JP2002164395A - 固体撮像素子の製造方法、固体撮像素子の測定方法及び測定装置 - Google Patents

固体撮像素子の製造方法、固体撮像素子の測定方法及び測定装置

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Masaharu Hamazaki
正治 浜崎
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Abstract

(57)【要約】 (修正有) 【課題】 検査工程における測定を正しくかつ測定にか
かる時間を短縮することができる固体撮像素子の製造方
法、並びに固体撮像素子の測定方法及び測定装置を提供
する。 【解決手段】 半導体ウエハ1に固体撮像素子の各層を
形成し、測定の種類が相異なる測定部が一体化して設け
られた測定装置10を使用して、各測定部により半導体
ウエハ1のそれぞれ1つの半導体チップとなる領域3に
対して測定を行う過程を繰り返し、半導体ウエハ1の半
導体チップとなる領域3の全てに対して順次測定を行う
固体撮像素子の検査工程と、その後半導体ウエハ1を各
半導体チップに分割する工程とを有して固体撮像素子の
製造を行う。また、固体撮像素子の測定に当たり、上記
測定装置10を使用して、各測定部により固体撮像素子
が形成された半導体ウエハ1の1つの半導体チップとな
る領域3に対して測定を行う。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、固体撮像素子の製
造方法に係わる。また、本発明は固体撮像素子に対して
各種の測定を行う固体撮像素子の測定方法及び測定装置
に係わる。
【0002】
【従来の技術】固体撮像素子を製造する際には、オンチ
ップレンズ等固体撮像素子の最上層までの各層が形成さ
れた状態で、半導体ウエハを各チップに分割する前に検
査工程を行っている。検査工程では、正しく動作するか
どうか検査する目的で、測定装置を用いて固体撮像素子
の測定を行っている。
【0003】測定内容としては、例えば各端子間の導通
・非導通を調べるためのDC(直流)測定や、センサ部
に光を照射すると共に駆動クロックを供給して固体撮像
素子から正しく信号出力の動作がなされるかどうか調べ
る撮像測定等がある。
【0004】このような測定に用いられる固体撮像素子
用の測定装置の概略構成図(断面図)を図4に示す。こ
の測定装置50は、回路基板51上に測定を行うための
回路が配置されて構成される。回路基板51には、中央
部に光を通すための開口52が形成され、この開口52
の周囲に基板51の表面から裏面に貫通するスルーホー
ル内に埋められた導電層54が形成されている。導電層
54には、裏面側に各種測定を行うための針状の測定プ
ローブ53が接続され、表面側には配線55が接続され
ている。配線55の他端はリレー58に接続されてい
る。リレー58にはさらに2つの配線56,57が接続
され、配線56はDC(直流)測定回路(図5参照)に
接続され、配線57は撮像測定回路及び駆動回路(図5
参照)に接続される。
【0005】そして、測定プローブ53を固体撮像素子
のボンディングパッドに当てることにより真空チャック
2等により固定された半導体ウエハ1の1つの半導体チ
ップ3となる領域に対して測定を行うように構成されて
いる。
【0006】この測定装置50の回路ブロック図を図5
に示す。リレー58とDC測定回路61が配線56によ
り接続され、リレー58と撮像測定回路62及び駆動回
路(ドライバ)63が配線57により接続されている。
リレー58は、2つの配線56及び57を切り換えて、
DC測定回路61或いは撮像測定回路62及び駆動回路
63のいずれか一方を測定プローブ53に接続するよう
にしている。
【0007】このような構成により、1つの半導体チッ
プ3に対して、先にDC測定回路61による導通等のD
C測定を行い、その後撮像測定回路62及び駆動回路6
3による撮像測定を行うようにしている。即ち1組の測
定プローブ53により1つの半導体チップ3に対して検
査を行っており、DC測定回路61と撮像測定回路62
及び駆動回路63とを切り換えるためのリレー58を必
要としていた。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うな構成の測定装置50では、次のような問題がある。
測定プローブ53が針状であるため測定プローブ53の
先端からリレー58までが長くなっており、またリレー
58を介在させていることにより測定プローブ53から
測定回路61,62や駆動回路63までの配線55,5
6,57が長くなる。
【0009】このように配線55,56,57が長くな
ると、リアクタンスが大きくなる。特に固体撮像素子が
多画素化されて駆動周波数が高くなると、リアクタンス
が大きいことにより、伝搬遅延による駆動波形の劣化を
生じることになる。従って、撮像測定を行う際に駆動回
路63から高い周波数の駆動波形を供給して高速駆動及
び高速測定を行う上で妨げになる。
【0010】また、1つの半導体チップ3に対してDC
測定を行ってから、その後同じ半導体チップ3に対して
撮像測定を行うようにしており、1つの半導体チップ3
に対してDC測定及び撮像測定を行った後に、次の半導
体チップ3に対する測定を行う。このため、半導体ウエ
ハ1内の全ての半導体チップ3について測定をするため
に必要な時間が長くかかる。
【0011】上述した問題の解決のために、本発明にお
いては、多画素化され高速駆動がなされる固体撮像素子
に対しても、検査工程における測定を正しくかつ測定に
かかる時間を短縮することができる固体撮像素子の製造
方法、並びに測定を正しくかつより短時間で行うことが
できる固体撮像素子の測定方法及び測定装置を提供する
ものである。
【0012】
【課題を解決するための手段】本発明の固体撮像素子の
製造方法は、半導体ウエハに固体撮像素子の各層を形成
する工程と、少なくとも測定の種類が相異なる第1の測
定部と第2の測定部とを含む複数の測定部が一体化して
設けられた測定装置を使用して、複数の測定部の各測定
部により半導体ウエハのそれぞれ1つの半導体チップと
なる領域に対して測定を行う過程を繰り返し、半導体ウ
エハの半導体チップとなる領域の全てに対して順次測定
を行う固体撮像素子の検査工程と、その後半導体ウエハ
を各半導体チップに分割する工程とを有するものであ
る。
【0013】上述の本発明製法によれば、少なくとも測
定の種類が相異なる第1の測定部と第2の測定部とを含
む複数の測定部の各測定部により半導体ウエハのそれぞ
れ1つの半導体チップとなる領域に対して測定を行うこ
とにより、半導体ウエハの多数の半導体チップとなる領
域のうち、複数の領域に対して並行して検査工程の測定
を行うことができ、特に並行して異なる種類の測定を行
うことができる。
【0014】本発明の固体撮像素子の測定方法は、少な
くとも測定の種類が相異なる第1の測定部と第2の測定
部とを含む複数の測定部が一体化して設けられた測定装
置を使用して、複数の測定部の各測定部により固体撮像
素子が形成された半導体ウエハのそれぞれ1つの半導体
チップとなる領域に対して測定を行うものである。
【0015】上述の本発明の測定方法によれば、少なく
とも測定の種類が相異なる第1の測定部と第2の測定部
とを含む複数の測定部の各測定部により固体撮像素子が
形成された半導体ウエハのそれぞれ1つの半導体チップ
となる領域に対して測定を行うことにより、固体撮像素
子が形成された半導体ウエハの多数の半導体チップとな
る領域のうち、複数の領域に対して並行して(異種の)
測定を行うことができる。
【0016】本発明の固体撮像素子の測定装置は、測定
回路と測定プローブとを備え固体撮像素子が形成された
半導体ウエハに対して複数種類の測定を行う装置であっ
て、測定回路及び測定プローブを備えた測定部が、同一
回路基板に複数設けられ、この複数の測定部は、少なく
とも、第1の測定部と、この第1の測定部により行われ
る測定とは異なる種類の測定が行われる第2の測定部と
を有し、かつ各測定部がそれぞれ半導体ウエハにおける
1つの半導体チップとなる領域に対して測定可能に構成
されて成るものである。
【0017】上述の本発明の固体撮像素子の測定装置の
構成によれば、複数の測定部が少なくとも第1の測定部
と、この第1の測定部により行われる測定とは異なる種
類の測定が行われる第2の測定部とを有し、かつ各測定
部がそれぞれ半導体ウエハにおける1つの半導体チップ
となる領域に対して測定可能に構成されて成ることによ
り、第1の測定部と第2の測定部とによって、半導体ウ
エハの多数の半導体チップとなる領域のうち、2つの領
域のそれぞれに対して並行して異種の測定を行うことが
可能になる。
【0018】
【発明の実施の形態】本発明は、半導体ウエハに固体撮
像素子の各層を形成する工程と、少なくとも測定の種類
が相異なる第1の測定部と第2の測定部とを含む複数の
測定部が一体化して設けられた測定装置を使用して、複
数の測定部の各測定部により半導体ウエハのそれぞれ1
つの半導体チップとなる領域に対して測定を行う過程を
繰り返し、半導体ウエハの半導体チップとなる領域の全
てに対して順次測定を行う固体撮像素子の検査工程と、
その後半導体ウエハを各半導体チップに分割する工程と
を有する固体撮像素子の製造方法である。
【0019】本発明は、少なくとも測定の種類が相異な
る第1の測定部と第2の測定部とを含む複数の測定部が
一体化して設けられた測定装置を使用して、複数の測定
部の各測定部により固体撮像素子が形成された半導体ウ
エハのそれぞれ1つの半導体チップとなる領域に対して
測定を行う固体撮像素子の測定方法である。
【0020】本発明は、測定回路と測定プローブとを備
え、固体撮像素子が形成された半導体ウエハに対して複
数種類の測定を行う測定装置であって、測定回路及び測
定プローブを備えた測定部が、同一回路基板に複数設け
られ、この複数の測定部は、少なくとも、第1の測定部
と、この第1の測定部により行われる測定とは異なる種
類の測定が行われる第2の測定部とを有し、かつ各測定
部がそれぞれ半導体ウエハにおける1つの半導体チップ
となる領域に対して測定可能に構成されて成る固体撮像
素子の測定装置である。
【0021】また本発明は、上記固体撮像素子の測定装
置において、測定プローブが回路基板の裏面側に形成さ
れたバンプ状測定プローブ又は垂直な針である構成とす
る。
【0022】また本発明は、上記固体撮像素子の測定装
置において、回路基板に固体撮像素子に光を入射させる
ための開口が形成されている構成とする。
【0023】図1は、本発明の一実施の形態として、固
体撮像素子用測定装置の概略構成図(断面図)を示す。
この測定装置10は、回路基板11上に測定を行うため
の回路13,14が配置されて構成される。回路基板1
1には、中央部に光を通すための開口12が形成され、
この開口12の周囲に基板11の表面から裏面に貫通す
るスルーホール内に埋められた導電層15が形成されて
いる。導電層15には、裏面側に各種測定を行うための
バンプ状測定プローブ16が接続され、表面側には配線
17が接続されている。配線17の他端は回路13,1
4に接続されている。
【0024】そして、バンプ状測定プローブ16を固体
撮像素子のボンディングパッドに当てることにより真空
チャック2等により固定された半導体ウエハ1の1つの
半導体チップ3(1chip)となる領域(以下単に
「1つの半導体チップ3」として説明する)に対して測
定を行うように構成されている。
【0025】さらに、図1の測定装置10の平面図を図
2A及び図2Bに示す。図2Aは上から見た平面図を示
し、図2Bは下から見た平面図である。本実施の形態で
は、特に図2A及び図2Bに示すように、測定装置10
を第1の測定部21及び第2の測定部22の2つの測定
部から成る構成としている。
【0026】第1の測定部21は、DC(直流)測定部
であり、DC測定回路13AによりDC測定を行うよう
に構成されている。第2の測定部22は、撮像測定部で
あり、駆動回路(ドライバ)14により固体撮像素子を
駆動させながら、撮像測定回路13Bにより撮像測定を
行うように構成されている。これら2つの測定部21及
び22は、それぞれが1つの半導体チップ3に対する測
定を行うことができるように構成される。
【0027】そして、各回路13A,13B,14は、
配線17により回路基板11の開口12の周囲に形成さ
れた導電層15に接続されている。この導電層15の裏
側に接続して、図1及び図2Bに示すようにバンプ状測
定プローブ16が形成され、第1の測定部21と第2の
測定部22にそれぞれ所定の数のバンプ状測定プローブ
16が設けられている。
【0028】このように測定装置10が構成されている
ことにより、1つの半導体チップ3に対して第1の測定
部(DC測定部)21によるDC測定を行いながら、隣
の他の半導体チップ3に対して第2の測定部(撮像測定
部)22による撮像測定を行うことができる。
【0029】そして、図3A〜図3Dに、図1に示す本
実施の形態の測定装置10により半導体ウエハ1の各半
導体チップ3に対して順次測定を行う工程を示す。図3
Aに示すように、半導体ウエハ1の横一列に並んだA,
B,C,Dの4つの半導体チップ3に対して、図中矢印
に示すようにA〜Dの順序で測定を行うとする。まず、
図3Bに示すように、第1の測定部(DC測定部)21
により半導体チップAに対してDC測定を行う。次に、
半導体ウエハ1に対して回路基板11を移動させて、図
3Cに示すように、開口12が半導体チップA及び半導
体チップBの上にくるようにする。そして、第2の測定
部(撮像測定部)22により半導体チップAに対して撮
像測定を行うと同時に、第1の測定部21により半導体
チップBに対してDC測定を行う。続いて、半導体ウエ
ハ1に対して回路基板11を移動させて、図3Dに示す
ように、開口12が半導体チップB及び半導体チップC
の上にくるようにする。そして、第2の測定部(撮像測
定部)22により半導体チップBに対して撮像測定を行
うと同時に、第1の測定部21により半導体チップCに
対してDC測定を行う。以下同様にして、順次各半導体
チップに対してDC測定及び撮像測定が行われる。
【0030】このように測定を行うことにより、2つの
半導体チップ3で同時に測定が行われるため、半導体ウ
エハ1の全ての半導体チップ3を測定するために必要な
時間を短縮することができる。
【0031】尚、本実施の形態では、開口12が第1の
測定部21と第2の測定部22に共通に形成されている
が、各測定部にそれぞれ独立して開口を設けるようにし
てもよい。
【0032】上述の本実施の形態によれば、第1の測定
部21と第2の測定部22により2つの半導体チップ3
で並行して測定が行われるため、半導体ウエハ1全体を
測定するのに要する時間を短縮することができる。
【0033】また、測定に用いる回路13,14と測定
プローブ16との間にリレーを介在させないので、測定
プローブ16から駆動回路14までの配線の距離を短く
することができる。これにより、配線のリアクタンスが
小さくなる。従って、高速駆動させても伝搬遅延しない
ため、駆動波形の劣化を生じなくなり、正しい測定を行
うことができると共に、出力等の波形もきれいになる。
【0034】また、バンプ状測定プローブ16を用い
て、これを固体撮像素子のボンディングパッドに当接し
て測定を行うため、測定プローブ16の先端から回路1
3,14までの距離が短くなる。これによっても配線の
リアクタンスを低減することができる。尚、図4に示し
た針状の測定プローブ53では、その先端は自由端とな
っているため、先端を固体撮像素子のボンディングパッ
ドに当てる際に滑ってしまうことがある。こうして先端
が滑ったときに、表面の膜を削ってしまい、ゴミを発生
させたり、光が通る部分に傷がついたりすることがあ
る。
【0035】これに対して、本実施の形態では、回路基
板11の裏面に形成されたバンプ状測定プローブ16を
ボンディングパッドに当接して測定を行うので、測定プ
ローブ16の先端が滑ることがなく、ゴミの発生や傷付
きを防止することができる。従って、ゴミを除去する工
程が不要となり製造工程が簡略化されると共に、ゴミや
傷による不良の発生率を低減して、製造歩留まりを向上
することができる。
【0036】また、上述の実施の形態の測定装置10の
構成において、バンプ状測定プローブ16の代わりに、
例えば回路基板の裏面側に形成された垂直な針を測定プ
ローブとして用いることもできる。この場合も、測定プ
ローブの先端が滑らないので、ゴミの発生や傷付きを防
止することができる。
【0037】尚、図4に示した従来の測定装置50で
は、DC測定で正常が確認された半導体チップ3につい
て撮像測定を行うようにしている。本実施の形態の測定
装置10でも同様に、第1の測定部(DC測定部)21
によるDC測定で正常が確認された半導体チップ3につ
いて、次の第2の測定部(撮像測定部)による撮像測定
を行うようにする。これにより、DC測定で不良であっ
たチップ3は撮像測定が省略されるので、不要な測定時
間を消費しない。
【0038】上述の実施の形態では、DC測定部21と
撮像測定部22とが1つずつ設けられていたが、本発明
では各測定部の数は1つに限定されるものではなく、同
種の測定を行う測定部を複数設けてもよい。また、DC
測定部21と撮像測定部22とは必ずしも同数にする必
要はなく、例えばそれぞれの測定に要する時間を考慮し
て測定部の数を設定してもよい。さらに、他の測定を行
う測定部を設けて3種類以上の測定を行うように構成し
てもよい。
【0039】尚、測定部が多数となった場合には、点光
源1つでは開口の端にある測定部において斜め入射光の
割合が多くなってしまうため、列に並べた光源や帯状の
光源を用いる方がよい。また、開口を遮蔽することがで
きるシャッタ等を各測定部毎に設けて、一部の測定部が
測定している半導体チップのみに光源からの光が入射す
るように装置を構成することも可能である。
【0040】本発明は、上述の実施の形態に限定される
ものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲でその他
様々な構成が取り得る。
【0041】
【発明の効果】上述の本発明によれば、複数の測定部に
より複数の半導体チップにおいて並行して異なる種類の
測定が行われるため、半導体ウエハ全体を測定するのに
要する時間を短縮することができる。
【0042】また、駆動回路と測定プローブとの間にリ
レーを介在させないで済むため、測定プローブから駆動
回路までの配線の距離を短くして、配線のリアクタンス
を小さくすることができる。これにより、高速駆動させ
たときの駆動波形の劣化を生じなくなり、正しい測定を
行うことができると共に、出力等の波形もきれいにな
る。
【0043】従って、本発明によれば、多画素化されて
高速駆動がなされる固体撮像素子に対しても、測定を正
しくかつより短時間で行うことができる。
【0044】また、測定プローブが回路基板の裏面側に
形成されたバンプ状測定プローブ又は垂直な針である構
成の測定装置としたときには、測定プローブの先端が滑
ることがなく、ゴミの発生や傷付きを防止することがで
きる。従って、ゴミを除去する工程が不要となり製造工
程が簡略化されると共に、ゴミや傷による不良の発生率
を低減して製造歩留まりを向上することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施の形態の固体撮像素子用測定装
置の概略構成図(断面図)である。
【図2】A 図1の測定装置を上から見た平面図であ
る。 B 図1の測定装置を下から見た平面図である。
【図3】A〜D 図1の測定装置により半導体ウエハの
各半導体チップに対して順次測定を行う工程を示す図で
ある。
【図4】従来の固体撮像素子用測定装置の概略構成図
(断面図)である。
【図5】図4の測定装置の回路のブロック図である。
【符号の説明】
1 半導体ウエハ、2 真空チャック、3 半導体チッ
プ、10 測定装置、11 回路基板、12 開口、1
6 バンプ状測定プローブ、17 配線、21第1の測
定部(DC測定部)、22 第2の測定部(撮像測定
部)

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 半導体ウエハに固体撮像素子の各層を形
    成する工程と、 少なくとも測定の種類が相異なる第1の測定部と第2の
    測定部とを含む複数の測定部が一体化して設けられた測
    定装置を使用して、上記複数の測定部の各測定部により
    上記半導体ウエハのそれぞれ1つの半導体チップとなる
    領域に対して測定を行う過程を繰り返し、上記半導体ウ
    エハの半導体チップとなる領域の全てに対して順次測定
    を行う固体撮像素子の検査工程と、 その後、上記半導体ウエハを各上記半導体チップに分割
    する工程とを有することを特徴とする固体撮像素子の製
    造方法。
  2. 【請求項2】 少なくとも測定の種類が相異なる第1の
    測定部と第2の測定部とを含む複数の測定部が一体化し
    て設けられた測定装置を使用して、 上記複数の測定部の各測定部により、固体撮像素子が形
    成された半導体ウエハのそれぞれ1つの半導体チップと
    なる領域に対して測定を行うことを特徴とする固体撮像
    素子の測定方法。
  3. 【請求項3】 測定回路と測定プローブとを備え、固体
    撮像素子が形成された半導体ウエハに対して複数種類の
    測定を行う測定装置であって、 上記測定回路及び上記測定プローブを備えた測定部が、
    同一回路基板に複数設けられ、 上記複数の測定部は、少なくとも、第1の測定部と、該
    第1の測定部により行われる測定とは異なる種類の測定
    が行われる第2の測定部とを有し、かつ各測定部がそれ
    ぞれ上記半導体ウエハにおける1つの半導体チップとな
    る領域に対して測定可能に構成されて成ることを特徴と
    する固体撮像素子の測定装置。
  4. 【請求項4】 上記測定プローブは、上記回路基板の裏
    面側に形成されたバンプ状測定プローブ又は垂直な針で
    あることを特徴とする請求項3に記載の固体撮像素子の
    測定装置。
  5. 【請求項5】 上記回路基板に、固体撮像素子に光を入
    射させるための開口が形成されていることを特徴とする
    請求項3に記載の固体撮像素子の測定装置。
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