JPH0758400A - 高出力パルスレーザダイオードモジュール - Google Patents
高出力パルスレーザダイオードモジュールInfo
- Publication number
- JPH0758400A JPH0758400A JP20234093A JP20234093A JPH0758400A JP H0758400 A JPH0758400 A JP H0758400A JP 20234093 A JP20234093 A JP 20234093A JP 20234093 A JP20234093 A JP 20234093A JP H0758400 A JPH0758400 A JP H0758400A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- laser diode
- chip
- chips
- module
- light emitting
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Landscapes
- Semiconductor Lasers (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 複数のLDチップがコンパクトに集積化さ
れ、全発光面積が小さな高出力パルスLDモジュールを
実現する。 【構成】 複数のレーザダイオートチップ30が、導電
性の融材9を介して電気的に直列になるような配置で積
層されており、かつ個々のレーザダイオードチップの発
光領域が積層方向に互いにほぼ重なるように配置されて
いる。
れ、全発光面積が小さな高出力パルスLDモジュールを
実現する。 【構成】 複数のレーザダイオートチップ30が、導電
性の融材9を介して電気的に直列になるような配置で積
層されており、かつ個々のレーザダイオードチップの発
光領域が積層方向に互いにほぼ重なるように配置されて
いる。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、高出力パルス動作が可
能なレーザダイオード(LD)モジュールに関する。
能なレーザダイオード(LD)モジュールに関する。
【0002】
【従来の技術】固体レーザ励起光源や計測用光源とし
て、ワット級の光出力を有する高出力LDの研究開発が
活発化している。単体のLDチップの場合、高出力化の
ためには、発光領域の幅を広げ、いわゆるブロードエリ
アLDとすることや、アレイ化などが行われている。さ
らに固体レーザ励起光源としては、単一チップでの高出
力化には自ずと限界があるため、複数のLDチップを同
じヒートシンク上の配置した、複数チップ集積型のLD
モジュールが開発され、一部市販されている。一例とし
て、個々のLDチップをそれぞれのサブマウントに固定
し、そのサブマウントをヒートシンク上に積層したタイ
プのモジュールがある。
て、ワット級の光出力を有する高出力LDの研究開発が
活発化している。単体のLDチップの場合、高出力化の
ためには、発光領域の幅を広げ、いわゆるブロードエリ
アLDとすることや、アレイ化などが行われている。さ
らに固体レーザ励起光源としては、単一チップでの高出
力化には自ずと限界があるため、複数のLDチップを同
じヒートシンク上の配置した、複数チップ集積型のLD
モジュールが開発され、一部市販されている。一例とし
て、個々のLDチップをそれぞれのサブマウントに固定
し、そのサブマウントをヒートシンク上に積層したタイ
プのモジュールがある。
【0003】このモジュールの詳細は、IEEEジャー
ナルオブカンタムエレクトロニクス誌28巻925−9
65頁(J.G.Endaricet al.,IEE
EJ.Quantum Electron.,vol.
28,pp.952−965)に記載されている。また
別の例として、特開平4−264789号公報に記載さ
れているような、段差をつけたヒートシンクの各段ごと
にLDチップを固着したモジュールがある。これらの従
来例はいずれも、連続動作またはデューディ比の比較的
大きな繰り返しパルス動作を前提としている。したがっ
て、発熱によるLD特性への影響を低減するために、サ
ブマウントやヒートシンクに上述のような工夫をしてい
る。
ナルオブカンタムエレクトロニクス誌28巻925−9
65頁(J.G.Endaricet al.,IEE
EJ.Quantum Electron.,vol.
28,pp.952−965)に記載されている。また
別の例として、特開平4−264789号公報に記載さ
れているような、段差をつけたヒートシンクの各段ごと
にLDチップを固着したモジュールがある。これらの従
来例はいずれも、連続動作またはデューディ比の比較的
大きな繰り返しパルス動作を前提としている。したがっ
て、発熱によるLD特性への影響を低減するために、サ
ブマウントやヒートシンクに上述のような工夫をしてい
る。
【0004】これに対して、本発明の高出力パルスLD
モジュールは、通常、狭いパルス幅でかつ小さなデュー
ディ比で使用する。このため、発熱の影響は小さく、し
たがて従来例のような放熱の工夫は必ずしも必要としな
い。
モジュールは、通常、狭いパルス幅でかつ小さなデュー
ディ比で使用する。このため、発熱の影響は小さく、し
たがて従来例のような放熱の工夫は必ずしも必要としな
い。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】本発明の高出力パルス
LDモジュールは、計測などへの応用を念頭に置いてい
るため、用いる光学系の関係で出射側から見た全発光領
域の面積をできるだけ小さくする必要がある。しかし、
従来例のような固体レーザ励起用に開発された複数チッ
プ集積型のLDモジュールでは、全発光領域の面積が大
きくなり過ぎて計測用に使用する事が難しい。その理由
は、上述の従来例で言えば、サブマウントの厚さが数1
00μm以上と厚いため、個々のLDチップの発光領域
の間隔が必然的に大きくなるからである。計測用のLD
モジュールとしては複数のレーザチプをよりコンパクト
に集積化し、全発光領域の面積をできるだけ小さくする
ことが必要である。さらに、応用によっては、パルス電
流駆動回路への負荷を低減するために、個々のLDチッ
プを独立に駆動できることが望ましい。特にパルス幅1
0ns程度の短い電流パルスで駆動する場合には、ピー
ク電流の値を余り大きくすることは難しくなるため、個
々のLDチップを独立に駆動することが必要になる。し
かし、このような目的で製造された複数チップ集積型の
LDモジュールは、登場していない。
LDモジュールは、計測などへの応用を念頭に置いてい
るため、用いる光学系の関係で出射側から見た全発光領
域の面積をできるだけ小さくする必要がある。しかし、
従来例のような固体レーザ励起用に開発された複数チッ
プ集積型のLDモジュールでは、全発光領域の面積が大
きくなり過ぎて計測用に使用する事が難しい。その理由
は、上述の従来例で言えば、サブマウントの厚さが数1
00μm以上と厚いため、個々のLDチップの発光領域
の間隔が必然的に大きくなるからである。計測用のLD
モジュールとしては複数のレーザチプをよりコンパクト
に集積化し、全発光領域の面積をできるだけ小さくする
ことが必要である。さらに、応用によっては、パルス電
流駆動回路への負荷を低減するために、個々のLDチッ
プを独立に駆動できることが望ましい。特にパルス幅1
0ns程度の短い電流パルスで駆動する場合には、ピー
ク電流の値を余り大きくすることは難しくなるため、個
々のLDチップを独立に駆動することが必要になる。し
かし、このような目的で製造された複数チップ集積型の
LDモジュールは、登場していない。
【0006】本発明の目的は、複数のLDチップがコン
パクトに集積化され、全発光面積が小さな高出力パルス
LDモジュール、さらに、個々のLDチップを独立に駆
動することで、パルス電流駆動回路の負荷を軽減できる
高出力パルスLDモジュールを得ることである。
パクトに集積化され、全発光面積が小さな高出力パルス
LDモジュール、さらに、個々のLDチップを独立に駆
動することで、パルス電流駆動回路の負荷を軽減できる
高出力パルスLDモジュールを得ることである。
【0007】
【課題を解決するための手段】本発明の高出力パルスレ
ーザモジュールは、 (1)複数のレーザダイオードチップが、導電性の融材
を介して電気的に直列になるような配置で積層されてい
ること、かつ個々のレーザダイオードチップの発光領域
が積層方向に互いにほぼ重なるように配置されているこ
とを特徴とする。
ーザモジュールは、 (1)複数のレーザダイオードチップが、導電性の融材
を介して電気的に直列になるような配置で積層されてい
ること、かつ個々のレーザダイオードチップの発光領域
が積層方向に互いにほぼ重なるように配置されているこ
とを特徴とする。
【0008】(2)また、(1)に記された複数のレー
ザダイオードチップが、ブロードエリアレーザダイオー
ドまたはレーザダイオードアレイであることを特徴とす
る。 (3)また、複数のレーザダイオードチップが、互いに
接近しかつ電気的に絶縁されて積層されていること、か
つ個々のレーザダイオードチップの発光領域が積層方向
に互いにほぼ重なるように配置されていることを特徴と
する。 (4)また、(3)に記されたレーザダイオートチップ
が、ハンダバンプを用いたフリップチップ実装法によっ
て積層されていることを特徴とする。 (5)また、(3)に記されたレーザダイオードチップ
のP側電極とN側電極とが同じ側に形成されているこ
と、かつ個々のレーザダイオードチップ電極の少なくと
もキー部が積層方向に互いに重ならないように配置され
ていることを特徴とする。
ザダイオードチップが、ブロードエリアレーザダイオー
ドまたはレーザダイオードアレイであることを特徴とす
る。 (3)また、複数のレーザダイオードチップが、互いに
接近しかつ電気的に絶縁されて積層されていること、か
つ個々のレーザダイオードチップの発光領域が積層方向
に互いにほぼ重なるように配置されていることを特徴と
する。 (4)また、(3)に記されたレーザダイオートチップ
が、ハンダバンプを用いたフリップチップ実装法によっ
て積層されていることを特徴とする。 (5)また、(3)に記されたレーザダイオードチップ
のP側電極とN側電極とが同じ側に形成されているこ
と、かつ個々のレーザダイオードチップ電極の少なくと
もキー部が積層方向に互いに重ならないように配置され
ていることを特徴とする。
【0009】
【実施例】次に、本発明について図面を参照して説明す
る。
る。
【0010】図1は請求項1に記された高出力パルスL
Dモジュールの実施例(第1実施例)を表す模式図であ
る。ここでは発振波長1.5μm帯の5つのLDチップ
30が、表面をメタライズしたシリコンマウント20の
上に電気的に直列になるような配置で積層されている。
LDチップ30は電気的にはPN接合ダイオードであ
る。そこで個々のLDチップ30をP側(またはN側)
が上に来るようにし、かつ個々のLDチップ30発光領
域12が積層方向に互いにほぼ重なるように配置した上
で、導電性の融材9を用いて互いに張り合わせること
で、電気的に直列接続を行っている。個々のLDチップ
30の厚さは数10μm程度であるため、全発光領域4
0面積が小さなコンパクトな複数チップ集積型のLDモ
ジュールとなっている。本発明が従来のLDモジュール
と異なる点では、個々のLDチップ30を、サブマウン
トなどを介さずに直接積層している点である。
Dモジュールの実施例(第1実施例)を表す模式図であ
る。ここでは発振波長1.5μm帯の5つのLDチップ
30が、表面をメタライズしたシリコンマウント20の
上に電気的に直列になるような配置で積層されている。
LDチップ30は電気的にはPN接合ダイオードであ
る。そこで個々のLDチップ30をP側(またはN側)
が上に来るようにし、かつ個々のLDチップ30発光領
域12が積層方向に互いにほぼ重なるように配置した上
で、導電性の融材9を用いて互いに張り合わせること
で、電気的に直列接続を行っている。個々のLDチップ
30の厚さは数10μm程度であるため、全発光領域4
0面積が小さなコンパクトな複数チップ集積型のLDモ
ジュールとなっている。本発明が従来のLDモジュール
と異なる点では、個々のLDチップ30を、サブマウン
トなどを介さずに直接積層している点である。
【0011】LDチップ30の構造と製造方法は後ほど
述べるので、先に第1実施例のLDモジュールの具体的
な構造と製造方法を説明する。LDチップ30の大きさ
は、共振器長600μm、チップ幅400μm、チップ
厚50μm、発光領域幅200μmである。まず、同じ
大きさのLDチップ30を5個、図1のように出射側端
面が揃うようにしてシリコンマウント20の上に積層す
る。シリコンマウント20の表面とLDチップ30のP
側にはAuSn融材9をあらかじめ蒸着してある。次
に、LDチップ30をシリコンマウント20に押しつけ
ながら加熱し、融材9を一旦溶かした後冷却して、シリ
コンマウント20と5つのLDチップ30を同時に固着
する。その後、これを適当なパッケージに固定して、ワ
イヤ50をボンティングする。このLDモジュールをパ
ルス電流で駆動すれば、個々のLDチップ30には同じ
電流が流れ、同じ電流値で比較した時、単一のLDチッ
プの場合の約5倍の光出力が得られる。本発明で用いた
LDチップ30の内部抵抗は、通常1Ω程度以下と小さ
いため、複数のLDチップ30を直列に接続しても全体
の負荷抵抗は比較的小さい。もちろん、この時の駆動電
圧と消費電力は5倍になり、駆動回路の負担は増加す
る。
述べるので、先に第1実施例のLDモジュールの具体的
な構造と製造方法を説明する。LDチップ30の大きさ
は、共振器長600μm、チップ幅400μm、チップ
厚50μm、発光領域幅200μmである。まず、同じ
大きさのLDチップ30を5個、図1のように出射側端
面が揃うようにしてシリコンマウント20の上に積層す
る。シリコンマウント20の表面とLDチップ30のP
側にはAuSn融材9をあらかじめ蒸着してある。次
に、LDチップ30をシリコンマウント20に押しつけ
ながら加熱し、融材9を一旦溶かした後冷却して、シリ
コンマウント20と5つのLDチップ30を同時に固着
する。その後、これを適当なパッケージに固定して、ワ
イヤ50をボンティングする。このLDモジュールをパ
ルス電流で駆動すれば、個々のLDチップ30には同じ
電流が流れ、同じ電流値で比較した時、単一のLDチッ
プの場合の約5倍の光出力が得られる。本発明で用いた
LDチップ30の内部抵抗は、通常1Ω程度以下と小さ
いため、複数のLDチップ30を直列に接続しても全体
の負荷抵抗は比較的小さい。もちろん、この時の駆動電
圧と消費電力は5倍になり、駆動回路の負担は増加す
る。
【0012】図2は、図1に示した1.5μm帯LDチ
ップ30のより詳しい模式図である。これは通常ブロー
ドエリアLDと呼ばれて、良く知られている構造であ
る。以下、製造手順を追いながら、具体的な構造を説明
する。まずN型InP基板1の上に、N型InPクラッ
ド層2、InGaAsP量子井戸活性層3、P型InP
クラッド層4、P+ 型InGaAsコンタクト層5を順
次結晶成長する。結晶成長には有機金属気相成長法を用
いる。次に、P側のコンタクト層5に、誘電体層6をつ
け、発光領域12となる部分の上に幅200μmのスト
ライプ状の窓を形成する。次にP側電極7を形成する。
N側を研磨して厚さを50μm程度にした後、N側電極
8を形成する。次に、P側電極7の上にAuSn融材9
を蒸着する。最後に、チップを切り出し、出射側端面に
低反射膜10、反対側端面に高反射膜11を形成する。
ップ30のより詳しい模式図である。これは通常ブロー
ドエリアLDと呼ばれて、良く知られている構造であ
る。以下、製造手順を追いながら、具体的な構造を説明
する。まずN型InP基板1の上に、N型InPクラッ
ド層2、InGaAsP量子井戸活性層3、P型InP
クラッド層4、P+ 型InGaAsコンタクト層5を順
次結晶成長する。結晶成長には有機金属気相成長法を用
いる。次に、P側のコンタクト層5に、誘電体層6をつ
け、発光領域12となる部分の上に幅200μmのスト
ライプ状の窓を形成する。次にP側電極7を形成する。
N側を研磨して厚さを50μm程度にした後、N側電極
8を形成する。次に、P側電極7の上にAuSn融材9
を蒸着する。最後に、チップを切り出し、出射側端面に
低反射膜10、反対側端面に高反射膜11を形成する。
【0013】第一実施例についての補足をする。まず、
LDチップ30は、図2に示したようなブロードエリア
LDのほかに、LDアレイを用いた場合でも同様な効果
が得られる。LDアレイにも色々な種類があるが、例え
ば、特願平5−152043号公報に記載されているよ
うな、埋め込み構造のLDアレイを用いることができ
る。LDチップ30の大きさに関しては、個々の応用に
合わせて適当に設定することができる。また、LDチッ
プ30の波長帯や材料が実施例と異なる場合でも同様な
効果が得られる。さらにつけ加えれば、InP基板1の
替わりに、Si基板上にレーザ構造を形成したLDチッ
プを用いた場合でも本発明を適用できる。この場合は、
Si基板が堅いために、チップ厚を実施例よりもさらに
小さくでき、したがって、より多くのLDチップを積層
できる。あるいは全発光領域の面積をより小さくでき
る。
LDチップ30は、図2に示したようなブロードエリア
LDのほかに、LDアレイを用いた場合でも同様な効果
が得られる。LDアレイにも色々な種類があるが、例え
ば、特願平5−152043号公報に記載されているよ
うな、埋め込み構造のLDアレイを用いることができ
る。LDチップ30の大きさに関しては、個々の応用に
合わせて適当に設定することができる。また、LDチッ
プ30の波長帯や材料が実施例と異なる場合でも同様な
効果が得られる。さらにつけ加えれば、InP基板1の
替わりに、Si基板上にレーザ構造を形成したLDチッ
プを用いた場合でも本発明を適用できる。この場合は、
Si基板が堅いために、チップ厚を実施例よりもさらに
小さくでき、したがって、より多くのLDチップを積層
できる。あるいは全発光領域の面積をより小さくでき
る。
【0014】第1実施例では、全発光領域40の面積を
できるだけ小さくすることだけを目的とし、複数のLD
チップ30は単一の駆動回路で駆動する構造であった。
しかし、先にも述べたように、個々のLDチップを独立
に駆動することで個々の駆動回路の負担を低減できる。
できるだけ小さくすることだけを目的とし、複数のLD
チップ30は単一の駆動回路で駆動する構造であった。
しかし、先にも述べたように、個々のLDチップを独立
に駆動することで個々の駆動回路の負担を低減できる。
【0015】図3は請求項3に記された高出力パルスL
Dモジュールの実施例(第2実施例)を表す模式図で、
(a)は正面図、(b)は平面図である。第2実施例で
は、全発光領域41の面積をきるだけ小さくすることに
加えて、個々のLDチップ31を独立に駆動できること
が特徴である。ここでは発振波長1.5μm帯の5つの
LDチップ31が、表面をメタライズしたシリコンマウ
ント21の上に電気的に直列になるような配置で積層さ
れている。第1実施例と比較した場合の特徴は、個々の
LDチップ31が独立に駆動できるように、モジュール
の積層構造とLDチップ31の構造を工夫した点であ
る。具体的にはハンダバンプ14を用いたプリップチッ
プ実装法によってLDチップ31を積層し、個々のLD
チップ31から独立したP側電極7とN側電極8を引き
出せるような構造になっている。こうすることで複数の
駆動回路を利用でき,個々の駆動回路に対する負荷を低
減できる。
Dモジュールの実施例(第2実施例)を表す模式図で、
(a)は正面図、(b)は平面図である。第2実施例で
は、全発光領域41の面積をきるだけ小さくすることに
加えて、個々のLDチップ31を独立に駆動できること
が特徴である。ここでは発振波長1.5μm帯の5つの
LDチップ31が、表面をメタライズしたシリコンマウ
ント21の上に電気的に直列になるような配置で積層さ
れている。第1実施例と比較した場合の特徴は、個々の
LDチップ31が独立に駆動できるように、モジュール
の積層構造とLDチップ31の構造を工夫した点であ
る。具体的にはハンダバンプ14を用いたプリップチッ
プ実装法によってLDチップ31を積層し、個々のLD
チップ31から独立したP側電極7とN側電極8を引き
出せるような構造になっている。こうすることで複数の
駆動回路を利用でき,個々の駆動回路に対する負荷を低
減できる。
【0016】第2実施例におけるLDチップ31の具体
的な構造の例を図4に示す。これは第1実施例として図
2に示したLDチップ30と同じブロ−ドエリアLDで
あり、層構造や発光領域12の構造、端面の反射膜1
0、11などもほぼ同じである。第1実施例のLDチッ
プ30とのおもな違いは、融着部分にAuSnのハンダ
バンプ14を用いている点、InP基板としてN型では
なく半絶縁性基板を用いている点、P側電極7およびN
側電極8をLDチップ31の同じ側から取り出している
点などである。さらに、積層した場合にワイヤ51をボ
ンディングし易くするために、個々のLDチップ31の
電極7、8一部(ワイヤボンディング部分)が互いに積
層方向に重ならないように、個々のLDチップ31ごと
に電極7、8の大きさを変えてある。つまり、下段のL
Dチップ31ほど電極7、8が発光領域12から横方向
にずれて形成されている。したがって個々のLDチップ
31の発光領域12の横幅は等しいが、チップ幅は異な
っている。実際のLDチップ31の大きさ、共振器長6
00μm、チップ幅500−900μm、チップ厚50
μm、発光領域幅200μmである。
的な構造の例を図4に示す。これは第1実施例として図
2に示したLDチップ30と同じブロ−ドエリアLDで
あり、層構造や発光領域12の構造、端面の反射膜1
0、11などもほぼ同じである。第1実施例のLDチッ
プ30とのおもな違いは、融着部分にAuSnのハンダ
バンプ14を用いている点、InP基板としてN型では
なく半絶縁性基板を用いている点、P側電極7およびN
側電極8をLDチップ31の同じ側から取り出している
点などである。さらに、積層した場合にワイヤ51をボ
ンディングし易くするために、個々のLDチップ31の
電極7、8一部(ワイヤボンディング部分)が互いに積
層方向に重ならないように、個々のLDチップ31ごと
に電極7、8の大きさを変えてある。つまり、下段のL
Dチップ31ほど電極7、8が発光領域12から横方向
にずれて形成されている。したがって個々のLDチップ
31の発光領域12の横幅は等しいが、チップ幅は異な
っている。実際のLDチップ31の大きさ、共振器長6
00μm、チップ幅500−900μm、チップ厚50
μm、発光領域幅200μmである。
【0017】このLDチップ31の具体的な製造方法
は、図2のLDチップ30の場合とほぼ同じであるた
め、詳細は省略して異なる部分を中心に以下に説明す
る。まず、基板1は、鉄を添加した半絶縁性のInP基
板を用いる。N側電極8に関しては、P側電極と同じ側
から取り出すために、結晶成長したLDチップ31の表
面一部を除去し、N形クラッド層2の上にN側電極8を
形成している。P側電極7に関しては、ハンダバンプ1
4の位置を避けてワイヤボンディング部分を形成してい
る。基板1側の金属膜13は、下段にくるLDチップ3
1をハンダバンプ14を介して固着するために導入して
いる。
は、図2のLDチップ30の場合とほぼ同じであるた
め、詳細は省略して異なる部分を中心に以下に説明す
る。まず、基板1は、鉄を添加した半絶縁性のInP基
板を用いる。N側電極8に関しては、P側電極と同じ側
から取り出すために、結晶成長したLDチップ31の表
面一部を除去し、N形クラッド層2の上にN側電極8を
形成している。P側電極7に関しては、ハンダバンプ1
4の位置を避けてワイヤボンディング部分を形成してい
る。基板1側の金属膜13は、下段にくるLDチップ3
1をハンダバンプ14を介して固着するために導入して
いる。
【0018】第2実施例の組立は以下の様に行う。ま
ず、上述のようなLDチップ31を5個、図3のように
出射側端面が揃うようにしてシリコンマウント21の上
に積層する。シリコンマウント21の表面にはAuSn
融材をあらかじめ蒸着してある。次に、LDチップ31
をシリコンマウント21に押しつけながら加熱し、ハン
ダバンプ14とAuSn融材を一旦溶かした後冷却し
て、シリコンマウント215つのLDチップ31を同時
に固着する。この様なハンダバンプ14を用いたフリッ
プチップ実装法に関しては、例えば1993年度電子情
報通信学会春季大会予稿集SC−2−5に記述がある。
その後、これを適当なパッケージに固定して、ワイヤ5
1をボンディングする。
ず、上述のようなLDチップ31を5個、図3のように
出射側端面が揃うようにしてシリコンマウント21の上
に積層する。シリコンマウント21の表面にはAuSn
融材をあらかじめ蒸着してある。次に、LDチップ31
をシリコンマウント21に押しつけながら加熱し、ハン
ダバンプ14とAuSn融材を一旦溶かした後冷却し
て、シリコンマウント215つのLDチップ31を同時
に固着する。この様なハンダバンプ14を用いたフリッ
プチップ実装法に関しては、例えば1993年度電子情
報通信学会春季大会予稿集SC−2−5に記述がある。
その後、これを適当なパッケージに固定して、ワイヤ5
1をボンディングする。
【0019】若干の補足をすると、第2実施例において
も、第1実施例の補足で述べたような、LDアレイなど
を用いることもできる。またInP系以外の別の材料系
のLDチップにも適用できるなど、第1実施例の補足で
述べた内容は第2実施例においてもそのまま適用でき
る。
も、第1実施例の補足で述べたような、LDアレイなど
を用いることもできる。またInP系以外の別の材料系
のLDチップにも適用できるなど、第1実施例の補足で
述べた内容は第2実施例においてもそのまま適用でき
る。
【0020】
【発明の効果】本発明によって、複数のLDチップをコ
ンパクトに集積化し、全発光面積が小さな高出力パルス
LDモジュールが、さらに、個々のLDチップを独立に
駆動するとでパルス電流駆動回路の負担を軽減できる、
高出力パルスLDモジュールが実現できる。
ンパクトに集積化し、全発光面積が小さな高出力パルス
LDモジュールが、さらに、個々のLDチップを独立に
駆動するとでパルス電流駆動回路の負担を軽減できる、
高出力パルスLDモジュールが実現できる。
【図1】本発明の第1実施例を示す模式図である。
【図2】図1のLDチップの具体的な構造を示す模式図
である。
である。
【図3】本発明の第2の実施例を示す模式図である。
【図4】図3のLDチップの具体的な構造を示す模式図
である。
である。
1 基板 2 N型クラッド層 3 活性層 4 P型クラッド層 5 コンタクト層 6 誘電体層 7 P側電極 8 N側電極 9 融材 10 低反射膜 11 高反射膜 12 発光領域 13 金属膜 14 ハンダバンプ 20、21 マウント 30、31 LDチップ 40、41 全発光領域 50、51 ワイヤ
Claims (5)
- 【請求項1】 複数のレーザダイオードチップが、導電
性の融材を介して電気的に直列になるような配置で積層
されていること、かつ個々の前記レーザダイオードチッ
プの発光領域が積層方向に互いにほぼ重なるように配置
されていることを特徴とする高出力パルスレーザダイオ
ードモジュール。 - 【請求項2】 請求項1に記された複数のレーザダイオ
ードチップが、ブロードエリアレーザダイオードまたは
レーザダイオードアレイであることを特徴とする高出力
パルスレーザダイオードモジュール。 - 【請求項3】 複数のレーザダイオードチップが、互い
に接近しかつ電気的に絶縁されて積層されていること、
かつ個々の前記レーザダイオードチップの発光領域が積
層方法に互いにほぼ重なるように配置さていることを特
徴とする高出力パルスレーザダイオードモジュール。 - 【請求項4】 請求項3に記載されたレーザダイオード
チップが、ハンダバンプを用いたフリップチップ実装法
によって積層されていることを特徴とする高出力パルス
レーザダイオードモジュール。 - 【請求項5】 請求項3に記されたレーザダイオードチ
ップのP側電極とN側電極とが同じ側に形成されている
こと、かつ個々の前記レーザダイオードチップの電極の
少なくとも一部が積層方向に互いに重ならないように配
置されていることを特徴とする高出力パルスレーザダイ
オードモジュール。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5202340A JP2630206B2 (ja) | 1993-08-16 | 1993-08-16 | 高出力パルスレーザダイオードモジュール |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5202340A JP2630206B2 (ja) | 1993-08-16 | 1993-08-16 | 高出力パルスレーザダイオードモジュール |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0758400A true JPH0758400A (ja) | 1995-03-03 |
JP2630206B2 JP2630206B2 (ja) | 1997-07-16 |
Family
ID=16455923
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP5202340A Expired - Fee Related JP2630206B2 (ja) | 1993-08-16 | 1993-08-16 | 高出力パルスレーザダイオードモジュール |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2630206B2 (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002141604A (ja) * | 2000-11-07 | 2002-05-17 | Sony Corp | 半導体レーザ |
JP2004281445A (ja) * | 2003-03-12 | 2004-10-07 | Sanyo Electric Co Ltd | 積層型発光ダイオード素子 |
JP2005327826A (ja) * | 2004-05-13 | 2005-11-24 | Sony Corp | 集積型半導体レーザ装置、集積型半導体レーザ装置の製造方法、集積型半導体発光装置、集積型半導体発光装置の製造方法、光学ピックアップ装置および光ディスク装置 |
JP2006269987A (ja) * | 2005-03-25 | 2006-10-05 | Sanyo Electric Co Ltd | 半導体レーザ装置および光ピックアップ装置 |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH06283807A (ja) * | 1993-03-26 | 1994-10-07 | Nippondenso Co Ltd | スタックレーザ |
-
1993
- 1993-08-16 JP JP5202340A patent/JP2630206B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH06283807A (ja) * | 1993-03-26 | 1994-10-07 | Nippondenso Co Ltd | スタックレーザ |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002141604A (ja) * | 2000-11-07 | 2002-05-17 | Sony Corp | 半導体レーザ |
JP2004281445A (ja) * | 2003-03-12 | 2004-10-07 | Sanyo Electric Co Ltd | 積層型発光ダイオード素子 |
JP2005327826A (ja) * | 2004-05-13 | 2005-11-24 | Sony Corp | 集積型半導体レーザ装置、集積型半導体レーザ装置の製造方法、集積型半導体発光装置、集積型半導体発光装置の製造方法、光学ピックアップ装置および光ディスク装置 |
JP2006269987A (ja) * | 2005-03-25 | 2006-10-05 | Sanyo Electric Co Ltd | 半導体レーザ装置および光ピックアップ装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2630206B2 (ja) | 1997-07-16 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US5365536A (en) | Semiconductor laser | |
JP4126749B2 (ja) | 半導体装置の製造方法 | |
JP3348024B2 (ja) | 半導体レーザ装置 | |
US7551659B2 (en) | Semiconductor laser apparatus | |
US7724791B2 (en) | Method of manufacturing laser diode packages and arrays | |
US5636234A (en) | Semiconductor laser device including heat sink with pn junction | |
US8031751B2 (en) | Nitride semiconductor laser device | |
US20060104565A1 (en) | Optical semiconductor module | |
JPH11168262A (ja) | 面型光デバイス、その製造方法、および表示装置 | |
KR101960128B1 (ko) | 레이저 다이오드 디바이스 | |
JP5282605B2 (ja) | 半導体レーザ装置、及びその製造方法 | |
JP2005150692A (ja) | 半導体レーザ装置 | |
US5604761A (en) | Layered semiconductor laser having solder laminations and method of making same | |
US20040028097A1 (en) | Semiconductor laser device | |
US20070025406A1 (en) | Semiconductor laser array and semiconductor laser device | |
US9008138B2 (en) | Laser diode device | |
JPH11186662A (ja) | 半導体レーザ装置 | |
JPH05347430A (ja) | 半導体発光装置 | |
JPH10308560A (ja) | 半導体発光素子および発光装置 | |
JPH1051078A (ja) | 半導体レーザアレイ及びその製造方法 | |
JP2000261088A (ja) | 発光素子 | |
JP2630206B2 (ja) | 高出力パルスレーザダイオードモジュール | |
JP2005505914A (ja) | パワーパックレーザダイオードアセンブリ | |
GB2306048A (en) | Electrodes for semiconductor lasers | |
KR101501012B1 (ko) | 고출력 레이저 다이오드 모듈 및 그 제조방법 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 19970304 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080418 Year of fee payment: 11 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090418 Year of fee payment: 12 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100418 Year of fee payment: 13 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |