JP2002112964A - 眼光学特性測定装置 - Google Patents

眼光学特性測定装置

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JP2002112964A JP2000309530A JP2000309530A JP2002112964A JP 2002112964 A JP2002112964 A JP 2002112964A JP 2000309530 A JP2000309530 A JP 2000309530A JP 2000309530 A JP2000309530 A JP 2000309530A JP 2002112964 A JP2002112964 A JP 2002112964A
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Abstract

(57)【要約】 【課題】被検眼の眼底での散乱反射により生じる劣化状
態を定量的に測定できる眼光学特性測定装置を提供す
る。 【解決手段】被検眼眼底に第1次指標像を投影する為の
投影系2と、第1次指標像の反射光束から光電検出器2
1上に第2次指標像を形成する為の受光系3と、前記光
電検出器からの信号に基づき第2次指標像の光量強度分
布特性を測定する為の検出系26,27,28と、前記
受光系と前記検出系の共通光路内に配置され被検眼の眼
屈折特性に対応して矯正された状態で被検眼眼底に第1
次指標像を合焦させる為の矯正光学系12と、被検眼眼
底からの散乱反射光束を含む反射光束を光電検出器上に
導く為の第1の状態と被検眼眼底からの全反射光束のみ
を光電検出器上に導く為の第2の状態とに切換える為の
光束切換手段13とを具備し、前記矯正光学系により矯
正された状態での前記光電検出器からの信号に基づき、
前記光束切換手段で選択した2つの光束で形成されるそ
れぞれの第2次指標像の光量強度分布特性を測定し得る
様に構成した。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は被検眼の眼底上に投
影された指標像の光量強度分布を測定して眼球光学系の
光学特性を測定する為の眼光学特性測定装置に関するも
のである。
【0002】
【従来の技術】従来、被検眼眼底にピンホール像等の指
標像を投影し、その反射光束から光電検出器上に指標像
を形成し、その指標像の光量強度分布特性を基に、被検
眼の眼球光学系の眼光学特性を測定する眼光学特性測定
装置が知られている。
【0003】斯かる眼光学特性測定装置に於いては、眼
底上には角膜から眼底に至る眼球光学系を透過した光束
により第1次指標像が形成され、この第1次指標像から
の反射光束は再度眼球光学系を透過して光電検出器上に
第2次指標像が形成されるもので、光電検出器からの信
号に基づき第2次指標像の2次元的な光量強度分布特性
を測定するものである。そして、この測定結果から被検
眼の眼球光学系の光学特性(PSF)(例えば点像強度
分布関数)を演算するもので、この光学特性に基づき被
検眼眼底上で形成される指標像をシミュレーション画像
として演算・表示することができる利点がある。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】前記被検眼の眼底に投
影された光束は眼底で全て反射されるわけではなく、一
部は眼底表面から表層内部に侵入し、散乱反射される現
象、所謂にじみ反射が発生する。
【0005】前記眼底でのにじみ反射(散乱反射)によ
り生じる像の劣化の程度は、眼底の光学特性としてあら
わされるが、この眼底の光学特性を定量的に測定する装
置は提案されていない。
【0006】従って、従来の眼光学特性測定装置では光
電検出器上の第2次指標像には眼底での散乱反射により
生じる像の劣化の影響が含まれ、前記散乱反射が、反射
光束と共に前記光電検出器21に受光されると、第2次
指標像の光量強度分布のノイズとなり、正しい眼球光学
系の眼光学特性を求めることができない。
【0007】本発明は、これらの従来技術の問題点を解
決するものであり、本発明の第1の目的は、被検眼の眼
底での散乱反射により生じる劣化状態を示す量、即ち、
眼底の光学特性を定量的に測定できる眼光学特性測定装
置を提供するものであり、又、得られた眼底の光学特
性、任意のピント位置での光電検出器上での第2次指標
像の光量強度分布とから、任意のピント位置で被検者が
認識するシミュレーション画像を実時間で演算・表示が
可能な装置を提供することを第2の目的とするものであ
る。
【0008】
【課題を解決する為の手段】本発明は、被検眼眼底に第
1次指標像を投影する為の投影系と、第1次指標像の反
射光束から光電検出器上に第2次指標像を形成する為の
受光系と、前記光電検出器からの信号に基づき第2次指
標像の光量強度分布特性を測定する為の検出系と、前記
受光系と前記検出系の共通光路内に配置され被検眼の眼
屈折特性に対応して矯正された状態で被検眼眼底に第1
次指標像を合焦させる為の矯正光学系と、被検眼眼底か
らの散乱反射光束を含む反射光束を光電検出器上に導く
為の第1の状態と被検眼眼底からの全反射光束のみを光
電検出器上に導く為の第2の状態とに切換える為の光束
切換手段とを具備し、前記矯正光学系により矯正された
状態での前記光電検出器からの信号に基づき、前記光束
切換手段で選択した2つの光束で形成されるそれぞれの
第2次指標像の光量強度分布特性を測定し得る様に構成
した眼光学特性測定装置に係り、又前記2つの第2次指
標像の光量強度分布特性から眼底の光学特性を算出する
為の演算部を有する眼光学特性測定装置に係り、又予め
算出された前記眼底の光学特性と、第1の受光状態を選
択した際の第2次指標像の光量強度分布特性とから、被
検者が認識する眼底上の第1次指標像を演算により算出
する為のシミュレーション画像算出手段を有する眼光学
特性測定装置に係るものである。
【0009】
【発明の実施の形態】以下、図面を参照しつつ本発明の
実施の形態を説明する。
【0010】図1に於いて、本発明の実施の形態の光学
系について説明する。
【0011】図中、1は被検眼、2は投影光学系、3は
受光光学系を示す。
【0012】前記投影光学系2は光源5、該光源5から
発せられた投影光束を集光する投影レンズ6、該投影レ
ンズ6の光軸上に配設されたハーフミラー7、該ハーフ
ミラー7を透過した投影光束を前記被検眼1に向け第1
の偏光方向の直線偏光成分(S直線偏光)を反射して投
影すると共にS直線偏光とは偏光方向が90°異なるP
直線偏光を透過する偏光ビームスプリッタ8、該偏光ビ
ームスプリッタ8の投影光軸に前記偏光ビームスプリッ
タ8側から配設されたリレーレンズ9、対物レンズ1
1、該対物レンズ11と前記被検眼1との間に配設され
球面レンズで構成される矯正光学系12、光軸に対して
挿脱可能に設けられた1/4波長板13、前記被検眼1
の瞳18と略共役な位置(共役な位置を含む)に配設さ
れた開口絞り14を有する。更に、前記ハーフミラー7
に対向して固視標15、集光レンズ16を有する固視標
系17が配設されている。前記光源5、固視標15は前
記被検眼1の眼底と共役な位置にあり、後述する様に、
前記光源5、固視標15は眼底に結像する。尚、光源5
と投影レンズ6は一体で、後述の合焦レンズ19と連動
して光軸方向に沿って移動可能となっている。
【0013】前記受光光学系3は、前記偏光ビームスプ
リッタ8、該偏光ビームスプリッタ8の投影光軸に配設
された前記リレーレンズ9、対物レンズ11、矯正光学
系12、1/4波長板13を前記投影光学系2と共用し
ている。
【0014】前記偏光ビームスプリッタ8を透過する反
射光軸上には反射光軸に沿って移動可能な合焦レンズ1
9、結像レンズ20が配設され、該結像レンズ20は前
記被検眼1の眼底と共役な位置にある光電検出器21上
に反射光束を結像させる。
【0015】該光電検出器21からの受光信号は信号処
理部26を介して記憶部27に記憶される。前記信号処
理部26から前記記憶部27へのデータの書込みは制御
部28によって制御され、該制御部28は前記記憶部2
7に記憶されたデータを基に所要の演算をし、又演算結
果を表示部29に表示する。
【0016】前記開口絞り14について、図2(A)、
図2(B)、図2(C)により説明する。
【0017】該開口絞り14は円形状の3枚の開口板2
3,24,25から構成され、前記開口板23は中央部
に円形の遮光部23aを有し、周囲のリング形状部分が
透過部23bとなっており、前記開口板24は前記遮光
部23aと同形の透過部24aと前記透過部23bと同
形のリング形状の遮光部24bを有している。前記開口
板25は8等分した中心角が45°で対称位置にある2
つの小扇形状部分が透過部25a,25aであり、残り
の2つの大扇形状部分が遮光部25b,25bとなって
いる。
【0018】前記開口板23,24,25を組合わせる
ことで、図3で示されるA1 ,A2,B1 ,B2 ,C1
,C2 ,D1 ,D2 及びA′1 ,A′2 ,B′1 ,
B′2 ,C′1 ,C′2 ,D′1 ,D′2 の開口部が得
られる。
【0019】例えば、前記開口板25を図2(C)図示
の状態とし、該開口板25に前記開口板23を組合わせ
ることで、開口部A2 ,A′2 が得られ、前記開口板2
5に前記開口板24を組合わせることで、開口部A1 ,
A′1 が得られる。
【0020】更に、前記開口板25を45°ステップで
回転させ、各ステップで開口板23、開口板24を組合
わせることで、前記開口部A1 ,A2 ,B1 ,B2 ,C
1 ,C2 ,D1 ,D2 及びA′1 ,A′2 ,B′1 ,
B′2 ,C′1 ,C′2 ,D′1 ,D′2 が得られる。
【0021】以下、上記光学系の作用について説明す
る。
【0022】前記合焦レンズ19を基準位置とし、前記
被検眼1に前記固視標15を注視させ、前記矯正光学系
12により前記被検眼1の視力を矯正する。前記開口絞
り14は光軸から外した状態とする。
【0023】眼屈折力の矯正後、前記被検眼1に前記固
視標15を注視させた状態で、前記投影光学系2により
投影光束が被検眼眼底に投影される。尚、前記固視標1
5に関しては、可視光が用いられ、前記投影光束につい
ては赤外光が用いられる。
【0024】先ず、前記1/4波長板13が光路に挿入
されている状態を説明する。
【0025】前記光源5からの投影光束(赤外光)が前
記投影レンズ6、ハーフミラー7を透過して前記偏光ビ
ームスプリッタ8に至り、該偏光ビームスプリッタ8で
S直線偏光分が反射され、前記リレーレンズ9を経て前
記対物レンズ11、矯正光学系12により前記1/4波
長板13を経て前記被検眼1の眼底に投影され、該眼底
上に第1指標像が結像される。
【0026】S直線偏光が該1/4波長板13を透過す
ることで、右円偏光となる。前記被検眼1の眼底で投影
光束が全反射され、全反射光束は眼底で反射されること
で左円偏光となる。更に、全反射光束が前記1/4波長
板13を透過することで、前記S直線偏光とは偏光方向
が90°異なるP直線偏光となる。
【0027】P直線偏光は前記矯正光学系12、対物レ
ンズ11、リレーレンズ9により前記偏光ビームスプリ
ッタ8に導かれる。該偏光ビームスプリッタ8はS直線
偏光を反射し、P直線偏光を透過するので、前記全反射
光束は該偏光ビームスプリッタ8を透過し、前記合焦レ
ンズ19、結像レンズ20により前記光電検出器21上
に第2次指標像として結像される。
【0028】次に、前記被検眼1の眼底に投影された投
影光束は眼底で全て反射されるわけではなく、一部は眼
底表面から表層内部に侵入し、散乱反射される現象、所
謂にじみ反射が発生する。この散乱反射光束が、全反射
光束と共に前記光電検出器21に受光されると、第2次
指標像の光量強度分布のノイズとなり、正確な眼球光学
系の眼光学特性が測定できない。
【0029】斯かる散乱反射による光束の偏光状態はラ
ンダム状態である。この為、前記1/4波長板13を透
過し、直線偏光となった場合にP直線偏光と合致するも
のは限られた部分に限定され、前記偏光ビームスプリッ
タ8により散乱反射光束でP直線偏光と合致するもの以
外は反射される。従って、被検眼1の眼底で全反射され
たP直線偏光分に対して散乱反射光束によるP直線偏光
分の比率は無視できる程度に小さくなる。
【0030】従って、前記光電検出器21が受光するの
は実質上散乱反射光束分が除去された全反射光束とな
る。而して、前記1/4波長板13を投影光学系2、受
光光学系3の構成要素とすることで、正確な眼球光学系
の眼光学特性測定を可能とする。
【0031】該光電検出器21が受光した第2次指標像
の光量強度分布は前記被検眼1そのものの眼光学特性を
反映しており、光電検出器21の受光状態を検出するこ
とで、眼光学特性を測定することができる。
【0032】次に、前記1/4波長板13が光路から退
避している状態を説明する。
【0033】前記1/4波長板13が除去されているの
で、眼底からの全反射光の偏光状態はS直線偏光のまま
であり、前記偏光ビームスプリッタ8により全て反射さ
れる。従って、前記偏光ビームスプリッタ8を透過する
のは、眼底で散乱反射された散乱光束のP直線偏光成分
だけである。前記光電検出器21上には散乱光束による
第2次指標像が結像される。該光電検出器21が受光し
た第2次指標像の光量強度分布は前記被検眼眼底と被検
眼1の眼底光学特性、眼光学特性を反映している。
【0034】前記1/4波長板13を挿入した状態での
光電検出器21の受光状態と、前記1/4波長板13を
退避させた状態の前記光電検出器21の受光状態とに基
づき以下の手順により、眼底光学特性を測定することが
できる。
【0035】又、前記1/4波長板13の挿脱により、
光電検出器21に投影される反射光束は、眼底で全反射
された全反射光束か、眼底で散乱反射した散乱反射光束
かのいずれかを選択でき、前記1/4波長板13は光束
切替え手段として機能する。
【0036】先ず図4(A)に示す様に、前記1/4波
長板13を光路中に挿入した場合、即ち散乱反射光束を
除去した場合に於いて、被検眼1の眼球光学系の光学特
性をP、眼底で全反射された全反射光束を受光した場合
の光電検出器21上での2次元光量強度分布をIr とす
ると、光電検出器21で受光する全反射光束は前記被検
眼1を2度通過していることから、前記PとIr との間
には
【0037】P※P=Ir ここで、※は、コンボルーション積分を意味する。又、
P、Ir をフーリエ変換すると、 FT(P)=p、FT(Ir )=ir となるので、 p2 =ir (1) と表される。
【0038】次に図4(B)に示す様に、前記1/4波
長板13を退避させた場合、即ち反射光束が散乱反射の
みである場合に於いて、被検眼1の眼球光学系の光学特
性をP、眼底での散乱反射により生じる眼底の光学特性
をR、眼底で散乱反射された散乱反射光束を受光した場
合の光電検出器21上での2次元光量強度分布をIdと
すると、光電検出器21で受光する散乱反射光束は前記
被検眼1を2度通過し、更に眼底の光学特性の影響を受
けていることから、前記PとId との間には
【0039】P※R※P=Id ここで、P、R、Id をフーリエ変換すると、 FT(R)=p、FT(R)=r、FT(Id )=id とすると、 p×r×p=p2 ×r=id (2) と表される。(1)式、(2)式から r=id /ir となり、更に逆フーリエ変換すると R=IFT(id /ir ) (3) となる。
【0040】即ち、FT(Ir )=ir 、FT(Id )
=id (4) であるから、前記光電検出器21上に於ける、眼底での
全反射光束による光量強度分布Ir 、眼底での散乱光束
よる光量強度分布Id をそれぞれ測定し、前記(3)式
に基づいて眼底での散乱反射により生じる像の劣化を定
量的に示す眼底の光学特性を算出することができる。
【0041】上記した手順で眼底の光学特性を測定する
ことができ、眼底の光学特性を考慮して眼底でのシミュ
レーション画像を演算することができる。
【0042】前記矯正光学系12、或は合焦レンズ19
の調整により、任意の状態で被検眼眼底に指標像を投影
した場合の眼底上での指標像を以下の手順により、シミ
ュレーションする。
【0043】この場合、前記光電検出器21上に結像さ
れる指標像の光量強度を測定する場合は、前記1/4波
長板13を退避させ散乱光束を受光する状態で行う。
尚、上記手順で求めた眼底の光学特性については変化は
ない。
【0044】その時の眼球光学系の光学的光伝達関数を
Pa 、眼底での散乱反射により生じる眼底の光学的光伝
達関数をR、散乱反射光束で受光した場合の光電検出器
上での光量強度分布をIa とすると、
【0045】 Pa ※R※Pa =Ia (5) となる。ここで、前述と同様に、フーリエ変換をする。 FT(Pa )=pa 、FT(R)=r、FT(Ia )=
ia となり、更に、 pa2×r=ia となり、 pa =√(ia /r) (6) となる。従って、逆フーリエ変換をすると、 Pa =IFT(√(ia /r)) (7) となる。
【0046】光電検出器21上での光量強度分布Ia を
測定し、前述の演算により算出したRに基づき、その任
意の状態での光伝達関数を算出することができ、この算
出されたPa と、実際に使用する指標の光量強度分布関
数Oとをコンボルーション積分をすることにより、被検
眼の眼底に投影されるイメージIのシミュレーション画
像を下記式により演算することができる。
【0047】 I=Pa ※O (8)
【0048】従って、シミュレーション画像を表示装置
に表示することで、任意の屈折力矯正状態、任意の合焦
状態での被検者が実際に認識している像をリアルタイム
で観察することができる。
【0049】被検眼の眼光学特性の測定について図5を
参照して説明する。
【0050】STEP01:前記被検眼1に前記固視標
15を注視させた状態で、前記矯正光学系12により、
被検眼の球面度数、乱視度数、乱視軸に対応して被検眼
の視力を矯正する。この矯正は、事前に測定した他覚式
レフラクトメータの測定結果に基づき矯正を行う方法、
或は、被検者が前記光電検出器21からの信号に基づき
モニタに表示された指標像を観察し指標像が点像として
観察される様に矯正を行う方法等が利用できる。
【0051】STEP02:前記開口絞り14を外す
か、或は開口板24を選択する。
【0052】STEP03:1/4波長板13を挿入し
て、眼底での全反射光束を選択する。
【0053】STEP04:前記光電検出器21には全
反射光束により第2次指標像が結像され、該第2次指標
像に基づく受光信号から第1の光量強度分布Ir が測定
される。該第1の光量強度分布Ir を前記記憶部27に
記憶させる。
【0054】STEP05:1/4波長板13を外し
て、受光光束を反射散乱光束とする。
【0055】STEP06:前記光電検出器21上に形
成される第2次指標像は反射散乱光束のみにより形成さ
れる。該第2次指標像に基づく受光信号から第2の光量
強度分布Id が測定され、前記記憶部27に記憶され
る。
【0056】STEP07:前記制御部28に於いて、
STEP04、STEP06の測定結果より被検眼1眼
底の光学特性Rを算出する。該眼底光学特性Rが前記記
憶部27に記憶される。
【0057】STEP08:前記1/4波長板13を退
避とし、散乱反射光束が選択される。
【0058】STEP09:前記開口絞り14で任意の
開口、合焦レンズ19の移動による任意のピント位置、
或は、矯正光学系12による任意の矯正状態が選択され
る。
【0059】STEP10:前記光電検出器21に形成
された指標像に基づく受光信号から光量強度分布Ia が
測定される。該光量強度分布Ia が前記記憶部27に記
憶される。
【0060】STEP11:眼底光学特性Rは既に求め
られているので、上記(5)式、(7)式より任意の開
口、更に任意の合焦状態での眼光学特性Pa が求めら
れ、更に(8)式によりシミュレーション画像を演算
し、前記表示部29に表示し、又は前記記憶部27に記
憶する。
【0061】STEP11に於いて説明した様に、前記
開口絞り14の任意の開口でリアルタイムのシミュレー
ション画像が得られる。従って、例えば前記開口板24
を挿入した状態と、外した状態でのシミュレーション画
像を得ることで、虹彩が拡大した状態、縮小した状態で
の被検眼眼底での像を見ることができる。その他、図3
中、B2 領域、或はD1 領域等に限った状態でのシミュ
レーション画像についても同様に得られ、更に眼屈折力
を矯正している過程でも被検者が認識する像をリアルタ
イムで見ることができる。
【0062】
【発明の効果】以上述べた如く本発明によれば、被検眼
眼底に第1次指標像を投影する為の投影系と、第1次指
標像の反射光束から光電検出器上に第2次指標像を形成
する為の受光系と、前記光電検出器からの信号に基づき
第2次指標像の光量強度分布特性を測定する為の検出系
と、前記受光系と前記検出系の共通光路内に配置され被
検眼の眼屈折特性に対応して矯正された状態で被検眼眼
底に第1次指標像を合焦させる為の矯正光学系と、被検
眼眼底からの散乱反射光束を含む反射光束を光電検出器
上に導く為の第1の状態と被検眼眼底からの全反射光束
のみを光電検出器上に導く為の第2の状態とに切換える
為の光束切換手段とを具備し、前記矯正光学系により矯
正された状態での前記光電検出器からの信号に基づき、
前記光束切換手段で選択した2つの光束で形成されるそ
れぞれの第2次指標像の光量強度分布特性を測定し得る
様に構成したので、被検眼の眼底での散乱反射により生
じる劣化状態を定量的に測定でき、更に散乱反射により
生じる劣化状態を定量的に測定するので、被検者が認識
する眼底上の指標像をシミュレーションでき、リアルタ
イムで観察することができるという優れた効果を発揮す
る。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施の形態を示す光学系の概略構成図
である。
【図2】同前実施の形態に使用される開口絞りの説明図
である。
【図3】前記開口絞りにより分割される領域の状態を示
す説明図である。
【図4】(A)は被検眼眼底での全反射状態を示す説明
図、(B)は被検眼眼底での散乱反射状態を示す説明図
である。
【図5】本発明の実施の形態に於ける測定についてのフ
ローチャートである。
【符号の説明】
1 被検眼 2 投影光学系 3 受光光学系 5 光源 8 偏光ビームスプリッタ 9 リレーレンズ 11 対物レンズ 12 矯正光学系 13 1/4波長板 14 開口絞り 17 固視標系 19 合焦レンズ 21 光電検出器 27 記憶部 28 制御部 29 表示部

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 被検眼眼底に第1次指標像を投影する為
    の投影系と、第1次指標像の反射光束から光電検出器上
    に第2次指標像を形成する為の受光系と、前記光電検出
    器からの信号に基づき第2次指標像の光量強度分布特性
    を測定する為の検出系と、前記受光系と前記検出系の共
    通光路内に配置され被検眼の眼屈折特性に対応して矯正
    された状態で被検眼眼底に第1次指標像を合焦させる為
    の矯正光学系と、被検眼眼底からの散乱反射光束を含む
    反射光束を光電検出器上に導く為の第1の状態と被検眼
    眼底からの全反射光束のみを光電検出器上に導く為の第
    2の状態とに切換える為の光束切換手段とを具備し、前
    記矯正光学系により矯正された状態での前記光電検出器
    からの信号に基づき、前記光束切換手段で選択した2つ
    の光束で形成されるそれぞれの第2次指標像の光量強度
    分布特性を測定し得る様に構成したことを特徴とする眼
    光学特性測定装置。
  2. 【請求項2】 前記2つの第2次指標像の光量強度分布
    特性から眼底の光学特性を算出する為の演算部を有する
    請求項1記載の眼光学特性測定装置。
  3. 【請求項3】 予め算出された前記眼底の光学特性と、
    第1の受光状態を選択した際の第2次指標像の光量強度
    分布特性とから、被検者が認識する眼底上の第1次指標
    像を演算により算出する為のシミュレーション画像算出
    手段を有する請求項2記載の眼光学特性測定装置。
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