JP2002092939A - 多層光学式記録媒体及びその製造方法 - Google Patents
多層光学式記録媒体及びその製造方法Info
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- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
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- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
- Optical Recording Or Reproduction (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 プリフォーマットエリアの位置ずれが小さ
く、安定した記録及び再生を行うことが可能で高性能な
書き換え可能な多層光学式記録媒体を提供する。 【解決手段】 複数の記録層のうち少なくとも照射光ビ
ームを集光する対物レンズから最も遠い記録層のプリフ
ォーマット領域は、トラッキング方向の両端に設けられ
データが記録されないガード領域を有し、ガード領域の
各々の長さをＧＬ、当該最も遠い記録層及び他の記録層
のプリフォーマット領域のトラッキング方向における位
置ずれの許容最大値をＹＬ、対物レンズの開口数をＮ
Ａ、当該最も遠い記録層及び他の記録層の間隔をＴ、記
録層間の媒質の屈折率をｎとしたとき、ガード領域の長
さＧＬは、 ＧＬ≧ ＹＬ＋Ｔ×(ＮＡ/ｎ) /[１−(ＮＡ/ｎ)2]1/2 を満たすように定められる。
く、安定した記録及び再生を行うことが可能で高性能な
書き換え可能な多層光学式記録媒体を提供する。 【解決手段】 複数の記録層のうち少なくとも照射光ビ
ームを集光する対物レンズから最も遠い記録層のプリフ
ォーマット領域は、トラッキング方向の両端に設けられ
データが記録されないガード領域を有し、ガード領域の
各々の長さをＧＬ、当該最も遠い記録層及び他の記録層
のプリフォーマット領域のトラッキング方向における位
置ずれの許容最大値をＹＬ、対物レンズの開口数をＮ
Ａ、当該最も遠い記録層及び他の記録層の間隔をＴ、記
録層間の媒質の屈折率をｎとしたとき、ガード領域の長
さＧＬは、 ＧＬ≧ ＹＬ＋Ｔ×(ＮＡ/ｎ) /[１−(ＮＡ/ｎ)2]1/2 を満たすように定められる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、複数の記録層を有
する多層光学式記録媒体、特に、プリフォーマット領域
によってデータ記録領域が分割された多層光学式記録媒
体に関する。
する多層光学式記録媒体、特に、プリフォーマット領域
によってデータ記録領域が分割された多層光学式記録媒
体に関する。
【０００２】
【従来の技術】近年、大容量の記録媒体として、１面あ
たりの記録容量を増大させることが可能な多層光ディス
クが知られている。かかる多層光ディスクは、比較的小
さな所定の間隔を置いた複数の記録層を積層した構造を
有している。また、例えば、相変化媒体等の記録媒体を
用いた書き換え可能な多層光ディスクの開発が進められ
ている。
たりの記録容量を増大させることが可能な多層光ディス
クが知られている。かかる多層光ディスクは、比較的小
さな所定の間隔を置いた複数の記録層を積層した構造を
有している。また、例えば、相変化媒体等の記録媒体を
用いた書き換え可能な多層光ディスクの開発が進められ
ている。
【０００３】以下においては、説明の簡便さのため、相
変化媒体を用いた２つの記録層を有する２層ＤＶＤ（Di
gital Versatile Disc）の場合を例に説明する。かかる
２層ＤＶＤディスクは、上層又は第１記録層（すなわ
ち、光ピックアップの対物レンズに近い層）および下層
又は第２記録層に相変化記録膜を形成した構造を有して
いる。このような２層ディスクの記録時においては、い
ずれかの記録層にレーザ光をフォーカシングし、その記
録層に信号を記録又はその記録層から信号を再生する。
変化媒体を用いた２つの記録層を有する２層ＤＶＤ（Di
gital Versatile Disc）の場合を例に説明する。かかる
２層ＤＶＤディスクは、上層又は第１記録層（すなわ
ち、光ピックアップの対物レンズに近い層）および下層
又は第２記録層に相変化記録膜を形成した構造を有して
いる。このような２層ディスクの記録時においては、い
ずれかの記録層にレーザ光をフォーカシングし、その記
録層に信号を記録又はその記録層から信号を再生する。
【０００４】上記した２層ＤＶＤディスク等において、
第２記録層（以下、単に第２層と称する）に照射光ビー
ムの焦点を合わせて記録再生を行う場合を例に考える。
すなわち、光ビームを第１記録層（以下、単に第１層と
称する）を透過させつつ第２層に照射してデータ信号の
記録及び／又は再生を行う場合を考える。かかる記録再
生時において、第１層による影響は、第１層から反射さ
れて受光系に至る反射光量の変化及び第１層を透過して
第２層に至る透過光量の変化である。第１層からの反射
光量の変化に対しては、検出系等の構成を工夫すること
によってその影響を低減することができる。しかしなが
ら、第１層の透過光量の変化は、記録時においては記録
光強度の変動として、また、再生時においては再生信号
レベルの変動として現れ、無視できない場合がある。
第２記録層（以下、単に第２層と称する）に照射光ビー
ムの焦点を合わせて記録再生を行う場合を例に考える。
すなわち、光ビームを第１記録層（以下、単に第１層と
称する）を透過させつつ第２層に照射してデータ信号の
記録及び／又は再生を行う場合を考える。かかる記録再
生時において、第１層による影響は、第１層から反射さ
れて受光系に至る反射光量の変化及び第１層を透過して
第２層に至る透過光量の変化である。第１層からの反射
光量の変化に対しては、検出系等の構成を工夫すること
によってその影響を低減することができる。しかしなが
ら、第１層の透過光量の変化は、記録時においては記録
光強度の変動として、また、再生時においては再生信号
レベルの変動として現れ、無視できない場合がある。
【０００５】記録層に相変化媒体、例えば、ゲルマニウ
ムアンチモンテルル（ＧｅＳｂＴｅ）等を用いた場合、
結晶部とアモルファス部とでは透過率が異なり、結晶部
の透過率はアモルファス部の透過率よりも低い。相変化
媒体の未記録領域ではほぼ１００％が結晶部となり、記
録領域では結晶部とアモルファス部とが混在する。ま
た、第１層の記録領域には焦点が合っていないため、記
録信号そのものは再生されないが、光ビームの透過率は
結晶部とアモルファス部の平均透過率となる。従って、
第２層の再生時においては、第１層が記録領域である場
合と未記録領域である場合とで受光量、すなわち、再生
時におけるＲＦ信号レベルが変動する。
ムアンチモンテルル（ＧｅＳｂＴｅ）等を用いた場合、
結晶部とアモルファス部とでは透過率が異なり、結晶部
の透過率はアモルファス部の透過率よりも低い。相変化
媒体の未記録領域ではほぼ１００％が結晶部となり、記
録領域では結晶部とアモルファス部とが混在する。ま
た、第１層の記録領域には焦点が合っていないため、記
録信号そのものは再生されないが、光ビームの透過率は
結晶部とアモルファス部の平均透過率となる。従って、
第２層の再生時においては、第１層が記録領域である場
合と未記録領域である場合とで受光量、すなわち、再生
時におけるＲＦ信号レベルが変動する。
【０００６】このような場合、第１層におけるビーム内
で結晶部の占める面積とアモルファス部の占める面積の
割合が常に一定であれば、その透過率も一定となり、上
記した変動は回避される。しかしながら、一般的な書き
換え可能な多層光ディスクにおいては、データ信号が記
録されないプリフォーマット領域が設けられている。図
１及び図２を参照してＤＶＤ−ＲＡＭ（Random Access
Memory）の場合を例に説明する。この光ディスク３は、
記録領域がトラッキング方向（すなわち、タンジェンシ
ャル方向）にプリフォーマットエリア５によって分割さ
れ、複数のデータエリア６が同心円状に形成されてい
る。また、１つのプリフォーマットエリア５及びこれに
隣接する１つのデータエリア６でセクタ７が構成されて
いる。
で結晶部の占める面積とアモルファス部の占める面積の
割合が常に一定であれば、その透過率も一定となり、上
記した変動は回避される。しかしながら、一般的な書き
換え可能な多層光ディスクにおいては、データ信号が記
録されないプリフォーマット領域が設けられている。図
１及び図２を参照してＤＶＤ−ＲＡＭ（Random Access
Memory）の場合を例に説明する。この光ディスク３は、
記録領域がトラッキング方向（すなわち、タンジェンシ
ャル方向）にプリフォーマットエリア５によって分割さ
れ、複数のデータエリア６が同心円状に形成されてい
る。また、１つのプリフォーマットエリア５及びこれに
隣接する１つのデータエリア６でセクタ７が構成されて
いる。
【０００７】図２に、プリフォーマットエリア５の近傍
部分（Ａ部）の模式的な拡大図、及びこれらのエリアに
おける透過率を示す。プリフォーマットエリア５には、
アドレス等の情報がエンボスピット８として記録されて
いる。データエリア６はランド（Ｌ）及びグルーブ
（Ｇ）からなり、データが記録された部分には記録マー
ク９が形成されている。
部分（Ａ部）の模式的な拡大図、及びこれらのエリアに
おける透過率を示す。プリフォーマットエリア５には、
アドレス等の情報がエンボスピット８として記録されて
いる。データエリア６はランド（Ｌ）及びグルーブ
（Ｇ）からなり、データが記録された部分には記録マー
ク９が形成されている。
【０００８】図２に示すように、データエリア６の平均
透過率（ＴD）はプリフォーマットエリア５の透過率
（ＴP）よりも大きい。すなわち、第１層のプリフォー
マットエリア５における透過率は変動し、従って、第２
層の記録再生時における記録光強度又は再生信号強度は
変動する。プリフォーマットエリアを有する多層光学式
記録媒体において記録再生時の悪影響を回避するために
は、図３に示すように、第１層及び第２層の各プリフォ
ーマットエリアの位置が一致することが必要である。す
なわち、透過光量が減少する第１層のプリフォーマット
エリアの下を必ず第２層のプリフォーマットエリアとす
れば記録再生時に影響を与えることがない。しかしなが
ら、製造時においてプリフォーマットエリアの位置を一
致させることは実際上、困難であった。
透過率（ＴD）はプリフォーマットエリア５の透過率
（ＴP）よりも大きい。すなわち、第１層のプリフォー
マットエリア５における透過率は変動し、従って、第２
層の記録再生時における記録光強度又は再生信号強度は
変動する。プリフォーマットエリアを有する多層光学式
記録媒体において記録再生時の悪影響を回避するために
は、図３に示すように、第１層及び第２層の各プリフォ
ーマットエリアの位置が一致することが必要である。す
なわち、透過光量が減少する第１層のプリフォーマット
エリアの下を必ず第２層のプリフォーマットエリアとす
れば記録再生時に影響を与えることがない。しかしなが
ら、製造時においてプリフォーマットエリアの位置を一
致させることは実際上、困難であった。
【０００９】従って、プリフォーマットエリアの位置を
一致した光ディスク、あるいは、プリフォーマットエリ
アの位置ずれを可能な限り小さくすることが可能な光デ
ィスクの製造方法が望まれる。また、製造上、各記録層
間にプリフォーマットエリアの位置ずれが生じた場合で
あっても、上記した透過率の変動に起因する再生ＲＦ信
号の変動やＳＮ（信号対雑音比）の低下等の記録再生動
作における悪影響を回避することが必要である。
一致した光ディスク、あるいは、プリフォーマットエリ
アの位置ずれを可能な限り小さくすることが可能な光デ
ィスクの製造方法が望まれる。また、製造上、各記録層
間にプリフォーマットエリアの位置ずれが生じた場合で
あっても、上記した透過率の変動に起因する再生ＲＦ信
号の変動やＳＮ（信号対雑音比）の低下等の記録再生動
作における悪影響を回避することが必要である。
【００１０】
【発明が解決しようとする課題】本発明は上述した点に
鑑みてなされたものであり、その目的とするところは、
プリフォーマットエリアの位置ずれを低減させることが
可能な光ディスクの製造方法を提供することにある。ま
た、プリフォーマットエリアの位置ずれが生じた場合で
あっても、安定した記録及び再生を行うことが可能で高
性能な書き換え可能な多層光学式記録媒体を提供するこ
とにある。
鑑みてなされたものであり、その目的とするところは、
プリフォーマットエリアの位置ずれを低減させることが
可能な光ディスクの製造方法を提供することにある。ま
た、プリフォーマットエリアの位置ずれが生じた場合で
あっても、安定した記録及び再生を行うことが可能で高
性能な書き換え可能な多層光学式記録媒体を提供するこ
とにある。
【００１１】
【課題を解決するための手段】本発明による多層光学式
記録媒体は、プリフォーマット領域によってトラッキン
グ方向にデータ記録領域が分割された複数の記録層を有
する書き換え可能な多層光学式記録媒体であって、複数
の記録層のうち少なくとも照射光ビームを集光する対物
レンズから最も遠い記録層のプリフォーマット領域は、
トラッキング方向の両端に設けられデータが記録されな
いガード領域を有し、ガード領域の各々の長さをＧＬ、
当該最も遠い記録層及び他の記録層のプリフォーマット
領域のトラッキング方向における位置ずれの許容最大値
をＹＬ、対物レンズの開口数をＮＡ、当該最も遠い記録
層及び他の記録層の間隔をＴ、記録層間の媒質の屈折率
をｎとしたとき、ガード領域の長さＧＬは、 ＧＬ≧ ＹＬ＋Ｔ×(ＮＡ/ｎ) /[１−(ＮＡ/ｎ)2]1/2 を満たすことを特徴としている。
記録媒体は、プリフォーマット領域によってトラッキン
グ方向にデータ記録領域が分割された複数の記録層を有
する書き換え可能な多層光学式記録媒体であって、複数
の記録層のうち少なくとも照射光ビームを集光する対物
レンズから最も遠い記録層のプリフォーマット領域は、
トラッキング方向の両端に設けられデータが記録されな
いガード領域を有し、ガード領域の各々の長さをＧＬ、
当該最も遠い記録層及び他の記録層のプリフォーマット
領域のトラッキング方向における位置ずれの許容最大値
をＹＬ、対物レンズの開口数をＮＡ、当該最も遠い記録
層及び他の記録層の間隔をＴ、記録層間の媒質の屈折率
をｎとしたとき、ガード領域の長さＧＬは、 ＧＬ≧ ＹＬ＋Ｔ×(ＮＡ/ｎ) /[１−(ＮＡ/ｎ)2]1/2 を満たすことを特徴としている。
【００１２】本発明による多層光学式記録媒体の製造方
法は、プリフォーマット領域によってトラッキング方向
にデータ記録領域が分割された複数の記録層を有する書
き換え可能な多層光学式回転記録媒体の製造方法であっ
て、少なくとも１つの記録層を含む第１基板に第１基板
の回転中心に実質的に中心が一致した同心円状の凸部を
設けるステップと、少なくとも１つの記録層を含む第２
基板に、第２基板の回転中心に実質的に中心が一致し、
当該凸部に嵌合する凹部を設けるステップと、当該凸部
及び当該凸部を嵌合せしめて第１基板及び第２基板を接
着するステップと、を有することを特徴としている。
法は、プリフォーマット領域によってトラッキング方向
にデータ記録領域が分割された複数の記録層を有する書
き換え可能な多層光学式回転記録媒体の製造方法であっ
て、少なくとも１つの記録層を含む第１基板に第１基板
の回転中心に実質的に中心が一致した同心円状の凸部を
設けるステップと、少なくとも１つの記録層を含む第２
基板に、第２基板の回転中心に実質的に中心が一致し、
当該凸部に嵌合する凹部を設けるステップと、当該凸部
及び当該凸部を嵌合せしめて第１基板及び第２基板を接
着するステップと、を有することを特徴としている。
【００１３】
【発明の実施の形態】本発明の実施例を図面を参照しつ
つ詳細に説明する。尚、以下に説明する図において、実
質的に同等な構成要素には同一の参照符を付している。 ［第１の実施例］図４は、本発明による２層光ディスク
のトラッキング方向における構造を模式的に示す断面図
である。２層光ディスク３には、情報データ信号の記録
又は再生のためのレーザ光ビームの照射側から、順に第
１記録層（上層）１１及び第２記録層（下層）１２が形
成されている。すなわち、第２層がレーザ光ビームを集
光する対物レンズから遠い側の記録層である。
つ詳細に説明する。尚、以下に説明する図において、実
質的に同等な構成要素には同一の参照符を付している。 ［第１の実施例］図４は、本発明による２層光ディスク
のトラッキング方向における構造を模式的に示す断面図
である。２層光ディスク３には、情報データ信号の記録
又は再生のためのレーザ光ビームの照射側から、順に第
１記録層（上層）１１及び第２記録層（下層）１２が形
成されている。すなわち、第２層がレーザ光ビームを集
光する対物レンズから遠い側の記録層である。
【００１４】第１記録層（第１層）１１は、プリフォー
マットエリア５及びデータエリア６を有している。一
方、第２記録層（第２層）１２は、プリフォーマットエ
リア５、データエリア６、及びトラッキング方向におい
てプリフォーマットエリア５の両端に設けられ、データ
が記録されないガードエリア１４を有している。図４に
示すように、第１及び第２層１１，１２のプリフォーマ
ットエリア５は、互いにトラッキング方向において位置
がずれている。この位置ずれ（ＹＬ）は、光ディスク３
の製造時において生じるものである。
マットエリア５及びデータエリア６を有している。一
方、第２記録層（第２層）１２は、プリフォーマットエ
リア５、データエリア６、及びトラッキング方向におい
てプリフォーマットエリア５の両端に設けられ、データ
が記録されないガードエリア１４を有している。図４に
示すように、第１及び第２層１１，１２のプリフォーマ
ットエリア５は、互いにトラッキング方向において位置
がずれている。この位置ずれ（ＹＬ）は、光ディスク３
の製造時において生じるものである。
【００１５】また、第１及び第２層１１，１２の各々
は、例えば、ゲルマニウム・アンチモン・テルル（Ｇｅ
ＳｂＴｅ）等の相変化記録媒体を含んでいる。かかる相
変化記録媒体は、膜が生成された状態においては反射率
が低く、透過率が高いアモルファス状態となっている。
記録を行う前の初期化の際にレーザ光を照射することに
よって照射された部分の温度が上昇し、結晶化温度を超
えた後冷却されることによって反射率が高く、透過率が
低い結晶状態に変化する。次にデータ記録を行う際に、
光ピックアップからレーザ光を照射することによって照
射された部分の温度が上昇し、融点を超えた後急速に冷
却されることによって反射率が低く、透過率が高いアモ
ルファスマークが形成される。
は、例えば、ゲルマニウム・アンチモン・テルル（Ｇｅ
ＳｂＴｅ）等の相変化記録媒体を含んでいる。かかる相
変化記録媒体は、膜が生成された状態においては反射率
が低く、透過率が高いアモルファス状態となっている。
記録を行う前の初期化の際にレーザ光を照射することに
よって照射された部分の温度が上昇し、結晶化温度を超
えた後冷却されることによって反射率が高く、透過率が
低い結晶状態に変化する。次にデータ記録を行う際に、
光ピックアップからレーザ光を照射することによって照
射された部分の温度が上昇し、融点を超えた後急速に冷
却されることによって反射率が低く、透過率が高いアモ
ルファスマークが形成される。
【００１６】第１及び第２層１１，１２の間には層間媒
質としてスペーサ層１５が設けられている。スペーサ層
１５は、光ビームの光路となるため、光ビームの波長帯
での透過率が高い材料、例えば、紫外線硬化樹脂材料等
が用いられる。図５に、第１及び第２層１１，１２のプ
リフォーマットエリア５Ａ，５Ｂ及びデータエリア６
Ａ，６Ｂ境界近傍部分の模式的な拡大図を示す。また、
第２層１２に光ビームの焦点を合わせた場合の、トラッ
キング方向における第１層１１の平均透過率、及び第２
層１２からの反射光ビームのパワー変動をデータエリア
６Ｂを再生時のパワーで規格化して図の上側にグラフと
して示す。
質としてスペーサ層１５が設けられている。スペーサ層
１５は、光ビームの光路となるため、光ビームの波長帯
での透過率が高い材料、例えば、紫外線硬化樹脂材料等
が用いられる。図５に、第１及び第２層１１，１２のプ
リフォーマットエリア５Ａ，５Ｂ及びデータエリア６
Ａ，６Ｂ境界近傍部分の模式的な拡大図を示す。また、
第２層１２に光ビームの焦点を合わせた場合の、トラッ
キング方向における第１層１１の平均透過率、及び第２
層１２からの反射光ビームのパワー変動をデータエリア
６Ｂを再生時のパワーで規格化して図の上側にグラフと
して示す。
【００１７】第２層１２に光ビームの焦点を合わせて第
２層１２の再生を行った場合、第１層１１の平均透過率
はデータエリア６Ａで大きく、プリフォーマットエリア
５Ａにおける透過率は小さい。また、光ビームが第１層
１１のデータエリア６Ａからプリフォーマットエリア５
Ａに移行する領域では第１層１１における光ビームの広
がりによって平均透過率は徐々に変化（低下）する。こ
こでは、計算を簡単にするため、第１層１１における光
ビームの形状及び光ビーム内の光強度の分布は考えず、
平均透過率の変化の様子を直線で近似した。この第１層
１１の平均透過率の変化に応じて、第２層１２からの光
パワーも同様に低下する。
２層１２の再生を行った場合、第１層１１の平均透過率
はデータエリア６Ａで大きく、プリフォーマットエリア
５Ａにおける透過率は小さい。また、光ビームが第１層
１１のデータエリア６Ａからプリフォーマットエリア５
Ａに移行する領域では第１層１１における光ビームの広
がりによって平均透過率は徐々に変化（低下）する。こ
こでは、計算を簡単にするため、第１層１１における光
ビームの形状及び光ビーム内の光強度の分布は考えず、
平均透過率の変化の様子を直線で近似した。この第１層
１１の平均透過率の変化に応じて、第２層１２からの光
パワーも同様に低下する。
【００１８】第２層１２に光ビームの焦点を合わせて第
２層１２の再生を行う場合では、図５の下側の模式図に
示すように、第１層１１における光ビームの半径（Ｒ）
に相当する分だけ第１層１１の透過率変動の影響を受け
る範囲が広がる。従って、ガードエリア１４のトラッキ
ング方向における長さ（ＧＬ）は、プリフォーマットエ
リア５Ａ，５Ｂ間の位置ずれ（ＹＬ）に光ビームの半径
に相当する分（Ｒ）だけ長くする必要がある。すなわ
ち、 ＧＬ≧ ＹＬ＋Ｒ （１） を満たすようにガードエリア１４の長さを定めればよ
い。
２層１２の再生を行う場合では、図５の下側の模式図に
示すように、第１層１１における光ビームの半径（Ｒ）
に相当する分だけ第１層１１の透過率変動の影響を受け
る範囲が広がる。従って、ガードエリア１４のトラッキ
ング方向における長さ（ＧＬ）は、プリフォーマットエ
リア５Ａ，５Ｂ間の位置ずれ（ＹＬ）に光ビームの半径
に相当する分（Ｒ）だけ長くする必要がある。すなわ
ち、 ＧＬ≧ ＹＬ＋Ｒ （１） を満たすようにガードエリア１４の長さを定めればよ
い。
【００１９】なお、第２層１２に光ビームの焦点を合わ
せた場合の第１層１１における光ビームの半径（Ｒ）
は、図６に示すように、光ピックアップの光学系の対物
レンズの開口数（ＮＡ）、光ビームが透過するスペーサ
層１５の屈折率（ｎ）、及び記録層の間隔（Ｔ）に応じ
て変化する。光ビームの広がりの角度をθとすると、光
ビームの半径Ｒは、次式で表される。
せた場合の第１層１１における光ビームの半径（Ｒ）
は、図６に示すように、光ピックアップの光学系の対物
レンズの開口数（ＮＡ）、光ビームが透過するスペーサ
層１５の屈折率（ｎ）、及び記録層の間隔（Ｔ）に応じ
て変化する。光ビームの広がりの角度をθとすると、光
ビームの半径Ｒは、次式で表される。
【００２０】 Ｒ＝Ｔ×tanθ （２） ここで、 sinθ＝ＮＡ/ｎ （３） cosθ＝[１−(ＮＡ/ｎ)2]1/2 （４） tanθ＝(ＮＡ/ｎ) /[１−(ＮＡ/ｎ)2]1/2 （５） である。
【００２１】従って、ガードエリア１４の長さＧＬは、 ＧＬ≧ ＹＬ＋Ｔ×(ＮＡ/ｎ) /[１−(ＮＡ/ｎ)2]1/2 （６） を満たすように定めればよい。かかる条件を満たしてい
れば、第２層１２のデータエリア６Ｂにおいて第１層１
１のプリフォーマットエリア５Ａの影響を受けることな
く記録及び再生を行うことができる。なお、上記した式
において、位置ずれＹＬとしては、製造上の許容最大値
に設定すればよい。 ［第２の実施例］本発明による第２の実施例について、
図を参照して説明する。
れば、第２層１２のデータエリア６Ｂにおいて第１層１
１のプリフォーマットエリア５Ａの影響を受けることな
く記録及び再生を行うことができる。なお、上記した式
において、位置ずれＹＬとしては、製造上の許容最大値
に設定すればよい。 ［第２の実施例］本発明による第２の実施例について、
図を参照して説明する。
【００２２】図７は、第１及び第２層１１，１２のプリ
フォーマットエリア５Ａ，５Ｂの近傍部分の模式的な拡
大図を示す。また、第２層１２に光ビームの焦点を合わ
せた場合の、トラッキング方向における第１層１１の平
均透過率、及び第２層１２からの反射光ビームのパワー
変動をデータエリア６Ｂを再生時のパワーで規格化して
図の上側にグラフとして示す。ここで、実線及び一点鎖
線は計算を簡単にするために第１層１１における光ビー
ムの形状を正方形、光ビーム内の強度分布が一定と仮定
した場合のものである。光ビームの形状を円とし、光ビ
ーム内の強度分布も考慮した場合の平均透過率及び第２
層１２からの反射光ビームのパワー変動をデータエリア
６Ｂ再生時のパワーで規格化したものを、２点鎖線、３
点鎖線で示す。
フォーマットエリア５Ａ，５Ｂの近傍部分の模式的な拡
大図を示す。また、第２層１２に光ビームの焦点を合わ
せた場合の、トラッキング方向における第１層１１の平
均透過率、及び第２層１２からの反射光ビームのパワー
変動をデータエリア６Ｂを再生時のパワーで規格化して
図の上側にグラフとして示す。ここで、実線及び一点鎖
線は計算を簡単にするために第１層１１における光ビー
ムの形状を正方形、光ビーム内の強度分布が一定と仮定
した場合のものである。光ビームの形状を円とし、光ビ
ーム内の強度分布も考慮した場合の平均透過率及び第２
層１２からの反射光ビームのパワー変動をデータエリア
６Ｂ再生時のパワーで規格化したものを、２点鎖線、３
点鎖線で示す。
【００２３】上記した第１の実施例においては、光ビー
ムが第２層１２のガードエリア１４に達した時点まで第
２層１２からの光ビームのパワーが変動しないようにガ
ードエリア１４の長さを定める場合について説明した。
しかしながら、実際のシステム設計において、一定のパ
ワー変動が許容される場合には、第１の実施例において
示した値よりもガードエリア１４に要求される長さを低
減することが可能になる。
ムが第２層１２のガードエリア１４に達した時点まで第
２層１２からの光ビームのパワーが変動しないようにガ
ードエリア１４の長さを定める場合について説明した。
しかしながら、実際のシステム設計において、一定のパ
ワー変動が許容される場合には、第１の実施例において
示した値よりもガードエリア１４に要求される長さを低
減することが可能になる。
【００２４】図７のグラフに示すように、光ビームが第
１層１１のデータエリア６Ａからプリフォーマットエリ
ア５Ａ方向に移動して光ビームの一部がプリフォーマッ
トエリア５Ａに達した時点から光ビームのパワーは低下
し始める。この光ビームパワーの低下許容量をＶＰ（例
えば、低下許容量が５％の場合では、ＶＰ＝０．０５）
とし、相変化媒体の結晶部の透過率をＴＣ、アモルファ
ス部の透過率をＴＡとすると、光ビームの一部がプリフ
ォーマットエリア５Ａに侵入してもよい距離（Ｌ）は、
次式で表される。
１層１１のデータエリア６Ａからプリフォーマットエリ
ア５Ａ方向に移動して光ビームの一部がプリフォーマッ
トエリア５Ａに達した時点から光ビームのパワーは低下
し始める。この光ビームパワーの低下許容量をＶＰ（例
えば、低下許容量が５％の場合では、ＶＰ＝０．０５）
とし、相変化媒体の結晶部の透過率をＴＣ、アモルファ
ス部の透過率をＴＡとすると、光ビームの一部がプリフ
ォーマットエリア５Ａに侵入してもよい距離（Ｌ）は、
次式で表される。
【００２５】 Ｌ＝ ２×Ｒ×ＶＰ×(ＴＡ＋ＴＣ)／｜ＴＡ−ＴＣ｜] （７） なお、上式を導くにあたっては、計算を単純化するた
め、第１層１１内における光ビームの形状を正方形、強
度分布を一定と仮定した。従って、ガードエリア１４の
トラッキング方向における長さ（ＧＬ）は、 ＧＬ≧ ＹＬ＋Ｒ−Ｌ ＝ＹＬ＋Ｒ×[１−２×ＶＰ×(ＴＡ＋ＴＣ)／｜ＴＡ−ＴＣ｜] （８） Ｒ＝Ｔ×(ＮＡ/ｎ) /[１−(ＮＡ/ｎ)2]1/2 （９） を満たすように定めればよい。
め、第１層１１内における光ビームの形状を正方形、強
度分布を一定と仮定した。従って、ガードエリア１４の
トラッキング方向における長さ（ＧＬ）は、 ＧＬ≧ ＹＬ＋Ｒ−Ｌ ＝ＹＬ＋Ｒ×[１−２×ＶＰ×(ＴＡ＋ＴＣ)／｜ＴＡ−ＴＣ｜] （８） Ｒ＝Ｔ×(ＮＡ/ｎ) /[１−(ＮＡ/ｎ)2]1/2 （９） を満たすように定めればよい。
【００２６】かかる条件を満たすようにガードエリア１
４の長さＧＬを設定すれば、第１層１１のプリフォーマ
ットエリア５Ａの影響を受けたとしても、光ビームパワ
ーの変動を所定の許容量内に収めることができ、安定な
記録及び再生を行うことができる。さらに光ビームの形
状及び光ビーム内の強度分布を考慮すると平均透過率の
変化の様子は図７の２点鎖線で示した形となり、許容さ
れるパワー変動の値によっては、式（７）で示したＬの
長さを多少大きくすることができ、よりガードエリアに
要求される長さを低減することが可能となる。
４の長さＧＬを設定すれば、第１層１１のプリフォーマ
ットエリア５Ａの影響を受けたとしても、光ビームパワ
ーの変動を所定の許容量内に収めることができ、安定な
記録及び再生を行うことができる。さらに光ビームの形
状及び光ビーム内の強度分布を考慮すると平均透過率の
変化の様子は図７の２点鎖線で示した形となり、許容さ
れるパワー変動の値によっては、式（７）で示したＬの
長さを多少大きくすることができ、よりガードエリアに
要求される長さを低減することが可能となる。
【００２７】なお、上記した実施例においては、２層光
ディスクを例に説明したが、複数の相変化記録層を有す
る光ディスクについても適用が可能である。この場合、
複数の記録層のうち少なくとも照射光ビームを集光する
対物レンズから最も遠い記録層のプリフォーマットエリ
アにガードエリアを設ければよい。 ［第３の実施例］本発明の第３の実施例について説明す
る前に、プリフォーマットエリアの位置ずれについて以
下に述べる。図８に示すように、プリフォーマットエリ
アの位置ずれが生じる原因は、第１記録層及び第２記録
層の中心のずれ、すなわち、偏心によるものと、回転方
向のずれによるものに分けられる。
ディスクを例に説明したが、複数の相変化記録層を有す
る光ディスクについても適用が可能である。この場合、
複数の記録層のうち少なくとも照射光ビームを集光する
対物レンズから最も遠い記録層のプリフォーマットエリ
アにガードエリアを設ければよい。 ［第３の実施例］本発明の第３の実施例について説明す
る前に、プリフォーマットエリアの位置ずれについて以
下に述べる。図８に示すように、プリフォーマットエリ
アの位置ずれが生じる原因は、第１記録層及び第２記録
層の中心のずれ、すなわち、偏心によるものと、回転方
向のずれによるものに分けられる。
【００２８】図９は、本発明の第３の実施例である、第
１記録層を含む第１基板３１及び第２記録層を含む第２
基板４１の構造を示す斜視図である。第１基板３１に
は、第１基板３１の回転中心に実質的に中心が一致した
同心円形状の凸部３５が設けられている。また、第１基
板３１の外周部には凸部３７が設けられている。第２基
板４１には、第２基板４１の回転中心に実質的に中心が
一致し、第１基板３１の凸部３５に嵌合する同心円形状
の凹部４５が設けられている。さらに、第２基板４１の
外周部には第１基板３１の凸部３７に嵌合する凹部４７
が設けられている。凹部４７は凸部３７の対応する位
置、すなわち、第１基板３１及び第２基板４１の貼り合
わせ時に嵌合する位置であって、かつ第１基板３１のプ
リフォーマット領域及び第２基板４１のプリフォーマッ
ト領域の位置が実質的に一致する位置に配されている。
１記録層を含む第１基板３１及び第２記録層を含む第２
基板４１の構造を示す斜視図である。第１基板３１に
は、第１基板３１の回転中心に実質的に中心が一致した
同心円形状の凸部３５が設けられている。また、第１基
板３１の外周部には凸部３７が設けられている。第２基
板４１には、第２基板４１の回転中心に実質的に中心が
一致し、第１基板３１の凸部３５に嵌合する同心円形状
の凹部４５が設けられている。さらに、第２基板４１の
外周部には第１基板３１の凸部３７に嵌合する凹部４７
が設けられている。凹部４７は凸部３７の対応する位
置、すなわち、第１基板３１及び第２基板４１の貼り合
わせ時に嵌合する位置であって、かつ第１基板３１のプ
リフォーマット領域及び第２基板４１のプリフォーマッ
ト領域の位置が実質的に一致する位置に配されている。
【００２９】図１０は、図９に示した第１基板３１及び
第２基板４１の貼り合わせ方法を模式的に示す断面図で
ある。前述したように、第１基板３１及び第２基板４１
には、それぞれ記録層である第１層３８及び第２層４８
が含まれている。また、第１基板３１の接着面３１Ａと
第２基板４１の接着面４１Ａを対向させて貼り合わせ
る。この際、上記したように、第１基板３１の同心円形
状の凸部３５は第２基板４１の凹部４５に嵌合するの
で、偏心量を低減することができる。
第２基板４１の貼り合わせ方法を模式的に示す断面図で
ある。前述したように、第１基板３１及び第２基板４１
には、それぞれ記録層である第１層３８及び第２層４８
が含まれている。また、第１基板３１の接着面３１Ａと
第２基板４１の接着面４１Ａを対向させて貼り合わせ
る。この際、上記したように、第１基板３１の同心円形
状の凸部３５は第２基板４１の凹部４５に嵌合するの
で、偏心量を低減することができる。
【００３０】第１基板３１の外周部に形成された凸部３
７は、第２基板４１の凹部４７に嵌合する。また、上記
したように、凸部３７及び凹部４７は、嵌合によって第
１基板３１及び第２基板４１の各々のプリフォーマット
領域の位置が実質的に一致する位置に形成されているの
で、回転方向のずれを低減することができる。従って、
偏心及び回転方向のずれ、すなわち、プリフォーマット
領域の位置のずれが小さな光ディスクを実現できる。
７は、第２基板４１の凹部４７に嵌合する。また、上記
したように、凸部３７及び凹部４７は、嵌合によって第
１基板３１及び第２基板４１の各々のプリフォーマット
領域の位置が実質的に一致する位置に形成されているの
で、回転方向のずれを低減することができる。従って、
偏心及び回転方向のずれ、すなわち、プリフォーマット
領域の位置のずれが小さな光ディスクを実現できる。
【００３１】なお、上記した実施例では、第１基板３１
に同心円形状の凸部３５及び外周部の凸部３７を設け、
第２基板４１にこれらに嵌合する凹部４５及び凹部４７
を設けた場合を例に説明したが、これらの組合せは任意
である。すなわち、例えば、第１基板３１に同心円形状
の凸部及び外周部の凹部を設け、第２基板４１にそれぞ
れこれらに嵌合する凹部及び凸部を設ける構成としても
よい。これらの凸部及び凹部は、記録層の障害とならな
い位置に設ければよい。 ［第４の実施例］図１１は、本発明の第４の実施例であ
る光ディスク３の製造方法を模式的に示している。第１
基板３１に同心円形状の凸部３５を、第２基板４１に凸
部３５に嵌合する凹部４５を設けた構成は、上記した第
３の実施例の場合と同様である。すなわち、凸部３５及
び凹部４５の嵌合によって、偏心を小さく抑えることが
可能になる。
に同心円形状の凸部３５及び外周部の凸部３７を設け、
第２基板４１にこれらに嵌合する凹部４５及び凹部４７
を設けた場合を例に説明したが、これらの組合せは任意
である。すなわち、例えば、第１基板３１に同心円形状
の凸部及び外周部の凹部を設け、第２基板４１にそれぞ
れこれらに嵌合する凹部及び凸部を設ける構成としても
よい。これらの凸部及び凹部は、記録層の障害とならな
い位置に設ければよい。 ［第４の実施例］図１１は、本発明の第４の実施例であ
る光ディスク３の製造方法を模式的に示している。第１
基板３１に同心円形状の凸部３５を、第２基板４１に凸
部３５に嵌合する凹部４５を設けた構成は、上記した第
３の実施例の場合と同様である。すなわち、凸部３５及
び凹部４５の嵌合によって、偏心を小さく抑えることが
可能になる。
【００３２】本実施例においては、第１基板３１の内周
部又は外周部又は外周側面に第１基板３１の記録層のプ
リフォーマット領域の位置を示すマーク３９（図中、”
＋”印）が設けられている。また、同様に、第２基板４
１の外周側面に第２基板４１の記録層のプリフォーマッ
ト領域の位置を示すマーク４９（図中、”＋”印）が設
けられている。
部又は外周部又は外周側面に第１基板３１の記録層のプ
リフォーマット領域の位置を示すマーク３９（図中、”
＋”印）が設けられている。また、同様に、第２基板４
１の外周側面に第２基板４１の記録層のプリフォーマッ
ト領域の位置を示すマーク４９（図中、”＋”印）が設
けられている。
【００３３】第１基板３１及び第２基板４１を貼り合わ
せは、マーク３９及びマーク４９が一致するようになさ
れる。これによって、回転方向のずれを低減することが
できる。なお、マーク３９、４９を付ける位置は、プリ
フォーマット領域の位置と必ずしも一致していなくても
よい。すなわち、プリフォーマット領域の位置との相対
的な位置関係が同じであればよく、マークを合わせて貼
り合わせることによって両基板のプリフォーマット領域
の位置が実質的に一致するように設けられていればよ
い。また、マークとしては、信号記録時に書き込まれた
目印や、例えば、基板の凹凸等、基板の製造工程におい
て生じた印を用いてもよい。 ［第５の実施例］上記した実施例では、片面ディスクの
場合について説明したが、両面ディスクの場合でも同様
に適用することが可能である。図１２及び図１３は、本
発明の第５の実施例である光ディスク３の製造方法を模
式的に示す断面図である。
せは、マーク３９及びマーク４９が一致するようになさ
れる。これによって、回転方向のずれを低減することが
できる。なお、マーク３９、４９を付ける位置は、プリ
フォーマット領域の位置と必ずしも一致していなくても
よい。すなわち、プリフォーマット領域の位置との相対
的な位置関係が同じであればよく、マークを合わせて貼
り合わせることによって両基板のプリフォーマット領域
の位置が実質的に一致するように設けられていればよ
い。また、マークとしては、信号記録時に書き込まれた
目印や、例えば、基板の凹凸等、基板の製造工程におい
て生じた印を用いてもよい。 ［第５の実施例］上記した実施例では、片面ディスクの
場合について説明したが、両面ディスクの場合でも同様
に適用することが可能である。図１２及び図１３は、本
発明の第５の実施例である光ディスク３の製造方法を模
式的に示す断面図である。
【００３４】まず、図１２に示すように、上記した第３
の実施例の場合と同様に、記録層（第２層）３８を有す
る第１基板３１を準備する。従って、第１基板３１に
は、同心円形状の凸部３５及び外周部の凸部３７が設け
られている。一方、これに貼り合わされる、記録層を含
まない基板５１を準備する。基板５１は、第３の実施例
の第２基板４１と同様、第１基板３１に貼り合わされる
接着面５１Ａ側に、第１基板３１の同心円形状の凸部３
５及び外周部の凸部３７にそれぞれ嵌合する凹部４５及
び凹部４７が設けられている。さらに、接着面５１Ａの
反対側の接着面６１Ａにも同心円形状の凹部６５及び外
周部の凹部６７が設けられている。
の実施例の場合と同様に、記録層（第２層）３８を有す
る第１基板３１を準備する。従って、第１基板３１に
は、同心円形状の凸部３５及び外周部の凸部３７が設け
られている。一方、これに貼り合わされる、記録層を含
まない基板５１を準備する。基板５１は、第３の実施例
の第２基板４１と同様、第１基板３１に貼り合わされる
接着面５１Ａ側に、第１基板３１の同心円形状の凸部３
５及び外周部の凸部３７にそれぞれ嵌合する凹部４５及
び凹部４７が設けられている。さらに、接着面５１Ａの
反対側の接着面６１Ａにも同心円形状の凹部６５及び外
周部の凹部６７が設けられている。
【００３５】第３の実施例の場合と同様にして、接着面
３１Ａ及び５１Ａを貼り合わせる。図１３に示すよう
に、得られた基板６１は、第３の実施例の場合における
記録層３８を有する第２基板として用いる。すなわち、
基板６１は、第１基板３１の同心円形状の凸部３５及び
外周部の凸部３７に勘合する同心円形状の凹部６５及び
外周部の凹部６７が接着面６１Ａ側に設けられている。
従って、記録層６８を有する第１基板３１と貼り合わせ
ることによって、偏心及び回転方向のずれ、すなわち、
プリフォーマット領域の位置のずれが小さな両面光ディ
スクを実現することができる。
３１Ａ及び５１Ａを貼り合わせる。図１３に示すよう
に、得られた基板６１は、第３の実施例の場合における
記録層３８を有する第２基板として用いる。すなわち、
基板６１は、第１基板３１の同心円形状の凸部３５及び
外周部の凸部３７に勘合する同心円形状の凹部６５及び
外周部の凹部６７が接着面６１Ａ側に設けられている。
従って、記録層６８を有する第１基板３１と貼り合わせ
ることによって、偏心及び回転方向のずれ、すなわち、
プリフォーマット領域の位置のずれが小さな両面光ディ
スクを実現することができる。
【００３６】以上詳細に説明したように、各記録層間に
おけるプリフォーマットエリアの位置ずれを低減した光
ディスクを実現できる。また、プリフォーマットエリア
に僅かな位置ずれが生じた場合であっても、安定な記録
再生が可能な高性能な光ディスクを実現できる。また、
上記した実施例は例示であり、適宜改変して、または組
み合わせて適用することができる。
おけるプリフォーマットエリアの位置ずれを低減した光
ディスクを実現できる。また、プリフォーマットエリア
に僅かな位置ずれが生じた場合であっても、安定な記録
再生が可能な高性能な光ディスクを実現できる。また、
上記した実施例は例示であり、適宜改変して、または組
み合わせて適用することができる。
【００３７】
【発明の効果】上記したことから明らかなように、本発
明によれば、安定した記録及び再生を行うことが可能な
多層光学式記録媒体を実現できる。また、プリフォーマ
ットエリアの位置ずれを低減させることが可能な光ディ
スクを実現できる。
明によれば、安定した記録及び再生を行うことが可能な
多層光学式記録媒体を実現できる。また、プリフォーマ
ットエリアの位置ずれを低減させることが可能な光ディ
スクを実現できる。
【図１】光ディスクにおけるプリフォーマットエリア、
データエリア及びセクタの構成を模式的に示す図であ
る。
データエリア及びセクタの構成を模式的に示す図であ
る。
【図２】プリフォーマットエリア及びデータエリアの模
式的な拡大図、及びこれらのエリアにおける透過率を示
す図である。
式的な拡大図、及びこれらのエリアにおける透過率を示
す図である。
【図３】第１層及び第２層の各プリフォーマットエリア
の位置が一致した場合を示す断面図である。
の位置が一致した場合を示す断面図である。
【図４】本発明による２層光ディスクのトラッキング方
向における構造を模式的に示す断面図である。
向における構造を模式的に示す断面図である。
【図５】本発明の第１の実施例における、第１層及び第
２層のトラッキング方向におけるプリフォーマットエリ
ア及びデータエリア境界近傍部分の模式的な拡大図、及
び第１層の平均透過率及び第２層からの反射光ビームの
パワー変動を示すグラフである。
２層のトラッキング方向におけるプリフォーマットエリ
ア及びデータエリア境界近傍部分の模式的な拡大図、及
び第１層の平均透過率及び第２層からの反射光ビームの
パワー変動を示すグラフである。
【図６】第２層に光ビームの焦点を合わせた場合の第１
層における光ビームの半径Ｒを示す図である。
層における光ビームの半径Ｒを示す図である。
【図７】本発明の第２の実施例における、第１層及び第
２層のトラッキング方向におけるプリフォーマットエリ
ア及びデータエリア境界近傍部分の模式的な拡大図、及
び第１層の平均透過率及び第２層からの反射光ビームの
パワー変動を示すグラフである。
２層のトラッキング方向におけるプリフォーマットエリ
ア及びデータエリア境界近傍部分の模式的な拡大図、及
び第１層の平均透過率及び第２層からの反射光ビームの
パワー変動を示すグラフである。
【図８】プリフォーマットエリアの位置ずれが生じる原
因である記録層間の偏心及び回転方向のずれを示す図で
ある。
因である記録層間の偏心及び回転方向のずれを示す図で
ある。
【図９】本発明の第３の実施例である、第１記録層を含
む第１基板３１及び第２記録層を含む第２基板４１を示
す斜視図である。
む第１基板３１及び第２記録層を含む第２基板４１を示
す斜視図である。
【図１０】図９に示す第１基板及び第２基板の貼り合わ
せ方法を説明するための断面図である。
せ方法を説明するための断面図である。
【図１１】本発明の第４の実施例である光ディスクの構
造及び貼り合わせ方法を説明するための斜視図である。
造及び貼り合わせ方法を説明するための斜視図である。
【図１２】本発明の第５の実施例である両面光ディスク
の構造及び貼り合わせ方法を説明するための断面図であ
る。
の構造及び貼り合わせ方法を説明するための断面図であ
る。
【図１３】本発明の第５の実施例である両面光ディスク
の構造及び貼り合わせ方法を説明するための断面図であ
る。
の構造及び貼り合わせ方法を説明するための断面図であ
る。
３ 光ディスク ５ プリフォーマットエリア ６ データエリア ７ セクタ ８ エンボスピット ９ 記録ピット １１ 第１記録層 １２ 第２記録層 １４ ガードエリア １５ スペーサ層 ３１，４１ 基板 ３１Ａ，４１Ａ，５１Ａ，６１Ａ 接着面 ３５ 同心円形状の凸部 ３７ 凸部 ３８，４８ 記録層 ３９，４９ マーク ４５，５５，６５ 同心円形状の凹部 ４７，５７，６７ 凹部
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 志田 宜義 埼玉県鶴ヶ島市富士見６丁目１番１号 パ イオニア株式会社総合研究所内 (72)発明者 飯田 哲哉 埼玉県鶴ヶ島市富士見６丁目１番１号 パ イオニア株式会社総合研究所内 Ｆターム(参考） 5D029 JB13 RA08 WA01 WA31 WC04 WC06 WC10 WD11 5D090 AA01 BB05 BB12 DD02 DD05 FF11 GG16 5D121 AA07 FF01 FF15
Claims (7)
- 【請求項１】 プリフォーマット領域によってトラッキ
ング方向にデータ記録領域が分割された複数の記録層を
有する書き換え可能な多層光学式記録媒体であって、 前記複数の記録層のうち少なくとも照射光ビームを集光
する対物レンズから最も遠い記録層のプリフォーマット
領域は、前記トラッキング方向の両端に設けられデータ
が記録されないガード領域を有し、前記ガード領域の各
々の長さをＧＬ、前記最も遠い記録層及び他の記録層の
プリフォーマット領域の前記トラッキング方向における
位置ずれの許容最大値をＹＬ、前記対物レンズの開口数
をＮＡ、前記最も遠い記録層及び前記他の記録層の間隔
をＴ、記録層間の媒質の屈折率をｎとしたとき、前記ガ
ード領域の長さＧＬは、 ＧＬ≧ ＹＬ＋Ｔ×(ＮＡ/ｎ) /[１−(ＮＡ/ｎ)2]1/2 を満たすことを特徴とする多層光学式記録媒体。 - 【請求項２】 前記複数の記録層はデータ信号記録のた
めの相変化媒体を含み、前記相変化媒体の結晶部の透過
率をＴＣ、アモルファス部の透過率をＴＡ、前記光ビー
ムの強度の許容最大変動率をＶＰとしたとき、前記ガー
ド領域の長さＧＬは、 ＧＬ≧ ＹＬ＋Ｒ×[１−２×ＶＰ×(ＴＡ＋ＴＣ)／｜Ｔ
Ａ−ＴＣ｜] Ｒ＝Ｔ×(ＮＡ/ｎ) /[１−(ＮＡ/ｎ)2]1/2 を満たすことを特徴とする請求項１記載の多層光学式記
録媒体。 - 【請求項３】 プリフォーマット領域によってトラッキ
ング方向にデータ記録領域が分割された複数の記録層を
有する書き換え可能な多層光学式回転記録媒体の製造方
法であって、 少なくとも１つの記録層を含む第１基板に前記第１基板
の回転中心に実質的に中心が一致した同心円状の凸部を
設けるステップと、 少なくとも１つの記録層を含む第２基板に、前記第２基
板の回転中心に実質的に中心が一致し、前記凸部に嵌合
する凹部を設けるステップと、 前記凸部及び前記凸部を嵌合せしめて前記第１基板及び
前記第２基板を接着するステップと、を有することを特
徴とする製造方法。 - 【請求項４】 前記第１基板の内周部又は外周部に凸部
を設けるステップと、前記第２基板のプリフォーマット
領域に前記凸部に嵌合する凹部を設けるステップと、を
更に有し、前記凸部及び前記凹部は、前記第１基板及び
前記第１基板の接着によって前記第１基板のプリフォー
マット領域及び前記第２基板のプリフォーマット領域が
実質的に一致する位置に配されたことを特徴とする請求
項３記載の製造方法。 - 【請求項５】 前記第１基板の内周部又は外周部に凹部
を設けるステップと、前記第２基板のプリフォーマット
領域に前記凹部に嵌合する凸部を設けるステップと、を
更に有し、前記凸部及び前記凹部は、前記第１基板及び
前記第１基板の接着によって前記第１基板のプリフォー
マット領域及び前記第２基板のプリフォーマット領域が
実質的に一致する位置に配されたことを特徴とする請求
項３記載の製造方法。 - 【請求項６】 前記第１基板の内周部又は外周部又は外
周側面に前記第１基板のプリフォーマット領域の位置を
示すマークを設けるステップと、前記第２基板の内周部
又は外周部又は外周側面に前記第２基板のプリフォーマ
ット領域の位置を示すマークを設けるステップと、を更
に有し、 前記接着するステップは、前記第１基板のマーク及び前
記第２基板のマークを合わせるステップを含むことを特
徴とする請求項３記載の製造方法。 - 【請求項７】 前記請求項３ないし６のいずれか１項記
載の製造方法により製造された多層光学式回転記録媒
体。
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