JP2002110357A - 有機エレクトロルミネッセンス素子および有機エレクトロルミネッセンス素子用金属錯体の形成方法 - Google Patents
有機エレクトロルミネッセンス素子および有機エレクトロルミネッセンス素子用金属錯体の形成方法Info
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Landscapes
- Electroluminescent Light Sources (AREA)
Abstract
クトロルミネッセンス素子の提供と、有機エレクトロル
ミネッセンス素子用材料として有用な金属錯体を有機エ
レクトロルミネッセンス素子内で形成させる新しい方法
を提供する。 【解決手段】 互いに対向する2つの電極間に、単層ま
たは複数層の有機化合物薄膜よりなる有機層を挟持し、
該有機化合物薄膜の少なくとも一層に、金属イオンと錯
体を形成しうる配位子を含有し、かつ2つの電極間の何
れかの場所に金属イオンを放出しうるメタルソースを含
有する有機エレクトロルミネッセンス素子において、該
素子を作製した際もしくは作製した後に該配位子と該メ
タルソースから放出される金属イオンとによって新たに
形成される金属錯体が電界により発光することを特徴と
する有機エレクトロルミネッセンス素子。
Description
ミネッセンス(以下有機ELとも略記する)素子および
有機エレクトロルミネッセンス素子用金属錯体の形成方
法に関し、更に詳しくは、安定性に優れかつ発光輝度に
優れた有機EL素子および有機EL素子用機能層の形成
方法に関する。
子は平面型光源として使用されてきたが該発光素子を駆
動させるためには交流の高電圧が必要である。近年Ta
ngらの発明により開発された、積層型の有機エレクト
ロルミネッセンス素子は、蛍光性有機化合物を含む薄膜
を、陰極と陽極で挟んだ構成を有し、前記有機薄膜に電
子及び正孔を注入して再結合させることにより励起子
(エキシトン)を生成させ、このエキシトンが失活する
際の光の放出(蛍光・燐光)を利用して発光する素子で
あり、数V〜数十V程度の低電圧で発光が可能で、また
自己発光型であるために視野角依存性がなく、視認性が
高く、さらに薄膜型の完全固体素子であるために省スペ
ース、携帯性等の観点から注目されている。
ている。たとえば、Appl.Phys.Lett.,
Vol.51、913頁あるいは特開昭59−1943
93号に記載の正孔輸送層と有機発光体層とを組み合わ
せたもの、特開昭63−295695号に記載の正孔輸
送層と電子輸送層とを組み合わせたもの、Jpn.Jo
urnal of Applied Phisycs,
vol.127,No.2第269〜271頁に記載の
正孔移動層と発光層と電子移動層とを組み合わせたもの
がそれぞれ開示されている。
リス(8−キノリノラート)アルミニウム(III)(A
lq3)やビス(8−キノリラート)亜鉛(II)(Zn
q2)に代表される金属錯体、テトラフェニルブタジエ
ンやジスチリルアリーレンに代表される共役系炭化水素
化合物、オキサジアゾールやトリアゾールに代表される
芳香族複素環化合物、ペリレンイミドやトリフェニレン
に代表される多環縮合環式芳香族化合物等が知られてい
るが、この中でも特に金属錯体は良好な電子輸送性を併
せ持ち、さらに積層界面でのエキサイプレックス形成が
少なく、Alq3類似体(8−ヒドロキシキノリンを基
本骨格とするキノリン誘導体と金属の錯体など)などに
おいてはガラス転移温度(Tg)が高く熱的にも安定で
あることなど他のタイプに勝る性能を数多く有すること
から、実際のディスプレイにも実用されている。
などの例外を除けば、錯体の錯安定度定数がそれほど大
きくなく、すなわち配位子と金属イオンとの脱着が起こ
りやすいため安定性に乏しいことがわかっている。
トロルミネッセンス素子用金属錯体としては、特開平6
−336586号に記載されている2−(o−ヒドロキ
シフェニル)オキサゾール誘導体の金属錯体や、特開平
8−113576号に記載されている2−(o−ヒドロ
キシフェニル)ベンゾチアゾール誘導体の亜鉛錯体、特
開平8−225579号に記載されている2−(o−ヒ
ドロキシフェニル)ベンゾトリアゾール誘導体の金属錯
体などが知られているが、何れも寿命が短いという共通
の欠点がある。
(特に電子輸送)能を有し、その観点からも有機エレク
トロルミネッセンス素子用有機材料としては興味深い
が、Alq3類似体以外はやはり安定性の点で問題があ
る。
際に、配位子と金属イオン供給化合物(以降メタルソー
スと称す)とを反応させた後、再結晶や昇華精製等の精
製手段を施して目的物を単離するが、Alq3類似体を
除いては一般にそのような精製が難しく、精製時に構造
が変化してしまったり、複核錯体を形成して結晶状態が
変化したりという不都合が生じることが多く、さらに、
たとえ精製・単離ができたとしても真空プロセスで有機
エレクトロルミネッセンス素子を作製する際に蒸着時の
熱で分解してしまったり、ウエットプロセスで素子を作
製する場合でもコーティング液として溶剤に溶解した際
に配位子交換や溶媒和により分解したり変性したりして
しまうことが多く、Alq3以外では実用に供するよう
な化合物がいまだに見つかっていない。
度に発光しかつ発光寿命の長い有機エレクトロルミネッ
センス素子を提供することにあり、さらには有機エレク
トロルミネッセンス素子用材料として有用な金属錯体を
有機エレクトロルミネッセンス素子内で形成させる新し
い方法を提供することにある。
下の構成によって達成された。
または複数層の有機化合物薄膜よりなる有機層を挟持し
た有機エレクトロルミネッセンス素子において、該有機
化合物薄膜の少なくとも一層に、金属イオンと錯体を形
成しうる配位子を含有し、かつ2つの電極間の何れかの
場所に金属イオンを放出しうるメタルソースを含有する
有機エレクトロルミネッセンス素子であって、該素子を
作製した際もしくは作製した後に該配位子と該メタルソ
ースから放出される金属イオンとによって新たに形成さ
れる金属錯体が電界により発光することを特徴とする有
機エレクトロルミネッセンス素子。
または複数層の有機化合物薄膜よりなる有機層を挟持し
た有機エレクトロルミネッセンス素子において、該有機
化合物薄膜の少なくとも一層に、金属イオンと錯体を形
成しうる配位子を含有し、かつ2つの電極間の何れかの
場所に金属イオンを放出しうるメタルソースを含有する
有機エレクトロルミネッセンス素子であって、該素子を
作製した際もしくは作製した後に該配位子と該メタルソ
ースから放出される金属イオンとによって新たに形成さ
れる金属錯体が電荷輸送材料として機能することを特徴
とする有機エレクトロルミネッセンス素子。
層の有機化合物薄膜よりなる有機層を挟持した有機エレ
クトロルミネッセンス素子において、該有機化合物薄膜
の少なくとも一層が、金属イオンと錯体を形成しうる配
位子を含有し、かつその金属イオンと錯体を形成しうる
配位子を含有する層内、またはその層に隣接した別の層
に、金属イオンを放出しうるメタルソースを含有するこ
とを特徴とする前記1または前記2記載の有機エレクト
ロルミネッセンス素子。
を含有する層に、金属イオンを放出しうるメタルソース
を含有する層が隣接して積層されてなる2層を含有する
有機エレクトロルミネッセンス素子において、該メタル
ソースが有機化合物の金属塩であることを特徴とする前
記1〜3の何れか1項に記載の有機エレクトロルミネッ
センス素子。
を含有する層に、金属イオンを放出しうるメタルソース
を含有する層が隣接して積層されてなる2層を含有する
有機エレクトロルミネッセンス素子において、該メタル
ソースが金属錯体であることを特徴とする前記1〜3の
何れか1項に記載の有機エレクトロルミネッセンス素
子。
または複数層の有機化合物薄膜よりなる有機層を挟持し
た有機エレクトロルミネッセンス素子において、該有機
化合物薄膜の少なくとも一層に、金属イオンと錯体を形
成しうる配位子を含有し、かつ2つの電極間の任意の場
所に金属イオンを放出しうるメタルソースを含有する有
機エレクトロルミネッセンス素子であって、該配位子が
上記一般式(I)で表される部分構造を含有する化合物
であることを特徴とする前記1〜5の何れか1項に記載
の有機エレクトロルミネッセンス素子。
a、In、Zn、Ge、Sb、IrまたはPtであるこ
とを特徴とする前記1〜6の何れか1項に記載の有機エ
レクトロルミネッセンス素子。
層の有機化合物薄膜よりなる有機層を挟持した有機エレ
クトロルミネッセンス素子において、該有機化合物薄膜
の少なくとも一層に、金属錯体を含有し、かつその層と
隣接する層に前記金属錯体とは構造の異なる金属錯体を
含有することを特徴とする有機エレクトロルミネッセン
ス素子。
金属錯体を含有し、かつその層と隣接する層に前記金属
錯体とは構造の異なる金属錯体を含有する有機エレクト
ロルミネッセンス素子において、該2種の金属錯体によ
り配位子交換が起きその結果として新たな錯体が形成さ
れ、該新たに形成された錯体が発光材料として機能する
ことを特徴とする前記8記載の有機エレクトロルミネッ
センス素子。
に、金属錯体を含有し、かつその層と隣接する層に前記
金属錯体系化合物とは構造の異なる金属錯体を含有する
有機エレクトロルミネッセンス素子において、該2種の
金属錯体により配位子交換が起きその結果として新たな
錯体が形成され、該新たに形成された錯体が電荷輸送材
料として機能することを特徴とする前記8記載の有機エ
レクトロルミネッセンス素子。
に、金属錯体を含有し、かつその層と隣接する層に前記
金属錯体とは構造の異なる金属錯体を含有する有機エレ
クトロルミネッセンス素子において、該2種の金属錯体
の錯安定度定数が共に、トリス(8−ヒドロキシキノリ
ラート)アルミニウム(III)のそれよりも低いことを
特徴とする前記8〜10の何れか1項に記載の有機エレ
クトロルミネッセンス素子。
層または複数層の有機化合物薄膜よりなる有機層を挟持
した有機エレクトロルミネッセンス素子内に配位子とメ
タルソースとを共存させ、該素子の発光機能または電荷
輸送機能を司る金属錯体を素子作製時または作製後の放
置または後処理によって新たに素子内に形成させること
を特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子用金属
錯体の形成方法。
体であることを特徴とする前記12記載の有機エレクト
ロルミネッセンス素子用金属錯体の形成方法。
子作製後に熱、電界または光を供与することを特徴とす
る前記12又は13記載の有機エレクトロルミネッセン
ス素子用金属錯体の形成方法。
数層の有機化合物薄膜よりなる有機層を挟持した有機エ
レクトロルミネッセンス素子内に構造の異なる2種類以
上の金属錯体を共存させ、該素子の発光機能または電荷
輸送機能を司る金属錯体を素子作製時または作製後の放
置または後処理によって新たに素子内に形成させること
を特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子用金属
錯体の形成方法。
数が共に、トリス(8−ヒドロキシキノリラート)アル
ミニウム(III)のそれよりも低いことを特徴とする前
記15記載の有機エレクトロルミネッセンス素子用金属
錯体の形成方法。
おいて、配位子とは金属イオンとの間でキレートを形成
できるものであれば特に制限はないが、少なくとも1分
子内の2ヶ所以上に配位性の元素を持っていることが好
ましく、配位性の元素としては、窒素原子、酸素原子、
硫黄原子、セレン原子およびテルル原子が挙げられる。
尚、該配位性の元素は解離性のプロトンを有していても
良い(例えば、−OH、−NH−、−SH、−SeH、
−TeH)。
金属イオンとの間でキレートを形成できるものであれば
特に制限はないが、公知のものでは、例えば、公開特許
に記載された金属錯体の配位子をそのまま使用すること
ができる。具体的には、特開平5−9470号、同5−
17764号、同5−17766号、同5−10587
2号、同5−198377号、同5−198378号、
同5−311164号、同5−320639号、同5−
331460号、同5−214332号、同5−214
333号、同6−33050号、同6−145146
号、同6−158040号、同6−172751号、同
6−192653号、同6−212152号、同6−2
12153号、同6−220439号、同6−2204
43号、同6−283267号、同6−283268
号、同6−322362号、同6−336586号、同
7−48385号、同7−53952号、同7−133
281号、同7−133481号、同7−133482
号、同7−133483号、同7−138266号、同
7−150139号、同7−166159号、同7−2
52475号、同7−312289号、同8−1135
76号、同8−225579号、同8−288067
号、同8−301877号、同8−306489号、同
8−315982号、同8−315983号、同9−3
447号、同9−13024号、同9−50887号、
同9−63768号、同9−95620号、同9−11
1234号、同9−118880号、同9−15764
2号、同9−165390号、同9−165391号、
同9−176629号、同9−194831号、同9−
208946号、同9−227576号、同9−235
546号、同9−241255号、同9−272865
号、同9−279134号、同9−279136号、同
9−289081号、同9−296166号、同9−3
16441号、同9−328678号、同9−3286
79号、同10−36828号、同10−45722
号、同10−53759号、同10−88121号、同
10−140145号、同10−158639号、同1
0−223372号、同10−226691号、同10
−231477号、同10−231478号、同10−
231479号、同10−251261号、同10−2
61489号、同10−265478号、同10−27
0167号、同10−298545号、同10−308
277号、同10−330744号、同11−5785
号、同11−16678号、同11−16680号、同
11−31588号、同11−40355号、同11−
40363号、同11−40367号、同11−542
77号、同11−67449号、同11−87067
号、同11−97180号、同11−116569号、
同11−140080号、同11−144872号、同
11−149981号、同11−149983号、同1
1−162643号、同11−176572号、同11
−199865号、同11−204263号、同11−
233262号、同11−251628号、同11−2
55700号、同11−260552号、同11−26
0558号、同11−279152号、同11−283
749号、同11−317291号、同11−3297
33号、同11−339962等が挙げられる。
記一般式(I)で表される部分構造を有する化合物であ
る。
を複数種併用してもよく、さらに配位子は配位性原子に
解離性のプロトンが付いていてもよく(アニオン性の配
位子であってもよく)、配位性原子に解離性のプロトン
が付いていなくてもよい(中性の配位子であってもよ
い)。
属錯体になった状態では昇華できない化合物の配位子を
金属イオンとは別に昇華製膜することが可能となるた
め、従来の錯体には用いられていない新しい配位子を使
用することもできる。
の具体例を示すが、本発明はこれらに限定されるもので
はない。
メタルソース(以降、単にメタルソースと略す)として
は、金属錯体や金属塩(有機化合物の金属塩、無機金属
塩)のように特に外部刺激を与えなくても化学平衡など
の自然摂理により金属イオンが放出されるものでもよい
し、金属や金属クラスター、金属合金、金属酸化物や金
属窒化物、有機金属化合物のように化学的、熱的、電気
的刺激または光、超音波等の外部エネルギーの関与によ
り金属イオンが放出されるものでもよい。
れでも良く、また2種以上を併用しても良いが、金属錯
体、金属塩、金属または金属合金であることが好まし
い。
いものの具体例を挙げるが、本発明はこれらに限定され
るものではない。
a、K、Rb、Cs、Be、Mg、Ca、Sr、Ba、
B、Al、Ga、In、Tl、Si、Ge、Sn、P
b、Sb、Y、Ti、Zr、Ta、W、Mn、Fe、R
u、Os、Co、Rh、Ir、Ni、Pd、Pt、C
u、Ag、Au、Zn、Cd、Hg、La、Ce、N
d、Sm、Eu、Gd等を挙げることができる。更に、
金属錯体としては、
メタルソースとして記載した金属(厳密に言えばそのイ
オン)とを任意に組み合わせたものもメタルソースとし
て使用することができる。またその場合複数の配位子を
混合して使用することも可能である。その一例を下表1
に示す。
である場合には該金属錯体の錯安定度定数が、該メタル
ソースから放出される金属イオンと配位子とで形成され
る錯体のそれよりも小さいことが望ましい。具体的に
は、メタルソースを金属イオン(M1)と配位子(L1)
とからなる(M1)−(L1)で表される金属錯体、配位
子を(L2)で表される化合物とした時、(M1)−(L
1)の錯安定度定数をk1、(M1)−(L2)の錯安定度
定数をk2とした場合、下式 k1<k2 の関係になることを意味し、現象的には、(M1)−
(L1)の溶液に(L2)を加えた際に配位子の交換が起
こり(M1)−(L2)の新たな錯体が生成するような関
係であることを意味する。
が金属錯体である場合には、該金属錯体の錯安定度定数
はあまり大き過ぎるとメタルソースとしての機能を果た
しづらくなり、例えば安定な錯体として知られているA
lq3やZnq2を本発明のメタルソースとして用いる
にはその安定性が高すぎるため多量の使用が余儀なくさ
れる。従って、メタルソースとして金属錯体を用いる場
合にはその錯安定度定数はAlq3のそれよりも小さい
ことが好ましい。
センス素子の有機層の層構成は単層でも多層積層でもよ
く、例えば多層構成の場合には有機物以外の層(例えば
フッ化リチウム層や無機金属塩の層や金属単体等の本発
明のメタルソースにより形成される層、またはそれらを
含有する層など)が任意の位置に配置されていてもよ
い。
タルソースを含有する層は同一層であっても異なる層で
あってもよいが、異なる層に両者が存在する場合にはそ
れらの層は互いに隣接していることが好ましい。
添加比率には特に制限はないが、配位子とメタルソース
が異なる層に存在する場合には配位子1モルに対しメタ
ルソースは0.001モル〜1000モルの範囲である
ことが好ましく、配位子とメタルソースとが同一の層に
存在する場合は配位子1モルに対してメタルソース10
モル以上、またはメタルソース1モルに対して有機配位
子10モル以上のどちらかであること(どちらかが大過
剰に存在すること)が好ましい。
は一対の電極の間に発光層を挾持し、必要に応じ正孔輸
送層や電子輸送層を介在させた構造を有する。具体的に
は、 (i)陽極/発光層/陰極 (ii)陽極/正孔輸送層/発光層/陰極 (iii)陽極/発光層/電子輸送層/陰極 (iv)陽極/正孔輸送層/発光層/電子輸送層/陰極 などの構造がある。
は正孔輸送層により正孔を注入することができ、かつ陰
極又は電子輸送層より電子を注入することができる注入
機能、(2)注入した電荷(電子と正孔)を電界の力で
移動させる輸送機能、(3)電子と正孔の再結合の場を
発光層内部に提供し、これを発光につなげる発光機能な
どを有している。ただし、正孔の注入されやすさと電子
の注入されやすさに違いがあってもよく、また、正孔と
電子の移動度で表される輸送機能に大小があってもよい
が、少なくとも、どちらか一方の電荷を移動させる機能
を有するものが好ましい。この発光層に用いられる発光
材料の種類については特に制限はなく、従来有機EL素
子における発光材料として公知のものを用いることがで
きる。このような発光材料は主に有機化合物であり、所
望の色調により、例えば、Macromol.Sym
p.125巻17頁から26頁に記載の化合物が挙げら
れる。
間、および、陰極と発光層または電子輸送層との間には
バッファー層(電極界面層)を存在させてもよい。
率向上のために電極と有機層間に設けられる層のこと
で、「有機EL素子とその工業化最前線(1998年1
1月30日 エヌ・ティー・エス社発行)」の第2編第
2章「電極材料」(第123頁〜第166頁)に詳細に
記載されており、陽極バッファー層と陰極バッファー層
とがある。
9号、同9−260062号、同8−288069号等
にもその詳細が記載されており、具体例として、銅フタ
ロシアニンに代表されるフタロシアニンバッファー層、
酸化バナジウムに代表される酸化物バッファー層、アモ
ルファスカーボンバッファー層、ポリアニリン(エメラ
ルディン)やポリチオフェン等の導電性高分子を用いた
高分子バッファー層等が挙げられる。
71号、同9−17574号、同10−74586号等
にもその詳細が記載されており、具体的にはストロンチ
ウムやアルミニウム等に代表される金属バッファー層、
フッ化リチウムに代表されるアルカリ金属化合物バッフ
ァー層、フッ化マグネシウムに代表されるアルカリ土類
金属化合物バッファー層、酸化アルミニウムに代表され
る酸化物バッファー層等が挙げられる。
が望ましく、素材にもよるが、その膜厚は0.1〜10
0nmの範囲が好ましい。
その他の機能を有する層を積層してもよく、例えば特開
平11−204258号、同11−204359号、お
よび「有機EL素子とその工業化最前線(1998年1
1月30日 エヌ・ティー・エス社発行)」の第237
頁等に記載されている正孔阻止(ホールブロック)層な
どのような機能層を有していても良い。
層、電子輸送層、正孔阻止層、陰極バッファー層または
陽極バッファー層の少なくとも何れか1つの層内に本発
明の方法で形成された金属錯体の少なくとも1種が存在
するものである。
仕事関数の大きい(4eV以上)金属、合金、電気伝導
性化合物及びこれらの混合物を電極物質とするものが好
ましく用いられる。このような電極物質の具体例として
はAuなどの金属、CuI、インジウムチンオキシド
(ITO)、SnO2、ZnOなどの導電性透明材料が
挙げられる。該陽極は、これらの電極物質を蒸着やスパ
ッタリングなどの方法により、薄膜を形成させ、フォト
リソグラフィー法で所望の形状のパターンを形成しても
よく、あるいはパターン精度をあまり必要としない場合
は(100μm以上程度)、上記電極物質の蒸着やスパ
ッタリング時に所望の形状のマスクを介してパターンを
形成してもよい。この陽極より発光を取り出す場合に
は、透過率を10%より大きくすることが望ましく、ま
た、陽極としてのシート抵抗は数百Ω/□以下が好まし
い。さらに膜厚は材料にもよるが、通常10nm〜1μ
m、好ましくは10〜200nmの範囲で選ばれる。
(4eV以下)金属(電子注入性金属と称する)、合
金、電気伝導性化合物及びこれらの混合物を電極物質と
するものが用いられる。このような電極物質の具体例と
しては、ナトリウム、ナトリウム−カリウム合金、マグ
ネシウム、リチウム、マグネシウム/銅混合物、マグネ
シウム/銀混合物、マグネシウム/アルミニウム混合
物、マグネシウム/インジウム混合物、アルミニウム/
酸化アルミニウム(Al2O3)混合物、インジウム、リ
チウム/アルミニウム混合物、希土類金属などが挙げら
れる。これらの中で、電子注入性及び酸化などに対する
耐久性の点から、電子注入性金属とこれより仕事関数の
値が大きく安定な金属である第二金属との混合物、例え
ばマグネシウム/銀混合物、マグネシウム/アルミニウ
ム混合物、マグネシウム/インジウム混合物、アルミニ
ウム/酸化アルミニウム(Al2O3)混合物、リチウム
/アルミニウム混合物などが好適である。該陰極は、こ
れらの電極物質を蒸着やスパッタリングなどの方法によ
り、薄膜を形成させることにより、作製することができ
る。また、陰極としてのシート抵抗は数百Ω/□以下が
好ましく、膜厚は通常10nm〜1μm、好ましくは5
0〜200nmの範囲で選ばれる。なお、発光を透過さ
せるため、有機EL素子の陽極又は陰極のいずれか一方
が、透明又は半透明であれば発光効率が向上し好都合で
ある。
は、陽極より注入された正孔を発光層に伝達する機能を
有し、この正孔輸送層を陽極と発光層の間に介在させる
ことにより、より低い電界で多くの正孔が発光層に注入
され、そのうえ、発光層に陰極又は電子輸送層より注入
された電子は、発光層と正孔輸送層の界面に存在する電
子の障壁により、発光層内の界面に累積され発光効率が
向上するなど発光性能の優れた素子となる。この正孔輸
送層の材料(以下、正孔輸送材料という)については、
従来、光導伝材料において、正孔の電荷輸送材料として
慣用されているものや有機EL素子の正孔輸送層に使用
される公知のものの中から任意のものを選択して用いる
ことができる。
障壁性のいずれかを有するものであり、有機物、無機物
のいずれであってもよい。この正孔輸送材料としては、
例えばトリアゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、
イミダゾール誘導体、ポリアリールアルカン誘導体、ピ
ラゾリン誘導体及びピラゾロン誘導体、フェニレンジア
ミン誘導体、アリールアミン誘導体、アミノ置換カルコ
ン誘導体、オキサゾール誘導体、スチリルアントラセン
誘導体、フルオレノン誘導体、ヒドラゾン誘導体、スチ
ルベン誘導体、シラザン誘導体、アニリン系共重合体、
また、導電性高分子オリゴマー、特にチオフェンオリゴ
マーなどが挙げられる。正孔輸送材料としては、上記の
ものを使用することができるが、ポルフィリン化合物、
芳香族第三級アミン化合物及びスチリルアミン化合物、
特に芳香族第三級アミン化合物を用いることが好まし
い。
ルアミン化合物の代表例としては、N,N,N′,N′
−テトラフェニル−4,4′−ジアミノフェニル;N,
N′−ジフェニル−N,N′−ビス(3−メチルフェニ
ル)−〔1,1′−ビフェニル〕−4,4′−ジアミン
(TPD);2,2−ビス(4−ジ−p−トリルアミノ
フェニル)プロパン;1,1−ビス(4−ジ−p−トリ
ルアミノフェニル)シクロヘキサン;N,N,N′,
N′−テトラ−p−トリル−4,4′−ジアミノビフェ
ニル;1,1−ビス(4−ジ−p−トリルアミノフェニ
ル)−4−フェニルシクロヘキサン;ビス(4−ジメチ
ルアミノ−2−メチルフェニル)フェニルメタン;ビス
(4−ジ−p−トリルアミノフェニル)フェニルメタ
ン;N,N′−ジフェニル−N,N′−ジ(4−メトキ
シフェニル)−4,4′−ジアミノビフェニル;N,
N,N′,N′−テトラフェニル−4,4′−ジアミノ
ジフェニルエーテル;4,4′−ビス(ジフェニルアミ
ノ)クオードリフェニル;N,N,N−トリ(p−トリ
ル)アミン;4−(ジ−p−トリルアミノ)−4′−
〔4−(ジ−p−トリルアミノ)スチリル〕スチルベ
ン;4−N,N−ジフェニルアミノ−(2−ジフェニル
ビニル)ベンゼン;3−メトキシ−4′−N,N−ジフ
ェニルアミノスチルベンゼン;N−フェニルカルバゾー
ル、さらには、米国特許第5,061,569号明細書
に記載されている2個の縮合芳香族環を分子内に有する
もの、例えば4,4′−ビス〔N−(1−ナフチル)−
N−フェニルアミノ〕ビフェニル(NPD)、特開平4
−308688号公報に記載されているトリフェニルア
ミンユニットが3つスターバースト型に連結された4,
4′,4″−トリス〔N−(3−メチルフェニル)−N
−フェニルアミノ〕トリフェニルアミン(MTDAT
A)などが挙げられる。
た、またはこれらの材料を高分子の主鎖とした高分子材
料を用いることもできる。
機化合物も正孔輸送材料として使用することができる。
この正孔輸送層は、上記正孔輸送材料を、例えば真空蒸
着法、スピンコート法、キャスト法、LB法などの公知
の方法により、薄膜化することにより形成することがで
きる。正孔輸送層の膜厚については特に制限はないが、
通常は5nm〜5μm程度である。この正孔輸送層は、
上記材料の一種又は二種以上からなる一層構造であって
もよく、同一組成又は異種組成の複数層からなる積層構
造であってもよい。
極より注入された電子を発光層に伝達する機能を有して
いればよく、その材料としては従来公知の化合物の中か
ら任意のものを選択して用いることができる。
電子輸送材料という)の例としては、ニトロ置換フルオ
レン誘導体、ジフェニルキノン誘導体、チオピランジオ
キシド誘導体、ナフタレンペリレンなどの複素環テトラ
カルボン酸無水物、カルボジイミド、フレオレニリデン
メタン誘導体、アントラキノジメタン及びアントロン誘
導体、オキサジアゾール誘導体などが挙げられる。ま
た、上記オキサジアゾール誘導体において、オキサジア
ゾール環の酸素原子を硫黄原子に置換したチアジアゾー
ル誘導体、キノキサリン誘導体も、電子輸送材料として
用いることができる。
た、またはこれらの材料を高分子の主鎖とした高分子材
料を用いることもできる。
体、例えばトリス(8−キノリノラート)アルミニウム
(Alq3)、トリス(5,7−ジクロロ−8−キノリ
トラート)アルミニウム、トリス(5,7−ジブロモ−
8−キノリラート)アルミニウム、トリス(2−メチル
−8−キノリラート)アルミニウム、トリス(5−メチ
ル−8−キノリラート)アルミニウム、ビス(8−キノ
リラート)亜鉛(Znq2)など、及びこれらの金属錯
体の中心金属がIn、Mg、Cu、Ca、Sn、Ga又
はPbに置き替わった金属錯体も、電子輸送材料として
用いることができる。その他、メタルフリー若しくはメ
タルフタロシアニン、又はそれらの末端がアルキル基や
スルホン酸基などで置換されているものも、電子輸送材
料として好ましく用いることができる。また、発光層の
材料として例示したジスチリルピラジン誘導体も、電子
輸送材料として用いることができるし、正孔輸送層と同
様に、n型−Si、n型−SiCなどの無機半導体も電
子輸送材料として用いることができる。
真空蒸着法、スピンコート法、キャスト法、LB法など
の公知の薄膜化法により製膜して形成することができ
る。電子輸送層としての膜厚は、特に制限はないが、通
常は5nm〜5μmの範囲で選ばれる。この電子輸送層
は、これらの電子輸送材料一種又は二種以上からなる一
層構造であってもよいし、あるいは、同一組成又は異種
組成の複数層からなる積層構造であってもよい。
極または電子輸送層、正孔輸送層から注入されてくる電
子および正孔が再結合して発光する層であり、発光する
部分は発光層の層内であっても発光層と隣接層との界面
であっても良い。
という)は、蛍光または燐光を発する有機化合物または
錯体であることが好ましく、有機EL素子の発光層に使
用される公知のものの中から任意のものを選択して用い
ることができる。
入機能や電子注入機能を併せ持っていても良く、前記の
正孔輸送材料や電子輸送材料の殆どが発光材料としても
使用できる。
ポリフルオレンのような高分子材料でも良く、さらに前
記発光材料を高分子鎖に導入した、または前記発光材料
を高分子の主鎖とした高分子材料を使用しても良い。
質)を併用してもよく、有機EL素子のドーパントとし
て使用される公知のものの中から任意のものを選択して
用いることができる。
クリドン、DCM、クマリン誘導体、ローダミン、ルブ
レン、デカシクレン、ピラゾリン誘導体、スクアリリウ
ム誘導体、ユーロピウム錯体等がその代表例として挙げ
られる。
蒸着法、スピンコート法、キャスト法、LB法などの公
知の薄膜化法により製膜して形成することができる。発
光層としての膜厚は、特に制限はないが、通常は5nm
〜5μmの範囲で選ばれる。この発光層は、これらの発
光材料一種又は二種以上からなる一層構造であってもよ
いし、あるいは、同一組成又は異種組成の複数層からな
る積層構造であってもよい。
81号公報に記載されているように、樹脂などの結着材
と共に上記発光材料を溶剤に溶かして溶液としたのち、
これをスピンコート法などにより薄膜化して形成するこ
とができる。このようにして形成された発光層の膜厚に
ついては特に制限はなく、状況に応じて適宜選択するこ
とができるが、通常は5nm〜5μmの範囲である。
る基盤は、ガラス、プラスチックなどの種類には特に限
定はなく、また、透明のものであれば特に制限はない。
本発明のエレクトロルミネッセンス素子に好ましく用い
られる基盤としては例えばガラス、石英、光透過性プラ
スチックフィルムを挙げることができる。
例えばポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリエ
チレンナフタレート(PEN)、ポリエーテルスルホン
(PES)、ポリエーテルイミド、ポリエーテルエーテ
ルケトン、ポリフェニレンスルフィド、ポリアリレー
ト、ポリイミド、ポリカーボネート(PC)、セルロー
ストリアセテート(TAC)、セルロースアセテートプ
ロピオネート(CAP)等からなるフィルム等が挙げら
れる。
を説明する。例として、前記の陽極/正孔輸送層/発光
層/電子輸送層/陰極からなるEL素子の作製法につい
て説明すると、まず適当な基板上に、所望の電極物質、
例えば陽極用物質からなる薄膜を、1μm以下、好まし
くは10〜200nmの範囲の膜厚になるように、蒸着
やスパッタリングなどの方法により形成させ、陽極を作
製する。次に、この上に素子材料である正孔輸送層、発
光層、電子輸送層、正孔阻止層、陰極バッファー層また
は陽極バッファー層等の有機または無機の材料からなる
薄膜を形成させる。
前記の如くスピンコート法、キャスト法、蒸着法などが
あるが、均質な膜が得られやすく、かつピンホールが生
成しにくいなどの点から、真空蒸着法またはスピンコー
ト法が特に好ましい。さらに層ごとに異なる製膜法を適
用しても良い。製膜に蒸着法を採用する場合、その蒸着
条件は、使用する化合物の種類、分子堆積膜の目的とす
る結晶構造、会合構造などにより異なるが、一般にボー
ト加熱温度50〜450℃、真空度10-6〜10-3P
a、蒸着速度0.01〜50nm/秒、基板温度−50
〜300℃、膜厚5nm〜5μmの範囲で適宜選ぶこと
が望ましい。
からなる薄膜を、1μm以下好ましくは50〜200n
mの範囲の膜厚になるように、例えば蒸着やスパッタリ
ングなどの方法により形成させ、陰極を設けることによ
り、所望のEL素子が得られる。この有機EL素子の作
製は、一回の真空引きで一貫して正孔輸送層から陰極ま
で作製するのが好ましいが、途中で取り出して異なる製
膜法を施してもかまわない。ただしその際には作業を乾
燥不活性ガス雰囲気下で行う等の配慮が必要となる。
層、発光層、正孔輸送層、陽極の順に作製することも可
能である。このようにして得られたEL素子に、直流電
圧を印加する場合には、陽極を+、陰極を−の極性とし
て電圧5〜40V程度を印加すると、発光が観測でき
る。また、逆の極性で電圧を印加しても電流は流れずに
発光は全く生じない。さらに、交流電圧を印加する場合
には、陽極が+、陰極が−の状態になったときのみ発光
する。なお、印加する交流の波形は任意でよい。
質等を含有した色変換層または色変換フィルターを素子
の内部または外部に有していても良く、また、カラーフ
ィルター等の色相改良フィルターを有していても良い。
露光光源のような一種のランプとして使用しても良い
し、静止画像や動画像を再生する表示装置として使用し
ても良い。特に、動画再生用の表示装置として使用する
場合の駆動方式は単純マトリックス(パッシブマトリッ
クス)方式でもアクティブマトリックス方式でもどちら
でも良い。
子の断面構造を表2に示す。以下、実施例1に係る有機
EL素子の作製手順について説明する。まず、シート抵
抗約15Ω/□のITO付きガラス(ミクロ技研社製)
を、純水とイソプロピルアルコールにて、それぞれ約2
0分間、超音波洗浄を行った後、さらにアセトン蒸気で
洗浄後乾燥させた。さらにUVオゾン洗浄装置にてこの
基板を5分間洗浄し、真空蒸着装置の基板ホルダに取り
付けた。
料TPDおよび発光材料Zn(BOX)2をそれぞれ乗
せ、これを通電用端子に取り付けた後、真空層内を2×
10- 4Paまで排気した。そして、正孔輸送材料、発光
材料の順にボートに通電し、0.2〜0.3nm/se
cの蒸着速度でそれぞれ50nmの膜厚になるまで蒸着
した(表2参照)。
の間(有機層のできるだけ近く)にステンレス製蒸着マ
スクを取り付けた。ここで、タンタル製ボートにアルミ
ニウムを3g入れ、通電用端子に取り付けた。
に、Liを1g入れ、別の通電用端子に取り付けた。真
空層を1×10-4Paまで排気した後、アルミニウムの
蒸着速度が0.2nm/secとなるように通電し、同
時にリチウムの蒸着速度が0.02nm/secとなる
よう別の蒸着電源を用いて通電した。両材料の蒸着速度
が安定してきたところでシャッターを開放し、混合膜の
膜厚が20nmとなったところでリチウムの蒸着電源を
止め、アルミニウム膜を170nmの膜厚になるまで成
膜した。真空層を大気圧に戻し、支持基板/ITO/T
PD/Zn(BOX)2/AlLi/Alよりなる比較
用有機EL素子X−1を作製した。
極を負極とし、10V印加した結果、青色の発光を得
た。
の発光層部分を本発明の配位子L−22(膜厚40n
m)と本発明のメタルソースCh−4(膜厚10nm)
に変更した以外はX−1と同条件で作製した本発明の素
子A−1を作製した(表3に断面構造を示す)。
極を負極とし、10V印加した結果、青色の発光を得
た。
について、最大発光輝度を測定し、X−1の最大発光輝
度を100とした時のA−1の相対最大発光輝度を調べ
た。さらに、乾燥窒素雰囲気中で、発光輝度が1/2に
なるのに要する時間を測定し、X−1の半減寿命を10
0とした時のA−1の相対半減寿命を調べた。なお初期
輝度は100cd/m2とし定電圧で発光させた。結果
を表4に示す。
は比較素子X−1に比べ最大発光輝度および半減寿命の
両方で優れており、特に寿命の向上に著しい効果を示す
ことがわかった。
(発光色)がほとんど同様であったことから、配位子と
メタルソース(金属錯体)との積層により素子内で新た
に錯体の形成がおこり、結果としてZn(BOX)2が
生成し、それが発光したものであることが証明された。
2と表6に示す本発明の素子A−2を作製した。なお膜
厚は表に記載した膜厚になるように設定した。
を行った。結果を表7に示す。
は比較素子に比べ発光輝度、半減寿命ともに大幅な向上
が認められた。また、X−2とA−2とで発光スペクト
ル(発光色)がほぼ同様であったことから、メタルソー
スに金属塩を用いた場合でも、配位子と積層することに
より新たに錯体が形成されることが確認され、目的とす
る効果が発揮されることがわかった。
3と表9に示す本発明の素子A−3を作製した。なお膜
厚は表に記載した膜厚になるように設定した。本発明の
素子A−3においては、発光層は本発明の配位子L−1
3と本発明の金属錯体Ch−5を質量比で20/1にな
るように共蒸着した。
を行った。結果を表10に示す。
では比較素子に比べ発光輝度、半減寿命ともに大幅な向
上が認められた。また、メタルソースと配位子とを同一
層に添加しても新たに錯体が形成されることが確認さ
れ、目的とする効果が発揮されることがわかった。
−4、表12に示す比較用素子X−5、表13に示す比
較用素子X−6、ならびに表14に示す本発明の素子A
−4を作製した。なお膜厚は表に記載した膜厚になるよ
うに設定した。
行った。結果を表15に示す。なお、発光色はX−4と
X−5が青色、X−6とA−4は青紫色であり、X−6
とA−4の発光スペクトルはほぼ一致した。
では比較素子に比べ発光輝度、半減寿命ともに大幅な向
上が認められた。また、発光スペクトルから考えて本発
明の素子A−4のCh−32とCh−35との間で錯体
の再編成がおこりZn(PhBoxIm)2が生成した
ことが予想され、結果としてX−6とA−4とは同じ発
光色を示したと解釈される。最高発光輝度がX−6より
も高い要因は錯体再編成の時に複製するCh−32の配
位子とAlイオンとで形成された錯体が良好な電子輸送
層として機能したためと考えられる。
−7と表17に示す比較用素子X−8および表18に示
す本発明の素子A−5を作製した。なお本発明の素子A
−5は素子作製直後に50Hz、10Vの交流電圧を1
0秒間印加した。発光色は何れも青色であったが、X−
8とA−5では発光スペクトルがほぼ一致した。
行った。結果を表19に示す。
は比較素子に比べ最大発光輝度、半減寿命ともに良好な
結果が得られた。X−8とA−5とで発光スペクトルが
一致したことから、メタルソースを金属とした場合でも
交流電界をかける等の後処理を施すことにより、素子中
で錯体の新たな形成が起こることが証明され、あらかじ
め錯体を積層する場合よりも輝度、寿命の両方が改良さ
れることがわかった。
液をスピナ回転数2500rpm、スピナ回転時間25
秒でスピンコートし、90分間窒素雰囲気下にて乾燥さ
せた(膜厚はおよそ30nmであった)。この塗布基板
上に実施例1の場合と同様にして表20に示す構成の有
機層および陰極を蒸着し本発明の素子A−6を作製し
た。 溶液処方 溶媒 ジクロロエタン ポリマー ポリTPDBPO: 30mg 添加剤1 DDQ: 2mg メタルソース S−17: 2mg 塗布液濃度 30mg/ml
布液中からメタルソースS−17のみを取り除いた溶液
をA−6と同様にスピンコートし、さらにA−6と同様
の有機層および陰極を蒸着した比較用素子X−9(表2
1)を作製した。
(PhPyIm)3に置き換えた比較用素子X−10
(表22)を作製した。
行った。結果を表23に示す。なお、本発明の素子A−
6と比較素子X−10は青色に発光し、それらの発光ス
ペクトルはほぼ一致したが、比較素子X−9は全く発光
せず、評価ができなかった。
は比較素子に比べ最大発光輝度、半減寿命ともに良好な
結果が得られた。つまり、メタルソースをスピンコート
した場合でも素子中で新たに錯体が形成されたものと解
釈される。
90分間窒素雰囲気下にて乾燥させた(膜厚はおよそ3
0nmであった)。この塗布基板上に実施例1の場合と
同様にして表24に示す構成の有機層および陰極を蒸着
し本発明の素子A−7を作製した。 溶液処方 溶媒 ジクロロエタン ポリマー ポリTPDBPO: 30mg 添加剤1 DDQ: 2mg メタルソース Ch−6: 2mg 塗布液濃度 30mg/ml 次に素子A−7を作製した時に使用した塗布液中からメ
タルソースCh−6のみを取り除いた溶液をA−7と同
様にスピンコートし、さらにA−7と同様の有機層およ
び陰極を蒸着した比較用素子X−11(表25)を作製
した。
−3をEu(TTA)phenに置き換えた比較用素子
X−12(表26)を作製した。
発光層はAlq3とL−3またはEu(TTA)phe
nを質量比100/5になるように共蒸着し膜厚を50
nmとした。
行った。結果を表27に示す。本発明の素子A−7と比
較素子X−12は赤色に発光し、それらの発光スペクト
ルはほぼ一致したが、比較素子X−11は緑色に発光し
たため、性能比較はA−7とX−12の間で行った。
は比較素子に比べ最大発光輝度、半減寿命ともに良好な
結果が得られた。またA−7とX−12は同じ発光スペ
クトルが得られたことから、A−7の素子中でEu(T
TA)phenが生成し、それがAlq3のドーパント
として機能したと考えられる。
(III)(Alq3)を1,4−ジオキサンに溶解し
0.005mol/lの溶液を作製した。次にCh−4
を1,4−ジオキサンに溶解し0.005mol/lの
溶液を作製し、両溶液1mlずつを取り混合し室温で1
時間静置した。
ーで分析したところ、Alq3とCh−4に起因するピ
ークのみが得られた。
位子交換が起こっておらず、Ch−4の錯安定度定数は
Alq3のそれよりも小さいことが確認された。
2、Ch−6、Ch−5でも同様の実験を行ったが、や
はりAlq3との間に配位子交換は起こっておらず、各
錯体の錯安定度定数はAlq3のそれよりも低いことが
示唆された。
位子とを共存させた本発明の有機EL素子では、素子中
で金属錯体が生成し、かつ金属錯体をあらかじめ素子中
に添加する従来の方法に比べ最高発光輝度の上昇と素子
寿命の向上が認められた。また、メタルソースとしては
金属でも金属塩でも金属錯体でもこのような現象が起こ
ることがわかった。このことは通常では単離精製が困難
な金属錯体や、蒸着時に分解してしまうような金属錯体
でも安定に素子中で形成させることができることを証明
したものであり、その技術的価値は大きいものであると
考えられる。
Claims (16)
- 【請求項1】 互いに対向する2つの電極間に、単層ま
たは複数層の有機化合物薄膜よりなる有機層を挟持した
有機エレクトロルミネッセンス素子において、該有機化
合物薄膜の少なくとも一層に、金属イオンと錯体を形成
しうる配位子を含有し、かつ2つの電極間の何れかの場
所に金属イオンを放出しうるメタルソースを含有する有
機エレクトロルミネッセンス素子であって、該素子を作
製した際もしくは作製した後に該配位子と該メタルソー
スから放出される金属イオンとによって新たに形成され
る金属錯体が電界により発光することを特徴とする有機
エレクトロルミネッセンス素子。 - 【請求項2】 互いに対向する2つの電極間に、単層ま
たは複数層の有機化合物薄膜よりなる有機層を挟持した
有機エレクトロルミネッセンス素子において、該有機化
合物薄膜の少なくとも一層に、金属イオンと錯体を形成
しうる配位子を含有し、かつ2つの電極間の何れかの場
所に金属イオンを放出しうるメタルソースを含有する有
機エレクトロルミネッセンス素子であって、該素子を作
製した際もしくは作製した後に該配位子と該メタルソー
スから放出される金属イオンとによって新たに形成され
る金属錯体が電荷輸送材料として機能することを特徴と
する有機エレクトロルミネッセンス素子。 - 【請求項3】 互いに対向する2つの電極間に、複数層
の有機化合物薄膜よりなる有機層を挟持した有機エレク
トロルミネッセンス素子において、該有機化合物薄膜の
少なくとも一層が、金属イオンと錯体を形成しうる配位
子を含有し、かつその金属イオンと錯体を形成しうる配
位子を含有する層内、またはその層に隣接した別の層
に、金属イオンを放出しうるメタルソースを含有するこ
とを特徴とする請求項1または請求項2記載の有機エレ
クトロルミネッセンス素子。 - 【請求項4】 金属イオンと錯体を形成しうる配位子を
含有する層に、金属イオンを放出しうるメタルソースを
含有する層が隣接して積層されてなる2層を含有する有
機エレクトロルミネッセンス素子において、該メタルソ
ースが有機化合物の金属塩であることを特徴とする請求
項1〜3の何れか1項に記載の有機エレクトロルミネッ
センス素子。 - 【請求項5】 金属イオンと錯体を形成しうる配位子を
含有する層に、金属イオンを放出しうるメタルソースを
含有する層が隣接して積層されてなる2層を含有する有
機エレクトロルミネッセンス素子において、該メタルソ
ースが金属錯体であることを特徴とする請求項1〜3の
何れか1項に記載の有機エレクトロルミネッセンス素
子。 - 【請求項6】 互いに対向する2つの電極間に、単層ま
たは複数層の有機化合物薄膜よりなる有機層を挟持した
有機エレクトロルミネッセンス素子において、該有機化
合物薄膜の少なくとも一層に、金属イオンと錯体を形成
しうる配位子を含有し、かつ2つの電極間の任意の場所
に金属イオンを放出しうるメタルソースを含有する有機
エレクトロルミネッセンス素子であって、該配位子が下
記一般式(I)で表される部分構造を含有する化合物で
あることを特徴とする請求項1〜5の何れか1項に記載
の有機エレクトロルミネッセンス素子。 一般式(I) X1・・・a1・・・(b1)n・・・a2・・・Y1 〔式中、X1およびY1はそれぞれ独立に窒素原子、酸素
原子、硫黄原子、セレン原子またはテルル原子を表し、
a1はX1と結合可能な原子を表し、a2はY1と結合可能
な原子を表し、b1はa1およびa2と結合可能な原子を
表し、nは0または1を表す。尚、各原子間をつなぐ・
・・は共有結合を表し、該共有結合は単結合であっても
二重結合であっても良く、一般式(I)で表される部分
構造は分子の末端にあっても内部にあっても良い。〕 - 【請求項7】 メタルソースの金属種がB、Al、G
a、In、Zn、Ge、Sb、IrまたはPtであるこ
とを特徴とする請求項1〜6の何れか1項に記載の有機
エレクトロルミネッセンス素子。 - 【請求項8】 互いに対向する2つの電極間に、複数層
の有機化合物薄膜よりなる有機層を挟持した有機エレク
トロルミネッセンス素子において、該有機化合物薄膜の
少なくとも一層に、金属錯体を含有し、かつその層と隣
接する層に前記金属錯体とは構造の異なる金属錯体を含
有することを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス
素子。 - 【請求項9】 有機化合物薄膜の少なくとも一層に、金
属錯体を含有し、かつその層と隣接する層に前記金属錯
体とは構造の異なる金属錯体を含有する有機エレクトロ
ルミネッセンス素子において、該2種の金属錯体により
配位子交換が起きその結果として新たな錯体が形成さ
れ、該新たに形成された錯体が発光材料として機能する
ことを特徴とする請求項8記載の有機エレクトロルミネ
ッセンス素子。 - 【請求項10】 有機化合物薄膜の少なくとも一層に、
金属錯体を含有し、かつその層と隣接する層に前記金属
錯体系化合物とは構造の異なる金属錯体を含有する有機
エレクトロルミネッセンス素子において、該2種の金属
錯体により配位子交換が起きその結果として新たな錯体
が形成され、該新たに形成された錯体が電荷輸送材料と
して機能することを特徴とする請求項8記載の有機エレ
クトロルミネッセンス素子。 - 【請求項11】 有機化合物薄膜の少なくとも一層に、
金属錯体を含有し、かつその層と隣接する層に前記金属
錯体とは構造の異なる金属錯体を含有する有機エレクト
ロルミネッセンス素子において、該2種の金属錯体の錯
安定度定数が共に、トリス(8−ヒドロキシキノリラー
ト)アルミニウム(III)のそれよりも低いことを特徴
とする請求項8〜10の何れか1項に記載の有機エレク
トロルミネッセンス素子。 - 【請求項12】 互いに対向する2つの電極間に、単層
または複数層の有機化合物薄膜よりなる有機層を挟持し
た有機エレクトロルミネッセンス素子内に配位子とメタ
ルソースとを共存させ、該素子の発光機能または電荷輸
送機能を司る金属錯体を素子作製時または作製後の放置
または後処理によって新たに素子内に形成させることを
特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子用金属錯
体の形成方法。 - 【請求項13】 メタルソースが金属塩または金属錯体
であることを特徴とする請求項12記載の有機エレクト
ロルミネッセンス素子用金属錯体の形成方法。 - 【請求項14】 メタルソースが金属であり、かつ素子
作製後に熱、電界または光を供与することを特徴とする
請求項12又は13記載の有機エレクトロルミネッセン
ス素子用金属錯体の形成方法。 - 【請求項15】 互いに対向する2つの電極間に、複数
層の有機化合物薄膜よりなる有機層を挟持した有機エレ
クトロルミネッセンス素子内に構造の異なる2種類以上
の金属錯体を共存させ、該素子の発光機能または電荷輸
送機能を司る金属錯体を素子作製時または作製後の放置
または後処理によって新たに素子内に形成させることを
特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子用金属錯
体の形成方法。 - 【請求項16】 2種類以上の金属錯体の錯安定度定数
が共に、トリス(8−ヒドロキシキノリラート)アルミ
ニウム(III)のそれよりも低いことを特徴とする請求
項15記載の有機エレクトロルミネッセンス素子用金属
錯体の形成方法。
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