JP2002141604A - 半導体レーザ - Google Patents

半導体レーザ

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JP2002141604A
JP2002141604A JP2000338687A JP2000338687A JP2002141604A JP 2002141604 A JP2002141604 A JP 2002141604A JP 2000338687 A JP2000338687 A JP 2000338687A JP 2000338687 A JP2000338687 A JP 2000338687A JP 2002141604 A JP2002141604 A JP 2002141604A
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semiconductor laser
electrode
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light
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Shoji Hirata
照二 平田
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Sony Corp
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    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S5/00Semiconductor lasers
    • H01S5/40Arrangement of two or more semiconductor lasers, not provided for in groups H01S5/02 - H01S5/30
    • H01S5/4025Array arrangements, e.g. constituted by discrete laser diodes or laser bar
    • H01S5/4031Edge-emitting structures
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S5/00Semiconductor lasers
    • H01S5/04Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping, e.g. by electron beams
    • H01S5/042Electrical excitation ; Circuits therefor

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  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Semiconductor Lasers (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 ブロードエリア型アレイレーザの全体の光量
を維持できるようにして、長寿命化を図ること。 【解決手段】 本発明は、同一基板10上に各々マルチ
モードのレーザ光を出射する複数の発光部LD1、LD
2を備える半導体レーザ1であり、この複数の発光部L
D1、LD2のうち、一部の発光部LD1で構成する主
発光群と、残りの発光部LD2で構成する副発光群とに
分け、主発光群に電流を供給するための主電極M1と、
副発光群に電流を供給するための副電極M2とを別個に
備えるようにしている。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、複数の発光部を備
えているアレイ状の半導体レーザで、特に各発光部から
マルチモードのレーザ光を出射するものに関する。
【0002】
【従来の技術】近年、高出力半導体レーザの開発が盛ん
に進められている。例えば、固体レーザの励起光源とし
て高出力半導体レーザ用いたり、レーザ溶接の光源とし
て利用したり、通信用光源として適用が考えられてい
る。
【0003】この高出力半導体レーザには、発光領域を
広く形成したブロードエリア型や、さらに高出力を実現
するため、このブロードエリア型を複数形成したアレイ
型などがある。
【0004】図8は、従来のブロードエリア型アレイレ
ーザの構成を説明する模式断面図である。この半導体レ
ーザは、例えばn型GaAsから成る基板10に、n型
AlGaAsのクラッド層11、AlGaAsの活性層
12、p型AlGaAsのクラッド層13が順に積層さ
れ、クラッド層13に所定の間隔で電流ブロック層Bが
形成されている。また、基板10側にn電極M0、クラ
ッド層13側にp電極Mが各々一様に形成されている。
【0005】このn電極M0、p電極M間に電流を流す
と、電流ブロック層Bの形成されていない部分に集中し
て電流が注入され、この部分に対応する活性層12が発
光部LDとなる。各発光部LDの幅は、電流ブロック層
Bの隙間の間隔によって決定され、ブロードエリア型で
は、各々十μm以上(例えば、数十μm)になってい
る。このようなブロードエリア型アレイレーザにおい
て、数十個の発光部LDを形成することにより、合計数
十ワットのレーザ光出力を得ることができる。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うな半導体レーザには次のような問題がある。すなわ
ち、高出力の発光部を複数備えていることから、全ての
発光部を同時に駆動すると相当量の熱が発生する。この
熱を抑制するためペルチェ素子等のヒートシンクを用い
ているものの、やはり素子の劣化は免れない。特に、一
部の発光部で劣化が生じると、全体として光量低下を招
くばかりでなく、そのまま電流注入を続けていくと劣化
による発熱量の増加を起こし、他の発光部にも悪影響を
及ぼすことになる。
【0007】
【課題を解決するための手段】本発明はこのような課題
を解決するために成されたものである。すなわち、本発
明は、同一基板上に各々マルチモードのレーザ光を出射
する複数の発光部を備える半導体レーザであり、この複
数の発光部を、一部で構成する主発光群と、残りで構成
する副発光群とに分け、主発光群に電流を供給するため
の主電極と、副発光群に電流を供給するための副電極と
を別個に備えるようにしている。
【0008】このような本発明では、各々マルチモード
のレーザ光を出射する複数の発光部を、一部で構成する
主発光群と、残りで構成する副発光群とに分け、主発光
群には主電極から電流を供給でき、副発光群には副電極
から電流を供給できるようになっている。これにより、
通常は主電極から主発光群に電流を供給し、主発光群を
構成する発光部から出射されるレーザ光を利用し、何ら
かの原因で主発光群のレーザ光出力が低下した場合に
は、副電極から副発光群に電流を供給して副発光群を構
成する発光部から所定のレーザ光出力を得るようにす
る。
【0009】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図に
基づいて説明する。図1は、第1実施形態に係る半導体
レーザを説明する模式断面図である。すなわち、この半
導体レーザ1は、同一の基板10上に各々マルチモード
のレーザ光を出射する複数の発光部LD1、LD2を備
えるもので、このうち発光部LD1を主発光群、発光部
LD2を副発光群として、主発光群の発光部LD1には
主電極M1から電流を供給し、副発光群の発光部LD2
には副電極M2から電流を供給するようになっている。
【0010】この半導体レーザ1の基板10としては、
例えばn型のGaAs系、AlGaInP系、ZnSe
系、GaN系、InGaAs系、InP系が用いられ
る。なお、本実施形態では、n型GaAs系の基板10
を用いるものとする。
【0011】この基板10上には、n型のクラッド層1
1が形成される。n型のクラッド層11は、例えばAl
0.4Ga0.6Asから構成されている。また、n型のクラ
ッド層11の上には活性層12が形成される。活性層1
2は、例えばノンドープのAl0.7GaAsから構成さ
れている。
【0012】さらに、活性層12の上にはp型のクラッ
ド層13が形成されている。p型のクラッド層13は、
例えばAl0.4Ga0.6Asから構成されている。また、
p型のクラッド層13には、所定の間隔で電流ブロック
層Bが形成される。電流ブロック層Bは、活性層12の
一部へ電流注入を集中させるためのもので、電流ブロッ
ク層Bのない部分を介して電流が活性層12へ注入さ
れ、その部分が発光部LD1、LD2となる。
【0013】したがって、電流ブロック層Bのない部分
の幅によって発光部LD1、LD2の幅を設定でき、本
実施形態では発光部LD1、LD2の幅を数十μmにす
ることで、マルチモードのレーザ光を出射できるブロー
ドエリア型アレイレーザになっている。一方、電流ブロ
ック層Bの幅は、各発光部LD1、LD2の間隔を決定
するものとなる。
【0014】電流ブロック層Bが形成されたp型のクラ
ッド層13の上には、先に説明した、主電極M1と副電
極M2とが形成される。これらの電極は、クラッド層1
3上に一様に電極を形成した後、所定の位置で電極を分
割するようにすれば容易に形成できる。また、基板10
の裏面にはn電極M0が一様に形成される。
【0015】この主電極M1および副電極M2には、各
々別個に電圧を印加できるよう配線されている。図2
は、本実施形態の半導体レーザにおける配線例を説明す
る回路図である。ここで、複数の発光部LD1はアノー
ド側が主電極M1(図1参照)に接続されることで並列
接続となり、複数の発光部LD2はアノード側が副電極
M2(図1参照)に接続されることで並列接続となって
いる。なお、両発光部LD1、LD2ともカソード側は
n電極M0(図1参照)によって接地されている。
【0016】半導体レーザの外部には切り換えスイッチ
SW1が設けられており、発光部LD1のアノード側、
すなわち主電極M1と切り換えスイッチSW1の一方の
接点aとが接続され、発光部LD2のアノード側、すな
わち副電極M2と切り換えスイッチのSW1の他方の接
点bとが接続されている。また、切り換えスイッチSW
1の共通端子cは電源PWと接続されている。
【0017】このような配線により、通常の駆動を行う
場合には切り換えスイッチSW1の共通端子cと接点a
とを接続し、電源PWからの電圧を主電極M1に印加す
る。これにより、主電極M1から主発光群へ電流が注入
され、主発光群の各発光部LD1からレーザ光が出射さ
れる状態となる。
【0018】ここで、主発光群の発光部LD1に劣化等
の問題が発生し、主発光群全体の光量が低下したとす
る。この場合、切り換えスイッチSW1を用いて共通端
子cと接点bとを接続する切り換えを行う。これによ
り、電源PWからの電圧は副電極M2に印加され、副電
極M2から副発光群へ電流が注入される。この結果、副
発光群の各発光部LD2からレーザ光が出射される状態
となる。
【0019】このような配線によって、副発光群を主発
光群の予備として利用することができ、一つの半導体レ
ーザにおける寿命を延ばすことが可能となる。
【0020】図3は、本実施形態の半導体レーザをパッ
ケージに収納した例を示す斜視図である。このパッケー
ジPにはウィンドウWが設けられており、内部に収納し
た半導体レーザ1から出射したレーザ光がこのウィンド
ウWを通して外部へ放出される。また、このパッケージ
Pには9本の外部リードL1〜L9が設けられている。
【0021】図4は、上記パッケージの外部リードと内
部回路との対応を説明する回路図である。このパッケー
ジPでは、内部にヒートシンクとしてペルチェ素子TE
を備えており、半導体レーザ1の発熱を抑制できるよう
になっている。このペルチェ素子TEと外部リードL
1、L9とが接続されている。
【0022】また、内部の温度を検出するサーミスタT
Nは、外部リードL4、L5と接続されている。さら
に、半導体レーザの出力モニタ用としてフォトダイオー
ドPDが設けられ、このフォトダイオードPDと外部リ
ードL6、L7とが接続されている。
【0023】本実施形態では、パッケージPの内部に一
つの半導体レーザ1が収納され、その半導体レーザ1が
主発光群と副発光群とに分けられている。したがって、
主発光群を構成する各発光部LD1と、副発光群を構成
する各発光部LD2とは別々に電圧を印加できるように
なっている。
【0024】このため、主発光群の各発光部LD1のア
ノードと外部リードL2とが接続され、副発光群の各発
光部LD2のアノードと外部リードL3とが接続されて
いる。なお、各発光部LD1、LD2のカソードは共通
で外部リードL8に接続されている。
【0025】このようなパッケージ配線により、外部リ
ードL2へ電圧を印加することで主発光群の各発光部L
D1を動作でき、外部リードL3へ電圧を印加すること
で副発光群の各発光部LD2を動作できるようになる。
つまり、図2に示す切り換えスイッチSW1の接点aと
外部リードL2とを接続し、切り換えスイッチSW1の
接点bと外部リードL3とを接続することにより、一つ
のパッケージPで2つの発光群を切り換えて使用できる
ようになる。
【0026】なお、このような切り換えスイッチSW1
を使用しないで、通常は外部リードL2のみに電源を接
続して主発光群を駆動するようにし、主発光群が劣化し
た場合に外部リードL2への電源配線を取り外して隣の
外部リードL3へ付け替える配線を行い、その後は副発
光群を駆動するようにしてもよい。
【0027】また、上記の説明では、主発光群と副発光
群とを切り換えるようにしたが、主発光群が劣化した場
合に主発光群の劣化分を副発光群で補うよう利用しても
よい。例えば、主発光群の発光部LD1の数に対して、
副発光群の発光部LD2の数を20%程度にしておく。
このような設定は、主電極M1と副電極M2との大きさ
の割合により決めることができる。
【0028】そして、通常は主発光群の発光部LD1を
利用してレーザ光出射を行い、主発光群の出力低下が起
きた場合(例えば、20%ダウン)、主発光群とともに
副発光群へも電圧を供給する。つまり、主発光群で出力
低下が発生した場合、主発光群と副発光群とを両方駆動
し、主発光群での出力低下分を副発光群で補うようにす
ることができる。
【0029】なお、上記説明したパッケージの形態や、
外部リードの配線は一例であり、これに限定されるもの
ではない。また、主発光群と副発光群との割合もこれに
限定されるものではない。さらに、主発光群と副発光群
とが各々1つずつ形成されている例を示したが、主発光
群、副発光群とも1つに限定されず、例えば複数の主発
光群および副発光群が設けられていても、また、複数の
主発光群と副発光群とが交互に配置されていてもよい。
【0030】上記のような主発光群と副発光群との割合
やレイアウトの変更は、主電極M1と副電極M2との割
合やレイアウトの変更、主電極M1および副電極M2と
外部リードとの配線変更によって対応することができ
る。
【0031】次に、第2実施形態の説明を行う。図5
は、第2実施形態に係る半導体レーザを説明する模式断
面図である。すなわち、第2実施形態に係る半導体レー
ザ1は、基板10、n型のクラッド層11、活性層1
2、p型のクラッド層13、電流ブロック層Bおよび裏
面のn電極M0については第1実施形態と同じである
が、p型のクラッド層13上に形成される電極M3が各
発光部LD3に対応して別個に設けられている点で相違
する。
【0032】つまり、第2実施形態の半導体レーザ1で
は、電流ブロック層Bの間に対応して活性層12に形成
される各発光部LD3を各電極M3により個別に駆動で
きるようになっている。
【0033】この場合、半導体レーザ1を実装する基台
(図示せず)に各電極M3と対応する配線パターンを形
成しておき、各電極M3と各配線パターンとをボンディ
ングワイヤーで接続したり、各電極M3側を基台側にフ
ェースダウン実装し、各電極M3と基台の各配線パター
ンとを対向接続する。
【0034】このような半導体レーザ1には、各配線パ
ターンを介して各電極M3に電圧を供給できる制御手段
を設けておく。これにより、半導体レーザ1の各発光部
LD3を個別に制御できるようになる。
【0035】図6は、第2実施形態に係る半導体レーザ
1の配線例を説明する回路図である。複数の発光部LD
3のカソードはn電極M0(図5参照)によって接地さ
れている。一方、各発光部LD3のアノードは、各々ス
イッチSW3を介して電源PWに接続されている。この
場合、各スイッチSW3が各発光部LD3の駆動を制御
する制御手段となる。
【0036】この半導体レーザ1を利用する場合、複数
の発光部LD3のうち、一部を主発光群、残りを副発光
群とする。そして、主発光群を構成する発光部LD3の
スイッチSW3を閉じて電圧を印加する。これにより、
主発光群を構成する発光部LD3が駆動して所望のレー
ザ光出力を得ることができる。
【0037】ここで、主発光群を構成する発光部LD3
のうち一部が劣化したとする。劣化した状態で使用を続
けると、その劣化によって発光部LD3が発熱し、他の
部分へ悪影響を及ぼす可能性がある。そこで、その劣化
した発光部LD3に対応するスイッチSW3を開けて、
劣化した発光部LD3だけ駆動しないようにする。
【0038】また、このままではレーザ光出力が低下す
るため、それを補うために副発光群を構成する発光部L
D3のうち、主発光群で劣化した発光部LD3に相当す
る数の発光部LD3を駆動する。駆動する発光部LD3
は、対応するスイッチSW3を閉じることで実現でき
る。これにより、劣化した発光部LD3を使用せず、し
かもその劣化分を副発光群で補って全体のレーザ光量を
維持できるようになる。
【0039】第2実施形態に係る半導体レーザ1では、
各発光部LD3を個別に駆動できるため、個々の発光部
LD3の劣化を容易に検出することができる。例えば、
各発光部LD3に異なる周波数の電圧を印加して駆動
し、各発光部LD3からの光量を受光する。各発光部L
D3は、各々異なる周波数の電圧によって駆動されてい
るため、出射するレーザ光も各々異なる周波数の光出力
となる。これを利用して、受光したレーザ光のうち特定
の周波数に対応するもののみをフィルタ手段を介して抽
出すれば、どの発光部LD3から出射されたレーザ光の
光量であるかを判断でき、劣化の具合を個別に判断でき
るようになる。
【0040】また、その他の劣化検出としては、各発光
部LD3に順番に電圧を印加し、各々のレーザ光の出力
を検出する。これにより、劣化の生じている発光部LD
3ではレーザ光出力が低下しているため、その時に電圧
を印加している発光部LD3が劣化していることを判定
できる。
【0041】第2実施形態に係る半導体レーザ1をパッ
ケージに収納する場合、各発光部LD3に対応する各電
極M3と、各外部リードとを別個に接続する。つまり、
パッケージの外部リードとしては、発光部LD3の数お
よび共通のカソードに対応する本数が最低限必要とな
る。
【0042】図7は、第2実施形態に係る半導体レーザ
をパッケージに収納した場合の外部リードと内部回路と
の対応を説明する回路図である。なお、ここでは、パッ
ケージに、合計n本の外部リード(L1〜Ln)が設け
られているものとする。
【0043】このパッケージPでは、内部にヒートシン
クとしてペルチェ素子TEを備えており、半導体レーザ
1の発熱を抑制できるようになっている。このペルチェ
素子TEと外部リードL1、Lnとが接続されている。
【0044】また、内部の温度を検出するサーミスタT
Nは、外部リードL2、L3と接続されている。さら
に、半導体レーザの出力モニタ用としてフォトダイオー
ドPDが設けられ、このフォトダイオードPDと外部リ
ードLn-1、Ln-2とが接続されている。
【0045】第2実施形態では、パッケージPの内部に
一つの半導体レーザ1が収納され、各発光部LD3に対
して個別に電極M3(図5参照)が設けられている。こ
のため、各発光部LD3の電極M3に対して各々外部リ
ードを割り当てる。このパッケージPでは、各発光部L
D3について外部リードL4〜Ln-4が接続されてい
る。なお、各発光部LD3のカソードは共通で外部リー
ドLn-3に接続されている。
【0046】このようなパッケージ配線により、外部リ
ードL4〜Ln-4へ各々電圧を印加することで各発光部
LD3を動作でき、必要に応じて電圧を印加する外部リ
ードを選択して、主発光群を構成する発光部LD3と副
発光群を構成する発光部LD3の各々の駆動を制御でき
るようになる。
【0047】なお、図7に示すような個別のスイッチS
W3を使用しないで、通常駆動する主発光群の発光部L
D3と接続された外部リードのみに電源を接続して駆動
するようにし、発光部LD3が劣化した場合にはその劣
化したLD3への電源接続を取り外し、副発光群の発光
部LD3と接続された外部リードへ付け替えて駆動する
ようにしてもよい。
【0048】また、第2実施形態では、各発光部LD3
に対して個別に駆動制御を行うことができるため、例え
ば、固有の場所など予め劣化しやすい発光部LD3が分
かっている場合には、その発光部LD3への電流注入量
を他の部分に比べて減らすようにして、半導体レーザ1
全体の寿命を延ばすようにすることも可能である。
【0049】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば次
のような効果がある。すなわち、ブロードエリア型アレ
イレーザにおいて、複数の発光部を主発光群と副発光群
とに分けて駆動できるため、何らかの原因で主発光群の
レーザ光出力が低下した場合でも、副発光群を駆動する
ことで全体のレーザ光出力を維持することができ、一つ
の半導体レーザにおける寿命を延ばすことが可能とな
る。これにより、高出力半導体レーザを用いるシステム
の信頼性を向上させることが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図1】第1実施形態に係る半導体レーザを説明する模
式断面図である。
【図2】第1実施形態の半導体レーザにおける配線例を
説明する回路図である。
【図3】本実施形態の半導体レーザをパッケージに収納
した例を示す斜視図である。
【図4】パッケージの外部リードと内部回路との対応を
説明する回路図である。
【図5】第2実施形態に係る半導体レーザを説明する模
式断面図である。
【図6】第2実施形態に係る半導体レーザ1の配線例を
説明する回路図である。
【図7】第2実施形態に係る半導体レーザをパッケージ
に収納した場合の外部リードと内部回路との対応を説明
する回路図である。
【図8】従来のブロードエリア型アレイレーザの構成を
説明する模式断面図である。
【符号の説明】
1…半導体レーザ、10…基板、11…クラッド層、1
2…活性層、13…クラッド層、14…n電極、B…電
流ブロック層、LD1〜LD3…発光部、M1〜M3…
電極、SW…切り換えスイッチ

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 同一基板上に各々マルチモードのレーザ
    光を出射する複数の発光部を備える半導体レーザにおい
    て、 前記複数の発光部のうち、一部で構成する主発光群と、
    残りで構成する副発光群とに分け、前記主発光群に電流
    を供給する主電極と、前記副発光群に電流を供給する副
    電極とを別個に備えていることを特徴とする半導体レー
    ザ。
  2. 【請求項2】 前記主電極と前記副電極とが各々別個の
    外部リードと接続されていることを特徴とする請求項1
    記載の半導体レーザ。
  3. 【請求項3】 前記主電極への電流供給と、前記副電極
    への電流供給とを切り換える切り換え手段を備えている
    ことを特徴とする請求項1記載の半導体レーザ。
  4. 【請求項4】 同一基板上に各々マルチモードのレーザ
    光を出射する複数の発光部を備える半導体レーザにおい
    て、 前記複数の発光部へ電流を供給する電極が各々別個に設
    けられていることを特徴とする半導体レーザ。
  5. 【請求項5】 前記複数の発光部の各々へ電流を供給す
    る各電極は、各々別個の外部リードと接続されているこ
    とを特徴とする請求項4記載の半導体レーザ。
  6. 【請求項6】 前記複数の発光部に対応して設けられる
    各電極に対して電流の供給を制御する制御手段を備えて
    いることを特徴とする請求項4記載の半導体レーザ。
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