金属製のケース
2で覆うことにより、半導体チップ3およびその周辺回
路を含むプリント基板1の全体を電磁的にシールドして
いた。
【0011】
【発明が解決しようとする課題】上述のように、従来の
半導体装置では、電磁的なシールドを実現するために金
属製のケースが用いられていた。そのため、電磁場を発
生する半導体チップを1つの基板上に複数搭載した半導
体装置の場合は、個々の半導体チップ毎にその周囲に大
きな壁を設けた構成が必要となり、複数の半導体チップ
やその周辺回路等を基板上へ高密度に実装することを困
難にしているという問題があった。
【0012】また、電磁場を発生する半導体チップを搭
載した基板と他の回路あるいは他の基板とを接続して構
成した半導体装置の場合は、その基板の全体を大きな金
属壁によりシールドする構成が必要となるため、構成が
かなり大規模になってしまうという問題があった。ま
た、金属製のケースや壁を半田付けなどによって基板上
に取り付ける工程が必要となるため、半導体装置の製造
コストが大きくなるという問題もあった。
【0013】本発明は、このような問題を解決するため
に成されたものであり、電磁的なシールドを構成する場
合において、半導体装置を構成する半導体チップやその
周辺回路等を高密度に実装できるようにし、半導体装置
の更なる小型化、薄型化を実現できるようにすることを
目的とする。また、本発明は、シールドを含む半導体装
置の製造コストを削減できるようにすることをも目的と
している。
【0014】
【課題を解決するための手段】本発明の半導体装置は、
半導体チップを絶縁性の第1の樹脂コートで封止し、当
該第1の樹脂コート上を導電性の材料を含む第2の樹脂
コートで覆ったことを特徴とする。
【0015】本発明の他の態様では、少なくとも1つの
半導体チップを搭載する基板と、上記半導体チップを封
止する絶縁性の第1の樹脂コートと、上記第1の樹脂コ
ートを覆う導電性の材料を含む第2の樹脂コートとを備
えることを特徴とする。
【0016】本発明のその他の態様では、上記半導体チ
ップが搭載される部分の周囲に、樹脂の流出を抑止する
ための凹型または凸型のストッパを形成したことを特徴
とする。ここで、上記ストッパを上記半導体チップの周
囲の全てにわたって形成し、上記ストッパの内部領域に
搭載される上記半導体チップと上記ストッパの外部領域
との間の配線を、複数層で形成された基板の中間配線層
または裏側配線層を介して行うようにしても良い。ま
た、上記ストッパを上記半導体チップの周囲に離散的に
形成しても良い。
【0017】また、本発明による半導体装置の製造方法
は、半導体チップを絶縁性の第1の樹脂コートで封止す
る第1の工程と、上記第1の樹脂コート上を導電性の材
料を含む第2の樹脂コートで覆う第2の工程とを有する
ことを特徴とする。
【0018】本発明の他の態様では、基板上で半導体チ
ップが搭載される部分の周囲に、樹脂の流出を抑止する
ための凹型または凸型のストッパを形成する第1の工程
と、上記ストッパの内部領域に上記半導体チップを搭載
して上記基板と電気的に接続する第2の工程と、上記基
板上に搭載された上記半導体チップを絶縁性の第1の樹
脂コートで封止する第3の工程と、上記第1の樹脂コー
ト上を導電性の材料を含む第2の樹脂コートで覆う第4
の工程とを有することを特徴とする。
【0019】本発明は上記技術手段より成るので、半導
体チップの周りに金属製のケースを設けることなく、当
該半導体チップを電磁的にシールドすることが可能とな
る。また、本発明によれば、樹脂のコーティングを二重
に行うだけでシールドを形成することができるので、金
属製のケースを半田付けなどによって基板上に取り付け
る面倒な工程が不要となる。
【0020】
【発明の実施の形態】以下、本発明の一実施形態を図面
に基づいて説明する。
【0021】(第1の実施形態)図1は、第1の実施形
態による半導体装置の構成例を示す断面図である。図1
において、プリント基板1の最上層に搭載された半導体
チップ3は、例えばボンディングワイヤ4によってプリ
ント基板1上の電極5と電気的に接続されている。この
半導体チップ3およびボンディングワイヤ4は、それら
を埃や湿気から保護するとともに、外部からの衝撃や振
動に絶え得るようにするために、全体が絶縁性の第1の
樹脂コート6で封止されている。
【0022】本実施形態では、この第1の樹脂コート6
の外側を、導電性を有する材料、例えばフェライトある
いはその他の金属粉を含む第2の樹脂コート7で覆うよ
うにしている。これにより、この第2の樹脂コート7は
半導体チップ3を完全に覆うように形成されるため、こ
れを例えば接地することにより、半導体チップ3を第2
の樹脂コート7によって電磁的にシールドすることがで
きる。
【0023】これにより、半導体チップ3から発せられ
た電磁波を第2の樹脂コート7で遮蔽し、高周波ノイズ
として外部へと放出されるのを防止して、画像の乱れや
雑音の発生を抑制することができる。もちろん、このよ
うな第2の樹脂コート7を設けることによって、外部で
発せられた電磁波が第2の樹脂コート7を透過して半導
体チップ3の内部へと侵入することも防止することがで
きる。
【0024】上記第1の樹脂コート6および第2の樹脂
コート7を形成する際には、樹脂が必要以上に流れ出な
いようにする必要がある。これを樹脂の粘度を調整する
ことによってコントロールする方法も考えられるが、本
実施形態では、どのような粘度の樹脂にも対応できるよ
うにするために、プリント基板1上で半導体チップ3が
搭載される部分の周囲に凹型の窪みから成るストッパ1
0を設けている。
【0025】このようにストッパ10を設けることによ
り、充填した樹脂がストッパ10の外部へ流れ出るのを
防ぎ、第1の樹脂コート6および第2の樹脂コート7を
上記ストッパ10によって規定された所定の形状および
所定の大きさで形成することができる。このとき、充填
する樹脂の量を調整することにより、第1の樹脂コート
6および第2の樹脂コート7を所望の厚さで形成するこ
とも可能である。
【0026】図2は、上記ストッパ10の構成例を示す
図であり、本実施形態による半導体装置の平面図を示し
ている。なお、上記図1は、この図2中に示すA−A断
面を示している。また、この図2では説明の都合上、半
導体チップ3およびボンディングワイヤ4が第1の樹脂
コート6および第2の樹脂コート7によって未だ封止さ
れていない状態を示している。
【0027】図2に示すように、本実施形態では、半導
体チップ3の周囲を全てストッパ10の凹部により形成
している。このようにすることにより、粘度が小さい樹
脂を用いて半導体チップ3を封止する場合でも、ストッ
パ10の外部に樹脂が流れ出てしまう不都合を防止する
ことができる。なお、ここではストッパ10の形状とし
て矩形を示しているが、これに限定されるものではな
く、例えば円形、楕円形などであっても良い。
【0028】このように、半導体チップ3の周囲全てに
ストッパ10が形成されることにより、半導体チップ3
とそれと同じ基板最上層に配置された図示しない周辺回
路等との間の配線は、同じ最上配線層を用いて接続する
ことができない。そこで、本実施形態では、図1に示す
ように、電極5からスルーホール8を介してプリント基
板1の内部にある中間配線層9に配線を移し、ストッパ
10の外側でスルーホール8’および電極5’を介して
再び最上層の配線に戻すようにしている。
【0029】このように構成することにより、半導体チ
ップ3の周囲に凹型のストッパ10を形成した場合であ
っても、ストッパ10の内側と外側との間を配線するこ
とができる。また、このとき、第1の樹脂コート6およ
び第2の樹脂コート7に配線用の開口部を設けなくても
良いので、半導体チップ3の全体を確実にシールドする
ことができる。
【0030】なお、ここでは、半導体チップ3とその周
辺回路等との間の配線を、プリント基板1の中間配線層
9を用いて実現しているが、プリント基板1の裏面を利
用して配線するようにしても良い。
【0031】次に、上記のような構造を有する半導体装
置の製造方法について以下に説明する。最初に、複数の
基板を積層することによって、スルーホール8や中間配
線層9を含むプリント基板1を形成する。次に、このよ
うに形成したプリント基板1の所定個所に対して、例え
ばマスクパターンを用いたエッチングを行うことによ
り、ストッパ10を形成する。
【0032】なお、ここでは複数層を有するプリント基
板1を形成した後でストッパ10を設けるようにした
が、あらかじめストッパ10を形成した基板を用意して
おき、これと他の基板とを積層していくことによって、
ストッパ10を有するプリント基板1を形成するように
しても良い。
【0033】次に、ストッパ10で囲まれた領域内に半
導体チップ3を搭載し、それをボンディングワイヤ4に
よってプリント基板1と電気的に接続する。そして、上
記半導体チップ3およびボンディングワイヤ4を第1の
樹脂コート6で封止した後、その上を第2の樹脂コート
7で覆うことにより、本実施形態の半導体装置を形成す
る。
【0034】以上詳しく説明したように、本実施形態に
よれば、防湿などのために半導体チップ3を封止した絶
縁性の第1の樹脂コート6を、導電性を持たせた第2の
樹脂コート7で更に覆うようにしたので、半導体チップ
3の周りに大きな金属製のケースや壁を設けることな
く、当該半導体チップ3を電磁的にシールドすることが
できる。
【0035】これにより、例えば1つのプリント基板1
上に複数の半導体チップ3を搭載した半導体装置を構成
する場合、個々の半導体チップ3毎にその周囲に大きな
金属製ケース等を設ける必要がなくなり、複数の半導体
チップとその周辺回路等をプリント基板1上に高密度に
実装することができる。
【0036】また、例えば高周波回路を有する半導体チ
ップ3を搭載したプリント基板1と他の回路や基板とに
より半導体装置を構成する場合も、そのプリント基板1
の全体を大きな金属製ケースで覆う必要がなくなり、半
導体装置の小型軽量化、薄型化に貢献することができ
る。特に、最近では、IC化が進んで様々な部品が1つ
のチップ内に収められるようになってきているが、この
場合はそのチップ自体を第2の樹脂コート7によってシ
ールドすれば良いので、装置規模を格段に小さくするこ
とができる。
【0037】また、本実施形態によれば、金属製のケー
スを半田付けなどによってプリント基板1上に取り付け
る面倒な工程が不要となるため、半導体装置の製造コス
トを削減することができるというメリットも有する。
【0038】また、絶縁性を持つ第1の樹脂コート6の
外側を金属そのものから成る材料でコーティングするこ
とも可能であるが、本実施形態では、金属粉入りの樹脂
を用いてコーティングするようにしている。これによ
り、半導体チップ3を電磁的にシールドすることができ
るだけでなく、耐湿性および耐埃性なども更に向上させ
ることができる。
【0039】(第2の実施形態)次に、本発明の第2の
実施形態について説明する。図3は、第2の実施形態に
よる半導体装置の構成例を示す断面図(図4中のB−B
断面図)である。また、図4は、第2の実施形態による
ストッパ20の構成例を示す図であり、本実施形態によ
る半導体装置の平面図を示している。なお、図4では説
明の都合上、半導体チップ3およびボンディングワイヤ
4が第1の樹脂コート6および第2の樹脂コート7によ
って未だ封止されていない状態を示している。
【0040】図4に示すように、第2の実施形態では、
半導体チップ3の全周にわたってストッパ10を形成し
ていた第1の実施形態と異なり、半導体チップ3を囲む
形状の一部にのみストッパ20を形成している。第1の
樹脂コート6および第2の樹脂コート7の粘度がある程
度ある場合は、ストッパ20を離散的に設けても、スト
ッパ20の隙間から外部に樹脂が流れ出てしまうことは
なく、所定の形状および所定の大きさで樹脂を形成する
ことができる。
【0041】また、このようにストッパ20を離散的に
設けた場合、そのストッパ20とストッパ20との間に
配線パターンを設けることが可能となる。これにより、
半導体チップ3とその周辺回路等との間の配線をプリン
ト基板1の中間配線層9等を用いて行う必要がなくな
り、スルーホールの数やプリント基板1の積層数を削減
することができる。
【0042】すなわち、本実施形態によれば、ボンディ
ングワイヤ4によって半導体チップ3と電気的に接続さ
れた電極5から、それと同じ配線層を用いて周辺回路部
への配線を行うことができる。したがって、図3に示す
ように、図1で使用していたスルーホール8や中間配線
層9などは設ける必要がなくなり、配線を簡素化するこ
とができるとともに、装置の更なる小型軽量化、薄型化
を図ることができる。
【0043】(第3の実施形態)次に、本発明の第3の
実施形態について説明する。図5は、第3の実施形態に
よる半導体装置の構成例を示す断面図である。
【0044】図5に示すように、本実施形態では、半導
体チップ3の周囲に設けるストッパの構造として、第
1、第2の実施形態で説明した凹型構造のストッパ1
0,20とは逆に、凸型構造のストッパ30,31を用
いる。ここで、第1のストッパ30は、第1の樹脂コー
ト6用のストッパであり、これより背の高い第2のスト
ッパ31は、第2の樹脂コート7用のストッパである。
【0045】この第3の実施形態においては、図4に示
したのと同様に、半導体チップ3の周囲にストッパ3
0,31を離散的に形成している。そのため、半導体チ
ップ3とその周辺回路部とを接続するためにスルーホー
ルや中間配線層を設けることは不要である。なお、ここ
ではストッパ30,31を離散的に形成しているが、図
2のように半導体チップ3の全周に渡って形成するよう
にしても良い。
【0046】このように凸型構造のストッパ30,31
を構成した場合も、半導体チップ3の周りに金属製のケ
ースや壁を設けることなく、当該半導体チップ3を電磁
的にシールドすることができ、半導体チップの高密度実
装、ひいては半導体装置の小型軽量化、薄型化を実現す
ることができる。
【0047】なお、上記実施形態において示した各部の
形状および構造は、何れも本発明を実施するにあたって
の具体化の一例を示したものに過ぎず、これらによって
本発明の技術的範囲が限定的に解釈されてはならないも
のである。すなわち、本発明はその精神、またはその主
要な特徴から逸脱することなく、様々な形で実施するこ
とができる。
【0048】例えば、上記実施形態では、半導体チップ
3を搭載する基板としてプリント基板1を示している
が、これには様々な基板を用いることが可能である。例
えば、アルミナ、窒化アルミなどのセラミック製の基板
やガラス基板を用いても良いし、テープ状のキャリアフ
ィルムなどに適用しても良い。また、半導体チップ3を
基板上に電気的に接続する方法として、ボンディングワ
イヤ方式以外の方式を用いても良い。
【0049】また、上記実施形態では、導電性を有する
第2の樹脂コート7に含ませる材料としてフェライトや
金属粉を用いているが、これに限定されるものではな
い。例えば、シールドしようとする回路が高周波帯の信
号を扱う回路の場合は、フェライトの他に銅、アルミニ
ウムなどの電気伝導度の大きな金属材料を用いることよ
って、高周波成分のノイズの発生を抑止することができ
る。また、低周波帯ではパーマロイなどの帯磁率の大き
な材料を用いることにより、低周波成分のノイズの発生
を有効に抑止することができる。
【0050】また、上記実施形態では、電磁場を発生す
る回路、例えば高周波回路を有する半導体チップ自体を
シールドする例を挙げたが、自らは電磁場を発生しない
半導体チップを第2の樹脂コート7で覆うことによりシ
ールドするようにしても良い。このようにすれば、外部
で発生された電磁場を第2の樹脂コート7で遮断して、
当該第2の樹脂コート7によってシールドされた半導体
チップが外部からノイズの影響を受けないようにするこ
とができる。
【0051】
【発明の効果】本発明は上述したように、半導体チップ
を絶縁性の第1の樹脂コートで封止し、当該第1の樹脂
コート上を導電性の材料を含む第2の樹脂コートで覆う
ようにしたので、半導体チップの周りあるいは基板の全
体に大きな金属製のケースや壁を設けることなく、当該
半導体チップを電磁的にシールドすることができる。こ
れにより、半導体チップやその周辺回路等を高密度に実
装することができ、半導体装置の更なる小型軽量化、薄
型化を図ることができる。また、本発明によれば、樹脂
のコーティングを二重に行うだけでシールドを形成する
ことができ、金属製のケース等を半田付けなどによって
基板上に取り付ける面倒な工程が不要となるため、半導
体装置の製造コストを大幅に削減することができる。
【0052】また、本発明の他の特徴によれば、半導体
チップが搭載される部分の周囲に、樹脂の流出を抑止す
るための凹型または凸型のストッパを形成したので、粘
度が低く流動性が高い樹脂をコーティングする場合で
も、樹脂を所定の形状および所定の大きさに均一にコー
ティングすることができる。
【0053】この場合において、ストッパを半導体チッ
プの全周にわたって形成し、ストッパの内部領域に搭載
される半導体チップとストッパの外部領域との間の配線
を、複数層で形成された基板の中間配線層または裏側配
線層を介して行うようにした場合には、第1、第2の樹
脂コートに開口部を設けなくても配線を行うことがで
き、半導体チップの全体を確実にシールドすることがで
きる。
【0054】また、ストッパを半導体チップの周囲に離
散的に形成した場合には、ストッパ間に配線パターンを
設けることが可能となるので、半導体チップとその周辺
回路部との間の配線を基板の中間配線層等を用いて行う
必要がなくなり、スルーホール数や基板の積層数を削減
することができる。これにより、配線を簡素化すること
ができるとともに、装置の更なる小型軽量化、薄型化を
図ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】第1の実施形態による半導体装置の構成例を示
す断面図である。
【図2】第1の実施形態によるストッパの構成例を示す
図であり、本実施形態による半導体装置の平面図であ
る。
【図3】第2の実施形態による半導体装置の構成例を示
す断面図である。
【図4】第2の実施形態によるストッパの構成例を示す
図であり、本実施形態による半導体装置の平面図であ
る。
【図5】第3の実施形態による半導体装置の構成例を示
す断面図である。
【図6】従来の半導体装置の構成例を示す断面図であ
る。
【図7】従来の半導体装置の他の構成例を示す断面図で
ある。
【符号の説明】
1 プリント基板 3 半導体チップ 4 ボンディングワイヤ 5 電極 6 第1の樹脂コート 7 第2の樹脂コート 8 スルーホール 9 中間配線層 10,20,30,31 ストッパ

Claims (7)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 半導体チップを絶縁性の第1の樹脂コー
    トで封止し、当該第1の樹脂コート上を導電性の材料を
    含む第2の樹脂コートで覆ったことを特徴とする半導体
    装置。
  2. 【請求項2】 少なくとも1つの半導体チップを搭載す
    る基板と、 上記半導体チップを封止する絶縁性の第1の樹脂コート
    と、 上記第1の樹脂コートを覆う導電性の材料を含む第2の
    樹脂コートとを備えることを特徴とする半導体装置。
  3. 【請求項3】 上記半導体チップが搭載される部分の周
    囲に、樹脂の流出を抑止するための凹型または凸型のス
    トッパを形成したことを特徴とする請求項1または2に
    記載の半導体装置。
  4. 【請求項4】 上記ストッパを上記半導体チップの周囲
    の全てにわたって形成し、上記ストッパの内部領域に搭
    載される上記半導体チップと上記ストッパの外部領域と
    の間の配線を、複数層で形成された基板の中間配線層ま
    たは裏側配線層を介して行うことを特徴とする請求項1
    〜3の何れか1項に記載の半導体装置。
  5. 【請求項5】 上記ストッパを上記半導体チップの周囲
    に離散的に形成したことを特徴とする請求項1〜3の何
    れか1項に記載の半導体装置。
  6. 【請求項6】 半導体チップを絶縁性の第1の樹脂コー
    トで封止する第1の工程と、 上記第1の樹脂コート上を導電性の材料を含む第2の樹
    脂コートで覆う第2の工程とを有することを特徴とする
    半導体装置の製造方法。
  7. 【請求項7】 基板上で半導体チップが搭載される部分
    の周囲に、樹脂の流出を抑止するための凹型または凸型
    のストッパを形成する第1の工程と、 上記ストッパの内部領域に上記半導体チップを搭載して
    上記基板と電気的に接続する第2の工程と、 上記基板上に搭載された上記半導体チップを絶縁性の第
    1の樹脂コートで封止する第3の工程と、 上記第1の樹脂コート上を導電性の材料を含む第2の樹
    脂コートで覆う第4の工程とを有することを特徴とする
    半導体装置の製造方法。
JP2000356672A 2000-11-22 2000-11-22 半導体装置およびその製造方法 Pending JP2002164479A (ja)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2000356672A JP2002164479A (ja) 2000-11-22 2000-11-22 半導体装置およびその製造方法
PCT/JP2001/010097 WO2002043135A1 (en) 2000-11-22 2001-11-19 Semiconductor device and its manufacturing method

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2000356672A JP2002164479A (ja) 2000-11-22 2000-11-22 半導体装置およびその製造方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2002164479A true JP2002164479A (ja) 2002-06-07

Family

ID=18828869

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2000356672A Pending JP2002164479A (ja) 2000-11-22 2000-11-22 半導体装置およびその製造方法

Country Status (2)

Country Link
JP (1) JP2002164479A (ja)
WO (1) WO2002043135A1 (ja)

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011119609A (ja) * 2009-12-07 2011-06-16 Fujitsu Semiconductor Ltd 半導体装置とその製造方法
JP2016092259A (ja) * 2014-11-06 2016-05-23 キヤノン株式会社 電子部品、電子モジュール及びこれらの製造方法、電子機器
JP5930070B2 (ja) * 2012-12-28 2016-06-08 富士電機株式会社 半導体装置
WO2023007987A1 (ja) * 2021-07-29 2023-02-02 富士フイルム株式会社 電子デバイス及びその製造方法
US20230156907A1 (en) * 2021-11-17 2023-05-18 Gn Hearing A/S Circuit board
WO2023189291A1 (ja) * 2022-03-29 2023-10-05 富士フイルム株式会社 プリント回路板の製造方法

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR102098592B1 (ko) * 2018-07-05 2020-04-08 삼성전자주식회사 반도체 패키지
CN113594151A (zh) * 2021-06-25 2021-11-02 苏州汉天下电子有限公司 半导体封装及其制造方法

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5037366A (ja) * 1973-08-06 1975-04-08
JPS59159547A (ja) * 1983-03-03 1984-09-10 Matsushita Electric Ind Co Ltd 半導体素子の保護方法
JPH024249U (ja) * 1988-06-21 1990-01-11
JPH05235203A (ja) * 1992-02-26 1993-09-10 Matsushita Electric Works Ltd 半導体装置
JPH07307416A (ja) * 1994-05-12 1995-11-21 Toshiba Corp 半導体チップの実装方法及び半導体デバイス
JP3391676B2 (ja) * 1997-10-28 2003-03-31 株式会社日立製作所 半導体モジュール及びその樹脂封止方法

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011119609A (ja) * 2009-12-07 2011-06-16 Fujitsu Semiconductor Ltd 半導体装置とその製造方法
JP5930070B2 (ja) * 2012-12-28 2016-06-08 富士電機株式会社 半導体装置
JP2016092259A (ja) * 2014-11-06 2016-05-23 キヤノン株式会社 電子部品、電子モジュール及びこれらの製造方法、電子機器
US10236243B2 (en) 2014-11-06 2019-03-19 Canon Kabushiki Kaisha Electronic component, electronic module, manufacturing method therefor, and electronic apparatus
WO2023007987A1 (ja) * 2021-07-29 2023-02-02 富士フイルム株式会社 電子デバイス及びその製造方法
US20230156907A1 (en) * 2021-11-17 2023-05-18 Gn Hearing A/S Circuit board
WO2023189291A1 (ja) * 2022-03-29 2023-10-05 富士フイルム株式会社 プリント回路板の製造方法

Also Published As

Publication number Publication date
WO2002043135A1 (en) 2002-05-30

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR102246040B1 (ko) 회로 모듈
US10490511B2 (en) Microelectronic assembly with electromagnetic shielding
JP3858854B2 (ja) 積層型半導体装置
EP0977259B1 (en) Semiconductor device and method of producing the same
JP2007157891A (ja) 回路モジュールおよびその製造方法
TWI605564B (zh) 封裝結構及其製法
JP2010067989A (ja) モジュール部品
US7745911B2 (en) Semiconductor chip package
JP5750528B1 (ja) 部品内蔵回路基板
JP2005251889A (ja) 立体的電子回路装置
JP6919194B2 (ja) コイル部品及びこれを備える回路基板
US10861757B2 (en) Electronic component with shield plate and shield plate of electronic component
US7915715B2 (en) System and method to provide RF shielding for a MEMS microphone package
JP2002164479A (ja) 半導体装置およびその製造方法
JPWO2020071493A1 (ja) モジュール
JPH03120746A (ja) 半導体素子パッケージおよび半導体素子パッケージ搭載配線回路基板
CN101286500B (zh) 半导体模块及便携设备
JP2005136272A (ja) 高周波部品搭載用半導体装置
JP5577716B2 (ja) 回路モジュール及び回路モジュールの製造方法
JP2005050868A (ja) 電子装置
JP6900660B2 (ja) シールド層を有するモジュール
US20210021038A1 (en) Communication module, electronic device, and communication module manufacturing method
JPH09252191A (ja) 回路基板装置
JP2010010550A (ja) 電子部品の実装構造
US20240015882A1 (en) Printed circuit board (pcb) module comprising an embedded radio-frequency semiconductor die