JP2002110891A - 電子回路ユニット - Google Patents

電子回路ユニット

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JP2002110891A JP2000294671A JP2000294671A JP2002110891A JP 2002110891 A JP2002110891 A JP 2002110891A JP 2000294671 A JP2000294671 A JP 2000294671A JP 2000294671 A JP2000294671 A JP 2000294671A JP 2002110891 A JP2002110891 A JP 2002110891A
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  • Semiconductor Integrated Circuits (AREA)
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 小型化に好適で高周波特性に優れた電子回路
ユニットを提供すること。 【解決手段】 アルミナ基板1上にコンデンサC1〜C
3と配線パターンPを薄膜形成すると共に、配線パター
ンPの一部を接続ランド5としてトランジスタTrのベ
アチップ6を搭載する。ここで、各コンデンサC1〜C
3のうち、コンデンサC2の上部電極4を接続ランド5
の一部として兼用し、この接続ランド5上にベアチップ
6の下面のコレクタ電極6aを導電性接着剤7を用いて
接続する。また、残りのコンデンサC1,C3の上部電
極4をボンディングパッドとして用い、ベアチップ6の
上面のベース電極6bとエミッタ電極6cをそれぞれコ
ンデンサC1,C3の上部電極4にワイヤー8を介して
接続する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体ベアチップ
やコンデンサ等が搭載された面実装タイプの電子回路ユ
ニットに係り、特に、高周波デバイスとして用いて好適
な電子回路ユニットに関する。
【0002】
【従来の技術】一般的に、高周波デバイスとして使用さ
れる電子回路ユニットは、基板上に設けられた導電パタ
ーンの半田ランドにチップ抵抗やチップコンデンサ等の
各種回路部品を半田付けして構成されているが、近年の
集積回路技術の発達に伴って基板上に回路素子を薄膜形
成した小型の電子回路ユニットが開発されている。
【0003】このような電子回路ユニットにおいて、必
要とされる回路構成が例えばトランジスタと複数のコン
デンサを含む場合、基板上に複数の薄膜コンデンサや配
線パターンを薄膜形成した後、この基板上にトランジス
タのベアチップを搭載してワイヤーボンディングすると
いう手法が採用されている。ここで、薄膜コンデンサは
下部電極と誘電体および上部電極を順次積層もので、下
部電極と上部電極は配線パターンの一部によって構成さ
れている。また、トランジスタは下面のコレクタ電極を
導電性接着剤で接続ランドに接続し、上面のエミッタ電
極とベース電極をワイヤーでボンディングパッドに接続
したもので、これら接続ランドとボンディングパッドも
配線パターンの一部によって構成されている。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】前述した従来の電子回
路ユニットによれば、少なくとも複数のコンデンサが基
板上に薄膜形成されているため、ある程度の小型化を実
現することは可能であるが、基板上の限られたエリア内
に複数のコンデンサや配線パターン等を薄膜形成する必
要があるため、電子回路ユニットのさらなる小型化とい
う点で改善の余地があった。
【0005】また、この種の電子回路ユニットが例えば
増幅回路を有し、この増幅回路用のトランジスタのエミ
ッタをコンデンサを介して接地する場合、前述した従来
技術においては、薄膜コンデンサの下部電極または上部
電極を配線パターンを介してボンディングパッドに接続
し、このボンディングパッドにエミッタ電極をワイヤー
ボンディングしていたが、これら薄膜コンデンサとボン
ディングパッド間に介在する配線パターンのインダクタ
ンス成分により、高周波特性が劣化するおそれがあっ
た。
【0006】本発明は、このような従来技術の実情に鑑
みてなされたもので、その目的は、小型化に好適で高周
波特性に優れた電子回路ユニットを提供することにあ
る。
【0007】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
の一手段として、本発明の電子回路ユニットでは、基板
上に誘電体を介して下部電極と上部電極を積層してなる
コンデンサが形成されると共に、前記基板に前記コンデ
ンサと重なるように半導体ベアチップが搭載されてお
り、かつ、前記コンデンサの前記上部電極が前記半導体
ベアチップの下面電極に接続される接続ランドの一部を
兼ねているように構成した。
【0008】このような構成によれば、半導体ベアチッ
プの搭載スペースの真下に薄膜コンデンサが形成される
ため、これら半導体ベアチップと薄膜コンデンサがオー
バーラップした分だけ基板上の面積効率が上がり、電子
回路ユニットの小型化を促進することができる。しか
も、薄膜コンデンサの上部電極が半導体ベアチップの下
面電極に接続される接続ランドの一部を兼ねているた
め、薄膜コンデンサと半導体ベアチップ間のリードイン
ダクタンス成分が減り、高周波特性の劣化を防止するこ
とができる。
【0009】また、上記目的を達成するための他の手段
として、本発明の電子回路ユニットでは、基板上に誘電
体を介して下部電極と上部電極を積層してなるコンデン
サが形成されると共に、前記基板に半導体ベアチップが
搭載されており、かつ、前記コンデンサの前記上部電極
と前記半導体ベアチップの上面電極とがワイヤーボンデ
ィングされているように構成した。
【0010】このような構成によれば、薄膜コンデンサ
の上部電極をボンディングパッドとして半導体ベアチッ
プの上面電極がワイヤーボンディングされるため、この
ボンディングパッド相当分だけ基板上の面積効率が上が
り、電子回路ユニットの小型化を促進することができ
る。しかも、薄膜コンデンサの上部電極が半導体ベアチ
ップの上面電極にワイヤーボンディングされるボンディ
ングパッドを兼ねているため、薄膜コンデンサと半導体
ベアチップ間のリードインダクタンス成分が減り、高周
波特性の劣化を防止することができる。
【0011】
【発明の実施の形態】以下、発明の実施の形態について
図面を参照して説明すると、図1は本発明の実施形態例
に係る電子回路ユニットの要部平面図、図2は図1のA
−A線に沿う断面図、図3は図1のB−B線に沿う断面
図、図4は回路構成の説明図である。
【0012】本実施形態例に係る電子回路ユニットは各
種の高周波デバイスとして使用されるもので、この電子
回路ユニットは例えば図4に示す増幅回路が実装された
アルミナ基板1を備えている。この増幅回路はコンデン
サC1〜C3、抵抗R1〜R3、インダクタンス素子
L、トランジスタTr等の回路構成素子とそれらを接続
する配線パターンPとを有しており、後述するように、
コンデンサC1〜C3と抵抗R1〜R3とインダクタン
ス素子Lおよび配線パターンPはアルミナ基板1上にス
パッタ法やCVD法等の薄膜プロセスによって形成さ
れ、トランジスタTrはベアチップをワイヤーボンディ
ングすることによってアルミナ基板1上に搭載されてい
る。ただし、図4は回路構成の一例を示すものであり、
本発明はこれ以外の回路構成を有する電子回路ユニット
にも適用可能である。
【0013】図1〜図3に示すように、アルミナ基板1
の表面に下部電極2と誘電体3および上部電極4を順次
積層することにより、コンデンサC1〜C3に対応する
3つの薄膜コンデンサが形成されており、各コンデンサ
C1〜C3の下部電極2と上部電極4は配線パターンP
に接続されている。これら構成要素のうち、下部電極2
と上部電極4および配線パターンPはTi/Cu等を薄
膜形成した導体膜からなり、誘電体3はSiO等を薄
膜形成した誘電体膜からなる。また、アルミナ基板1の
表面には抵抗R1〜R3に対応するTaSiO等の抵
抗膜とインダクタンス素子Lに対応するTi/Cu等の
導体膜がそれぞれ薄膜形成されており、これら抵抗膜と
導体膜の両端も配線パターンPに接続されている。さら
に、配線パターンPの一部を接続ランド5とし、この接
続ランド5上にトランジスタTrのベアチップ6が搭載
されている。
【0014】ここで、各コンデンサC1〜C3のうち、
コンデンサC2に対応する薄膜コンデンサの上部電極4
が接続ランド5の一部を兼ねており、この接続ランド5
上にベアチップ6の下面のコレクタ電極6aが導電性接
着剤7を用いて接続されている。つまり、ベアチップ6
の搭載スペースの真下にコンデンサC2が薄膜形成され
ており、これらベアチップ6とコンデンサC2は平面的
にオーバーラップしている。一方、残りのコンデンサC
1,C3は接地用コンデンサであり、ベアチップ6の上
面のベース電極6bとエミッタ電極6cはそれぞれコン
デンサC1,C3の上部電極4にワイヤー8を介して接
続されている。つまり、接地用の両コンデンサC1,C
3の上部電極4をボンディングパッドとしてベアチップ
6がワイヤーボンディングされている。
【0015】このように、上記実施形態例に係る電子回
路ユニットでは、トランジスタTrのベアチップ6を搭
載するスペースの真下にコンデンサC2を薄膜形成し、
このコンデンサC2の上部電極4がベアチップ6の接続
ランド5の一部を兼ねているため、ベアチップ6とコン
デンサC2がオーバーラップした分だけ面積効率を高め
ることができると共に、ベアチップ6とコンデンサC2
間のリードインダクタンス成分が減少して高周波特性の
劣化を防止することができる。また、接地用のコンデン
サC1,C3の上部電極4をボンディングパッドとして
ベアチップ6をワイヤーボンディングしたため、このボ
ンディングパッド相当分だけ面積効率が上がり、前述し
たコンデンサC2による面積効率の上昇分と相俟って電
子回路ユニットの小型化を促進することができ、しか
も、ベアチップ6とコンデンサC1,C3間のリードイ
ンダクタンス成分が減少して高周波特性の劣化を防止す
ることができる。
【0016】
【発明の効果】本発明は、以上説明したような形態で実
施され、以下に記載されるような効果を奏する。
【0017】半導体ベアチップの搭載スペースの真下に
薄膜コンデンサを形成し、この薄膜コンデンサの上部電
極を半導体ベアチップの接続ランドの一部として兼用し
たり、薄膜コンデンサの上部電極をボンディングパッド
として半導体ベアチップをワイヤーボンディングする
と、基板上の面積効率が高まって電子回路ユニットの小
型化を促進することができるのみならず、薄膜コンデン
サと半導体ベアチップ間のリードインダクタンス成分が
減少して、高周波特性の劣化を防止することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施形態例に係る電子回路ユニットの
要部平面図である。
【図2】図1のA−A線に沿う断面図である。
【図3】図1のB−B線に沿う断面図である。
【図4】回路構成の説明図である。
【符号の説明】
1 アルミナ基板 2 下部電極 3 誘電体 4 上部電極 5 接続ランド 6 ベアチップ 6a コレクタ電極 6b ベース電極 6c エミッタ電極 7 導電性接着剤 8 ワイヤー C1〜C3 薄膜コンデンサ P 配線パターン

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 基板上に誘電体を介して下部電極と上部
    電極を積層してなるコンデンサが形成されると共に、前
    記基板に前記コンデンサと重なるように半導体ベアチッ
    プが搭載されており、かつ、前記コンデンサの前記上部
    電極が前記半導体ベアチップの下面電極に接続される接
    続ランドの一部を兼ねていることを特徴とする電子回路
    ユニット。
  2. 【請求項2】 基板上に誘電体を介して下部電極と上部
    電極を積層してなるコンデンサが形成されると共に、前
    記基板に半導体ベアチップが搭載されており、かつ、前
    記コンデンサの前記上部電極と前記半導体ベアチップの
    上面電極とがワイヤーボンディングされていることを特
    徴とする電子回路ユニット。
  3. 【請求項3】 請求項1の記載において、前記基板上に
    誘電体を介して下部電極と上部電極を積層してなる他の
    コンデンサが形成されており、このコンデンサの上部電
    極と前記半導体ベアチップの上面電極とがワイヤーボン
    ディングされていることを特徴とする電子回路ユニッ
    ト。
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KR10-2001-0029763A KR100434839B1 (ko) 2000-05-30 2001-05-29 전자회로유닛
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008251901A (ja) * 2007-03-30 2008-10-16 Fuji Electric Device Technology Co Ltd 複合半導体装置

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