JP2002095968A - 排ガス浄化用触媒 - Google Patents
排ガス浄化用触媒Info
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- 239000003054 catalyst Substances 0.000 title claims abstract description 68
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 title abstract 2
- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims abstract description 73
- 239000002585 base Substances 0.000 claims abstract description 63
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 36
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 claims abstract description 36
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 56
- 238000010304 firing Methods 0.000 claims description 11
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 claims description 11
- 229910000510 noble metal Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 238000010670 acid alkali reaction Methods 0.000 claims description 7
- 229910000000 metal hydroxide Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 150000004692 metal hydroxides Chemical class 0.000 claims description 4
- 239000000203 mixture Substances 0.000 abstract description 10
- 230000035939 shock Effects 0.000 abstract description 6
- 239000010408 film Substances 0.000 abstract description 2
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 abstract 3
- 230000002542 deteriorative effect Effects 0.000 abstract 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 60
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 44
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 44
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 35
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 34
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 34
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 25
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 15
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 10
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 10
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 10
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N Zirconium dioxide Chemical compound O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 7
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 7
- 229910052878 cordierite Inorganic materials 0.000 description 7
- JSKIRARMQDRGJZ-UHFFFAOYSA-N dimagnesium dioxido-bis[(1-oxido-3-oxo-2,4,6,8,9-pentaoxa-1,3-disila-5,7-dialuminabicyclo[3.3.1]nonan-7-yl)oxy]silane Chemical compound [Mg++].[Mg++].[O-][Si]([O-])(O[Al]1O[Al]2O[Si](=O)O[Si]([O-])(O1)O2)O[Al]1O[Al]2O[Si](=O)O[Si]([O-])(O1)O2 JSKIRARMQDRGJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000000446 fuel Substances 0.000 description 7
- 238000000034 method Methods 0.000 description 7
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 description 6
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 6
- OERNJTNJEZOPIA-UHFFFAOYSA-N zirconium nitrate Chemical compound [Zr+4].[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O OERNJTNJEZOPIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 5
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 description 5
- UGFAIRIUMAVXCW-UHFFFAOYSA-N Carbon monoxide Chemical compound [O+]#[C-] UGFAIRIUMAVXCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052784 alkaline earth metal Inorganic materials 0.000 description 4
- 150000001342 alkaline earth metals Chemical class 0.000 description 4
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 4
- 239000001569 carbon dioxide Substances 0.000 description 4
- 229910002092 carbon dioxide Inorganic materials 0.000 description 4
- 229910002091 carbon monoxide Inorganic materials 0.000 description 4
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 4
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 4
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 4
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 4
- 229910052761 rare earth metal Inorganic materials 0.000 description 4
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 3
- 238000000635 electron micrograph Methods 0.000 description 3
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 3
- IVORCBKUUYGUOL-UHFFFAOYSA-N 1-ethynyl-2,4-dimethoxybenzene Chemical compound COC1=CC=C(C#C)C(OC)=C1 IVORCBKUUYGUOL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052788 barium Inorganic materials 0.000 description 2
- CETPSERCERDGAM-UHFFFAOYSA-N ceric oxide Chemical compound O=[Ce]=O CETPSERCERDGAM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910000422 cerium(IV) oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 2
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 2
- 230000006835 compression Effects 0.000 description 2
- 238000007906 compression Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 229910052746 lanthanum Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- FGIUAXJPYTZDNR-UHFFFAOYSA-N potassium nitrate Chemical compound [K+].[O-][N+]([O-])=O FGIUAXJPYTZDNR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 2
- 239000002002 slurry Substances 0.000 description 2
- 239000011029 spinel Substances 0.000 description 2
- 229910052596 spinel Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011232 storage material Substances 0.000 description 2
- RUDFQVOCFDJEEF-UHFFFAOYSA-N yttrium(III) oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Y+3].[Y+3] RUDFQVOCFDJEEF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BNGXYYYYKUGPPF-UHFFFAOYSA-M (3-methylphenyl)methyl-triphenylphosphanium;chloride Chemical compound [Cl-].CC1=CC=CC(C[P+](C=2C=CC=CC=2)(C=2C=CC=CC=2)C=2C=CC=CC=2)=C1 BNGXYYYYKUGPPF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N Ammonium hydroxide Chemical compound [NH4+].[OH-] VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 102100033041 Carbonic anhydrase 13 Human genes 0.000 description 1
- 101000867860 Homo sapiens Carbonic anhydrase 13 Proteins 0.000 description 1
- 229910002651 NO3 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052779 Neodymium Inorganic materials 0.000 description 1
- NHNBFGGVMKEFGY-UHFFFAOYSA-N Nitrate Chemical compound [O-][N+]([O-])=O NHNBFGGVMKEFGY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052769 Ytterbium Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000002745 absorbent Effects 0.000 description 1
- 239000002250 absorbent Substances 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 1
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IXSUHTFXKKBBJP-UHFFFAOYSA-L azanide;platinum(2+);dinitrite Chemical compound [NH2-].[NH2-].[Pt+2].[O-]N=O.[O-]N=O IXSUHTFXKKBBJP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910052790 beryllium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052792 caesium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 1
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 description 1
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 238000006731 degradation reaction Methods 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- 239000006260 foam Substances 0.000 description 1
- 239000011888 foil Substances 0.000 description 1
- 229910052741 iridium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000008188 pellet Substances 0.000 description 1
- 231100000572 poisoning Toxicity 0.000 description 1
- 230000000607 poisoning effect Effects 0.000 description 1
- 239000004323 potassium nitrate Substances 0.000 description 1
- 235000010333 potassium nitrate Nutrition 0.000 description 1
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052707 ruthenium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052706 scandium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000006104 solid solution Substances 0.000 description 1
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 1
- 229910052712 strontium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 1
- 238000010792 warming Methods 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052727 yttrium Inorganic materials 0.000 description 1
Abstract
(57)【要約】
【課題】基材の劣化を抑制することで、耐熱衝撃性など
の強度の低下を防止する。 【解決手段】アルカリ金属を担持したコート層４と基材
１との間に、多孔質酸化物よりなる薄膜２を形成した。
薄膜２によりアルカリ金属が基材１と反応するのが抑制
されるので、基材組成が変化するのが抑制され、強度の
低下を防止することができる。
の強度の低下を防止する。 【解決手段】アルカリ金属を担持したコート層４と基材
１との間に、多孔質酸化物よりなる薄膜２を形成した。
薄膜２によりアルカリ金属が基材１と反応するのが抑制
されるので、基材組成が変化するのが抑制され、強度の
低下を防止することができる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は自動車エンジンから
の排気系などに用いられる排ガス浄化用触媒に関し、詳
しくは耐熱衝撃性など強度を改良した排ガス浄化用触媒
に関する。
の排気系などに用いられる排ガス浄化用触媒に関し、詳
しくは耐熱衝撃性など強度を改良した排ガス浄化用触媒
に関する。
【０００２】
【従来の技術】近年、二酸化炭素による地球温暖化現象
が問題となり、二酸化炭素の排出量を低減することが課
題となっている。自動車においても排ガス中の二酸化炭
素量の低減が課題となり、燃料を酸素過剰雰囲気で希薄
燃焼させるリーンバーンエンジンが開発されている。こ
のリーンバーンエンジンによれば、燃費の向上により二
酸化炭素の排出量を抑制することができる。
が問題となり、二酸化炭素の排出量を低減することが課
題となっている。自動車においても排ガス中の二酸化炭
素量の低減が課題となり、燃料を酸素過剰雰囲気で希薄
燃焼させるリーンバーンエンジンが開発されている。こ
のリーンバーンエンジンによれば、燃費の向上により二
酸化炭素の排出量を抑制することができる。
【０００３】このリーンバーンエンジンにおいて、常時
は酸素過剰の燃料リーン条件で燃焼させ、間欠的に燃料
ストイキ〜リッチ条件とすることにより排ガスを還元雰
囲気としてNOx を還元浄化するシステムが開発され、実
用化されている。そしてこのシステムに最適な触媒とし
て、燃料リーン雰囲気でNOx を吸蔵し、吸蔵されたNO x
を燃料ストイキ〜リッチ雰囲気で放出するNOx 吸蔵材を
用いたNOx 吸蔵還元型の排ガス浄化用触媒が開発されて
いる。
は酸素過剰の燃料リーン条件で燃焼させ、間欠的に燃料
ストイキ〜リッチ条件とすることにより排ガスを還元雰
囲気としてNOx を還元浄化するシステムが開発され、実
用化されている。そしてこのシステムに最適な触媒とし
て、燃料リーン雰囲気でNOx を吸蔵し、吸蔵されたNO x
を燃料ストイキ〜リッチ雰囲気で放出するNOx 吸蔵材を
用いたNOx 吸蔵還元型の排ガス浄化用触媒が開発されて
いる。
【０００４】例えば特開平5-317652号公報には、Baなど
のアルカリ土類金属とPtをγ-Al2O3などの多孔質酸化物
担体に担持した排ガス浄化用触媒が提案されている。ま
た特開平 6-31139号公報には、Ｋなどのアルカリ金属と
Ptをγ-Al2O3などの多孔質酸化物担体に担持した排ガス
浄化用触媒が提案されている。さらに特開平5-168860号
公報には、Laなどの希土類元素とPtをγ-Al2O3などの多
孔質酸化物担体に担持した排ガス浄化用触媒が提案され
ている。
のアルカリ土類金属とPtをγ-Al2O3などの多孔質酸化物
担体に担持した排ガス浄化用触媒が提案されている。ま
た特開平 6-31139号公報には、Ｋなどのアルカリ金属と
Ptをγ-Al2O3などの多孔質酸化物担体に担持した排ガス
浄化用触媒が提案されている。さらに特開平5-168860号
公報には、Laなどの希土類元素とPtをγ-Al2O3などの多
孔質酸化物担体に担持した排ガス浄化用触媒が提案され
ている。
【０００５】このNOx 吸蔵還元型触媒を用いれば、空燃
比を燃料リーン側からパルス状に燃料ストイキ〜リッチ
側となるように制御することにより、排ガスもリーン雰
囲気からパルス状にストイキ〜リッチ雰囲気となる。し
たがって、リーン側ではNOxがNOx 吸蔵材に吸蔵され、
それがストイキ〜リッチ側で放出されて排ガス中に多量
に含まれる炭化水素（HC）や一酸化炭素（CO）などの還
元性成分と反応して浄化されるため、リーンバーンエン
ジンからの排ガスであってもNOx を効率良く浄化するこ
とができる。また排ガス中のHC及びCOは、貴金属により
酸化されるとともにNOx の還元にも消費されるので、HC
及びCOも効率よく浄化される。
比を燃料リーン側からパルス状に燃料ストイキ〜リッチ
側となるように制御することにより、排ガスもリーン雰
囲気からパルス状にストイキ〜リッチ雰囲気となる。し
たがって、リーン側ではNOxがNOx 吸蔵材に吸蔵され、
それがストイキ〜リッチ側で放出されて排ガス中に多量
に含まれる炭化水素（HC）や一酸化炭素（CO）などの還
元性成分と反応して浄化されるため、リーンバーンエン
ジンからの排ガスであってもNOx を効率良く浄化するこ
とができる。また排ガス中のHC及びCOは、貴金属により
酸化されるとともにNOx の還元にも消費されるので、HC
及びCOも効率よく浄化される。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】ところで自動車用の排
ガス浄化用触媒では、自動車の排ガス流路内に安定して
保持し、排ガスと触媒成分との接触面積を高めるととも
に、圧損の増大を極力抑制する必要がある。そこで従来
より、コーディエライトなどの MgO・ Al2O3・SiO2複合
酸化物から形成されたハニカム形状の基材が用いられ、
この基材の表面に触媒成分を担持した多孔質担体よりな
るコート層を形成したモノリス触媒が多く用いられてい
る。
ガス浄化用触媒では、自動車の排ガス流路内に安定して
保持し、排ガスと触媒成分との接触面積を高めるととも
に、圧損の増大を極力抑制する必要がある。そこで従来
より、コーディエライトなどの MgO・ Al2O3・SiO2複合
酸化物から形成されたハニカム形状の基材が用いられ、
この基材の表面に触媒成分を担持した多孔質担体よりな
るコート層を形成したモノリス触媒が多く用いられてい
る。
【０００７】ところがNOx 吸蔵還元型のモノリス触媒に
おいて、NOx 吸蔵材としてアルカリ金属を用いたもので
は、使用中に基材の劣化が生じ、三元触媒など他の触媒
に比べて耐熱衝撃性などの強度が低下することが明らか
となった。そのため交換の頻度を高める必要があり、単
位使用時間当たりのコストが高いという不具合がある。
おいて、NOx 吸蔵材としてアルカリ金属を用いたもので
は、使用中に基材の劣化が生じ、三元触媒など他の触媒
に比べて耐熱衝撃性などの強度が低下することが明らか
となった。そのため交換の頻度を高める必要があり、単
位使用時間当たりのコストが高いという不具合がある。
【０００８】本発明はこのような事情に鑑みてなされた
ものであり、基材の劣化を抑制することで耐熱衝撃性な
どの強度の低下を防止することを目的とする。
ものであり、基材の劣化を抑制することで耐熱衝撃性な
どの強度の低下を防止することを目的とする。
【０００９】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決する本発
明の排ガス浄化用触媒の特徴は、基材と、基材の表面に
形成され酸化物からなる薄膜と、薄膜の表面に形成され
少なくとも貴金属とアルカリ金属とを担持した多孔質担
体よりなるコート層と、からなることにある。
明の排ガス浄化用触媒の特徴は、基材と、基材の表面に
形成され酸化物からなる薄膜と、薄膜の表面に形成され
少なくとも貴金属とアルカリ金属とを担持した多孔質担
体よりなるコート層と、からなることにある。
【００１０】薄膜の厚さは 100μｍ以下であることが望
ましく、薄膜は酸−アルカリ反応により基材表面に金属
水酸化物の沈殿を形成しそれを焼成して形成することが
望ましい。
ましく、薄膜は酸−アルカリ反応により基材表面に金属
水酸化物の沈殿を形成しそれを焼成して形成することが
望ましい。
【００１１】また上記課題を解決するもう一つの本発明
の排ガス浄化用触媒の特徴は、基材と、基材の表面に形
成され少なくとも貴金属とアルカリ金属とを担持した多
孔質担体よりなるコート層と、からなる排ガス浄化用触
媒であって、コート層の単位長さ当たりで基材とコート
層とが接触している長さの割合である接触割合を30〜85
％としたことにある。
の排ガス浄化用触媒の特徴は、基材と、基材の表面に形
成され少なくとも貴金属とアルカリ金属とを担持した多
孔質担体よりなるコート層と、からなる排ガス浄化用触
媒であって、コート層の単位長さ当たりで基材とコート
層とが接触している長さの割合である接触割合を30〜85
％としたことにある。
【００１２】
【発明の実施の形態】本願発明者らは、基材の劣化原因
について鋭意研究した。例えば MgO・ Al2O3・SiO2複合
酸化物からなるコーディエライトなどの構造体を基材と
し、貴金属とアルカリ金属を担持したNOx 吸蔵還元型の
排ガス浄化用触媒では、アルカリ金属を含まないものに
比べて熱膨張係数が高くなることが明らかとなった。熱
膨張係数が高くなると、耐熱衝撃性が低下して強度が低
下する。
について鋭意研究した。例えば MgO・ Al2O3・SiO2複合
酸化物からなるコーディエライトなどの構造体を基材と
し、貴金属とアルカリ金属を担持したNOx 吸蔵還元型の
排ガス浄化用触媒では、アルカリ金属を含まないものに
比べて熱膨張係数が高くなることが明らかとなった。熱
膨張係数が高くなると、耐熱衝撃性が低下して強度が低
下する。
【００１３】そして上記不具合が生じた触媒中のアルカ
リ金属の担持分布を調査したところ、基材中にもアルカ
リ金属が存在していた。したがって上記不具合の原因と
しては、基材成分（特にSiO2）とアルカリ金属との反応
がコート層と基材との界面から優先的に生じて、基材の
複合酸化物組成が変化してしまうことにあることが解明
された。
リ金属の担持分布を調査したところ、基材中にもアルカ
リ金属が存在していた。したがって上記不具合の原因と
しては、基材成分（特にSiO2）とアルカリ金属との反応
がコート層と基材との界面から優先的に生じて、基材の
複合酸化物組成が変化してしまうことにあることが解明
された。
【００１４】そこで本発明では、基材とコート層との間
に酸化物からなる薄膜が介在した構成としている。この
ような構成としたことにより、コート層中のアルカリ金
属と基材とが直接接触するのが回避され、アルカリ金属
と基材成分との反応を抑制することができる。したがっ
て基材組成が変化するのが抑制され、強度の低下を防止
することができる。
に酸化物からなる薄膜が介在した構成としている。この
ような構成としたことにより、コート層中のアルカリ金
属と基材とが直接接触するのが回避され、アルカリ金属
と基材成分との反応を抑制することができる。したがっ
て基材組成が変化するのが抑制され、強度の低下を防止
することができる。
【００１５】また本発明のもう一つの排ガス浄化用触媒
では、コート層の単位長さ当たりで基材とコート層とが
接触している長さの割合である接触割合を30〜85％とし
ている。コート層中のアルカリ金属と基材成分との反応
は、コート層と基材との接触界面から優先的に起こる。
したがってこのように構成したことにより、コート層と
基材との接触界面が低減されるため、コート層中のアル
カリ金属と基材とが直接接触する確率が低くなり、アル
カリ金属と基材成分との反応を抑制することができる。
では、コート層の単位長さ当たりで基材とコート層とが
接触している長さの割合である接触割合を30〜85％とし
ている。コート層中のアルカリ金属と基材成分との反応
は、コート層と基材との接触界面から優先的に起こる。
したがってこのように構成したことにより、コート層と
基材との接触界面が低減されるため、コート層中のアル
カリ金属と基材とが直接接触する確率が低くなり、アル
カリ金属と基材成分との反応を抑制することができる。
【００１６】基材としては、コーディエライトなどの M
gO・ Al2O3・SiO2系複合酸化物、TiO2-Al2O3系複合酸化
物、 Si3N4などが例示されるが、耐熱性に特に優れた M
gO・Al2O3・SiO2系複合酸化物が望ましい。この基材の
形状は、ハニカム形状、発泡体などの多孔質形状、網
状、ペレット状など排ガスとの接触面積が大きなもので
あれば特に制限されない。また金属箔などから形成され
た基体に上記基材の粉末をコートしたものを基材とする
こともできる。
gO・ Al2O3・SiO2系複合酸化物、TiO2-Al2O3系複合酸化
物、 Si3N4などが例示されるが、耐熱性に特に優れた M
gO・Al2O3・SiO2系複合酸化物が望ましい。この基材の
形状は、ハニカム形状、発泡体などの多孔質形状、網
状、ペレット状など排ガスとの接触面積が大きなもので
あれば特に制限されない。また金属箔などから形成され
た基体に上記基材の粉末をコートしたものを基材とする
こともできる。
【００１７】酸化物からなる薄膜としては、アルカリ金
属と反応しにくいものあるいはアルカリ金属と反応しな
いもの、さらには基材及びコート層との接着性に優れた
ものが望ましい。このような薄膜の材質としては、アル
ミナ、ジルコニア、チタニア、イットリア、セリア、ス
ピネルなどの酸化物、あるいはこれらの複数種からなる
複合酸化物が好ましく例示される。コート層に含まれる
酸化物と同種のものが特に好ましい。
属と反応しにくいものあるいはアルカリ金属と反応しな
いもの、さらには基材及びコート層との接着性に優れた
ものが望ましい。このような薄膜の材質としては、アル
ミナ、ジルコニア、チタニア、イットリア、セリア、ス
ピネルなどの酸化物、あるいはこれらの複数種からなる
複合酸化物が好ましく例示される。コート層に含まれる
酸化物と同種のものが特に好ましい。
【００１８】この薄膜は、厚さが 100μｍ以下であるこ
とが望ましい。薄膜の厚さが 100μｍを超えると、薄膜
自体の特性が触媒全体の特性に影響を及ぼして熱膨張係
数が急激に増大するため好ましくない。また薄膜の厚さ
は、少なくとも５μｍ以上とすることが好ましい。薄膜
の厚さが５μｍより薄くなると、コート層中のアルカリ
金属の基材への移行を阻止することが困難となり、アル
カリ金属と基材成分との反応確率が高くなってしまう。
とが望ましい。薄膜の厚さが 100μｍを超えると、薄膜
自体の特性が触媒全体の特性に影響を及ぼして熱膨張係
数が急激に増大するため好ましくない。また薄膜の厚さ
は、少なくとも５μｍ以上とすることが好ましい。薄膜
の厚さが５μｍより薄くなると、コート層中のアルカリ
金属の基材への移行を阻止することが困難となり、アル
カリ金属と基材成分との反応確率が高くなってしまう。
【００１９】基材表面に薄膜を形成するには、例えば薄
膜源となる酸化物の粉末を付着させた後に焼成する方法
がある。この場合には、酸化物粉末の粒径と付着量を調
整することで所望の膜厚の薄膜を形成することができ
る。なお酸化物粉末の粒径が５μｍを超えると緻密な薄
膜を形成しにくくなり、コート層中のアルカリ金属と基
材との反応が進行しやすくなるので、酸化物粉末の粒径
は５μｍ以下とすることが望ましい。
膜源となる酸化物の粉末を付着させた後に焼成する方法
がある。この場合には、酸化物粉末の粒径と付着量を調
整することで所望の膜厚の薄膜を形成することができ
る。なお酸化物粉末の粒径が５μｍを超えると緻密な薄
膜を形成しにくくなり、コート層中のアルカリ金属と基
材との反応が進行しやすくなるので、酸化物粉末の粒径
は５μｍ以下とすることが望ましい。
【００２０】焼成温度は 600〜1500℃の範囲が望まし
い。焼成温度が 600℃未満では緻密な薄膜を形成するこ
とが困難となり、アルカリ金属と基材成分との反応が生
じるようになる。またコーディエライトの耐熱温度が15
00℃であるので、焼成温度の上限は1500℃とすることが
好ましい。
い。焼成温度が 600℃未満では緻密な薄膜を形成するこ
とが困難となり、アルカリ金属と基材成分との反応が生
じるようになる。またコーディエライトの耐熱温度が15
00℃であるので、焼成温度の上限は1500℃とすることが
好ましい。
【００２１】また基材表面に薄膜を形成する場合、酸−
アルカリ反応により基材表面に金属水酸化物の沈殿を形
成しそれを焼成して形成することもできる。例えば硝酸
ジルコニウム水溶液中に基材を浸漬し、そこへアンモニ
アを加えれば、基材表面に水酸化ジルコニウムの沈殿が
析出する。これを焼成することによって、基材表面にジ
ルコニアの薄膜を形成することができる。
アルカリ反応により基材表面に金属水酸化物の沈殿を形
成しそれを焼成して形成することもできる。例えば硝酸
ジルコニウム水溶液中に基材を浸漬し、そこへアンモニ
アを加えれば、基材表面に水酸化ジルコニウムの沈殿が
析出する。これを焼成することによって、基材表面にジ
ルコニアの薄膜を形成することができる。
【００２２】コーディエライトなどの基材表面には、微
視的に無数の凹凸が存在しているが、上記した酸化物粉
末を付着させて焼成する方法では微細な凹部内にまで薄
膜を形成することが困難であり、薄膜が凹部を覆ったよ
うになって薄膜と基材表面との間に空隙が形成される場
合がある。このような場合には、その空隙を伝わってコ
ート層中のアルカリ金属が基材へ侵入する場合がある。
視的に無数の凹凸が存在しているが、上記した酸化物粉
末を付着させて焼成する方法では微細な凹部内にまで薄
膜を形成することが困難であり、薄膜が凹部を覆ったよ
うになって薄膜と基材表面との間に空隙が形成される場
合がある。このような場合には、その空隙を伝わってコ
ート層中のアルカリ金属が基材へ侵入する場合がある。
【００２３】そこで上記した酸−アルカリ反応を用いる
方法で薄膜を形成することが特に望ましい。分子レベル
の反応である酸−アルカリ反応によって生成した沈殿は
きわめて微細であるので、基材表面の微細な凹部にも入
り込んで薄膜が形成される。したがって薄膜と基材表面
との間に空隙が形成されるのが防止され、アルカリ金属
と基材成分との反応を一層抑制することができる。
方法で薄膜を形成することが特に望ましい。分子レベル
の反応である酸−アルカリ反応によって生成した沈殿は
きわめて微細であるので、基材表面の微細な凹部にも入
り込んで薄膜が形成される。したがって薄膜と基材表面
との間に空隙が形成されるのが防止され、アルカリ金属
と基材成分との反応を一層抑制することができる。
【００２４】また薄膜は、ＰＶＤ法あるいはＣＶＤ法な
どで形成することも可能である。
どで形成することも可能である。
【００２５】コート層は、多孔質担体と、多孔質担体に
担持された少なくとも貴金属とアルカリ金属とから構成
される。多孔質担体としては、 Al2O3、ZrO2、TiO2、Ce
O2などから種々選択して用いることができる。これらの
酸化物を単独で用いてもよいし、複数種類混合して用い
てもよく、複数種の複合酸化物として用いることもでき
る。例えば触媒活性の点からは少なくとも Al2O3を含む
ことが好ましく、TiO2を混合すれば耐硫黄被毒性が向上
する。またCeO2あるいはCeO2−ZrO2固溶体を混合すれ
ば、その酸素吸蔵放出能により浄化活性が向上する。
担持された少なくとも貴金属とアルカリ金属とから構成
される。多孔質担体としては、 Al2O3、ZrO2、TiO2、Ce
O2などから種々選択して用いることができる。これらの
酸化物を単独で用いてもよいし、複数種類混合して用い
てもよく、複数種の複合酸化物として用いることもでき
る。例えば触媒活性の点からは少なくとも Al2O3を含む
ことが好ましく、TiO2を混合すれば耐硫黄被毒性が向上
する。またCeO2あるいはCeO2−ZrO2固溶体を混合すれ
ば、その酸素吸蔵放出能により浄化活性が向上する。
【００２６】コート層を薄膜表面に形成するには、従来
の基材表面に形成する場合と同様にして行うことがで
き、スラリーを被覆後に焼成する方法などを用いること
ができる。
の基材表面に形成する場合と同様にして行うことがで
き、スラリーを被覆後に焼成する方法などを用いること
ができる。
【００２７】貴金属としては、Pt，Rh，Pd，Ir，Ruなど
から選択して用いることができる。このうち一種でもよ
いし、複数種類を担持することもできる。その担持量
は、触媒１リットル当たり 0.1〜20重量％程度が好まし
い。
から選択して用いることができる。このうち一種でもよ
いし、複数種類を担持することもできる。その担持量
は、触媒１リットル当たり 0.1〜20重量％程度が好まし
い。
【００２８】アルカリ金属としてはＫ、Na、Csなどが例
示される。アルカリ金属の担持量は、触媒１リットル当
たり0.01〜 1.0モルの範囲が好ましい。この範囲より少
ないとNOx 吸蔵能が低くなり、この範囲を超えて担持す
ると消費されるSiO2量が多くなって基材の強度に不足す
るようになる。
示される。アルカリ金属の担持量は、触媒１リットル当
たり0.01〜 1.0モルの範囲が好ましい。この範囲より少
ないとNOx 吸蔵能が低くなり、この範囲を超えて担持す
ると消費されるSiO2量が多くなって基材の強度に不足す
るようになる。
【００２９】またNOx 吸蔵還元型触媒の場合には、アル
カリ金属に加えてアルカリ土類金属及び希土類元素の少
なくとも一方を担持することも好ましい。アルカリ土類
金属としてはBa、Be、Ca、Mg、Srなどが例示される。ま
た希土類元素としてはSc，Ｙ，La，Yb，Nd，Smなどが例
示される。なおアルカリ土類金属及び希土類元素はSiO2
とは反応しないので、従来と同様に触媒１リットル当た
り 0.1〜２モルとするのが好ましい。
カリ金属に加えてアルカリ土類金属及び希土類元素の少
なくとも一方を担持することも好ましい。アルカリ土類
金属としてはBa、Be、Ca、Mg、Srなどが例示される。ま
た希土類元素としてはSc，Ｙ，La，Yb，Nd，Smなどが例
示される。なおアルカリ土類金属及び希土類元素はSiO2
とは反応しないので、従来と同様に触媒１リットル当た
り 0.1〜２モルとするのが好ましい。
【００３０】本発明のもう一つの排ガス浄化用触媒で
は、薄膜を形成せず、コート層の単位長さ当たりで基材
とコート層とが接触している長さの割合である接触割合
を30〜85％としている。このように構成したことによ
り、コート層と基材との接触界面が低減されるため、コ
ート層中のアルカリ金属と基材とが直接接触する確率が
低くなり、アルカリ金属と基材成分との反応を抑制する
ことができる。接触割合が30％より低くなると、アルカ
リ金属と基材成分との反応は生じにくくなるものの、コ
ート層と基材との接合強度が低下するため排ガス浄化用
触媒の強度が低くなってしまう。また接触割合が85％よ
り高くなると、アルカリ金属と基材成分との反応確率が
高くなってしまう。
は、薄膜を形成せず、コート層の単位長さ当たりで基材
とコート層とが接触している長さの割合である接触割合
を30〜85％としている。このように構成したことによ
り、コート層と基材との接触界面が低減されるため、コ
ート層中のアルカリ金属と基材とが直接接触する確率が
低くなり、アルカリ金属と基材成分との反応を抑制する
ことができる。接触割合が30％より低くなると、アルカ
リ金属と基材成分との反応は生じにくくなるものの、コ
ート層と基材との接合強度が低下するため排ガス浄化用
触媒の強度が低くなってしまう。また接触割合が85％よ
り高くなると、アルカリ金属と基材成分との反応確率が
高くなってしまう。
【００３１】このように接触割合を30〜85％とするに
は、基材の表面粗さを調整することで用意に行うことが
できる。
は、基材の表面粗さを調整することで用意に行うことが
できる。
【００３２】なお本発明の排ガス浄化用触媒は、コート
層にアルカリ金属を含むものであればよく、NOx 吸蔵還
元型触媒、NOx 吸収触媒、あるいは場合によっては三元
触媒、酸化触媒などとして用いることができる。
層にアルカリ金属を含むものであればよく、NOx 吸蔵還
元型触媒、NOx 吸収触媒、あるいは場合によっては三元
触媒、酸化触媒などとして用いることができる。
【００３３】
【実施例】（実施例１）コーディエライト（2MgO・2Al2
O3・5SiO2 ）製のハニカム形状のモノリス基材を用意
し、平均粒径１μｍのαアルミナ粉末を付着させた後、
大気中にて1000℃で５時間焼成して薄膜を形成した。α
アルミナ粉末の付着量をモノリス基材１リットル当たり
50ｇ〜 300ｇの間で複数水準とって、５〜 120μｍの厚
さの薄膜をそれぞれ形成した。
O3・5SiO2 ）製のハニカム形状のモノリス基材を用意
し、平均粒径１μｍのαアルミナ粉末を付着させた後、
大気中にて1000℃で５時間焼成して薄膜を形成した。α
アルミナ粉末の付着量をモノリス基材１リットル当たり
50ｇ〜 300ｇの間で複数水準とって、５〜 120μｍの厚
さの薄膜をそれぞれ形成した。
【００３４】次にγアルミナ粉末を主成分とするスラリ
ーを、各種厚さの薄膜をもつモノリス基材にそれぞれウ
オッシュコートし、 250℃で乾燥後大気中にて 300℃で
２時間焼成してコート層をそれぞれ形成した。コート層
は、モノリス基材１リットルあたりそれぞれ 180ｇであ
る。
ーを、各種厚さの薄膜をもつモノリス基材にそれぞれウ
オッシュコートし、 250℃で乾燥後大気中にて 300℃で
２時間焼成してコート層をそれぞれ形成した。コート層
は、モノリス基材１リットルあたりそれぞれ 180ｇであ
る。
【００３５】そして所定濃度のジニトロジアンミン白金
硝酸溶液を用い、コート層及び薄膜をもつモノリス基材
を浸漬して引き上げた後 500℃で２時間焼成してPtをそ
れぞれ担持した。Ptの担持量はいずれも 0.1ｇ／Ｌであ
る。次いで所定濃度の硝酸カリウム水溶液の所定量を含
浸させ、 250℃で20分乾燥後 500℃で30分焼成してカリ
ウムを担持した。カリウムの担持量はいずれも 0.3モル
／Ｌである。
硝酸溶液を用い、コート層及び薄膜をもつモノリス基材
を浸漬して引き上げた後 500℃で２時間焼成してPtをそ
れぞれ担持した。Ptの担持量はいずれも 0.1ｇ／Ｌであ
る。次いで所定濃度の硝酸カリウム水溶液の所定量を含
浸させ、 250℃で20分乾燥後 500℃で30分焼成してカリ
ウムを担持した。カリウムの担持量はいずれも 0.3モル
／Ｌである。
【００３６】（比較例１）薄膜を形成しなかったこと以
外は実施例１と同様にして、比較例１の触媒を調製し
た。
外は実施例１と同様にして、比較例１の触媒を調製し
た。
【００３７】＜試験・評価＞それぞれの触媒をエンジン
ベンチに配置し、 気筒のガソリンエンジンからの排ガ
スを空間速度80000h-1、触媒床温度 800℃の条件で50時
間流す耐久試験を行った。その後、各触媒の熱膨張係数
とカリウムとモノリス基材成分との反応率を測定した。
ベンチに配置し、 気筒のガソリンエンジンからの排ガ
スを空間速度80000h-1、触媒床温度 800℃の条件で50時
間流す耐久試験を行った。その後、各触媒の熱膨張係数
とカリウムとモノリス基材成分との反応率を測定した。
【００３８】反応率の測定は、先ず水で触媒中の活性な
カリウムを抽出してその量（Ｑ1 ）を測定し、その後の
触媒全体のカリウム量（Ｑ2 ）とコート層中のカリウム
量（Ｑ3 ）を原子吸光法によって測定した。そして次式
によって反応率を算出した。それぞれの結果を図１に示
す。
カリウムを抽出してその量（Ｑ1 ）を測定し、その後の
触媒全体のカリウム量（Ｑ2 ）とコート層中のカリウム
量（Ｑ3 ）を原子吸光法によって測定した。そして次式
によって反応率を算出した。それぞれの結果を図１に示
す。
【００３９】 反応率＝ 100×（Ｑ2 −Ｑ3 ）／（Ｑ1 ＋Ｑ2 ） 図１より、薄膜を形成することによって反応率が大きく
低下していることが明らかである。つまり薄膜を形成す
ることによって基材成分とカリウムとの反応が抑制され
るので、モノリス基材の強度の低下を防止することがで
きる。ただし薄膜の厚さが５μｍ未満では、その効果が
きわめて小さいので、薄膜の厚さは５μｍ以上とするこ
とが望ましい。
低下していることが明らかである。つまり薄膜を形成す
ることによって基材成分とカリウムとの反応が抑制され
るので、モノリス基材の強度の低下を防止することがで
きる。ただし薄膜の厚さが５μｍ未満では、その効果が
きわめて小さいので、薄膜の厚さは５μｍ以上とするこ
とが望ましい。
【００４０】一方、薄膜を形成しても、その厚さが 100
μｍ以内であれば熱膨張係数の増大は僅かである。しか
し薄膜の厚さが 100μｍを超えると熱膨張係数が著しく
大きくなっているので、薄膜の厚さは 100μｍ以下とす
ることが望ましいことがわかる。
μｍ以内であれば熱膨張係数の増大は僅かである。しか
し薄膜の厚さが 100μｍを超えると熱膨張係数が著しく
大きくなっているので、薄膜の厚さは 100μｍ以下とす
ることが望ましいことがわかる。
【００４１】（実施例２）実施例１と同様のモノリス基
材を用い、同様にしてαアルミナ粉末を 100ｇ／Ｌ付着
させた後、大気中にて 200〜1500℃の範囲の種々の温度
水準でそれぞれ５時間焼成して薄膜を形成した。薄膜の
膜厚はそれぞれ50μｍである。そして実施例１と同様に
してそれぞれコート層を形成し、同様にしてそれぞれPt
とカリウムを担持した。
材を用い、同様にしてαアルミナ粉末を 100ｇ／Ｌ付着
させた後、大気中にて 200〜1500℃の範囲の種々の温度
水準でそれぞれ５時間焼成して薄膜を形成した。薄膜の
膜厚はそれぞれ50μｍである。そして実施例１と同様に
してそれぞれコート層を形成し、同様にしてそれぞれPt
とカリウムを担持した。
【００４２】得られたそれぞれの触媒について、実施例
１と同様に耐久試験を行い、その後実施例１と同様にし
てカリウムとモノリス基材成分との反応率を測定した。
結果を図２に示す。
１と同様に耐久試験を行い、その後実施例１と同様にし
てカリウムとモノリス基材成分との反応率を測定した。
結果を図２に示す。
【００４３】図２より、薄膜の焼成温度が 600℃未満で
は反応率が高くなっていることから、焼成温度は 600℃
以上とすることが望ましいことがわかる。なおコーディ
エライトの耐熱温度は1500℃であるので、焼成温度は15
00℃以下とする必要がある。
は反応率が高くなっていることから、焼成温度は 600℃
以上とすることが望ましいことがわかる。なおコーディ
エライトの耐熱温度は1500℃であるので、焼成温度は15
00℃以下とする必要がある。
【００４４】（実施例３）実施例１と同様のモノリス基
材を用い、平均粒径が 0.1〜10μｍの間の複数水準のα
アルミナ粉末を 100ｇ／Ｌそれぞれ付着させた後、それ
ぞれ大気中にて1100℃で５時間焼成して薄膜を形成し
た。そして実施例１と同様にしてそれぞれコート層を形
成し、同様にしてそれぞれPtとカリウムを担持した。
材を用い、平均粒径が 0.1〜10μｍの間の複数水準のα
アルミナ粉末を 100ｇ／Ｌそれぞれ付着させた後、それ
ぞれ大気中にて1100℃で５時間焼成して薄膜を形成し
た。そして実施例１と同様にしてそれぞれコート層を形
成し、同様にしてそれぞれPtとカリウムを担持した。
【００４５】得られたそれぞれの触媒について、実施例
１と同様に耐久試験を行い、その後実施例１と同様にし
てカリウムとモノリス基材成分との反応率を測定した。
結果を図３に示す。
１と同様に耐久試験を行い、その後実施例１と同様にし
てカリウムとモノリス基材成分との反応率を測定した。
結果を図３に示す。
【００４６】図３より、αアルミナ粉末の粒径が５μｍ
を超えると反応率が高くなり、好ましくない。これは薄
膜が緻密化されにくいためと考えられる。したがって粉
末の粒径は５μｍ以下が望ましいことが明らかである。
を超えると反応率が高くなり、好ましくない。これは薄
膜が緻密化されにくいためと考えられる。したがって粉
末の粒径は５μｍ以下が望ましいことが明らかである。
【００４７】（実施例４）αアルミナに代えて、ジルコ
ニア、スピネル、イットリア、セリア、チタニア−ジル
コニア複合酸化物の各粉末を用い、それぞれ 100ｇ／Ｌ
付着させた後、実施例１と同様に焼成してそれぞれの薄
膜を形成した。そして実施例１と同様にしてそれぞれコ
ート層を形成し、同様にしてそれぞれPtとカリウムを担
持した。
ニア、スピネル、イットリア、セリア、チタニア−ジル
コニア複合酸化物の各粉末を用い、それぞれ 100ｇ／Ｌ
付着させた後、実施例１と同様に焼成してそれぞれの薄
膜を形成した。そして実施例１と同様にしてそれぞれコ
ート層を形成し、同様にしてそれぞれPtとカリウムを担
持した。
【００４８】得られたそれぞれの触媒について、実施例
１と同様に耐久試験を行い、その後実施例１と同様にし
てカリウムとモノリス基材成分との反応率を測定した。
結果を図４に示す。なお図４には比較例１の結果も示
し、薄膜の厚さを横軸としている。
１と同様に耐久試験を行い、その後実施例１と同様にし
てカリウムとモノリス基材成分との反応率を測定した。
結果を図４に示す。なお図４には比較例１の結果も示
し、薄膜の厚さを横軸としている。
【００４９】図４より、αアルミナ以外の他の酸化物又
は複合酸化物から形成された薄膜であっても、αアルミ
ナの薄膜と同様にカリウムと基材成分との反応が抑制さ
れていることがわかる。
は複合酸化物から形成された薄膜であっても、αアルミ
ナの薄膜と同様にカリウムと基材成分との反応が抑制さ
れていることがわかる。
【００５０】（実施例５）所定濃度の硝酸ジルコニウム
水溶液中に所定量のアンモニア水を混合し、直ちに実施
例１と同様のモノリス基材を浸漬して所定時間保持し、
モノリス基材表面に水酸化ジルコニウムの沈殿を析出さ
せた。その後モノリス基材を引き上げ、 250℃で２時間
乾燥後、大気中にて1000℃で３時間焼成した。これによ
りモノリス基材表面にジルコニアからなる厚さ 2.5μｍ
の薄膜を形成した。その後実施例１と同様にして薄膜表
面にコート層を形成し、同様にしてPtとカリウムを担持
した。
水溶液中に所定量のアンモニア水を混合し、直ちに実施
例１と同様のモノリス基材を浸漬して所定時間保持し、
モノリス基材表面に水酸化ジルコニウムの沈殿を析出さ
せた。その後モノリス基材を引き上げ、 250℃で２時間
乾燥後、大気中にて1000℃で３時間焼成した。これによ
りモノリス基材表面にジルコニアからなる厚さ 2.5μｍ
の薄膜を形成した。その後実施例１と同様にして薄膜表
面にコート層を形成し、同様にしてPtとカリウムを担持
した。
【００５１】（実施例６）硝酸ジルコニウム水溶液に代
えて所定濃度の硝酸アルミニウム水溶液を用いたこと以
外は実施例１と同様にして薄膜を形成した。薄膜の厚さ
は６μｍである。その後実施例１と同様にして薄膜表面
にコート層を形成し、同様にしてPtとカリウムを担持し
た。
えて所定濃度の硝酸アルミニウム水溶液を用いたこと以
外は実施例１と同様にして薄膜を形成した。薄膜の厚さ
は６μｍである。その後実施例１と同様にして薄膜表面
にコート層を形成し、同様にしてPtとカリウムを担持し
た。
【００５２】＜試験・評価＞実施例５，６及び比較例１
の触媒について、実施例１と同様に耐久試験を行った
後、同様にしてカリウムとモノリス基材成分との反応率
を測定した。結果を図５に示す。
の触媒について、実施例１と同様に耐久試験を行った
後、同様にしてカリウムとモノリス基材成分との反応率
を測定した。結果を図５に示す。
【００５３】図５より、酸−アルカリ反応によって形成
された薄膜であっても、実施例１〜実施例４と同様にカ
リウムと基材成分との反応が抑制されていることがわか
る。そして図１と比較すると、薄膜の厚さが薄くても反
応率を低くできることがわかる。これには以下のような
理由が考えられる。
された薄膜であっても、実施例１〜実施例４と同様にカ
リウムと基材成分との反応が抑制されていることがわか
る。そして図１と比較すると、薄膜の厚さが薄くても反
応率を低くできることがわかる。これには以下のような
理由が考えられる。
【００５４】つまり用いたモノリス基材１の表面には微
細な凹凸が多数存在しているため、実施例１のように平
均粒径が 0.5μｍのαアルミナ粉末を付着させても凹部
にまで十分に付着させることは困難となり、図６のよう
に薄膜２とモノリス基材１の間には空隙３が生じる場合
がある。そのためコート層４に担持されているカリウム
が空隙３を通じてモノリス基材１と接触し、カリウムと
基材成分との反応が生じやすい。
細な凹凸が多数存在しているため、実施例１のように平
均粒径が 0.5μｍのαアルミナ粉末を付着させても凹部
にまで十分に付着させることは困難となり、図６のよう
に薄膜２とモノリス基材１の間には空隙３が生じる場合
がある。そのためコート層４に担持されているカリウム
が空隙３を通じてモノリス基材１と接触し、カリウムと
基材成分との反応が生じやすい。
【００５５】一方、分子レベルの反応である酸−アルカ
リ反応によって生じた金属水酸化物の沈殿は、その粒径
がきわめて微細であるためにモノリス基材１の凹部１０
の表面にも析出する。したがって図７に示すように、形
成された薄膜２’とモノリス基材１の間には空隙３が生
じにくく、カリウムと基材成分との反応が生じにくい。
リ反応によって生じた金属水酸化物の沈殿は、その粒径
がきわめて微細であるためにモノリス基材１の凹部１０
の表面にも析出する。したがって図７に示すように、形
成された薄膜２’とモノリス基材１の間には空隙３が生
じにくく、カリウムと基材成分との反応が生じにくい。
【００５６】（実施例７）実施例１と同様のモノリス基
材を用い、押出成形の型に加工を施したものを用いて表
面粗さが種々異なるモノリス基材を形成した。そして薄
膜を形成しなかったこと以外は実施例１と同様にしてそ
れぞれコート層を形成し、同様にしてPtとカリウムをそ
れぞれ担持した。各触媒におけるコート層とモノリス基
材との接触割合は、断面の電子顕微鏡写真での測定の結
果、20〜85％であった。
材を用い、押出成形の型に加工を施したものを用いて表
面粗さが種々異なるモノリス基材を形成した。そして薄
膜を形成しなかったこと以外は実施例１と同様にしてそ
れぞれコート層を形成し、同様にしてPtとカリウムをそ
れぞれ担持した。各触媒におけるコート層とモノリス基
材との接触割合は、断面の電子顕微鏡写真での測定の結
果、20〜85％であった。
【００５７】（比較例２）コート層とモノリス基材との
接触割合が95％であること以外は実施例７と同様であ
る。この触媒は、従来の触媒に相当する。
接触割合が95％であること以外は実施例７と同様であ
る。この触媒は、従来の触媒に相当する。
【００５８】＜試験・評価＞実施例７及び比較例２の触
媒について、実施例１と同様に耐久試験を行った後、同
様にしてカリウムとモノリス基材成分との反応率を測定
した。また耐久試験前の触媒におけるモノリス基材の強
度を圧縮強度測定器によって測定した。それぞれの結果
を図８に示す。
媒について、実施例１と同様に耐久試験を行った後、同
様にしてカリウムとモノリス基材成分との反応率を測定
した。また耐久試験前の触媒におけるモノリス基材の強
度を圧縮強度測定器によって測定した。それぞれの結果
を図８に示す。
【００５９】図８より、コート層とモノリス基材との接
触割合が85％を超えると反応率が高すぎて好ましくな
い。またコート層とモノリス基材との接触割合が低下す
るにつれて反応率が低くなっているものの、30％より小
さいとモノリス基材の強度が低すぎて実用に供せない。
したがってコート層とモノリス基材との接触割合は、30
〜85％の範囲とすることが望ましいことが明らかであ
る。
触割合が85％を超えると反応率が高すぎて好ましくな
い。またコート層とモノリス基材との接触割合が低下す
るにつれて反応率が低くなっているものの、30％より小
さいとモノリス基材の強度が低すぎて実用に供せない。
したがってコート層とモノリス基材との接触割合は、30
〜85％の範囲とすることが望ましいことが明らかであ
る。
【００６０】（実施例８）図９に模式的に示すような表
面粗さをもつモノリス基材を用い、薄膜を形成しなかっ
たこと以外は実施例１と同様にしてコート層を形成し、
同様にしてPtとカリウムを担持した。この触媒における
コート層とモノリス基材との接触割合は、断面の電子顕
微鏡写真での測定の結果50％である。
面粗さをもつモノリス基材を用い、薄膜を形成しなかっ
たこと以外は実施例１と同様にしてコート層を形成し、
同様にしてPtとカリウムを担持した。この触媒における
コート層とモノリス基材との接触割合は、断面の電子顕
微鏡写真での測定の結果50％である。
【００６１】（実施例９）図10に模式的に示すような表
面粗さをもつモノリス基材を用い、薄膜を形成しなかっ
たこと以外は実施例１と同様にしてコート層を形成し、
同様にしてPtとカリウムを担持した。この触媒における
コート層とモノリス基材との接触割合は、断面の電子顕
微鏡写真での測定の結果40％である。
面粗さをもつモノリス基材を用い、薄膜を形成しなかっ
たこと以外は実施例１と同様にしてコート層を形成し、
同様にしてPtとカリウムを担持した。この触媒における
コート層とモノリス基材との接触割合は、断面の電子顕
微鏡写真での測定の結果40％である。
【００６２】＜試験・評価＞実施例８及び実施例９の触
媒について実施例１と同様に耐久試験を行った後、同様
にしてカリウムとモノリス基材成分との反応率をそれぞ
れ測定した。また耐久試験前の触媒におけるモノリス基
材の強度を圧縮強度測定器によって測定した。それぞれ
の結果を図１１に示す。なお図１１には比較例２の触媒
の結果も示している。
媒について実施例１と同様に耐久試験を行った後、同様
にしてカリウムとモノリス基材成分との反応率をそれぞ
れ測定した。また耐久試験前の触媒におけるモノリス基
材の強度を圧縮強度測定器によって測定した。それぞれ
の結果を図１１に示す。なお図１１には比較例２の触媒
の結果も示している。
【００６３】図１１より、図９及び図１０に示すような
表面粗さ形状とすることにより、強度は若干低下するも
のの、カリウムと基材成分との反応が抑制されているこ
とが明らかである。
表面粗さ形状とすることにより、強度は若干低下するも
のの、カリウムと基材成分との反応が抑制されているこ
とが明らかである。
【００６４】
【発明の効果】すなわち本発明の排ガス浄化用触媒によ
れば、コート層中のアルカリ金属と基材成分との反応が
抑制されるため基材の強度の低下を抑制することができ
る。したがって担持成分としてアルカリ金属を用いても
基材の耐熱衝撃性が低くなるような不具合がないので、
劣化までの使用期間を長くすることができ、単位使用時
間当たりのコストを低減することができる。
れば、コート層中のアルカリ金属と基材成分との反応が
抑制されるため基材の強度の低下を抑制することができ
る。したがって担持成分としてアルカリ金属を用いても
基材の耐熱衝撃性が低くなるような不具合がないので、
劣化までの使用期間を長くすることができ、単位使用時
間当たりのコストを低減することができる。
【図１】薄膜の厚さと、カリウムと基材組成の反応率及
び熱膨張係数との関係を示すグラフである。
び熱膨張係数との関係を示すグラフである。
【図２】薄膜の焼成温度と、カリウムと基材組成の反応
率との関係を示すグラフである。
率との関係を示すグラフである。
【図３】薄膜の原料酸化物の粒径と、カリウムと基材組
成の反応率との関係を示すグラフである。
成の反応率との関係を示すグラフである。
【図４】各種酸化物から形成された薄膜をもつ触媒のカ
リウムと基材組成の反応率を示すグラフである。
リウムと基材組成の反応率を示すグラフである。
【図５】酸−アルカリ反応で形成された薄膜の厚さと、
カリウムと基材組成の反応率との関係を示すグラフであ
る。
カリウムと基材組成の反応率との関係を示すグラフであ
る。
【図６】実施例１の触媒を模式的に示す拡大断面図であ
る。
る。
【図７】実施例５，６の触媒を模式的に示す拡大断面図
である。
である。
【図８】コート層と基材の接触割合と、カリウムと基材
組成の反応率及び強度との関係を示すグラフである。
組成の反応率及び強度との関係を示すグラフである。
【図９】実施例８で用いたモノリス基材の模式的断面図
である。
である。
【図１０】実施例９で用いたモノリス基材の模式的断面
図である。
図である。
【図１１】コート層と基材の接触割合と、カリウムと基
材組成の反応率及び強度との関係を示すグラフである。
材組成の反応率及び強度との関係を示すグラフである。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｆ０１Ｎ 3/28 ３０１ Ｂ０１Ｄ 53/36 １０２Ｂ １０２Ｈ Ｆターム(参考） 3G091 AA12 AB06 BA07 GA01 GA06 GB02W GB03W GB04W GB05W GB06W GB07W GB10X GB17X 4D048 AA06 AB02 AB07 BA03X BA10X BA14X BA30X BA31Y BA32Y BA33Y BA41X BB02 EA04 4G069 AA03 AA08 BA01A BA01B BA04A BA05A BA05B BA13A BA13B BA20A BB02A BB02B BB04A BB04B BB06A BB11A BC01A BC02A BC03A BC03B BC06A BC09A BC10A BC11A BC12A BC13A BC40A BC43A BC51A BC69A BC70A BC71A BC72A BC74A BC75A BC75B BD05A CA03 CA08 CA13 EA19 EB03 EB15X EB15Y EC28 ED03 ED06 EE06 FA03 FA06 FB08 FB15 FB30
Claims (4)
- 【請求項１】 基材と、該基材の表面に形成され酸化物
からなる薄膜と、該薄膜の表面に形成され少なくとも貴
金属とアルカリ金属とを担持した多孔質担体よりなるコ
ート層と、からなることを特徴とする排ガス浄化用触
媒。 - 【請求項２】 前記薄膜の厚さは 100μｍ以下であるこ
とを特徴とする請求項１に記載の排ガス浄化用触媒。 - 【請求項３】 前記薄膜は、酸−アルカリ反応により前
記基材表面に金属水酸化物の沈殿を形成しそれを焼成し
て形成されたことを特徴とする請求項１に記載の排ガス
浄化用触媒。 - 【請求項４】 基材と、該基材の表面に形成され少なく
とも貴金属とアルカリ金属とを担持した多孔質担体より
なるコート層と、からなる排ガス浄化用触媒であって、 該コート層の単位長さ当たりで該基材と該コート層とが
接触している長さの割合である接触割合を30〜85％とし
たことを特徴とする排ガス浄化用触媒。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000291654A JP3748202B2 (ja) | 2000-09-26 | 2000-09-26 | 排ガス浄化用触媒 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000291654A JP3748202B2 (ja) | 2000-09-26 | 2000-09-26 | 排ガス浄化用触媒 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002095968A true JP2002095968A (ja) | 2002-04-02 |
| JP3748202B2 JP3748202B2 (ja) | 2006-02-22 |
Family
ID=18774701
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000291654A Expired - Fee Related JP3748202B2 (ja) | 2000-09-26 | 2000-09-26 | 排ガス浄化用触媒 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3748202B2 (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2004004891A1 (ja) * | 2002-07-09 | 2004-01-15 | Ngk Insulators, Ltd. | 触媒用担体及び触媒体 |
| WO2004047984A1 (ja) * | 2002-11-22 | 2004-06-10 | Ngk Insulators, Ltd. | 触媒体 |
| WO2005102522A1 (en) * | 2004-04-22 | 2005-11-03 | Toyota Jidosha Kabushiki Kaisha | Exhaust gas control catalyst and manufacturing method thereof |
| WO2006025498A1 (ja) * | 2004-09-02 | 2006-03-09 | Ibiden Co., Ltd. | ハニカム構造体、その製造方法及び排気浄化装置 |
| JP2007190459A (ja) * | 2006-01-17 | 2007-08-02 | Toyota Motor Corp | Ｐｍ浄化用触媒 |
| JP2013081883A (ja) * | 2011-10-07 | 2013-05-09 | Nissan Motor Co Ltd | 排ガス浄化触媒 |
-
2000
- 2000-09-26 JP JP2000291654A patent/JP3748202B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2004004891A1 (ja) * | 2002-07-09 | 2004-01-15 | Ngk Insulators, Ltd. | 触媒用担体及び触媒体 |
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| JP2004167440A (ja) * | 2002-11-22 | 2004-06-17 | Ngk Insulators Ltd | 触媒体 |
| KR100767247B1 (ko) * | 2002-11-22 | 2007-10-17 | 니뽄 가이시 가부시키가이샤 | 촉매체 |
| US7348289B2 (en) | 2002-11-22 | 2008-03-25 | Ngk Insulators, Ltd. | Catalyst body |
| JP4567285B2 (ja) * | 2002-11-22 | 2010-10-20 | 日本碍子株式会社 | 排ガス浄化用触媒体 |
| WO2005102522A1 (en) * | 2004-04-22 | 2005-11-03 | Toyota Jidosha Kabushiki Kaisha | Exhaust gas control catalyst and manufacturing method thereof |
| WO2006025498A1 (ja) * | 2004-09-02 | 2006-03-09 | Ibiden Co., Ltd. | ハニカム構造体、その製造方法及び排気浄化装置 |
| US7833936B2 (en) | 2004-09-02 | 2010-11-16 | Ibiden Co., Ltd. | Honeycomb structure, method for producing the same, and exhaust emission purification apparatus |
| JP5161458B2 (ja) * | 2004-09-02 | 2013-03-13 | イビデン株式会社 | ハニカム構造体の製造方法 |
| JP2007190459A (ja) * | 2006-01-17 | 2007-08-02 | Toyota Motor Corp | Ｐｍ浄化用触媒 |
| JP2013081883A (ja) * | 2011-10-07 | 2013-05-09 | Nissan Motor Co Ltd | 排ガス浄化触媒 |
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3748202B2 (ja) | 2006-02-22 |
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