JP2002116715A5 - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
JP2002116715A5
JP2002116715A5 JP2001189397A JP2001189397A JP2002116715A5 JP 2002116715 A5 JP2002116715 A5 JP 2002116715A5 JP 2001189397 A JP2001189397 A JP 2001189397A JP 2001189397 A JP2001189397 A JP 2001189397A JP 2002116715 A5 JP2002116715 A5 JP 2002116715A5
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
insulating layer
electrode
polybenzoxazole
display device
synthesis example
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2001189397A
Other languages
English (en)
Japanese (ja)
Other versions
JP2002116715A (ja
JP4982928B2 (ja
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Priority to JP2001189397A priority Critical patent/JP4982928B2/ja
Priority claimed from JP2001189397A external-priority patent/JP4982928B2/ja
Publication of JP2002116715A publication Critical patent/JP2002116715A/ja
Publication of JP2002116715A5 publication Critical patent/JP2002116715A5/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4982928B2 publication Critical patent/JP4982928B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

JP2001189397A 2000-06-28 2001-06-22 表示装置 Expired - Lifetime JP4982928B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2001189397A JP4982928B2 (ja) 2000-06-28 2001-06-22 表示装置

Applications Claiming Priority (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2000194019 2000-06-28
JP2000-194019 2000-06-28
JP2000194019 2000-06-28
JP2001189397A JP4982928B2 (ja) 2000-06-28 2001-06-22 表示装置

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2002116715A JP2002116715A (ja) 2002-04-19
JP2002116715A5 true JP2002116715A5 (https=) 2008-07-03
JP4982928B2 JP4982928B2 (ja) 2012-07-25

Family

ID=26594837

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2001189397A Expired - Lifetime JP4982928B2 (ja) 2000-06-28 2001-06-22 表示装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP4982928B2 (https=)

Families Citing this family (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN100555078C (zh) * 2003-06-02 2009-10-28 东丽株式会社 感光树脂组合物及用其制备的电子元件和显示装置
JP4453385B2 (ja) * 2004-02-13 2010-04-21 ソニー株式会社 表示装置の製造方法
CN102217420B (zh) * 2008-12-18 2014-02-19 松下电器产业株式会社 有机电致发光装置
JP5593676B2 (ja) 2009-10-22 2014-09-24 ソニー株式会社 表示装置および表示装置の製造方法
JP2012059470A (ja) * 2010-09-07 2012-03-22 Kobe Steel Ltd 有機elディスプレイ用の反射アノード電極
WO2016047483A1 (ja) 2014-09-26 2016-03-31 東レ株式会社 有機el表示装置
CN107409457B (zh) 2015-03-11 2018-11-13 东丽株式会社 有机el显示装置及其制造方法
KR102309954B1 (ko) 2016-03-18 2021-10-08 도레이 카부시키가이샤 경화막 및 포지티브형 감광성 수지 조성물
CN115066980B (zh) 2020-02-25 2025-08-26 东丽株式会社 有机el显示装置及其制造方法、固化物的制造方法
CN115698854B (zh) 2020-08-17 2025-08-22 东丽株式会社 感光性树脂组合物、硬化物、有机电致发光显示装置、半导体装置及硬化物的制造方法
JPWO2024070802A1 (https=) 2022-09-27 2024-04-04
KR20260029282A (ko) 2023-06-27 2026-03-04 도레이 카부시키가이샤 경화막 및 유기 el 표시 장치

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE2931297A1 (de) * 1979-08-01 1981-02-19 Siemens Ag Waermebestaendige positivresists und verfahren zur herstellung waermebestaendiger reliefstrukturen
JP2734464B2 (ja) * 1990-02-28 1998-03-30 出光興産株式会社 エレクトロルミネッセンス素子及びその製造方法
JP2828736B2 (ja) * 1990-05-29 1998-11-25 住友ベークライト株式会社 ポジ型感光性樹脂組成物
JPH1197182A (ja) * 1997-09-24 1999-04-09 Pioneer Electron Corp 発光ディスプレイパネル

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN1860414B (zh) 正型感光性树脂组合物、图案的制造方法及电子部件
US6753129B2 (en) Method and apparatus for modification of chemically amplified photoresist by electron beam exposure
JP2002091343A5 (https=)
TW469521B (en) A method of forming a photoresist pattern
JPH083635B2 (ja) ネガフオトレジスト組成物およびネガ画像の形成方法
CN1555510A (zh) 蚀刻方法和用于形成蚀刻保护层的组合物
TWI230182B (en) Photosensitive resin precursor composition
JP2002116715A5 (https=)
TW200402600A (en) Micropattern forming material and micropattern forming method
JPS60115222A (ja) 微細パタ−ン形成方法
JP2004093832A (ja) 微細パターン形成材料、微細パターン形成方法および半導体装置の製造方法
CN111880371A (zh) 光刻胶及亚胺类材料的图案化方法
WO2005101125A1 (ja) 耐熱感光性樹脂組成物、該組成物を用いたパターン製造方法、及び電子部品
JP2861253B2 (ja) 感光性樹脂組成物
JP2004077551A (ja) 感光性樹脂組成物並びにそれを用いたレリーフパターンおよび耐熱性塗膜の製造方法およびそれらを有する電子部品
JP2006047627A (ja) 感光性樹脂前駆体組成物
US20050221222A1 (en) Photosensitive resin composition, resist pattern forming method, substrate processing method, and device manufacturing method
JP4309033B2 (ja) ポジティブ型フォトレジスト膜の製造方法
JP4449119B2 (ja) ポジ型感光性樹脂前駆体組成物
JP5632630B2 (ja) ネガ型感光性樹脂組成物
WO2010001779A1 (ja) 感光性絶縁樹脂組成物及びそれを用いたパターン形成方法
JP2001133975A (ja) ポジ型感光性樹脂前駆体組成物
JPH087436B2 (ja) 感光性ジアゾキノン化合物及びそれを用いたポジ型感光性樹脂組成物
JP5119547B2 (ja) 反応現像画像形成法
JP4742995B2 (ja) 感光性樹脂組成物、パターンの製造方法及び電子部品