JP2002096037A - 基板洗浄具及び基板洗浄装置 - Google Patents

基板洗浄具及び基板洗浄装置

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    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B08—CLEANING
    • B08B—CLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
    • B08B3/00—Cleaning by methods involving the use or presence of liquid or steam
    • B08B3/04—Cleaning involving contact with liquid

Abstract

(57)【要約】 【課題】 パーティクルの付着が少ない基板洗浄具を提
供し，更にそのような基板洗浄具を備えた基板洗浄装置
を提供する。 【解決手段】 糸状のブラシ部材４６を複数束ねた構成
を有する基板洗浄具２３であり，各ブラシ部材４６は洗
浄液を流通させ，かつ各ブラシ部材４６の表面から洗浄
液を吐出可能である。この基板洗浄具２３を基板Ｗに接
触させて両者を相対的に移動させることにより，洗浄を
行う。洗浄液がブラシ部材４６の表面から吐出されるの
で，パーティクルがブラシ部材４６の表面から洗い流さ
れ，パーティクル等が基板Ｗに転写しなくなる。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は，例えば半導体ウェ
ハやＬＣＤ基板用ガラス等の基板を洗浄する基板洗浄具
及び基板洗浄装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】半導体デバイスの製造プロセスにおいて
は，半導体デバイスが形成される半導体ウェハ（以下
「ウェハ」という）の清浄度を高く維持する必要がある。
このため，各々の製造プロセス，処理プロセスの前後
や，成膜工程，研磨工程の後などに，基板洗浄装置を用
いてウェハを洗浄している。
【０００３】かかる基板洗浄装置は，一般的にウェハに
ブラシを押圧し，ウェハとブラシとを相対的に移動させ
ることにより，ウェハから粒子汚染物を除去している。
従来，ＰＶＡ（ポリビニルアルコール）とブラシと毛足
の硬いナイロンの毛とのコンビ型のブラシが使用され，
例えばウェハを回転させながらこのようなブラシをウェ
ハの中心部と周縁部の間で往復させることで，ウェハ全
体を均一に洗浄している。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら，従来の
基板洗浄装置では，ブラシに粒子汚染物等のパーティク
ルが付着しやすく，そのパーティクルがウェハに転写さ
れて，洗浄後のウェハにパーティクルが残存するおそれ
がある。一方，転写したパーティクルを除去しようとす
れば，ブラシを頻繁に洗浄しなければならず，洗浄時間
も長くかかってしまう。また洗浄時間が長くなると，ブ
ラシが劣化し，交換等でメンテナンスも煩雑となる。
【０００５】従って本発明の目的は，パーティクルの付
着が少ない基板洗浄具を提供し，更にそのような基板洗
浄具を備えた基板洗浄装置を提供することにある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に，請求項１の発明は，基板を洗浄する洗浄具であっ
て，糸状のブラシ部材を複数束ねた構成を有し，前記ブ
ラシ部材は洗浄液を流通させる流路を有していることを
特徴とする，基板洗浄具を提供する。
【０００７】請求項１に記載の基板洗浄具において，請
求項２に記載したように，前記ブラシ部材は，表面から
洗浄液を吐出可能であることが好ましい。このような請
求項１，２に記載の基板洗浄具によれば，各糸状のブラ
シ部材の流路内に洗浄液を流通させながら，基板洗浄具
を基板に接触させ，基板と基板洗浄具とを相対的に移動
させることにより，洗浄を行う。ここで，流路内を流れ
る洗浄液は，ブラシ部材の表面から吐出されるので，基
板から除去されたパーティクル等の汚染物質はブラシ部
材の表面から洗い流され，パーティクル等が洗浄体に付
着し難くなる。このため，基板から除去されたパーティ
クル等の汚染物質が基板に転写（再付着）することを防
止できる。このため，洗浄効率が向上して洗浄時間を短
縮することができる。また，洗浄時間が短縮できるの
で，基板洗浄具の製品寿命も延びる。
【０００８】請求項１に記載の基板洗浄具において，ブ
ラシ部材は，種々の形態をとることが可能である。例え
ば請求項３に記載したように，ブラシ部材は，中空の透
水材質で形成されても良いし，請求項４に記載したよう
に，ブラシ部材は，洗浄液を流通させる多数の流路を有
しても良い。
【０００９】請求項５に記載したように，ブラシ部材は
撥水性でも良く，請求項６に記載したように，ブラシ部
材は親水性でも良い。ブラシ部材が撥水性であれば，洗
浄によって基板から剥がれたパーティクルを洗浄液と共
にはじくことができ，パーティクルがより付着しにく
い。
【００１０】ブラシ部材の束ね方には，例えば請求項７
に記載したように，前記ブラシ部材を直線状にして一端
を束ねたり，請求項８に記載したようにブラシ部材をル
ープ状にして両端を束ねたような形態が考えられる。
【００１１】請求項９の発明は，基板を洗浄する洗浄具
であって，糸状のブラシ部材を複数束ねた構成を有し，
前記ブラシ部材は撥水性であることを特徴とする，基板
洗浄具を提供する。
【００１２】請求項９に記載の基板洗浄具によれば，例
えばノズル等により洗浄液が供給されている基板に対し
て，複数束ねた糸状のブラシ部材を接触させ，基板と基
板洗浄具とを相対的に移動させることにより，洗浄を行
う。ここで，ブラシ部材は撥水性であるので，洗浄によ
って基板から剥がれたパーティクル等の汚染物質は洗浄
液と共にはじかれ，ブラシ部材に付着しにくい。このた
め，ブラシ部材から基板にパーティクルを転写させる心
配が少なく，洗浄効率が向上して洗浄時間を短縮するこ
とができる。また，洗浄時間が短縮できるので，基板洗
浄具の製品寿命も延びる。
【００１３】請求項１０の発明は，基板を洗浄する装置
であって，請求項１，２，３，４，５，６，７，８又は
９のいずれかに記載の基板洗浄具を備えることを特徴と
する，基板洗浄装置を提供する。
【００１４】請求項１０に記載の基板洗浄装置によれ
ば，短時間で基板を洗浄でき，また製品寿命の長い基板
洗浄具を備えているので，部品交換等のメンテナンスサ
イクルが長くなる。
【００１５】
【発明の実施の形態】以下，本発明の好ましい実施の形
態を，基板の一例としてウェハの裏面を洗浄するように
構成された洗浄装置に基づいて説明する。図１は，本実
施の形態にかかる基板洗浄装置８を組み込んだ洗浄シス
テム１の斜視図である。洗浄システム１は，キャリアＣ
単位でウェハＷを搬入し，ウェハＷを一枚ずつ洗浄，乾
燥し，キャリア単位でウェハＷを搬出するように構成さ
れている。
【００１６】この洗浄システム１には，ウェハＷを収納
したキャリアＣを４個分載置できる載置部２が設けられ
ている。洗浄システム１の中央には，載置部２に載置さ
れたキャリアＣから洗浄前のウェハＷを一枚ずつ取り出
し，また，洗浄後のウェハＷをキャリアＣに収納する取
出収納アーム３が配置されている。この取出収納アーム
３の背部には，取出収納アーム３との間でウェハＷの授
受を行う搬送アーム４が待機している。搬送アーム４
は，洗浄システム１の中央に設けられた搬送路６に沿っ
て移動可能に設けられている。搬送路６の両側には，各
処理を行うの各処理装置が配置されている。例えば搬送
路６の一方の側方には，ウェハＷの表面を洗浄するため
の基板洗浄装置７と，ウェハＷの裏面を洗浄するための
本実施の形態にかかる基板洗浄装置８とが並んで配置さ
れている。また，搬送路６の他方の側方には，ウェハＷ
を加熱して乾燥させる加熱装置９が４基積み重ねて設け
られている。これら加熱装置９に隣接して，ウェハの表
面と裏面を反転させるウェハ反転装置１０が２基積み重
ねて設けられている。なお，ウェハＷの表面は，例えば
半導体デバイスなどが形成可能なように鏡面となってお
り，ウェハＷの裏面は，粗面となっている。
【００１７】ここで，基板洗浄装置８の構成について説
明する。図２は，基板洗浄装置８の平面図であり，図３
は，基板洗浄装置８の縦断面図である。図２及び図３に
示すように，基板洗浄装置８のケース２０内には，ウェ
ハＷを回転自在に支持するスピンチャック２１が設けら
れており，この基板洗浄装置８では，前述のウェハ反転
装置１０によって裏面を上に向けた姿勢にされたウェハ
Ｗが，スピンチャック２１によって保持されるようにな
っている。ケース２０の前面側（図１に示す洗浄システ
ム１において，搬送路６に臨む側面）には，開閉自在な
シャッタ２２が設けられており，前述の搬送アーム４に
よって基板洗浄装置８に対して搬入出される際には，こ
のシャッタ２２が開くようになっている。
【００１８】この実施の形態では，スピンチャック２１
は円筒状の回転体であり，このスピンチャック２１の下
部には，上部側に比べて縮径している縮径部２５が形成
されている。この縮径部２５をベアリング機構２６を介
して筒状体２７の外側に装着することにより，スピンチ
ャック２１全体は，回転自在に支持されている。なお，
筒状体２７は水平な固定板２８の上面に固着されてい
る。縮径部２５の外周面にはベルト３０が巻回されてお
り，この３０が図示しないモータによって周動させられ
ることにより，スピンチャック２１全体が回転するよう
になっている。
【００１９】スピンチャック２１の上部には，ウェハＷ
の周縁部を複数箇所において保持するための保持部材３
１が装着されている。各保持部材３１はスピンチャック
２１に対して水平な軸まわりに回転可能に装着されてお
り，各保持部材３１は図示しない重錘を内蔵することに
より，スピンチャック２１が回転したときの遠心力によ
って各保持部材３１の上部側が内側に移動し，ウェハＷ
の周縁部を外側から保持するように構成されている。
【００２０】スピンチャック２１の両側方には，スクラ
ブアーム２４とノズルアーム６０が配置されている。ス
クラブアーム２４の先端下方には，ウェハＷの裏面に基
板洗浄具としてのスクラブ洗浄具２３が装着されてい
る。そしてスクラブアーム２４の回動により，スクラブ
洗浄具２３は，スピンチャック２１の外側位置から，ス
ピンチャック２１に保持されたウェハＷのほぼ中心位置
まで往復移動させられるようになっている。なお，図２
では，スクラブアーム２３の回動によって洗浄具２３を
スピンチャック２１の外側に移動させた待機状態を示
し，図３では，スクラブアーム２３の回動によって洗浄
具２３をスピンチャック２１に保持されたウェハＷの上
方に移動させた洗浄状態を示している。
【００２１】図４に示すように，スクラブアーム２４内
には，スクラブ洗浄具２３を昇降及び回転させる昇降回
転機構４１が配置されている。この昇降回転機構４１を
貫通して昇降回転軸４２が設けられており，昇降回転軸
４２の下端に前述のスクラブ洗浄具２３が取り付けられ
ている。そして，昇降回転機構４１の稼働に伴い，スク
ラブ洗浄具２３を上下方向に昇降させると共に，昇降回
転軸４２を中心にスクラブ洗浄具２３を回転させること
が可能である。また昇降回転機構４１は，昇降回転軸４
２に対して下向きの推力を適宜付与することにより，ス
クラブ洗浄具２３を，スピンチャック２１内に保持され
たウェハＷの裏面に対して任意の接触圧で押し付けるよ
うになっている。
【００２２】昇降回転軸４２の内部には，例えば純水な
どの洗浄液を供給する洗浄液供給路４３が貫通して設け
られており，昇降回転軸４２の内部を通じて下端のスク
ラブ洗浄具２３に洗浄液を供給できるように構成されて
いる。図５に示すように，スクラブ洗浄具２３は，円柱
状の本体４５と，この本体４５の下面に複数本束ねられ
た状態で取り付けられたブラシ部材４６とを備えてい
る。本体４５内は中空に形成され，本体４５内を横切る
ようにして拡散板４７が設けられている。前述の洗浄液
供給路４３を通じて本体４５内に供給された洗浄液は，
拡散板４７に形成された各孔４８を通過し，本体４５下
面のブラシ部材４６に向かって上方から全体的に均一に
供給されるようになっている。
【００２３】図示の例では，スクラブ洗浄具２３は，長
さが等しい複数の糸状のブラシ部材４６を束ね，各ブラ
シ部材４６の上端を本体４５によって支持した構成の，
いわゆるブラシに形成されている。図６に示すように，
各ブラシ部材４６は，そのほぼ中央に洗浄液を流通させ
る流路５０が形成された中空の構成を有しており，か
つ，ブラシ部材４６は透水の材質で形成されることによ
り，ブラシ部材４６内において流路５０を流通している
洗浄液をブラシ部材４６の表面から吐出できるようにな
っている。
【００２４】またこの実施の形態では，ブラシ部材４６
は，例えばウェハＷから剥がれたパーティクル等を純水
と共にはじくことができるように，撥水性の材質（樹脂
等）が用いられている。このようなブラシ部材４６の材
質には，例えばＰＰ（ポリプロピレン）等が挙げられ
る。
【００２５】その他，図２，３に示したノズルアーム６
０の先端部下方にはノズル６１が設けられている。そし
てノズルアーム６０の回動により，ノズル６１は，スピ
ンチャック２１の外側位置から，スピンチャック２１に
保持されたウェハＷのほぼ中心位置まで往復移動させら
れるようになっている。なお，図２では，ノズルアーム
６０の回動によってノズル６１をスピンチャック２１の
外側に移動させた待機状態を示し，図３では，ノズルア
ーム６０の回動によってノズル６１をスピンチャック２
１に保持されたウェハＷの上方に移動させた洗浄状態を
示している。このノズル６１によりウェハＷの裏面に対
して純水などの洗浄液を供給するように構成されてい
る。
【００２６】さて，以上のように構成された洗浄システ
ム１において，先ず図示しない搬送ロボットが未だ洗浄
されていないウェハＷを例えば２５枚ずつ収納したキャ
リアＣを載置部２に載置する。そして，この載置部２に
載置されたキャリアＣから一枚ずつウェハＷが取り出さ
れ，取出搬入アーム３を介して搬送アーム４に受け渡さ
れる。そして，基板洗浄装置７及び基板洗浄装置８を用
いて，ウェハＷを一枚ずつ洗浄し，ウェハＷの表面及び
裏面に付着している粒子汚染物等のパーティクルを除去
する。所定の洗浄工程が終了したウェハＷは，搬送アー
ム４から取出収納アーム３に受け渡され，再びキャリア
Ｃに収納される。
【００２７】ここで，基板洗浄装置８でのウェハＷの裏
面洗浄について更に説明する。前述のウェハ反転装置１
０により表面と裏面とが反転させられたウェハＷが，先
ず搬送アーム４によって基板洗浄装置８に搬入され，ウ
ェハＷはスピンチャック２１によって保持される。次い
で，図示しないモータの回転力によりスピンチャック２
１が回転し，その後，ノズルアーム６０を旋回させてノ
ズル６１をウェハＷの上方に移動させ，ウェハＷの裏面
に純水などの洗浄液を供給する。
【００２８】また，スクラブアーム２４を旋回させてス
クラブ洗浄具２３をウェハＷの上方に移動させる。そし
て純水供給路４３から純水などの洗浄液を供給し，洗浄
液供給路４３を通じて供給した洗浄液をスクラブ洗浄具
２３に供給する。こうして，スクラブ洗浄具２３におい
て本体４５内に供給された洗浄液は，本体４５下面のブ
ラシ部材４６に向かって上方から全体的に均一に供給さ
れ，各ブラシ部材４６の流路５０内に洗浄液が供給され
て，各ブラシ部材４６の表面と下端から洗浄液が吐出さ
れた状態となる。そして，昇降回転機構４１の稼働によ
りスクラブ洗浄具２３を下降させて，各ブラシ部材４６
をウェハＷの裏面に所定の接触圧力で接触させると共
に，昇降回転軸４２を中心にしてスクラブ洗浄具２３を
回転させる。こうして，ウェハＷを回転させつつ，スク
ラブアーム２４を回動させてスクラブ洗浄具２３をウェ
ハＷの少なくとも中心から周縁部まで自転させつつ往復
移動させることにより，ウェハＷの裏面全体をスクラブ
洗浄する。こうしてウェハＷの裏面を均一に洗浄し，パ
ーティクル等を効果的に除去することが可能となる。
【００２９】ここで，スクラブ洗浄具２３において各ブ
ラシ部材４６の流路５０内を流通する洗浄液は，ブラシ
部材４６の下端からウェハＷに吐出されるので，ウェハ
Ｗから除去されたパーティクル等の汚染物質は洗い流さ
れ，またブラシ部材４６は透水材質であるので，流路５
０内を流通する洗浄液はブラシ部材４６の表面からも吐
出されて洗い流すので，パーティクル等がブラシ部材４
６の表面に付着する心配がない。この場合，図示のブラ
シ部材４６は撥水性であるため，パーティクル等を洗浄
液と共にはじくことができ，パーティクル等の付着をよ
り確実に防止することができる。こうして，ブラシ部材
４６からウェハＷにパーティクル等を転写（再付着）さ
せることなく，ウェハＷ裏面を良好に洗浄できるように
なる。
【００３０】こうしてスクラブ洗浄具２３によるスクラ
ブ洗浄をした後，ノズル６１から純水などの洗浄液を吐
出させてウェハＷをリンス処理する。その後，図示しな
いモータの回転数を上げてスピンチャック２１に支持し
ているウェハＷを高速回転させ，洗浄液を振り切ってス
ピン乾燥を施す。こうして所定の洗浄工程が終了したウ
ェハＷは，前述のように搬送アーム４から取出収納アー
ム３に受け渡され，再びキャリアＣに収納されるのであ
る。
【００３１】この実施の形態の基板洗浄装置８によれ
ば，パーティクルの転写を防止できるので，洗浄効率が
向上し，洗浄時間を短縮できる。また，パーティクル等
の汚染物質が付着し難いことから，洗浄を行っても，ブ
ラシ部材４６は汚染されず，その清浄度が長期に渡って
維持される。また洗浄液を吐出しながらブラシ部材４６
をウェハＷに対して滑らかに接触させるので，ブラシ部
材４６の損耗が少なく，スクラブ洗浄具２３の製品寿命
が延び，部品交換などのメンテナンスサイクルが長くな
る。また，ウェハＷとスクラブ洗浄具２３との接触が滑
らかになることから，ウェハＷに損傷を与えずに良好な
洗浄を行うことが可能となる。
【００３２】以上，本発明の好ましい実施の形態の一例
を示したが，本発明は，ここで説明した形態に限定され
ない。以上の形態では，図６に示したブラシ部材４６に
代えて，図７に示す如き，洗浄液を流通させる多数の流
路７０，７０，７０……を内部に有するブラシ部材７１
を用いても良い。このようなブラシ部材７１において
も，多数の流路７０を通じて供給される洗浄液をブラシ
部材７１の表面から吐出することができ，同様の効果を
奏することが可能である。
【００３３】またブラシ部材４６やブラシ部材７１は，
撥水性に限らず，例えばアルコールに浸漬させることに
よって親水性処理を施しても良い。ブラシ部材４６やブ
ラシ部材７１を親水性に構成すれば，ブラシ部材４６や
ブラシ部材７１の表面全体に洗浄液を吐出しやすく，汚
染物質を洗い流しやすい。
【００３４】また，図５では各ブラシ部材４６の長さが
等しい例を示したが，例えば各ブラシ部材の長さが不揃
いであっても良い。図８に示すスクラブ洗浄具８０で
は，本体４５の下面には，長さが異なるブラシ部材４
６，４６’が交互に配置されている。長さの短いブラシ
部材４６’は，各ブラシ部材４６の間にそれぞれ配置さ
れている。なお，短いブラシ部材４６’と長いブラシ部
材４６を交互に配置した点を除けば，スクラブ洗浄具８
０は，先に図５で説明したスクラブ洗浄具２３と同様の
構成を有するため，図８において，先に説明した図５と
共通の構成要素については同じ符号を付することによ
り，重複説明を省略する。この図８に示したスクラブ洗
浄具８０にあっては，洗浄の際には，ブラシ部材４６を
ウェハＷの裏面に接触させて洗浄を行う。その場合，前
述したようにブラシ部材４６の表面から洗浄液を吐出で
きることに加え，短いブラシ部材４６’から吐出した洗
浄液をブラシ部材４６に沿って流下させることができ，
ブラシ部材４６の表面に付着しようとするパーティクル
を洗い流すことができるようになる。
【００３５】また，図５，８では束ねられたブラシ部材
４６，４９’の上端だけを本体４５によって支持した構
成を示したが，図９に示すスクラブ洗浄具９０のよう
に，各ブラシ部材４６をループ状に湾曲させ，各ブラシ
部材４６の両端を束ねて前記本体４５の下面に支持した
構成でも良い。なお，各ブラシ部材４６をループ状に湾
曲させて両端を本体４５に支持した点を除けば，スクラ
ブ洗浄具９０は，先に図５で説明したスクラブ洗浄具２
３と同様の構成を有するため，図９において，先に説明
した図５と共通の構成要素については同じ符号を付する
ことにより，重複説明を省略する。このスクラブ洗浄具
９０にあっては，洗浄液供給路４３を通じて本体４５内
に供給された洗浄液は，ループ状に湾曲させられた各ブ
ラシ部材４６の両端から流路５０内に流れ込むので，図
１０に示すように流路５０内の水圧が高くなり，透水性
のブラシ部材４６の表面から洗浄液をより多く吐出させ
ることができる。このため，ブラシ部材４６の表面をよ
り確実に洗い流すことにより，パーティクル等の付着を
更に防止できる。また，待機時にもブラシ部材４６の表
面から洗浄液を吐出させてその表面を綺麗に洗い流し，
自己洗浄を行うと更に良い。この場合，待機時において
は洗浄時よりもブラシ部材４６の表面からの洗浄液の吐
出量を抑えることにより，洗浄液の消費量を節約するこ
とが可能である。
【００３６】その他，洗浄液として純水を用いたが，例
えばオゾン水，電解イオン水，塩酸過水，アンモニア過
水，リン酸溶液，フッ酸溶液等の薬液を洗浄液として用
いて，洗浄効果を高めたり，各種の洗浄効果を得ること
ができる。例えば本発明は，フッ酸溶液により酸化膜を
エッチングする場合や例えばリン酸溶液によって窒化膜
をエッチングする場合，リン酸，酢酸，硝酸の混合液に
よってアルミニウムをエッチングする場合の後の洗浄処
理に適用できる。その他，洗浄処理としては，ＡＰＭ溶
液（アンモニア＋過酸化水素水＋純水）によりパーティ
クルの除去を行う場合や，ＨＰＭ溶液（塩酸＋過酸化水
素水＋純水）により金属汚染を清浄する場合等に適用で
きる。
【００３７】なお，スクラブ洗浄２３を回転させないで
ウェハＷに接触させて洗浄を行うことも可能である。ま
た，スクラブ洗浄具は，ウェハＷの裏面のみならず，ウ
ェハＷの表面を洗浄する基板洗浄装置や，さらにはウェ
ハＷの表面及び裏面を同時に洗浄する基板洗浄装置にも
同様に適用される。また，基板を上記した本発明の実施
の形態にようにウェハに限定せずに，ＬＣＤ基板，ＣＤ
基板，プリント基板，セラミック基板等であってもよ
い。
【００３８】
【発明の効果】請求項１〜１０によれば，パーティクル
等の汚染物質の転写させずに基板を洗浄でき，洗浄効率
が向上して洗浄時間を短縮できる。またメンテナンスサ
イクルが長くなり，稼働効率が向上する。また，基板に
損傷を与えずに良好な洗浄を行うことができる。また，
ブラシ自体に洗浄液を濾過するフィルタリング効果をも
たせることが可能であり，浄化された洗浄液を基板に吐
出することができるようになる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本実施の形態にかかる基板洗浄装置を備えた洗
浄システムの斜視図である。
【図２】本実施の形態にかかる基板洗浄装置の平面図で
ある。
【図３】本実施の形態にかかる基板洗浄装置の縦断面図
である。
【図４】スクラブアームの構成を概略的に示す縦断面図
である。
【図５】本実施の形態にかかるスクラブ洗浄具の概略的
な構成を示す縦断面図である。
【図６】ブラシ部材の部分拡大斜視図である。
【図７】他の実施の形態にかかるブラシ部材の部分拡大
図である。
【図８】他の実施の形態にかかるスクラブ洗浄具の縦断
面図である。
【図９】ループ状にした他の実施の形態にかかるスクラ
ブ洗浄具の縦断面図である。
【図１０】ループ状にしたブラシ部材の部分拡大断面図
である。
【符号の説明】
Ｗ ウェハ １ 洗浄システム ８ 基板洗浄装置 ２１ スピンチャック ２４ スクラブアーム ６０ ノズルアーム ２３ スクラブ洗浄具 ４５ 本体 ４６ ブラシ部材 ６１ ノズル
フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｇ０２Ｆ 1/1333 ５００ Ｇ０２Ｆ 1/1333 ５００ Ｈ０１Ｌ 21/304 ６４４ Ｈ０１Ｌ 21/304 ６４４Ｇ Ｆターム(参考） 2H088 FA21 FA30 MA20 2H090 JC19 3B116 AA03 AB27 AB34 AB42 BA02 BA33 BB44 CC01 CC03 3B201 AA03 AB27 AB34 AB42 BA02 BA33 BB44 BB93 CB01 CB25 CC01 CC13

Claims (10)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 基板を洗浄する洗浄具であって，糸状の
    ブラシ部材を複数束ねた構成を有し，前記ブラシ部材は
    洗浄液を流通させる流路を有していることを特徴とす
    る，基板洗浄具。
  2. 【請求項２】 前記ブラシ部材は，表面から洗浄液を吐
    出可能であることを特徴とする，請求項１に記載の基板
    洗浄具。
  3. 【請求項３】 前記ブラシ部材は，中空の透水材質で形
    成されることを特徴とする，請求項１又は２に記載の基
    板洗浄具。
  4. 【請求項４】 前記ブラシ部材は，洗浄液を流通させる
    多数の流路を有することを特徴とする，請求項１又は２
    に記載の基板洗浄具。
  5. 【請求項５】 前記ブラシ部材は，撥水性であることを
    特徴とする，請求項１，２，３又は４のいずれかに記載
    の基板洗浄具。
  6. 【請求項６】 前記ブラシ部材は，親水性であることを
    特徴とする，請求項１，２，３又は４のいずれかに記載
    の基板洗浄具。
  7. 【請求項７】 前記ブラシ部材を直線状にして一端を束
    ねたことを特徴とする，請求項１，２，３，４，５又は
    ６のいずれかに記載の基板洗浄具。
  8. 【請求項８】 前記ブラシ部材をループ状にして両端を
    束ねたことを特徴とする，請求項１，２，３，４，５又
    は６のいずれかに記載の基板洗浄具。
  9. 【請求項９】 基板を洗浄する洗浄具であって，糸状の
    ブラシ部材を複数束ねた構成を有し，前記ブラシ部材は
    撥水性であることを特徴とする，基板洗浄具。
  10. 【請求項１０】 基板を洗浄する装置であって，請求項
    １，２，３，４，５，６，７，８又は９のいずれかに記
    載の基板洗浄具を備えることを特徴とする，基板洗浄装
    置。
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