JP2002155266A - キレート形成性オリゴマー - Google Patents
キレート形成性オリゴマーInfo
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- JP2002155266A JP2002155266A JP2000355268A JP2000355268A JP2002155266A JP 2002155266 A JP2002155266 A JP 2002155266A JP 2000355268 A JP2000355268 A JP 2000355268A JP 2000355268 A JP2000355268 A JP 2000355268A JP 2002155266 A JP2002155266 A JP 2002155266A
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- unsaturated monomer
- chelate
- ethylenically unsaturated
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Abstract
(57)【要約】 (修正有)
【課題】長期間安定して金属イオンを捕捉できるキレー
ト形成性オリゴマー、およびそれを含有する被覆用組成
物を提供する。 【解決手段】触媒的連鎖移動重合法によりエチレン性不
飽和単量体(i)を共重合したエチレン性不飽和基を有
するオリゴマー(I)、及びオリゴマー(I)の存在下
でエチレン性不飽和単量体(ii)を共重合した共重合オ
リゴマー(II)から選ばれる1種以上であって、オリゴ
マー(I)及び共重合オリゴマー(II)が1分子中に少
なくとも2個以上のキレート形成基(例えば、アセトア
セトキシ基)を有するキレート形成性オリゴマー。また
エチレン性不飽和単量体(i)及び/又は(ii)が2
−(アセトアセトキシ)エチルメタクリレートを含むキ
レート形成性オリゴマー。さらにエチレン性不飽和単量
体(i)及び/又は(ii)が水酸基含有不飽和単量体
を含み、オリゴマー(I)又は共重合オリゴマー(II)
中の水酸基にジケテンを付加したキレート形成性オリゴ
マー。
ト形成性オリゴマー、およびそれを含有する被覆用組成
物を提供する。 【解決手段】触媒的連鎖移動重合法によりエチレン性不
飽和単量体(i)を共重合したエチレン性不飽和基を有
するオリゴマー(I)、及びオリゴマー(I)の存在下
でエチレン性不飽和単量体(ii)を共重合した共重合オ
リゴマー(II)から選ばれる1種以上であって、オリゴ
マー(I)及び共重合オリゴマー(II)が1分子中に少
なくとも2個以上のキレート形成基(例えば、アセトア
セトキシ基)を有するキレート形成性オリゴマー。また
エチレン性不飽和単量体(i)及び/又は(ii)が2
−(アセトアセトキシ)エチルメタクリレートを含むキ
レート形成性オリゴマー。さらにエチレン性不飽和単量
体(i)及び/又は(ii)が水酸基含有不飽和単量体
を含み、オリゴマー(I)又は共重合オリゴマー(II)
中の水酸基にジケテンを付加したキレート形成性オリゴ
マー。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、長期間安定して金
属イオンを捕捉することができるキレート形成性オリゴ
マーに関する。
属イオンを捕捉することができるキレート形成性オリゴ
マーに関する。
【0002】
【従来技術及びその課題】従来より、金属の腐食防止、
あるいは組成物中の金属イオンの捕捉などの用途におい
てキレート化能を有する化合物が用いられている。組成
物中の金属イオンを捕捉する化合物としては、例えばア
セチルアセトンなどのβ―ジケトン類やアセト酢酸メチ
ルなどのアセト酢酸エステル類が挙げられるが、これら
は常温で揮発しやすく、長期間金属イオンを保持するこ
とが困難である。
あるいは組成物中の金属イオンの捕捉などの用途におい
てキレート化能を有する化合物が用いられている。組成
物中の金属イオンを捕捉する化合物としては、例えばア
セチルアセトンなどのβ―ジケトン類やアセト酢酸メチ
ルなどのアセト酢酸エステル類が挙げられるが、これら
は常温で揮発しやすく、長期間金属イオンを保持するこ
とが困難である。
【0003】例えば船、水中・水上構造物、漁業資材等
に適用される防汚塗料においては、防汚剤として銅系の
ものを用いると、該塗料を長期に貯蔵した場合に、塗料
が増粘したり、得られる塗膜の物性が低下するなどの問
題があり、銅系防汚剤を含む塗料にアセチルアセトンな
どのキレート化剤を配合する(特開2000−2482
07号公報)、あるいはアセトアセトキシ基を有する単
量体を共重合してなる樹脂をビヒクル成分とする(特開
平8−53634号公報)などの方策が用いられてきた
が、前者ではキレート化剤が常温で揮発しやすく、長期
間金属イオンを保持することが困難であり、後者におい
ては金属イオンの捕捉能が著しく劣るという問題があっ
た。
に適用される防汚塗料においては、防汚剤として銅系の
ものを用いると、該塗料を長期に貯蔵した場合に、塗料
が増粘したり、得られる塗膜の物性が低下するなどの問
題があり、銅系防汚剤を含む塗料にアセチルアセトンな
どのキレート化剤を配合する(特開2000−2482
07号公報)、あるいはアセトアセトキシ基を有する単
量体を共重合してなる樹脂をビヒクル成分とする(特開
平8−53634号公報)などの方策が用いられてきた
が、前者ではキレート化剤が常温で揮発しやすく、長期
間金属イオンを保持することが困難であり、後者におい
ては金属イオンの捕捉能が著しく劣るという問題があっ
た。
【0004】本発明の目的は、揮発することなく長期に
わたって安定して金属イオンを捕捉でき、しかも被覆組
成物に配合しても増粘や被膜物性の低下等の不具合の生
じないキレート化剤を提供することにある。
わたって安定して金属イオンを捕捉でき、しかも被覆組
成物に配合しても増粘や被膜物性の低下等の不具合の生
じないキレート化剤を提供することにある。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明は、触媒的連鎖移
動重合法によりエチレン性不飽和単量体(i)を共重合
してなるエチレン性不飽和基を有するオリゴマー
(I)、及び該エチレン性不飽和基を有するオリゴマー
(I)の存在下でエチレン性不飽和単量体(ii)を共重
合してなる共重合オリゴマー(II)から選ばれる少なく
とも1種であって、該オリゴマー(I)及び共重合オリ
ゴマー(II)が1分子中に少なくとも2個以上のキレー
ト形成基を有することを特徴とするキレート形成性オリ
ゴマーに関する。
動重合法によりエチレン性不飽和単量体(i)を共重合
してなるエチレン性不飽和基を有するオリゴマー
(I)、及び該エチレン性不飽和基を有するオリゴマー
(I)の存在下でエチレン性不飽和単量体(ii)を共重
合してなる共重合オリゴマー(II)から選ばれる少なく
とも1種であって、該オリゴマー(I)及び共重合オリ
ゴマー(II)が1分子中に少なくとも2個以上のキレー
ト形成基を有することを特徴とするキレート形成性オリ
ゴマーに関する。
【0006】
【発明の実施の形態】本発明のキレート形成基含有樹脂
は、触媒的連鎖移動重合法( Catalytic Chain Tran
sfer Polymerization、以下、「CCTP法」と略称す
ることがある)によりエチレン性不飽和単量体(i)を
共重合してなるエチレン性不飽和基を有するオリゴマー
(I)、及びCCTP法により共重合してなるエチレン
性不飽和基を有するオリゴマー(I)の存在下でエチレ
ン性不飽和単量体(ii)を共重合してなる共重合オリゴ
マー(II)から選ばれる少なくとも1種であって、且つ
1分子中に少なくとも2個のキレート形成基を有するオ
リゴマーである。
は、触媒的連鎖移動重合法( Catalytic Chain Tran
sfer Polymerization、以下、「CCTP法」と略称す
ることがある)によりエチレン性不飽和単量体(i)を
共重合してなるエチレン性不飽和基を有するオリゴマー
(I)、及びCCTP法により共重合してなるエチレン
性不飽和基を有するオリゴマー(I)の存在下でエチレ
ン性不飽和単量体(ii)を共重合してなる共重合オリゴ
マー(II)から選ばれる少なくとも1種であって、且つ
1分子中に少なくとも2個のキレート形成基を有するオ
リゴマーである。
【0007】上記CCTP法は、例えば、特公平6−2
3209号公報、特公平7−35411号公報、特表平
9−501457号公報、特開平9−176256号公
報、Macromolecules 1996、29、
8083−8089などに記載されており、重合性不飽
和モノマ−を、触媒的連鎖移動剤である金属錯体及びラ
ジカル重合開始剤の存在下で、無溶剤で又は有機溶剤中
などで重合せしめる方法である。
3209号公報、特公平7−35411号公報、特表平
9−501457号公報、特開平9−176256号公
報、Macromolecules 1996、29、
8083−8089などに記載されており、重合性不飽
和モノマ−を、触媒的連鎖移動剤である金属錯体及びラ
ジカル重合開始剤の存在下で、無溶剤で又は有機溶剤中
などで重合せしめる方法である。
【0008】金属錯体としては、例えば、コバルト錯
体、鉄錯体、ニッケル錯体、ルテニウム錯体、ロジウム
錯体、パラジウム錯体、レニウム錯体、イリジウム錯体
などが挙げられ、これらのうち、なかでもコバルト錯体
が効率良く連鎖移動剤として作用するので好ましい。
体、鉄錯体、ニッケル錯体、ルテニウム錯体、ロジウム
錯体、パラジウム錯体、レニウム錯体、イリジウム錯体
などが挙げられ、これらのうち、なかでもコバルト錯体
が効率良く連鎖移動剤として作用するので好ましい。
【0009】上記コバルト錯体としては、例えば、特公
平6−23209号公報、特公平7−35411号公
報、USP4526945号公報、USP469405
4号公報、USP4837326号公報、USP488
6861号公報、USP5324879号公報、WO9
5/17435号公報、特表平9−510499号公報
等に記載されているものを使用することができる。具体
的には、例えば、ビス(ボロンジフルオロジメチルジオ
キシイミノシクロヘキサン)Co(II)、ビス(ボロン
ジフルオロジメチルグリオキシメイト)Co(II)、ビ
ス(ボロンジフルオロジフェニルグリオキシメイト)C
o(II)、ビシナルイミノヒドロキシイミノ化合物のコ
バルト(II)キレ−ト、テトラアザテトラアルキルシク
ロテトラデカテトラエンのコバルト(II)キレ−ト、
N,N´−ビス(サリチリデン)エチレンジアミノコバ
ルト(II)キレ−ト、ジアルキルジアザジオキソジアル
キルドデカジエンのコバルト(II)キレ−ト、コバルト
(II)ポルフィリン錯体などがあげられる。これらのう
ち、ビス(ボロンジフルオロジフェニルグリオキシメイ
ト)Co(II)、ビス(ボロンジフルオロジメチルグリ
オキシメイト)Co(II)などは入手が容易であり、好
適なものである。
平6−23209号公報、特公平7−35411号公
報、USP4526945号公報、USP469405
4号公報、USP4837326号公報、USP488
6861号公報、USP5324879号公報、WO9
5/17435号公報、特表平9−510499号公報
等に記載されているものを使用することができる。具体
的には、例えば、ビス(ボロンジフルオロジメチルジオ
キシイミノシクロヘキサン)Co(II)、ビス(ボロン
ジフルオロジメチルグリオキシメイト)Co(II)、ビ
ス(ボロンジフルオロジフェニルグリオキシメイト)C
o(II)、ビシナルイミノヒドロキシイミノ化合物のコ
バルト(II)キレ−ト、テトラアザテトラアルキルシク
ロテトラデカテトラエンのコバルト(II)キレ−ト、
N,N´−ビス(サリチリデン)エチレンジアミノコバ
ルト(II)キレ−ト、ジアルキルジアザジオキソジアル
キルドデカジエンのコバルト(II)キレ−ト、コバルト
(II)ポルフィリン錯体などがあげられる。これらのう
ち、ビス(ボロンジフルオロジフェニルグリオキシメイ
ト)Co(II)、ビス(ボロンジフルオロジメチルグリ
オキシメイト)Co(II)などは入手が容易であり、好
適なものである。
【0010】また、例えば、特公平8−19172号公
報に記載されている、金属に直接ラジカル開裂が可能な
基が結合した錯体を、上記の金属錯体に代えて、使用す
ることも可能である。ラジカル開裂が可能な基として
は、例えば、アルキル基、アリ−ル基、複素環式基など
が挙げられる。さらに、可視光又は紫外線の照射や加熱
により金属イオンからホモリチック解離できる置換誘導
体;キレ−ト金属イオンに結合したハロゲン化物;他の
陰イオン、ニトリル、エステル、金属イオンに結合した
炭素原子で置換した芳香族又は置換芳香族基などが挙げ
られる。これらの金属に直接ラジカル開裂が可能な基が
結合した錯体を使用する系では、ラジカル重合開始剤を
併用しなくても差支えない。
報に記載されている、金属に直接ラジカル開裂が可能な
基が結合した錯体を、上記の金属錯体に代えて、使用す
ることも可能である。ラジカル開裂が可能な基として
は、例えば、アルキル基、アリ−ル基、複素環式基など
が挙げられる。さらに、可視光又は紫外線の照射や加熱
により金属イオンからホモリチック解離できる置換誘導
体;キレ−ト金属イオンに結合したハロゲン化物;他の
陰イオン、ニトリル、エステル、金属イオンに結合した
炭素原子で置換した芳香族又は置換芳香族基などが挙げ
られる。これらの金属に直接ラジカル開裂が可能な基が
結合した錯体を使用する系では、ラジカル重合開始剤を
併用しなくても差支えない。
【0011】上記オリゴマー(I)は、まず、エチレン
性不飽和単量体(i)として、キレート形成基を含有す
る重合性不飽和単量体(M−1)と、必要に応じて、該
単量体(M−1)と共重合可能なその他の重合性不飽和
単量体(M−2)とを使用し、CCTP法により重合す
ることによって製造することができる(製造法)。ま
たオリゴマー(I)は、エチレン性不飽和単量体(i)
として、水酸基含有重合性不飽和単量体(M−3)と、
必要に応じて、該単量体(M−3)と共重合可能なその
他の重合性不飽和単量体(M−4)とを使用し、CCT
P法により重合した後、得られたオリゴマー中の水酸基
にジケテンを付加することによって製造することができ
る(製造法)。
性不飽和単量体(i)として、キレート形成基を含有す
る重合性不飽和単量体(M−1)と、必要に応じて、該
単量体(M−1)と共重合可能なその他の重合性不飽和
単量体(M−2)とを使用し、CCTP法により重合す
ることによって製造することができる(製造法)。ま
たオリゴマー(I)は、エチレン性不飽和単量体(i)
として、水酸基含有重合性不飽和単量体(M−3)と、
必要に応じて、該単量体(M−3)と共重合可能なその
他の重合性不飽和単量体(M−4)とを使用し、CCT
P法により重合した後、得られたオリゴマー中の水酸基
にジケテンを付加することによって製造することができ
る(製造法)。
【0012】キレート形成基を含有する重合性不飽和体
(M−1)は、オリゴマー(I)中にキレート形成基を
導入するために使用されるモノマーであり、代表例とし
ては、例えば、2−(アセトアセトキシ)エチル(メ
タ)アクリレ−ト、2−(アセトアセトキシ)プロピル
(メタ)アクリレ−ト、2−(アセトアセトキシ)ブチ
ル(メタ)アクリレ−ト、アセト酢酸ビニルフェニル、
アクリルアミドマロン酸ジメチル、アクリルアミドマロ
ン酸ジエチル、メタクリルアミドマロン酸ジメチル、メ
タクリルアミドマロン酸ジエチルなどを挙げることがで
き、特に2−(アセトアセトキシ)エチルメタクリレ−
トが好適に使用できる。
(M−1)は、オリゴマー(I)中にキレート形成基を
導入するために使用されるモノマーであり、代表例とし
ては、例えば、2−(アセトアセトキシ)エチル(メ
タ)アクリレ−ト、2−(アセトアセトキシ)プロピル
(メタ)アクリレ−ト、2−(アセトアセトキシ)ブチ
ル(メタ)アクリレ−ト、アセト酢酸ビニルフェニル、
アクリルアミドマロン酸ジメチル、アクリルアミドマロ
ン酸ジエチル、メタクリルアミドマロン酸ジメチル、メ
タクリルアミドマロン酸ジエチルなどを挙げることがで
き、特に2−(アセトアセトキシ)エチルメタクリレ−
トが好適に使用できる。
【0013】本発明において、「……(メタ)アクリレ
ート」は、「……アクリレート又は……メタクリレー
ト」を意味するものとする。
ート」は、「……アクリレート又は……メタクリレー
ト」を意味するものとする。
【0014】その他の重合性不飽和単量体(M−2)
は、キレート形成基含有重合性不飽和単量体(M−1)
と共重合可能な、上記キレート形成基含有重合性不飽和
単量体(M−1)以外の単量体である。
は、キレート形成基含有重合性不飽和単量体(M−1)
と共重合可能な、上記キレート形成基含有重合性不飽和
単量体(M−1)以外の単量体である。
【0015】その他の重合性不飽和単量体(M−2)の
代表例としては、例えば、メチル(メタ)アクリレ−
ト、エチル(メタ)アクリレ−ト、n−プロピル(メ
タ)アクリレ−ト、イソプロピル(メタ)アクリレ−
ト、n−ブチル(メタ)アクリレ−ト、イソブチル(メ
タ)アクリレ−ト、tert−ブチル(メタ)アクリレ
−ト、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレ−ト、n−
オクチル(メタ)アクリレ−ト、ラウリル(メタ)アク
リレ−ト、トリデシル(メタ)アクリレ−ト、ステアリ
ル(メタ)アクリレ−ト、シクロヘキシル(メタ)アク
リレ−ト、イソボルニル(メタ)アクリレ−ト、トリシ
クロデカニル(メタ)アクリレ−ト、ジシクロペンテニ
ル(メタ)アクリレ−ト、ジシクロペンテニルオキシエ
チル(メタ)アクリレ−ト等のアルキル基の炭素数が1
〜24の直鎖状、分岐状又は環状のアルキル(メタ)ア
クリレ−ト;2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレ−
トなどの水酸基含有重合性不飽和モノマ−;(メタ)ア
クリル酸、マレイン酸、無水マレイン酸などのカルボキ
シル基含有重合性不飽和モノマ−;グリシジル(メタ)
アクリレート、3,4−エポキシシクロヘキシル(メ
タ)アクリレート、β-メチルグリシジル(メタ)アク
リレート、アリルグリシジルエーテルなどのエポキシ基
含有重合性不飽和モノマー;N,N−ジメチルアミノエ
チル(メタ)アクリルアミド、N,N−ジエチルアミノ
エチル(メタ)アクリルアミド、N,N−ジメチルアミ
ノプロピル(メタ)アクリルアミド、N−メチロ−ルア
クリルアミドメチルエ−テル、N−メチロ−ルアクリル
アミドブチルエ−テルなどの(メタ)アクリルアミド又
はその誘導体;3−エチル−3−メタクリロイルオキシ
メチルオキセタン、3−メチル−3−メタクリロイルオ
キシメチルオキセタン、3−ブチル−3−メタクリロイ
ルオキシメチルオキセタンなどのオキセタン環含有エチ
レン性不飽和モノマ−;(メタ)アクリロニトリル、ス
チレン、酢酸ビニル、ピペリジニル含有(メタ)アクリ
レ−ト(例えば、日立化成社製、商品名、「FA−71
1MM」、「FA−712HM」など)、フッ素含有ア
ルキル(メタ)アクリレ−ト、シロキサン含有(メタ)
アクリレ−ト、イソシアネ−ト基含有モノマ−、アルコ
キシシリル基含有(メタ)アクリレ−トなどが挙げられ
る。これらの重合性不飽和モノマ−は1種で、又は2種
以上を組み合わせて使用することができる。
代表例としては、例えば、メチル(メタ)アクリレ−
ト、エチル(メタ)アクリレ−ト、n−プロピル(メ
タ)アクリレ−ト、イソプロピル(メタ)アクリレ−
ト、n−ブチル(メタ)アクリレ−ト、イソブチル(メ
タ)アクリレ−ト、tert−ブチル(メタ)アクリレ
−ト、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレ−ト、n−
オクチル(メタ)アクリレ−ト、ラウリル(メタ)アク
リレ−ト、トリデシル(メタ)アクリレ−ト、ステアリ
ル(メタ)アクリレ−ト、シクロヘキシル(メタ)アク
リレ−ト、イソボルニル(メタ)アクリレ−ト、トリシ
クロデカニル(メタ)アクリレ−ト、ジシクロペンテニ
ル(メタ)アクリレ−ト、ジシクロペンテニルオキシエ
チル(メタ)アクリレ−ト等のアルキル基の炭素数が1
〜24の直鎖状、分岐状又は環状のアルキル(メタ)ア
クリレ−ト;2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレ−
トなどの水酸基含有重合性不飽和モノマ−;(メタ)ア
クリル酸、マレイン酸、無水マレイン酸などのカルボキ
シル基含有重合性不飽和モノマ−;グリシジル(メタ)
アクリレート、3,4−エポキシシクロヘキシル(メ
タ)アクリレート、β-メチルグリシジル(メタ)アク
リレート、アリルグリシジルエーテルなどのエポキシ基
含有重合性不飽和モノマー;N,N−ジメチルアミノエ
チル(メタ)アクリルアミド、N,N−ジエチルアミノ
エチル(メタ)アクリルアミド、N,N−ジメチルアミ
ノプロピル(メタ)アクリルアミド、N−メチロ−ルア
クリルアミドメチルエ−テル、N−メチロ−ルアクリル
アミドブチルエ−テルなどの(メタ)アクリルアミド又
はその誘導体;3−エチル−3−メタクリロイルオキシ
メチルオキセタン、3−メチル−3−メタクリロイルオ
キシメチルオキセタン、3−ブチル−3−メタクリロイ
ルオキシメチルオキセタンなどのオキセタン環含有エチ
レン性不飽和モノマ−;(メタ)アクリロニトリル、ス
チレン、酢酸ビニル、ピペリジニル含有(メタ)アクリ
レ−ト(例えば、日立化成社製、商品名、「FA−71
1MM」、「FA−712HM」など)、フッ素含有ア
ルキル(メタ)アクリレ−ト、シロキサン含有(メタ)
アクリレ−ト、イソシアネ−ト基含有モノマ−、アルコ
キシシリル基含有(メタ)アクリレ−トなどが挙げられ
る。これらの重合性不飽和モノマ−は1種で、又は2種
以上を組み合わせて使用することができる。
【0016】水酸基含有重合性不飽和単量体(M−3)
としては、、例えば、2−ヒドロキシエチル(メタ)ア
クリレ−ト、ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレ−
ト、4−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレ−トなどの
水酸基含有重合性不飽和モノマ−等を挙げることができ
る。
としては、、例えば、2−ヒドロキシエチル(メタ)ア
クリレ−ト、ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレ−
ト、4−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレ−トなどの
水酸基含有重合性不飽和モノマ−等を挙げることができ
る。
【0017】その他の重合性不飽和単量体(M−4)と
しては、上記その他の重合性不飽和単量体(M−2)に
列記の中から水酸基含有重合性不飽和モノマ−以外で適
宜選択して使用することができる。
しては、上記その他の重合性不飽和単量体(M−2)に
列記の中から水酸基含有重合性不飽和モノマ−以外で適
宜選択して使用することができる。
【0018】本発明において、エチレン性不飽和単量体
(i)をCCTP法により重合するに際して、触媒的連
鎖移動剤である金属錯体の使用比率は、特に限定される
ものではないが、通常、重合に使用されるエチレン性不
飽和単量体100重量部当たり、1×10-6〜1重量
部、特に1×10-4〜0.5重量部の範囲内が好適であ
る。
(i)をCCTP法により重合するに際して、触媒的連
鎖移動剤である金属錯体の使用比率は、特に限定される
ものではないが、通常、重合に使用されるエチレン性不
飽和単量体100重量部当たり、1×10-6〜1重量
部、特に1×10-4〜0.5重量部の範囲内が好適であ
る。
【0019】また、金属錯体の反応性の調整や溶解性を
良くするために、既知の配位化合物を、必要に応じて配
合することもできる。かかる配位化合物としては、例え
ば、トリフェニルホスフィン、トリブチルホスフィンの
ようなリン化合物;ピリジン、トリブチルアミンのよう
なアミン化合物などを挙げることができる。
良くするために、既知の配位化合物を、必要に応じて配
合することもできる。かかる配位化合物としては、例え
ば、トリフェニルホスフィン、トリブチルホスフィンの
ようなリン化合物;ピリジン、トリブチルアミンのよう
なアミン化合物などを挙げることができる。
【0020】また、上記オリゴマー(I)をCCTP法
によって製造する際に用いうるラジカル重合開始剤とし
ては、それ自体既知のラジカル重合開始剤を挙げること
ができ、その代表例として、例えば、シクロヘキサノン
パーオキサイド、3,3,5−トリメチルシクロヘキサ
ノンパーオキサイド、メチルシクロヘキサノンパーオキ
サイド、1,1−ビス(tert−ブチルパーオキシ)
−3,3,5−トリメチルシクロヘキサン、1,1−ビ
ス(tert−ブチルパーオキシ)シクロヘキサン、n
−ブチル−4,4−ビス(tert−ブチルパーオキ
シ)バレレ−ト、クメンハイドロパーオキサイド、2,
5−ジメチルヘキサン−2,5−ジハイドロパーオキサ
イド、1,3−ビス(tert−ブチルパーオキシ−m
−イソプロピル)ベンゼン、2,5−ジメチル−2,5
−ジ(tert−ブチルパーオキシ)ヘキサン、ジイソ
プロピルベンゼンパーオキサイド、tert−ブチルク
ミルパーオキサイド、デカノイルパーオキサイド、ラウ
ロイルパーオキサイド、ベンゾイルパーオキサイド、
2,4−ジクロロベンゾイルパーオキサイド、ビス(t
ert−ブチルシクロヘキシル)パーオキシジカーボネ
−ト、tert−ブチルパーオキシベンゾエート、2,
5−ジメチル−2,5−ジ(ベンゾイルパーオキシ)ヘ
キサン等の過酸化物系重合開始剤;2,2´−アゾビス
(イソブチロニトリル)、1,1−アゾビス(シクロヘ
キサン−1−カルボニトリル)、アゾクメン、2,2´
−アゾビスメチルバレロニトリル、4,4´−アゾビス
(4−シアノ吉草酸)、2−(tert−ブチルアゾ)
−2−シアノプロパン、2,2´−アゾビス(2,4,
4−トリメチルペンタン)、ジメチル−2,2´−アゾ
ビス(2−メチルプロピオネ−ト)等のアゾ系開始剤を
挙げることができる。これらのラジカル重合開始剤の使
用量は、特に限定されるものではないが、通常、重合に
用いられるエチレン性不飽和単量体100重量部当た
り、0.1〜20重量部、特に0.5〜10重量部の範
囲内であることが好ましい。
によって製造する際に用いうるラジカル重合開始剤とし
ては、それ自体既知のラジカル重合開始剤を挙げること
ができ、その代表例として、例えば、シクロヘキサノン
パーオキサイド、3,3,5−トリメチルシクロヘキサ
ノンパーオキサイド、メチルシクロヘキサノンパーオキ
サイド、1,1−ビス(tert−ブチルパーオキシ)
−3,3,5−トリメチルシクロヘキサン、1,1−ビ
ス(tert−ブチルパーオキシ)シクロヘキサン、n
−ブチル−4,4−ビス(tert−ブチルパーオキ
シ)バレレ−ト、クメンハイドロパーオキサイド、2,
5−ジメチルヘキサン−2,5−ジハイドロパーオキサ
イド、1,3−ビス(tert−ブチルパーオキシ−m
−イソプロピル)ベンゼン、2,5−ジメチル−2,5
−ジ(tert−ブチルパーオキシ)ヘキサン、ジイソ
プロピルベンゼンパーオキサイド、tert−ブチルク
ミルパーオキサイド、デカノイルパーオキサイド、ラウ
ロイルパーオキサイド、ベンゾイルパーオキサイド、
2,4−ジクロロベンゾイルパーオキサイド、ビス(t
ert−ブチルシクロヘキシル)パーオキシジカーボネ
−ト、tert−ブチルパーオキシベンゾエート、2,
5−ジメチル−2,5−ジ(ベンゾイルパーオキシ)ヘ
キサン等の過酸化物系重合開始剤;2,2´−アゾビス
(イソブチロニトリル)、1,1−アゾビス(シクロヘ
キサン−1−カルボニトリル)、アゾクメン、2,2´
−アゾビスメチルバレロニトリル、4,4´−アゾビス
(4−シアノ吉草酸)、2−(tert−ブチルアゾ)
−2−シアノプロパン、2,2´−アゾビス(2,4,
4−トリメチルペンタン)、ジメチル−2,2´−アゾ
ビス(2−メチルプロピオネ−ト)等のアゾ系開始剤を
挙げることができる。これらのラジカル重合開始剤の使
用量は、特に限定されるものではないが、通常、重合に
用いられるエチレン性不飽和単量体100重量部当た
り、0.1〜20重量部、特に0.5〜10重量部の範
囲内であることが好ましい。
【0021】CCTP法による重合反応を有機溶剤中で
行う場合、重合反応時に使用される有機溶剤としては、
エチレン性不飽和単量体(i)、並びに重合によって得
られるオリゴマー(I)を溶解又は分散できるものであ
れば特に制限なく使用することができ、具体例として
は、例えば、ヘプタン、トルエン、キシレン、オクタ
ン、ミネラルスピリッツ等の炭化水素系溶剤;酢酸エチ
ル、酢酸n−ブチル、酢酸イソブチル、エチレングリコ
ールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコー
ルモノブチルエーテルアセテート等のエステル系溶剤、
メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、ジイソ
ブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン系溶剤;メ
タノール、エタノール、イソプロパノール、n−ブタノ
ール、sec−ブタノール、イソブタノール等のアルコ
−ル系溶剤;n−ブチルエーテル、ジオキサン、エチレ
ングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコール
モノエチルエーテル等のエーテル系溶剤;コスモ石油社
製のスワゾール310、スワゾール1000、スワゾー
ル1500等の芳香族石油系溶剤等を挙げることができ
る。
行う場合、重合反応時に使用される有機溶剤としては、
エチレン性不飽和単量体(i)、並びに重合によって得
られるオリゴマー(I)を溶解又は分散できるものであ
れば特に制限なく使用することができ、具体例として
は、例えば、ヘプタン、トルエン、キシレン、オクタ
ン、ミネラルスピリッツ等の炭化水素系溶剤;酢酸エチ
ル、酢酸n−ブチル、酢酸イソブチル、エチレングリコ
ールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコー
ルモノブチルエーテルアセテート等のエステル系溶剤、
メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、ジイソ
ブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン系溶剤;メ
タノール、エタノール、イソプロパノール、n−ブタノ
ール、sec−ブタノール、イソブタノール等のアルコ
−ル系溶剤;n−ブチルエーテル、ジオキサン、エチレ
ングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコール
モノエチルエーテル等のエーテル系溶剤;コスモ石油社
製のスワゾール310、スワゾール1000、スワゾー
ル1500等の芳香族石油系溶剤等を挙げることができ
る。
【0022】これらの有機溶剤は、1種で、又は2種以
上を組み合わせて使用することができる。有機溶剤の使
用比率は、重合反応時におけるエチレン性不飽和単量体
の合計重量100重量部に基づいて、通常、400重量
部以下の範囲内が好ましい。
上を組み合わせて使用することができる。有機溶剤の使
用比率は、重合反応時におけるエチレン性不飽和単量体
の合計重量100重量部に基づいて、通常、400重量
部以下の範囲内が好ましい。
【0023】本発明において、オリゴマー(I)をCC
TP法によって有機溶剤中において製造する場合には、
キレート形成基含有重合性不飽和単量体(M−1)と、
必要に応じて、その他の重合性不飽和単量体(M−2)
を、あるいは水酸基含有重合性不飽和単量体(M−3)
と、必要に応じて、該単量体(M−3)と共重合可能な
その他の重合性不飽和単量体(M−4)とを、金属錯体
及びラジカル開始剤の存在下で、有機溶剤中で加熱して
共重合を行なうが、重合反応熱による系の温度上昇を抑
えるために、以下の(1)又は(2)の方法が好適に用
いられる。
TP法によって有機溶剤中において製造する場合には、
キレート形成基含有重合性不飽和単量体(M−1)と、
必要に応じて、その他の重合性不飽和単量体(M−2)
を、あるいは水酸基含有重合性不飽和単量体(M−3)
と、必要に応じて、該単量体(M−3)と共重合可能な
その他の重合性不飽和単量体(M−4)とを、金属錯体
及びラジカル開始剤の存在下で、有機溶剤中で加熱して
共重合を行なうが、重合反応熱による系の温度上昇を抑
えるために、以下の(1)又は(2)の方法が好適に用
いられる。
【0024】(1)金属錯体及び有機溶剤を反応槽に仕
込み、60〜200℃の温度で、撹拌しながら、エチレ
ン性不飽和単量体とラジカル重合開始剤を所定の時間を
かけて混合滴下または分離滴下する。
込み、60〜200℃の温度で、撹拌しながら、エチレ
ン性不飽和単量体とラジカル重合開始剤を所定の時間を
かけて混合滴下または分離滴下する。
【0025】(2)上記(1)の方法において、金属錯
体の一部又は全部をエチレン性不飽和単量体と共に混合
滴下又は分離滴下する。
体の一部又は全部をエチレン性不飽和単量体と共に混合
滴下又は分離滴下する。
【0026】上記水酸基含有重合性不飽和単量体(M−
3)と、必要に応じて、該単量体(M−3)と共重合可
能なその他の重合性不飽和単量体(M−4)とをCCT
P法により重合して得られるオリゴマー中の水酸基にジ
ケテンを付加させる場合の付加反応の条件は、例えば、
Reagents for Organic Synt
hesis,1,P.264.に記載されているような
アルコール類とジケテンとの一般的な条件に準じる。
3)と、必要に応じて、該単量体(M−3)と共重合可
能なその他の重合性不飽和単量体(M−4)とをCCT
P法により重合して得られるオリゴマー中の水酸基にジ
ケテンを付加させる場合の付加反応の条件は、例えば、
Reagents for Organic Synt
hesis,1,P.264.に記載されているような
アルコール類とジケテンとの一般的な条件に準じる。
【0027】上記の通り得られるオリゴマー(I)は、
キレート形成基を1分子中に少なくとも2個以上有する
ものであり、該キレート形成基としては、特にアセトア
セトキシ基が好適である。
キレート形成基を1分子中に少なくとも2個以上有する
ものであり、該キレート形成基としては、特にアセトア
セトキシ基が好適である。
【0028】本発明のキレート形成性オリゴマーとして
は、上記オリゴマー(I)のほかに、CCTP法により
重合してなるエチレン性不飽和基を有するオリゴマー
(I)の存在下でエチレン性不飽和単量体(ii)を重合
してなる共重合オリゴマー(II)も使用することができ
る。
は、上記オリゴマー(I)のほかに、CCTP法により
重合してなるエチレン性不飽和基を有するオリゴマー
(I)の存在下でエチレン性不飽和単量体(ii)を重合
してなる共重合オリゴマー(II)も使用することができ
る。
【0029】上記共重合オリゴマー(II)を製造するた
め、上記オリゴマー(I)の存在下で重合されるエチレ
ン性不飽和単量体(ii)としては、前記オリゴマー
(I)の製造に使用される、キレート形成基含有重合性
不飽和単量体(M−1)、その他の重合性不飽和単量体
(M−2)及び水酸基含有重合性不飽和単量体(M−
3)から選ばれる少なくとも1種のモノマーを使用する
ことができる。共重合オリゴマー(II)の製造は、オリ
ゴマー、重合開始剤、及び必要に応じて、溶媒の存在下
で、重合性不飽和モノマーを重合することによって行う
ことができる。
め、上記オリゴマー(I)の存在下で重合されるエチレ
ン性不飽和単量体(ii)としては、前記オリゴマー
(I)の製造に使用される、キレート形成基含有重合性
不飽和単量体(M−1)、その他の重合性不飽和単量体
(M−2)及び水酸基含有重合性不飽和単量体(M−
3)から選ばれる少なくとも1種のモノマーを使用する
ことができる。共重合オリゴマー(II)の製造は、オリ
ゴマー、重合開始剤、及び必要に応じて、溶媒の存在下
で、重合性不飽和モノマーを重合することによって行う
ことができる。
【0030】本発明のキレート形成性オリゴマーは、通
常、分子量が200〜5,000、好ましくは400〜
2,000の範囲内にあることが適当である。
常、分子量が200〜5,000、好ましくは400〜
2,000の範囲内にあることが適当である。
【0031】上記の通り得られる本発明のキレート形成
性オリゴマーは、金属イオン捕捉性を有するものであ
り、金属イオン捕捉剤として、あるいは被膜形成成分と
して、被覆用組成物に配合することができる。対象とな
る金属としては、ほとんどすべての金属が捕捉の対象と
なるが、例えば、金、銀、銅、白金、亜鉛、水銀、鉛、
錫、鉄、カリウム、タリウム、セシウム、ナトリウム、
コバルト、リチウム、マグネシウム、カドミウム、ニッ
ケル、パラジウム、硼素、カルシウム、バリウム、スト
ロンチウム、セレン、タンタル、チタン、ネオジム、サ
マリウム、バナジウム、クロム、マンガン、ルテニウ
ム、珪素、モリブデン、アンチモンなどが挙げられる。
性オリゴマーは、金属イオン捕捉性を有するものであ
り、金属イオン捕捉剤として、あるいは被膜形成成分と
して、被覆用組成物に配合することができる。対象とな
る金属としては、ほとんどすべての金属が捕捉の対象と
なるが、例えば、金、銀、銅、白金、亜鉛、水銀、鉛、
錫、鉄、カリウム、タリウム、セシウム、ナトリウム、
コバルト、リチウム、マグネシウム、カドミウム、ニッ
ケル、パラジウム、硼素、カルシウム、バリウム、スト
ロンチウム、セレン、タンタル、チタン、ネオジム、サ
マリウム、バナジウム、クロム、マンガン、ルテニウ
ム、珪素、モリブデン、アンチモンなどが挙げられる。
【0032】
【実施例】以下、実施例を挙げて本発明をさらに詳細に
説明する。尚、以下「部」及び「%」はそれぞれ「重量
部」及び「重量%」を示す。
説明する。尚、以下「部」及び「%」はそれぞれ「重量
部」及び「重量%」を示す。
【0033】実施例1 使用するエチレン性不飽和単量体および溶媒は、いずれ
も使用前に、これらの中に窒素ガスを少なくとも1時間
通送することにより、脱気(脱酸素)を行った。
も使用前に、これらの中に窒素ガスを少なくとも1時間
通送することにより、脱気(脱酸素)を行った。
【0034】温度計、サーモスタット、撹拌機、環流冷
却器および滴下装置を備え付けた反応容器にキシレン3
0部、酢酸エチル25部を仕込み、窒素ガスを通送しな
がら105℃に加熱して、エチレン性不飽和単量体とし
て2―(アセトアセトキシ)エチルメタクリレート10
0部、金属錯体としてビス(ボロンジフルオロジメチル
グリオキシメイト)Co(II)0.025部、ラジカル開
始剤として2、2’―アゾビス(2―メチルブチロニト
リル)1部、添加溶剤として酢酸エチル15部の混合物
を3時間かけて滴下した。滴下終了後105℃で1時間
放置し、更に2、2’―アゾビス(2―メチルブチロニ
トリル)0.5部、キシレン12部を1時間かけて滴下
し、滴下終了後105℃で1時間放置し、キレート形成
性オリゴマーA(2―(アセトアセトキシ)エチルメタ
クリレートオリゴマー、数平均分子量=500)の溶液
(固形分53%)を製造した。
却器および滴下装置を備え付けた反応容器にキシレン3
0部、酢酸エチル25部を仕込み、窒素ガスを通送しな
がら105℃に加熱して、エチレン性不飽和単量体とし
て2―(アセトアセトキシ)エチルメタクリレート10
0部、金属錯体としてビス(ボロンジフルオロジメチル
グリオキシメイト)Co(II)0.025部、ラジカル開
始剤として2、2’―アゾビス(2―メチルブチロニト
リル)1部、添加溶剤として酢酸エチル15部の混合物
を3時間かけて滴下した。滴下終了後105℃で1時間
放置し、更に2、2’―アゾビス(2―メチルブチロニ
トリル)0.5部、キシレン12部を1時間かけて滴下
し、滴下終了後105℃で1時間放置し、キレート形成
性オリゴマーA(2―(アセトアセトキシ)エチルメタ
クリレートオリゴマー、数平均分子量=500)の溶液
(固形分53%)を製造した。
【0035】実施例2 温度計、サーモスタット、撹拌機、環流冷却器および滴
下装置を備え付けた反応容器に上記実施例1で製造した
固形分53%のオリゴマーAの溶液151部(固形分8
0部)、キシレン6部を仕込み、窒素ガスを通送しなが
ら120℃に加熱して、エチレン性不飽和単量体として
エチルメタクリレート20部、重合開始剤として、2、
2’―アゾビス(2―メチルブチロニトリル)0.5部
の混合物を3時間かけて滴下した。滴下終了後120℃
で1時間放置し、更に2、2’―アゾビス(2―メチル
ブチロニトリル)0.5部、キシレン12部を1時間か
けて滴下し、滴下終了後120℃で1時間放置し、キレ
ート形成性オリゴマーB(オリゴマーAとエチルメタク
リレートの共重合オリゴマー、数平均分子量=650)
の溶液(固形分53%)を製造した。
下装置を備え付けた反応容器に上記実施例1で製造した
固形分53%のオリゴマーAの溶液151部(固形分8
0部)、キシレン6部を仕込み、窒素ガスを通送しなが
ら120℃に加熱して、エチレン性不飽和単量体として
エチルメタクリレート20部、重合開始剤として、2、
2’―アゾビス(2―メチルブチロニトリル)0.5部
の混合物を3時間かけて滴下した。滴下終了後120℃
で1時間放置し、更に2、2’―アゾビス(2―メチル
ブチロニトリル)0.5部、キシレン12部を1時間か
けて滴下し、滴下終了後120℃で1時間放置し、キレ
ート形成性オリゴマーB(オリゴマーAとエチルメタク
リレートの共重合オリゴマー、数平均分子量=650)
の溶液(固形分53%)を製造した。
【0036】実施例3 使用するエチレン性不飽和単量体および溶媒は、いずれ
も使用前に、これらの中に窒素ガスを少なくとも1時間
通送することにより、脱気(脱酸素)を行った。
も使用前に、これらの中に窒素ガスを少なくとも1時間
通送することにより、脱気(脱酸素)を行った。
【0037】温度計、サーモスタット、撹拌機、環流冷
却器および滴下装置を備え付けた反応容器にキシレン3
0部、酢酸エチル25部を仕込み、窒素ガスを通送しな
がら105℃に加熱して、エチレン性不飽和単量体とし
て2―(アセトアセトキシ)エチルメタクリレート80
部、2―ヒドロキシエチルメタクリレート20部、金属
錯体としてビス(ボロンジフルオロジメチルグリオキシ
メイト)Co(II)0.03部、ラジカル開始剤として
2、2’―アゾビス(2―メチルブチロニトリル)1
部、添加溶剤として酢酸エチル15部の混合物を3時間
かけて滴下した。滴下終了後105℃で1時間放置し、
更に2、2’―アゾビス(2―メチルブチロニトリル)
0.5部、キシレン12部を1時間かけて滴下し、滴下
終了後105℃で1時間放置し、2―(アセトアセトキ
シ)エチルメタクリレートと2―ヒドロキシエチルメタ
クリレートの共重合オリゴマー(数平均分子量=50
0)の溶液(固形分53%)を製造した。
却器および滴下装置を備え付けた反応容器にキシレン3
0部、酢酸エチル25部を仕込み、窒素ガスを通送しな
がら105℃に加熱して、エチレン性不飽和単量体とし
て2―(アセトアセトキシ)エチルメタクリレート80
部、2―ヒドロキシエチルメタクリレート20部、金属
錯体としてビス(ボロンジフルオロジメチルグリオキシ
メイト)Co(II)0.03部、ラジカル開始剤として
2、2’―アゾビス(2―メチルブチロニトリル)1
部、添加溶剤として酢酸エチル15部の混合物を3時間
かけて滴下した。滴下終了後105℃で1時間放置し、
更に2、2’―アゾビス(2―メチルブチロニトリル)
0.5部、キシレン12部を1時間かけて滴下し、滴下
終了後105℃で1時間放置し、2―(アセトアセトキ
シ)エチルメタクリレートと2―ヒドロキシエチルメタ
クリレートの共重合オリゴマー(数平均分子量=50
0)の溶液(固形分53%)を製造した。
【0038】こうして製造した2―(アセトアセトキ
シ)エチルメタクリレートと2―ヒドロキシエチルメタ
クリレートの共重合オリゴマーの溶液(固形分53%)
100部に対してジケテンを7.5部と反応触媒として
トリエチルアミンを0.5部添加し、50℃で8時間放
置して、2―(アセトアセトキシ)エチルメタクリレー
トと2―ヒドロキシエチルメタクリレートの共重合オリ
ゴマーにジケテンを付加させて、キレート形成性オリゴ
マーC(数平均分子量=570)の溶液(固形分56
%)を製造した。
シ)エチルメタクリレートと2―ヒドロキシエチルメタ
クリレートの共重合オリゴマーの溶液(固形分53%)
100部に対してジケテンを7.5部と反応触媒として
トリエチルアミンを0.5部添加し、50℃で8時間放
置して、2―(アセトアセトキシ)エチルメタクリレー
トと2―ヒドロキシエチルメタクリレートの共重合オリ
ゴマーにジケテンを付加させて、キレート形成性オリゴ
マーC(数平均分子量=570)の溶液(固形分56
%)を製造した。
【0039】比較例1 温度計、サーモスタット、撹拌機、環流冷却器および滴
下装置を備え付けた反応容器にキシレン30部、酢酸エ
チル25部を仕込み、110℃に加熱して、エチレン性
不飽和単量体として2―(アセトアセトキシ)エチルメ
タクリレート20部、アクリル酸20部、エチルアクリ
レート50部、n−ブチルアクリレート10部、ラジカ
ル開始剤として2、2’―アゾビス(2―メチルブチロ
ニトリル)6部、添加溶剤として酢酸エチル15部の混
合物を3時間かけて滴下した。滴下終了後110℃で1
時間放置し、更に2、2’―アゾビス(2―メチルブチ
ロニトリル)0.5部、キシレン12部を1時間かけて
滴下し、滴下終了後110℃で1時間放置し、共重合樹
脂D(数平均分子量6,000)の溶液(固形分53
%)を製造した。
下装置を備え付けた反応容器にキシレン30部、酢酸エ
チル25部を仕込み、110℃に加熱して、エチレン性
不飽和単量体として2―(アセトアセトキシ)エチルメ
タクリレート20部、アクリル酸20部、エチルアクリ
レート50部、n−ブチルアクリレート10部、ラジカ
ル開始剤として2、2’―アゾビス(2―メチルブチロ
ニトリル)6部、添加溶剤として酢酸エチル15部の混
合物を3時間かけて滴下した。滴下終了後110℃で1
時間放置し、更に2、2’―アゾビス(2―メチルブチ
ロニトリル)0.5部、キシレン12部を1時間かけて
滴下し、滴下終了後110℃で1時間放置し、共重合樹
脂D(数平均分子量6,000)の溶液(固形分53
%)を製造した。
【0040】性能試験 以上の実施例及び比較例で得られたオリゴマーA〜Cと
樹脂Dならびにキレート形成性化合物として広く知られ
ているアセチルアセトン用いて(これを比較例2とす
る)を下記試験に供し評価を行った。結果を表1に示
す。
樹脂Dならびにキレート形成性化合物として広く知られ
ているアセチルアセトン用いて(これを比較例2とす
る)を下記試験に供し評価を行った。結果を表1に示
す。
【0041】1.不揮発性の評価 直径75mm、深さ6mmのブリキ製の皿の上に、オリゴマ
ーA〜Cと樹脂Dは固形分が2gになるように、アセチ
ルアセトンは2g、それぞれ秤り取り、100℃で3時
間ならびに30℃で7日間放置したときの不揮発分をそ
れぞれ測定し、各化合物の残存率を求めた。残存率が高
い程好ましい。
ーA〜Cと樹脂Dは固形分が2gになるように、アセチ
ルアセトンは2g、それぞれ秤り取り、100℃で3時
間ならびに30℃で7日間放置したときの不揮発分をそ
れぞれ測定し、各化合物の残存率を求めた。残存率が高
い程好ましい。
【0042】2.キレート形成性の評価 水酸化銅2.5gとテトラヒドロフラン30gの混合液
に、オリゴマーAは固形分で10.9g、オリゴマーB
は固形分で13.6g、オリゴマーCは固形分で10.
9g、樹脂Dは固形分で54.5g、アセチルアセトン
は5.1gを、それぞれ加えて攪拌し、各混合物をガラ
ス製容器に入れて密栓し、25℃で7日間放置した後の
上澄み液の色で各化合物のキレート形成性を評価した。
水酸化銅が沈降し、上澄み液が透明かほぼ透明になった
ものは×、水酸化銅が沈降せずに上澄み液が青色または
緑色を示したものは○とした。
に、オリゴマーAは固形分で10.9g、オリゴマーB
は固形分で13.6g、オリゴマーCは固形分で10.
9g、樹脂Dは固形分で54.5g、アセチルアセトン
は5.1gを、それぞれ加えて攪拌し、各混合物をガラ
ス製容器に入れて密栓し、25℃で7日間放置した後の
上澄み液の色で各化合物のキレート形成性を評価した。
水酸化銅が沈降し、上澄み液が透明かほぼ透明になった
ものは×、水酸化銅が沈降せずに上澄み液が青色または
緑色を示したものは○とした。
【0043】
【表1】
フロントページの続き Fターム(参考) 4J027 AA02 BA04 BA05 BA07 BA08 BA09 BA10 BA14 CD08 4J038 CG141 CH181 CH221 CH251 CJ031 CJ091 CJ101 CJ181 GA03 GA06 GA07 GA09 GA11 GA15 JA66 JB16 KA04 MA06 NA03 PA18 PA19 PB05 PB07 PC02 4J100 AB02Q AE18Q AG04Q AG30P AJ02Q AJ09Q AK32Q AL02Q AL03Q AL04Q AL08P AL08Q AL09P AL09Q AL09R AL10Q AM02Q AM19Q AM21P AM21Q BA03Q BA11P BA16P BA20P BC02Q BC03Q BC04Q BC43P BC53Q BC54Q BC65Q CA04 CA31 HA56 HA61 HC25 JA01
Claims (5)
- 【請求項1】触媒的連鎖移動重合法によりエチレン性不
飽和単量体(i)を共重合してなるエチレン性不飽和基
を有するオリゴマー(I)、及び該エチレン性不飽和基
を有するオリゴマー(I)の存在下でエチレン性不飽和
単量体(ii)を共重合してなる共重合オリゴマー(II)
から選ばれる少なくとも1種であって、該オリゴマー
(I)及び共重合オリゴマー(II)が1分子中に少なく
とも2個以上のキレート形成基を有することを特徴とす
るキレート形成性オリゴマー。 - 【請求項2】キレート形成基が、アセトアセトキシ基で
ある請求項1記載のキレート形成性オリゴマー。 - 【請求項3】エチレン性不飽和単量体(i)及び/又は
(ii)が、2−(アセトアセトキシ)エチルメタクリレ
ートを含む請求項1又は2記載のキレート形成性オリゴ
マー。 - 【請求項4】エチレン性不飽和単量体(i)及び/又は
(ii)が、水酸基含有不飽和単量体を含み、得られるオ
リゴマー(I)あるいは重合体(II)中の水酸基にジケ
テンを付加してなる請求項1又は2記載のキレート形成
性オリゴマー。 - 【請求項5】請求項1ないし4のいずれか1項記載のキ
レート形成性オリゴマーを含有する被覆用組成物。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2000355268A JP2002155266A (ja) | 2000-11-22 | 2000-11-22 | キレート形成性オリゴマー |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2000355268A JP2002155266A (ja) | 2000-11-22 | 2000-11-22 | キレート形成性オリゴマー |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2002155266A true JP2002155266A (ja) | 2002-05-28 |
Family
ID=18827706
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2000355268A Pending JP2002155266A (ja) | 2000-11-22 | 2000-11-22 | キレート形成性オリゴマー |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2002155266A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009531479A (ja) * | 2006-03-24 | 2009-09-03 | ビーエーエスエフ コーティングス アクチェンゲゼルシャフト | オレフィン系不飽和モノマーのコポリマー、その製造法および該コポリマーの使用 |
JP2012107164A (ja) * | 2010-11-19 | 2012-06-07 | Kyushu Univ | 常磁性を有する水溶性高分岐ポリマー |
-
2000
- 2000-11-22 JP JP2000355268A patent/JP2002155266A/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009531479A (ja) * | 2006-03-24 | 2009-09-03 | ビーエーエスエフ コーティングス アクチェンゲゼルシャフト | オレフィン系不飽和モノマーのコポリマー、その製造法および該コポリマーの使用 |
JP2012107164A (ja) * | 2010-11-19 | 2012-06-07 | Kyushu Univ | 常磁性を有する水溶性高分岐ポリマー |
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