JP2002091326A - ディスプレイ用フィルター基板及びディスプレイ装置 - Google Patents
ディスプレイ用フィルター基板及びディスプレイ装置Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 一定の強度を持ち、表示品位を低下させない
軽量なディスプレイ用前面フィルターガラス基板と、こ
のディスプレイ用フィルター基板を用いたディスプレイ
装置を提供する。 【解決手段】 ガラス基板よりなり、電磁波遮蔽機能、
近赤外線カット機能、反射防止機能のうち、一種以上の
機能を有するディスプレイ用フィルター基板において、
板厚が１．８〜３．２ｍｍであり、該ガラス基板の表面
圧縮応力の平均値が２０〜７０ＭＰａであり、該ガラス
基板の反り量が１．０％以下であることを特徴とするデ
ィスプレイ用フィルター基板。表面圧縮応力は、風冷強
化又は化学強化処理等により付与される。このディスプ
レイ用フィルター基板を備えたディスプレイ装置。
軽量なディスプレイ用前面フィルターガラス基板と、こ
のディスプレイ用フィルター基板を用いたディスプレイ
装置を提供する。 【解決手段】 ガラス基板よりなり、電磁波遮蔽機能、
近赤外線カット機能、反射防止機能のうち、一種以上の
機能を有するディスプレイ用フィルター基板において、
板厚が１．８〜３．２ｍｍであり、該ガラス基板の表面
圧縮応力の平均値が２０〜７０ＭＰａであり、該ガラス
基板の反り量が１．０％以下であることを特徴とするデ
ィスプレイ用フィルター基板。表面圧縮応力は、風冷強
化又は化学強化処理等により付与される。このディスプ
レイ用フィルター基板を備えたディスプレイ装置。
Description
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、ディスプレイの前
面に配置されるフィルター用ガラス基板に係り、特にプ
ラズマディスプレイ（ＰＤＰ）用の前面フィルター用に
好適なガラス基板に関する。また、本発明は、このディ
スプレイ用フィルター基板を用いたディスプレイ装置に
関する。なお、本発明は、ＰＤＰに限らずフィールドエ
ミッションディスプレイ（ＦＥＤ）や陰極線管（ＣＲ
Ｔ）にも適用することができる。
面に配置されるフィルター用ガラス基板に係り、特にプ
ラズマディスプレイ（ＰＤＰ）用の前面フィルター用に
好適なガラス基板に関する。また、本発明は、このディ
スプレイ用フィルター基板を用いたディスプレイ装置に
関する。なお、本発明は、ＰＤＰに限らずフィールドエ
ミッションディスプレイ（ＦＥＤ）や陰極線管（ＣＲ
Ｔ）にも適用することができる。
【０００２】
【従来の技術】プラズマディスプレイ装置では、電磁波
遮蔽機能、近赤外線カット機能、反射防止機能（高透過
率）のいずれか一種以上の機能を持つ前面フィルターが
用いられている。これらの機能を充足させるための技術
として、特開平１１−３０７９８７号公報は、電磁波遮
蔽機能として基板の表面抵抗が３Ω以下、近赤外線カッ
ト機能として光波長８５０ｎｍでの透過率が２０％以
下、反射防止機能（高透過率）として可視光波長領域で
の透過率が６０％以上である、前面フィルター基板を開
示している。
遮蔽機能、近赤外線カット機能、反射防止機能（高透過
率）のいずれか一種以上の機能を持つ前面フィルターが
用いられている。これらの機能を充足させるための技術
として、特開平１１−３０７９８７号公報は、電磁波遮
蔽機能として基板の表面抵抗が３Ω以下、近赤外線カッ
ト機能として光波長８５０ｎｍでの透過率が２０％以
下、反射防止機能（高透過率）として可視光波長領域で
の透過率が６０％以上である、前面フィルター基板を開
示している。
【０００３】前面フィルター基板は表示パネルの前面に
配置されるために、一定以上の強度と軽量化とをあわせ
て要求される。強度とは外力に対する破壊強度のことで
あり、外力に対するパネルの保護、及び人体が接触した
場合の安全の観点から要求される特性である。一般的に
強度と軽量化は相反する特性であり、従来はディスプレ
イ用前面フィルター基板として、これらの相反する特性
を両立させることは困難であった。
配置されるために、一定以上の強度と軽量化とをあわせ
て要求される。強度とは外力に対する破壊強度のことで
あり、外力に対するパネルの保護、及び人体が接触した
場合の安全の観点から要求される特性である。一般的に
強度と軽量化は相反する特性であり、従来はディスプレ
イ用前面フィルター基板として、これらの相反する特性
を両立させることは困難であった。
【０００４】また、ディスプレイに表示された情報はフ
ィルターを通して視認されるため、フィルターに光学的
歪みをもたらす反りやうねりなどの変形はディスプレイ
の本来機能である表示品位の観点から、厳しく制限され
なければならない。ところが、反りなどの変形を抑制す
ることと、上述した強度及び軽量化の課題とは、これま
た相反するものであった。すなわち、軽量化のために基
板を薄くすれば、剛性が不足して変形しやすく、また強
度を上げるための強化処理、特に加熱−冷却による強化
方法では熱による変形が避け難く、基板の変形（反り）
による表示品位の低下を引き起こしていた。以上のよう
に、従来は一定の強度を保ち、表示品位を損なわない軽
量なディスプレイ用前面フィルター基板を、工業的に安
定して供給することができなかった。
ィルターを通して視認されるため、フィルターに光学的
歪みをもたらす反りやうねりなどの変形はディスプレイ
の本来機能である表示品位の観点から、厳しく制限され
なければならない。ところが、反りなどの変形を抑制す
ることと、上述した強度及び軽量化の課題とは、これま
た相反するものであった。すなわち、軽量化のために基
板を薄くすれば、剛性が不足して変形しやすく、また強
度を上げるための強化処理、特に加熱−冷却による強化
方法では熱による変形が避け難く、基板の変形（反り）
による表示品位の低下を引き起こしていた。以上のよう
に、従来は一定の強度を保ち、表示品位を損なわない軽
量なディスプレイ用前面フィルター基板を、工業的に安
定して供給することができなかった。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、一定の強度
を保ち、表示品位に優れ（即ち、反り、歪みが小さ
い）、しかも軽量なディスプレイ用フィルター基板と、
この基板を用いたディスプレイ装置を提供することを目
的とする。
を保ち、表示品位に優れ（即ち、反り、歪みが小さ
い）、しかも軽量なディスプレイ用フィルター基板と、
この基板を用いたディスプレイ装置を提供することを目
的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】請求項１のディスプレイ
用フィルター基板は、ガラス基板よりなり、電磁波遮蔽
機能、近赤外線カット機能、反射防止機能のうち、一種
以上の機能を有するディスプレイ用フィルター基板にお
いて、板厚が１．８〜３．２ｍｍであり、該ガラス基板
の表面圧縮応力の平均値が２０〜７０ＭＰａであり、該
ガラス基板の反り量が１．０％以下であることを特徴と
するものである。かかるディスプレイ用フィルター基板
は、比較的薄いガラス基板を用いているので、軽量であ
る。また、ガラス基板に適度な表面圧縮応力を与えてあ
るので、破壊強度が高い。さらに、光学歪みをもたらす
反り量が小さいので、表示品位に優れる。
用フィルター基板は、ガラス基板よりなり、電磁波遮蔽
機能、近赤外線カット機能、反射防止機能のうち、一種
以上の機能を有するディスプレイ用フィルター基板にお
いて、板厚が１．８〜３．２ｍｍであり、該ガラス基板
の表面圧縮応力の平均値が２０〜７０ＭＰａであり、該
ガラス基板の反り量が１．０％以下であることを特徴と
するものである。かかるディスプレイ用フィルター基板
は、比較的薄いガラス基板を用いているので、軽量であ
る。また、ガラス基板に適度な表面圧縮応力を与えてあ
るので、破壊強度が高い。さらに、光学歪みをもたらす
反り量が小さいので、表示品位に優れる。
【０００７】請求項２のディスプレイ用フィルター基板
は、請求項１のディスプレイ用フィルター基板におい
て、ガラス基板の表面圧縮応力の平均値が４０〜６０Ｍ
Ｐａであることを特徴とするものである。かかるディス
プレイ用フィルター基板にあっては、表面圧縮応力の下
限値が高く、ガラス基板の強度が高い。また、表面圧縮
応力の上限値を適度に低く抑えていることにより、応力
を発生させるための加熱温度を低くすることができるの
で、加熱による変形を小さくでき、表示品位のよいディ
スプレイ用フィルター基板を得ることができる。
は、請求項１のディスプレイ用フィルター基板におい
て、ガラス基板の表面圧縮応力の平均値が４０〜６０Ｍ
Ｐａであることを特徴とするものである。かかるディス
プレイ用フィルター基板にあっては、表面圧縮応力の下
限値が高く、ガラス基板の強度が高い。また、表面圧縮
応力の上限値を適度に低く抑えていることにより、応力
を発生させるための加熱温度を低くすることができるの
で、加熱による変形を小さくでき、表示品位のよいディ
スプレイ用フィルター基板を得ることができる。
【０００８】請求項３のディスプレイ用フィルター基板
は、請求項１又は２のディスプレイ用フィルター基板に
おいて、表面圧縮応力は、ガラス基板を加熱後急冷する
（以下、風冷強化という）ことにより生じたものである
ことを特徴とする。かかるディスプレイ用フィルター基
板は、安価に得ることができる。
は、請求項１又は２のディスプレイ用フィルター基板に
おいて、表面圧縮応力は、ガラス基板を加熱後急冷する
（以下、風冷強化という）ことにより生じたものである
ことを特徴とする。かかるディスプレイ用フィルター基
板は、安価に得ることができる。
【０００９】請求項４のディスプレイ用フィルター基板
は、請求項１又は２のディスプレイ用フィルター基板に
おいて、表面圧縮応力は、ガラス基板を溶融塩中に浸漬
し、ガラス基板中のナトリウムイオンと溶融塩中のカリ
ウムイオンとをイオン交換反応させること（以下、化学
強化ということがある。）により生じたものであること
を特徴とする。かかるディスプレイ用フィルター基板
は、比較的薄いガラス基板であっても適正な強度が付与
されている。また、前記風冷強化の場合よりも低温で処
理できるので、比較的薄い基板であっても反りなどの変
形を抑えることができる。
は、請求項１又は２のディスプレイ用フィルター基板に
おいて、表面圧縮応力は、ガラス基板を溶融塩中に浸漬
し、ガラス基板中のナトリウムイオンと溶融塩中のカリ
ウムイオンとをイオン交換反応させること（以下、化学
強化ということがある。）により生じたものであること
を特徴とする。かかるディスプレイ用フィルター基板
は、比較的薄いガラス基板であっても適正な強度が付与
されている。また、前記風冷強化の場合よりも低温で処
理できるので、比較的薄い基板であっても反りなどの変
形を抑えることができる。
【００１０】請求項５のディスプレイ用フィルター基板
は、請求項１ないし４のいずれか１項のディスプレイ用
フィルター基板において、フィルター基板の周囲の一部
または全周に可視光線遮蔽用のマスキング層が形成され
ているものである。
は、請求項１ないし４のいずれか１項のディスプレイ用
フィルター基板において、フィルター基板の周囲の一部
または全周に可視光線遮蔽用のマスキング層が形成され
ているものである。
【００１１】請求項６のディスプレイ用フィルター基板
は、このマスキング層の厚さが３５μｍ以下であること
を特徴とする。
は、このマスキング層の厚さが３５μｍ以下であること
を特徴とする。
【００１２】請求項７のディスプレイ用フィルター基板
は、請求項５又は６において、前記マスキング層が顔料
を含んだ低融点ガラスの焼付けにより形成されており、
且つ該マスキング層の、フィルター基板外縁からの幅が
５０ｍｍ以下であることを特徴とするものである。
は、請求項５又は６において、前記マスキング層が顔料
を含んだ低融点ガラスの焼付けにより形成されており、
且つ該マスキング層の、フィルター基板外縁からの幅が
５０ｍｍ以下であることを特徴とするものである。
【００１３】この請求項５〜７のようにマスキング層を
形成することにより、ディスプレイパネルの画面のう
ち、情報表示に必要のない周辺部を遮光できるので、例
えば、パネルの周辺部裏面側に配置された配線回路など
を覆い隠し、ディスプレイパネルの美観を向上させるこ
とができる。
形成することにより、ディスプレイパネルの画面のう
ち、情報表示に必要のない周辺部を遮光できるので、例
えば、パネルの周辺部裏面側に配置された配線回路など
を覆い隠し、ディスプレイパネルの美観を向上させるこ
とができる。
【００１４】このマスキング層の厚さが３５μｍ以下で
ある場合、フィルムを基板に貼ってもマスキング層とガ
ラス基板面との段差部分に気泡が生じない。
ある場合、フィルムを基板に貼ってもマスキング層とガ
ラス基板面との段差部分に気泡が生じない。
【００１５】このマスキング層を顔料を含んだ低融点ガ
ラスで形成する場合、請求項７の通りマスキング層の、
フィルター基板外縁からの幅が５０ｍｍ以下とすること
により、マスキング層の焼付け時に低融点ガラスがガラ
ス基板に影響して反射映像が悪化することが防止され
る。なお、請求項７のディスプレイ用フィルター基板の
通り、マスキング層を低融点ガラスと顔料とを含むもの
とした場合、マスキング剤の塗布工程とガラス基板の風
冷強化工程とを連続して行うことができ、加工コストを
低く抑えることができると共に、マスキング層とガラス
基板を強固に固着させることができる。
ラスで形成する場合、請求項７の通りマスキング層の、
フィルター基板外縁からの幅が５０ｍｍ以下とすること
により、マスキング層の焼付け時に低融点ガラスがガラ
ス基板に影響して反射映像が悪化することが防止され
る。なお、請求項７のディスプレイ用フィルター基板の
通り、マスキング層を低融点ガラスと顔料とを含むもの
とした場合、マスキング剤の塗布工程とガラス基板の風
冷強化工程とを連続して行うことができ、加工コストを
低く抑えることができると共に、マスキング層とガラス
基板を強固に固着させることができる。
【００１６】請求項８のディスプレイ用フィルター基板
は、請求項５又は６において、前記マスキング層が少な
くとも熱硬化性樹脂と、顔料又は染料とを含むことを特
徴とするものである。かかるディスプレイ用フィルター
基板にあっては、前記マスキング剤が熱硬化性樹脂を含
むものであるため、比較的低温でマスキング剤をガラス
基板に固着できる。従って、風冷強化処理、化学強化処
理後により基板表面に付与された圧縮応力を損なうこと
なく、マスキングを施すことができ、加熱による変形を
受けにくいため、表示品位を損なうことがない。
は、請求項５又は６において、前記マスキング層が少な
くとも熱硬化性樹脂と、顔料又は染料とを含むことを特
徴とするものである。かかるディスプレイ用フィルター
基板にあっては、前記マスキング剤が熱硬化性樹脂を含
むものであるため、比較的低温でマスキング剤をガラス
基板に固着できる。従って、風冷強化処理、化学強化処
理後により基板表面に付与された圧縮応力を損なうこと
なく、マスキングを施すことができ、加熱による変形を
受けにくいため、表示品位を損なうことがない。
【００１７】請求項９のディスプレイ用フィルター基板
は、請求項５ないし８のいずれか１項において、前記マ
スキング層の可視光波長域での吸光度が３．０以上であ
ることを特徴とするものである。かかるディスプレイ用
フィルター基板によれば、マスキング層によりディスプ
レイパネルの周辺部をきわめて十分に遮光することがで
きる。
は、請求項５ないし８のいずれか１項において、前記マ
スキング層の可視光波長域での吸光度が３．０以上であ
ることを特徴とするものである。かかるディスプレイ用
フィルター基板によれば、マスキング層によりディスプ
レイパネルの周辺部をきわめて十分に遮光することがで
きる。
【００１８】請求項１０のディスプレイ用フィルター基
板は、前記マスキング層で覆われた部分のガラス基板の
表面圧縮応力が、マスキングされていない部分のガラス
基板の表面圧縮応力の平均値の８０％以上であることを
特徴とするものである。かかるディスプレイ用フィルタ
ー基板にあっては、ガラス基板の周辺においても適正範
囲の圧縮応力が保持されている。一般に、ガラス基板の
周辺部には破壊の原因となるキズが多いが、この周辺部
にも適正範囲の圧縮応力を与えることにより、ディスプ
レイ用フィルター基板の強度を高いものとすることがで
きる。
板は、前記マスキング層で覆われた部分のガラス基板の
表面圧縮応力が、マスキングされていない部分のガラス
基板の表面圧縮応力の平均値の８０％以上であることを
特徴とするものである。かかるディスプレイ用フィルタ
ー基板にあっては、ガラス基板の周辺においても適正範
囲の圧縮応力が保持されている。一般に、ガラス基板の
周辺部には破壊の原因となるキズが多いが、この周辺部
にも適正範囲の圧縮応力を与えることにより、ディスプ
レイ用フィルター基板の強度を高いものとすることがで
きる。
【００１９】本発明（請求項１１）のディスプレイ装置
は、ディスプレイ用フィルター基板を有するディスプレ
イ装置において、該ディスプレイ用フィルター基板が請
求項１ないし１０のいずれか１項のディスプレイ用フィ
ルター基板であることを特徴とするものである。
は、ディスプレイ用フィルター基板を有するディスプレ
イ装置において、該ディスプレイ用フィルター基板が請
求項１ないし１０のいずれか１項のディスプレイ用フィ
ルター基板であることを特徴とするものである。
【００２０】このディスプレイ装置は、実用上十分な強
度を保ち、表示品位を損なわず、かつ軽量なディスプレ
イ用フィルター基板を備えたディスプレイ装置である。
度を保ち、表示品位を損なわず、かつ軽量なディスプレ
イ用フィルター基板を備えたディスプレイ装置である。
【００２１】
【発明の実施の形態】本発明のディスプレイ用フィルタ
ー基板のガラス基板の材質は、ソーダライムガラスが好
適である。
ー基板のガラス基板の材質は、ソーダライムガラスが好
適である。
【００２２】このガラス基板は、板厚が１．８〜３．２
ｍｍと比較的薄く、軽量である。板厚が１．８ｍｍより
も小さいと、強度が不足し、３．２ｍｍよりも大きいと
ガラス基板の重量が過度に大きくなる。
ｍｍと比較的薄く、軽量である。板厚が１．８ｍｍより
も小さいと、強度が不足し、３．２ｍｍよりも大きいと
ガラス基板の重量が過度に大きくなる。
【００２３】本発明では、ガラス基板の強度を高めるた
めに、好ましくは風冷強化処理又は化学強化処理を施す
ことにより、ガラス基板の表面圧縮応力の平均値を２０
〜７０ＭＰａとしている。この表面圧縮応力の平均値が
２０ＭＰａよりも小さいと、ガラス基板の強度が不足す
る。表面圧縮応力は、強度の観点からはなるべく高いほ
うが良いのであるが、７０ＭＰａよりも高い応力を付与
しようとすれば、風冷強化においても化学強化において
も基板をより高温に加熱することになり、その結果、熱
による変形、即ち反りやうねりが大きくなる。このた
め、本発明では、表面圧縮応力は２０〜７０ＭＰａとし
ている。
めに、好ましくは風冷強化処理又は化学強化処理を施す
ことにより、ガラス基板の表面圧縮応力の平均値を２０
〜７０ＭＰａとしている。この表面圧縮応力の平均値が
２０ＭＰａよりも小さいと、ガラス基板の強度が不足す
る。表面圧縮応力は、強度の観点からはなるべく高いほ
うが良いのであるが、７０ＭＰａよりも高い応力を付与
しようとすれば、風冷強化においても化学強化において
も基板をより高温に加熱することになり、その結果、熱
による変形、即ち反りやうねりが大きくなる。このた
め、本発明では、表面圧縮応力は２０〜７０ＭＰａとし
ている。
【００２４】なお、この表面圧縮応力を４０〜６０MPａ
とする場合、軽量で実用上の安全性を確保できる強度
と、実用上許容できる表示品位を合わせ持つフィルター
基板を工業的に安定して製造でき、好ましい。表面圧縮
応力を与える手段としては、製造コストの点からは基板
を加熱後急冷する風冷強化法が望ましく、表示品位を重
視する場合には、ガラス基板を風冷強化よりも低温で処
理する化学強化法が望ましい。
とする場合、軽量で実用上の安全性を確保できる強度
と、実用上許容できる表示品位を合わせ持つフィルター
基板を工業的に安定して製造でき、好ましい。表面圧縮
応力を与える手段としては、製造コストの点からは基板
を加熱後急冷する風冷強化法が望ましく、表示品位を重
視する場合には、ガラス基板を風冷強化よりも低温で処
理する化学強化法が望ましい。
【００２５】この応力を得るための風冷強化工程の加熱
温度は、５２０〜５６０℃とりわけ５３０〜５５０℃が
好ましい。急冷するときの風圧はおよそ１５〜３０ｋＰ
ａとりわけ２０〜２５ｋＰａが好適である。
温度は、５２０〜５６０℃とりわけ５３０〜５５０℃が
好ましい。急冷するときの風圧はおよそ１５〜３０ｋＰ
ａとりわけ２０〜２５ｋＰａが好適である。
【００２６】化学強化処理する場合、溶融塩の温度は４
００〜４５０℃とりわけ４１０〜４３０℃が好ましい。
溶融塩中への浸漬処理時間は２〜６時間とくに約４時間
程度が好ましい。ソーダライムガラス中のナトリウムイ
オンと交換されるカリウムイオンの供給源としては硝酸
カリウムの溶融塩が好適に用いられる。
００〜４５０℃とりわけ４１０〜４３０℃が好ましい。
溶融塩中への浸漬処理時間は２〜６時間とくに約４時間
程度が好ましい。ソーダライムガラス中のナトリウムイ
オンと交換されるカリウムイオンの供給源としては硝酸
カリウムの溶融塩が好適に用いられる。
【００２７】上記の風冷強化処理又は化学強化処理によ
りガラス基板には反りやうねりが生じるが、本発明では
この反り量を１．０％以下とすることによりガラス基板
の反射映像の向上を図っている。
りガラス基板には反りやうねりが生じるが、本発明では
この反り量を１．０％以下とすることによりガラス基板
の反射映像の向上を図っている。
【００２８】この反り量は、ＪＩＳ Ｒ３２２２にした
がって、図１のようにガラス基板１を垂直に立てて置
き、基準線２ａを設けて、反りの大きさＤを測定し，ガ
ラス幅ＬによりＤを除した値の百分率（Ｄ／Ｌ×１００
％）として定義される。この反り量は０．８％以下とく
に０．６％以下であることが好ましい。
がって、図１のようにガラス基板１を垂直に立てて置
き、基準線２ａを設けて、反りの大きさＤを測定し，ガ
ラス幅ＬによりＤを除した値の百分率（Ｄ／Ｌ×１００
％）として定義される。この反り量は０．８％以下とく
に０．６％以下であることが好ましい。
【００２９】なお、反り量が１．０％以下であっても、
うねり即ち局所的な歪みが大きいと反射映像が悪くな
る。従って、本発明ではうねり量が１．０％以下とくに
０．６％以下であることが好ましい。
うねり即ち局所的な歪みが大きいと反射映像が悪くな
る。従って、本発明ではうねり量が１．０％以下とくに
０．６％以下であることが好ましい。
【００３０】このうねり量は、図１に示される通り、う
ねり（局所的な歪み）の幅（ピッチ）ｗとそのうねりの
大きさｄとを測定し、ｄをｗで除した値ｄ／ｗの百分率
（ｄ／ｗ×１００％）として定義される。
ねり（局所的な歪み）の幅（ピッチ）ｗとそのうねりの
大きさｄとを測定し、ｄをｗで除した値ｄ／ｗの百分率
（ｄ／ｗ×１００％）として定義される。
【００３１】なお、一般にディスプレイ用フィルター基
板の周縁部は、中央部に比べてガラス基板の破壊原因と
なるキズが多いが、この周縁部における表面圧縮応力が
それよりも中央側の部分の表面圧縮応力の平均値の８０
％以上とすることにより、該周縁部の強度を十分に高い
ものとすることができる。
板の周縁部は、中央部に比べてガラス基板の破壊原因と
なるキズが多いが、この周縁部における表面圧縮応力が
それよりも中央側の部分の表面圧縮応力の平均値の８０
％以上とすることにより、該周縁部の強度を十分に高い
ものとすることができる。
【００３２】この周縁部には通常マスキング層が設けら
れ、ディスプレイ用フィルター基板の周縁部の裏側に配
置された配線回路などを覆い隠すようにしているが、本
発明でもこのマスキング層を設けることが好ましい。
れ、ディスプレイ用フィルター基板の周縁部の裏側に配
置された配線回路などを覆い隠すようにしているが、本
発明でもこのマスキング層を設けることが好ましい。
【００３３】このマスキング層は、例えば低融点ガラス
と顔料とを含む調合物をガラス基板に塗布し、必要に応
じ乾燥後、加熱してこの低融点ガラスと顔料との混合物
をガラス基板に焼付けることにより形成することができ
る。
と顔料とを含む調合物をガラス基板に塗布し、必要に応
じ乾燥後、加熱してこの低融点ガラスと顔料との混合物
をガラス基板に焼付けることにより形成することができ
る。
【００３４】この低融点ガラスとしては、軟化点が５０
０℃以下のホウ珪酸鉛ガラス、珪酸鉛ガラス、または鉛
（Ｐｂ）−珪素（Ｓｉ）−ホウ素（Ｂ）系、亜鉛（Ｚ
ｎ）系、ビスマス（Ｂｉ）系の結晶化ガラスなどを用い
ることができる。ホウ珪酸鉛ガラスの組成は酸化鉛（Ｐ
ｂＯ）５０〜７０質量％、酸化珪素（ＳｉＯ２）３０〜
４０質量％、酸化ホウ素（Ｂ２Ｏ３）とアルカリ又はア
ルカリ土類金属酸化物（ＲｘＯｙ）との合計０〜２０質
量％である。珪酸鉛ガラスの組成は酸化鉛（ＰｂＯ）５
０〜７０質量％、酸化珪素（ＳｉＯ２）３０〜４０質量
％、アルカリ又はアルカリ土類金属酸化物（ＲｘＯｙ）
０〜２０質量％である。顔料としては酸化銅（Ｃｕ
Ｏ）、酸化クロム（Ｃｒ２Ｏ３）、酸化鉄（Ｆｅ
２Ｏ３）、酸化コバルト（ＣｏＯ）、酸化マンガン（Ｍ
ｎＯ２）、酸化アルミニウム（Ａｌ２Ｏ３）、酸化亜鉛
（ＺｎＯ）、クロム酸鉛（ＰｂＣｒ２Ｏ４）、硫酸鉛
（ＰｂＳＯ４）、モリブデン酸鉛（ＰｂＭｏＯ４）など
から選ばれる１種または複数の材料を混合した無機質顔
料が好適である。
０℃以下のホウ珪酸鉛ガラス、珪酸鉛ガラス、または鉛
（Ｐｂ）−珪素（Ｓｉ）−ホウ素（Ｂ）系、亜鉛（Ｚ
ｎ）系、ビスマス（Ｂｉ）系の結晶化ガラスなどを用い
ることができる。ホウ珪酸鉛ガラスの組成は酸化鉛（Ｐ
ｂＯ）５０〜７０質量％、酸化珪素（ＳｉＯ２）３０〜
４０質量％、酸化ホウ素（Ｂ２Ｏ３）とアルカリ又はア
ルカリ土類金属酸化物（ＲｘＯｙ）との合計０〜２０質
量％である。珪酸鉛ガラスの組成は酸化鉛（ＰｂＯ）５
０〜７０質量％、酸化珪素（ＳｉＯ２）３０〜４０質量
％、アルカリ又はアルカリ土類金属酸化物（ＲｘＯｙ）
０〜２０質量％である。顔料としては酸化銅（Ｃｕ
Ｏ）、酸化クロム（Ｃｒ２Ｏ３）、酸化鉄（Ｆｅ
２Ｏ３）、酸化コバルト（ＣｏＯ）、酸化マンガン（Ｍ
ｎＯ２）、酸化アルミニウム（Ａｌ２Ｏ３）、酸化亜鉛
（ＺｎＯ）、クロム酸鉛（ＰｂＣｒ２Ｏ４）、硫酸鉛
（ＰｂＳＯ４）、モリブデン酸鉛（ＰｂＭｏＯ４）など
から選ばれる１種または複数の材料を混合した無機質顔
料が好適である。
【００３５】塗布のためにこの混合物をペースト状とす
るための媒体（メジウム）としてはパインオイルなどの
溶剤や、セルロース系、アクリル系、ロジン系、エステ
ル系樹脂などを用いることができる。
るための媒体（メジウム）としてはパインオイルなどの
溶剤や、セルロース系、アクリル系、ロジン系、エステ
ル系樹脂などを用いることができる。
【００３６】マスキング層がこの低融点ガラスと顔料と
を含むものである場合、マスキング層の最大幅が基板の
外縁部から５０ｍｍ以下であることが望ましい。５０ｍ
ｍを超えると、風冷強化処理時に基板外周部に熱による
変形が発生しやすく、その結果表示品が低下する。これ
は、加熱過程で、マスキング部のガラス温度が他の部分
より高くなるので、急冷時により多くの変形が発生する
ためであると推察される。
を含むものである場合、マスキング層の最大幅が基板の
外縁部から５０ｍｍ以下であることが望ましい。５０ｍ
ｍを超えると、風冷強化処理時に基板外周部に熱による
変形が発生しやすく、その結果表示品が低下する。これ
は、加熱過程で、マスキング部のガラス温度が他の部分
より高くなるので、急冷時により多くの変形が発生する
ためであると推察される。
【００３７】マスキング層は、また、熱硬化性合成樹脂
と、顔料及び／又は染料とを含む調合物を顔料に塗布
し、必要に応じ乾燥後、加熱して顔料に焼付けることに
よっても形成することができる。
と、顔料及び／又は染料とを含む調合物を顔料に塗布
し、必要に応じ乾燥後、加熱して顔料に焼付けることに
よっても形成することができる。
【００３８】熱硬化性樹脂は、通常は１５０℃程度の温
度で硬化するため、表面圧縮応力を付加した基板への塗
布、硬化が可能であり、熱による変形も発生しにくく、
ガラス基板の表示品位が損なわれない。
度で硬化するため、表面圧縮応力を付加した基板への塗
布、硬化が可能であり、熱による変形も発生しにくく、
ガラス基板の表示品位が損なわれない。
【００３９】この熱硬化合成樹脂としては、エポキシ樹
脂、アクリルシリコン樹脂、アルキッド樹脂、ポリアミ
ド樹脂、フッ素樹脂等を用いることができる。
脂、アクリルシリコン樹脂、アルキッド樹脂、ポリアミ
ド樹脂、フッ素樹脂等を用いることができる。
【００４０】顔料としては上記と同様の無機質顔料が好
適である。染料としてはフタロシアニン系、ジオキサジ
ン系、アントラキノン系の有機物等を用いることができ
る。塗布のためにこの混合物をペースト状にするための
媒体としては、ジエチレングリコールモノブチルエーテ
ルアセテート、エチレングリコールモノブチルエーテル
などの溶剤を用いることができる。また硬化反応促進剤
として変性脂肪族ポリアミン樹脂、Ｎ−ブタノールなど
を混合してもよい。マスキング層が低融点ガラス及び熱
硬化合成樹脂のいずれによって形成される場合において
も、マスキング層における顔料や染料の配合量は、十分
な遮蔽性能が得られるように選定されればよい。具体的
には、マスキング層の吸光度が３．０以上となるように
選定されればよい。なお、マスキング層の吸光度が３．
０よりも小さいと、マスキング層の遮光性が不足する。
この吸光度は４．０以上であることが特に好ましい。こ
の吸光度は、透過率（Ｔ）の逆数（１／Ｔ）の常用対数
である。
適である。染料としてはフタロシアニン系、ジオキサジ
ン系、アントラキノン系の有機物等を用いることができ
る。塗布のためにこの混合物をペースト状にするための
媒体としては、ジエチレングリコールモノブチルエーテ
ルアセテート、エチレングリコールモノブチルエーテル
などの溶剤を用いることができる。また硬化反応促進剤
として変性脂肪族ポリアミン樹脂、Ｎ−ブタノールなど
を混合してもよい。マスキング層が低融点ガラス及び熱
硬化合成樹脂のいずれによって形成される場合において
も、マスキング層における顔料や染料の配合量は、十分
な遮蔽性能が得られるように選定されればよい。具体的
には、マスキング層の吸光度が３．０以上となるように
選定されればよい。なお、マスキング層の吸光度が３．
０よりも小さいと、マスキング層の遮光性が不足する。
この吸光度は４．０以上であることが特に好ましい。こ
の吸光度は、透過率（Ｔ）の逆数（１／Ｔ）の常用対数
である。
【００４１】マスキング層の色調は、遮光性能の点から
黒色が使いやすいが、ディスプレイ全体のデザイン上の
観点から、赤系、青系、その他の混合色が任意に用いら
れる。
黒色が使いやすいが、ディスプレイ全体のデザイン上の
観点から、赤系、青系、その他の混合色が任意に用いら
れる。
【００４２】可視光線遮蔽用マスキング剤をフィルター
基板に塗布する方法としては、種々の公知の方法を用い
ればよいが、特にスクリーン印刷法は大量、安価な生産
方法として好適である。
基板に塗布する方法としては、種々の公知の方法を用い
ればよいが、特にスクリーン印刷法は大量、安価な生産
方法として好適である。
【００４３】このマスキング層の厚さは３５μｍ以下、
特に３０μｍ以下であることが好ましい。マスキング層
の厚さが３５μｍよりも大きいと、マスキング層表面と
ガラス基板表面との境界部の段差が過大となり、ディス
プレイ用フィルター基板の上に電磁波遮蔽用、近赤外線
カット用又は反射防止用などのフィルムを張った場合に
この段差部分に気泡が残留し易くなる。
特に３０μｍ以下であることが好ましい。マスキング層
の厚さが３５μｍよりも大きいと、マスキング層表面と
ガラス基板表面との境界部の段差が過大となり、ディス
プレイ用フィルター基板の上に電磁波遮蔽用、近赤外線
カット用又は反射防止用などのフィルムを張った場合に
この段差部分に気泡が残留し易くなる。
【００４４】本発明のディスプレイ装置は、ディスプレ
イ用フィルター基板としてかかる本発明のディスプレイ
用フィルター基板を用いたものである。このディスプレ
イ装置としては、プラズマディスプレイ装置、フィール
ドエミッションディスプレイ装置、陰極線管などが例示
される。
イ用フィルター基板としてかかる本発明のディスプレイ
用フィルター基板を用いたものである。このディスプレ
イ装置としては、プラズマディスプレイ装置、フィール
ドエミッションディスプレイ装置、陰極線管などが例示
される。
【００４５】
【実施例】＜実施例１，２，３，４＞ガラス厚１．８ｍ
ｍ（実施例１）、２．５ｍｍ（実施例２）、３．２ｍｍ
（実施例４３）、２．５ｍｍ（実施例４）の基板を１０
００×６００ｍｍのサイズに切断面取りし、外周に幅３
０ｍｍにわたってホウケイ酸鉛ガラス粉末５６質量％部
及び、酸化銅（ＣｕＯ）と酸化クロム（Ｃｒ２Ｏ３）の
複合酸化物よりなる黒色顔料２６質量％部並びにパイン
オイルを主成分とする溶媒１８質量％からなるマスキン
グ剤をステンレスワイヤ製の２００メッシュのスクリー
ンを用いて塗布した後、室温で乾燥した。加熱炉で搬送
速度１４０ｍｍ／秒で搬送しながらそれぞれ５５５℃
（実施例１）、５４５℃（実施例２）、５４０℃（実施
例３）、５３０℃（実施例４）に加熱し、風圧２０ｋＰ
ａで３秒間急冷した。
ｍ（実施例１）、２．５ｍｍ（実施例２）、３．２ｍｍ
（実施例４３）、２．５ｍｍ（実施例４）の基板を１０
００×６００ｍｍのサイズに切断面取りし、外周に幅３
０ｍｍにわたってホウケイ酸鉛ガラス粉末５６質量％部
及び、酸化銅（ＣｕＯ）と酸化クロム（Ｃｒ２Ｏ３）の
複合酸化物よりなる黒色顔料２６質量％部並びにパイン
オイルを主成分とする溶媒１８質量％からなるマスキン
グ剤をステンレスワイヤ製の２００メッシュのスクリー
ンを用いて塗布した後、室温で乾燥した。加熱炉で搬送
速度１４０ｍｍ／秒で搬送しながらそれぞれ５５５℃
（実施例１）、５４５℃（実施例２）、５４０℃（実施
例３）、５３０℃（実施例４）に加熱し、風圧２０ｋＰ
ａで３秒間急冷した。
【００４６】表面圧縮応力及び反りは、ＪＩＳ３２２２
に基づいて測定した。ばらつきは、次式から算出した。
最大値−平均値＞平均値−最小値の場合；（最大値−平
均値）／平均値最大値−平均値＜平均値−最小値の場
合；（平均値−最小値）／平均値
に基づいて測定した。ばらつきは、次式から算出した。
最大値−平均値＞平均値−最小値の場合；（最大値−平
均値）／平均値最大値−平均値＜平均値−最小値の場
合；（平均値−最小値）／平均値
【００４７】落球強度はＡＮＳＩ／ＵＬ１４１８に基づ
いて実施し、サンプルが破損した落球高さを記録した。
反射映像は図２のように格子パターンをガラス基板に写
してその歪みの程度から判定した。
いて実施し、サンプルが破損した落球高さを記録した。
反射映像は図２のように格子パターンをガラス基板に写
してその歪みの程度から判定した。
【００４８】即ち、図２（ａ）のような１５ｃｍピッ
チ、線太さ２ｃｍの碁盤目を持つパターンを使用し、図
２（ｂ）の位置関係にてガラスに映ったパターンを写真
撮影する。そして、限度写真と比較して供試体のグレー
ドを判定する。撮影するに際して、同じ位置に１３５ｍ
ｍ望遠レンズ付き３５ｍｍ判写真機を置いて撮影し、こ
れを１１．３倍に引き伸ばした写真を用いる。引き伸ば
した写真を標準サンプル（ガラス基板）を用いた場合の
写真と対比し、反射映像が良い場合には○とし、悪い場
合には×とした。
チ、線太さ２ｃｍの碁盤目を持つパターンを使用し、図
２（ｂ）の位置関係にてガラスに映ったパターンを写真
撮影する。そして、限度写真と比較して供試体のグレー
ドを判定する。撮影するに際して、同じ位置に１３５ｍ
ｍ望遠レンズ付き３５ｍｍ判写真機を置いて撮影し、こ
れを１１．３倍に引き伸ばした写真を用いる。引き伸ば
した写真を標準サンプル（ガラス基板）を用いた場合の
写真と対比し、反射映像が良い場合には○とし、悪い場
合には×とした。
【００４９】これらの結果を表１に示す。
【００５０】＜比較例１，２＞ガラス厚１．１ｍｍ（比
較例１）、３．５ｍｍ（比較例２）の基板をそれぞれ５
６３℃（比較例１）、５３５℃（比較例２）に加熱した
こと以外は、実施例１〜４と全く同一の方法でマスキン
グ剤塗布及び風冷処理を行った。
較例１）、３．５ｍｍ（比較例２）の基板をそれぞれ５
６３℃（比較例１）、５３５℃（比較例２）に加熱した
こと以外は、実施例１〜４と全く同一の方法でマスキン
グ剤塗布及び風冷処理を行った。
【００５１】＜比較例３，４＞ガラス厚２．５ｍｍの基
板をそれぞれ５２０℃（比較例３）、５６０℃（比較例
４）に加熱したこと以外は、実施例１〜４と全く同一の
方法でマスキング剤塗布及び風冷処理を行った。
板をそれぞれ５２０℃（比較例３）、５６０℃（比較例
４）に加熱したこと以外は、実施例１〜４と全く同一の
方法でマスキング剤塗布及び風冷処理を行った。
【００５２】＜比較例５＞ガラス厚２．５ｍｍの基板を
搬送速度２８０ｍｍ／秒で搬送しながら５４５℃に加熱
したこと以外は、実施例１〜４と全く同一の方法でマス
キング剤塗布及び風冷処理を行った。
搬送速度２８０ｍｍ／秒で搬送しながら５４５℃に加熱
したこと以外は、実施例１〜４と全く同一の方法でマス
キング剤塗布及び風冷処理を行った。
【００５３】表面圧縮応力、反り、落球破壊高さ、反射
映像、重量の測定の評価結果を表１に示す。表１の通
り、実施例１〜４はいずれも落下破壊高さが高く、反射
映像も良好であり、軽量である。
映像、重量の測定の評価結果を表１に示す。表１の通
り、実施例１〜４はいずれも落下破壊高さが高く、反射
映像も良好であり、軽量である。
【００５４】これに対し、比較例１では、ガラス厚みが
１．１ｍｍと薄く、落球破壊高さが１００ｃｍで規格１
３０ｃｍを満たさず、且つ、反りが大きくなり反射映像
も悪化する。
１．１ｍｍと薄く、落球破壊高さが１００ｃｍで規格１
３０ｃｍを満たさず、且つ、反りが大きくなり反射映像
も悪化する。
【００５５】比較例２では、ガラス厚みが３．５ｍｍと
厚いため、強度、反り、反射映像は問題ないが、重量が
５ｋｇ以上となる。
厚いため、強度、反り、反射映像は問題ないが、重量が
５ｋｇ以上となる。
【００５６】比較例３では、風冷強化処理時の加熱温度
が５２０℃と低いために、表面圧縮応力が１５ＭＰａと
低い。このため、ディスプレイ用フィルター基板の強度
が不足する。
が５２０℃と低いために、表面圧縮応力が１５ＭＰａと
低い。このため、ディスプレイ用フィルター基板の強度
が不足する。
【００５７】比較例４では、風冷強化処理時の加熱温度
が５５０℃と高いために、逆に、表面圧縮応力が８０Ｍ
Ｐａと高く、強度的には問題ないが、反射映像が悪い。
が５５０℃と高いために、逆に、表面圧縮応力が８０Ｍ
Ｐａと高く、強度的には問題ないが、反射映像が悪い。
【００５８】比較例５では、風冷強化処理時の加熱時間
（炉内滞留時間）が短すぎるため、マスキング部の表面
圧縮応力低下が透明部の７５％と低く、落球破壊高さ１
２５ｃｍで規格を満たさない。
（炉内滞留時間）が短すぎるため、マスキング部の表面
圧縮応力低下が透明部の７５％と低く、落球破壊高さ１
２５ｃｍで規格を満たさない。
【００５９】なお、上記実施例１〜４により得られたデ
ィスプレイ用フィルター基板のマスキング層の厚さをマ
イクロメータを用いて、マスキング剤を塗布した部分と
塗布していない部分の厚み差から算出したところ、いず
れも２５μｍであった。このディスプレイ用フィルター
基板に樹脂フィルムを貼ったところ、マスキング層とガ
ラス基板表面との段差面に気泡は全く生じなかった。
ィスプレイ用フィルター基板のマスキング層の厚さをマ
イクロメータを用いて、マスキング剤を塗布した部分と
塗布していない部分の厚み差から算出したところ、いず
れも２５μｍであった。このディスプレイ用フィルター
基板に樹脂フィルムを貼ったところ、マスキング層とガ
ラス基板表面との段差面に気泡は全く生じなかった。
【００６０】
【表１】
【００６１】＜実施例５＞実施例２において、低融点ガ
ラスの代わりに熱硬化合成樹脂及び顔料を主体とする塗
布材料を用いてマスキング層を形成した。この塗布材料
は、熱硬化性樹脂基材として、エポキシ樹脂３０質量％
に溶媒のエチレングリコールモノブチルエーテル４質量
％を混合したもの、顔料として、クロム酸鉛２２質量
％、硫酸鉛７質量％、モリブデン酸鉛２質量％の混合
物、硬化反応促進剤として、変性脂肪族ポリアミン樹脂
２２質量％とＮ−ブタノール３質量％の混合物、粘度調
整用の溶剤としてジエチルグリコールモノブチルエーテ
ルアセテート１０質量％を配合した物である。
ラスの代わりに熱硬化合成樹脂及び顔料を主体とする塗
布材料を用いてマスキング層を形成した。この塗布材料
は、熱硬化性樹脂基材として、エポキシ樹脂３０質量％
に溶媒のエチレングリコールモノブチルエーテル４質量
％を混合したもの、顔料として、クロム酸鉛２２質量
％、硫酸鉛７質量％、モリブデン酸鉛２質量％の混合
物、硬化反応促進剤として、変性脂肪族ポリアミン樹脂
２２質量％とＮ−ブタノール３質量％の混合物、粘度調
整用の溶剤としてジエチルグリコールモノブチルエーテ
ルアセテート１０質量％を配合した物である。
【００６２】実施例２で用いたものと同一の２．５ｍｍ
厚のガラス基板を、まず加熱炉で搬送速度１４０ｍｍ／
秒で搬送しながら５４５℃に加熱し、風圧２０ｋＰａで
３秒間急冷を行った。その後、上記塗布材料をステンレ
スワイヤ製の２００メッシュのスクリーンを用いてガラ
ス基板外周に幅３０ｍｍのスクリーン印刷を行い、１５
０℃で３０分間乾燥させてマスキング層を形成した。
厚のガラス基板を、まず加熱炉で搬送速度１４０ｍｍ／
秒で搬送しながら５４５℃に加熱し、風圧２０ｋＰａで
３秒間急冷を行った。その後、上記塗布材料をステンレ
スワイヤ製の２００メッシュのスクリーンを用いてガラ
ス基板外周に幅３０ｍｍのスクリーン印刷を行い、１５
０℃で３０分間乾燥させてマスキング層を形成した。
【００６３】＜実施例６＞スクリーン印刷幅を６０ｍｍ
としたこと以外は、実施例５と同様の方法でマスキング
剤塗布及び風冷処理を行ってディスプレイ用フィルター
基板を製造した。
としたこと以外は、実施例５と同様の方法でマスキング
剤塗布及び風冷処理を行ってディスプレイ用フィルター
基板を製造した。
【００６４】＜実施例７＞加熱炉でガラス基板を加熱急
冷する風冷強化処理の代わりに、基板を硝酸カリウム
（ＫＮＯ３）溶融塩中に４Ｈｒ浸漬する化学強化処理を
行ったこと以外は実施例６と同様の方法でマスキング剤
塗布を行ってディスプレイ用フィルター基板を製造し
た。
冷する風冷強化処理の代わりに、基板を硝酸カリウム
（ＫＮＯ３）溶融塩中に４Ｈｒ浸漬する化学強化処理を
行ったこと以外は実施例６と同様の方法でマスキング剤
塗布を行ってディスプレイ用フィルター基板を製造し
た。
【００６５】＜比較例６＞スクリーンのメッシュを１５
０メッシュとしたこと以外は実施例２と同様の方法でマ
スキング剤塗布及び風冷処理を行ってディスプレイ用フ
ィルター基板を製造した。
０メッシュとしたこと以外は実施例２と同様の方法でマ
スキング剤塗布及び風冷処理を行ってディスプレイ用フ
ィルター基板を製造した。
【００６６】このスクリーンは、目が粗いのでマスキン
グ剤の塗布量が多くなり、その結果、マスキング層の厚
さは４２μｍと大きくなった。このため、このディスプ
レイ用フィルター基板にフィルムを貼ったところ、マス
キング層とガラス基板表面との段差部に気泡が生じた。
グ剤の塗布量が多くなり、その結果、マスキング層の厚
さは４２μｍと大きくなった。このため、このディスプ
レイ用フィルター基板にフィルムを貼ったところ、マス
キング層とガラス基板表面との段差部に気泡が生じた。
【００６７】＜比較例７＞スクリーンのメッシュを３２
５メッシュとしたこと以外は実施例２と同様の方法でマ
スキング剤塗布、風冷処理を行ってディスプレイ用フィ
ルター基板を製造した。
５メッシュとしたこと以外は実施例２と同様の方法でマ
スキング剤塗布、風冷処理を行ってディスプレイ用フィ
ルター基板を製造した。
【００６８】このスクリーンは目が細かいので、マスキ
ング剤の塗布量が少なくなり、その結果、マスキング層
の厚さは１３μｍと薄くなった。そして、この結果、マ
スキング層の可視光吸光度は２．５とかなり低い値とな
った。
ング剤の塗布量が少なくなり、その結果、マスキング層
の厚さは１３μｍと薄くなった。そして、この結果、マ
スキング層の可視光吸光度は２．５とかなり低い値とな
った。
【００６９】＜比較例８＞印刷幅を６０ｍｍとしたこと
以外は実施例２と同様の方法でマスキング剤塗布及び風
冷処理を行ってディスプレイ用フィルター基板を製造し
た。
以外は実施例２と同様の方法でマスキング剤塗布及び風
冷処理を行ってディスプレイ用フィルター基板を製造し
た。
【００７０】このマスキング層は幅が５０ｍｍよりも大
きく、広すぎる。この結果、低融点ガラスがガラス基板
に影響し、反射映像の悪化が認められた。
きく、広すぎる。この結果、低融点ガラスがガラス基板
に影響し、反射映像の悪化が認められた。
【００７１】上記実施例２、５〜７及び比較例６〜８の
ディスプレイ用フィルター基板の特性測定結果を表２に
まとめて示す。
ディスプレイ用フィルター基板の特性測定結果を表２に
まとめて示す。
【００７２】表２の通り、実施例２、５〜７はいずれも
可視光吸光度が高く、マスキング効果が十分である。ま
た、反射映像が良好であり、フィルムを貼った際の気泡
発生もない。
可視光吸光度が高く、マスキング効果が十分である。ま
た、反射映像が良好であり、フィルムを貼った際の気泡
発生もない。
【００７３】これに対し、前述の通り、比較例６ではマ
スキング層が厚すぎるためにフィルムを貼ったときに気
泡が発生し、比較例７ではマスキング層が薄すぎるため
にマスキング効果が不十分であり、比較例８ではマスキ
ング層の幅が大きすぎるために反射映像が悪い。
スキング層が厚すぎるためにフィルムを貼ったときに気
泡が発生し、比較例７ではマスキング層が薄すぎるため
にマスキング効果が不十分であり、比較例８ではマスキ
ング層の幅が大きすぎるために反射映像が悪い。
【００７４】実施例６，７では、マスキング層の幅が６
０ｍｍと大きいが、マスキング層は熱硬化性合成樹脂を
用いて形成されたものであるため、反射映像は良好であ
る。とくに、実施例７は化学強化処理により表面圧縮応
力を付与したものであるため、ガラス基板の反りやうね
りが小さくなることに起因して、反射映像がきわめて良
好なものとなる。
０ｍｍと大きいが、マスキング層は熱硬化性合成樹脂を
用いて形成されたものであるため、反射映像は良好であ
る。とくに、実施例７は化学強化処理により表面圧縮応
力を付与したものであるため、ガラス基板の反りやうね
りが小さくなることに起因して、反射映像がきわめて良
好なものとなる。
【００７５】
【表２】
【００７６】
【発明の効果】本発明によれば、一定の強度を持ち、表
示品位を低下させない軽量なディスプレイ用前面フィル
ターガラス基板と、このディスプレイ用フィルター基板
を用いたディスプレイ装置が提供される。
示品位を低下させない軽量なディスプレイ用前面フィル
ターガラス基板と、このディスプレイ用フィルター基板
を用いたディスプレイ装置が提供される。
【図面の簡単な説明】
【図１】ガラス基板の反り及びうねりの測定方法の説明
図である。
図である。
【図２】反射映像の測定法の説明図である。
１ ガラス基板 ２ａ，２ｂ 基準線
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 葛輪 定男 大阪府大阪市中央区道修町３丁目５番11号 日本板硝子株式会社内 Ｆターム(参考） 2K009 AA02 AA15 BB02 BB23 CC01 CC14 DD00 DD02 DD06 DD12 EE00 EE03 5C058 AA11 AB05 AB06 BA30 BA33 5G435 AA09 AA18 BB02 BB06 FF14 GG11 GG33 GG43 HH03 KK07
Claims (11)
- 【請求項１】 ガラス基板よりなり、電磁波遮蔽機能、
近赤外線カット機能、反射防止機能のうち、一種以上の
機能を有するディスプレイ用フィルター基板において、 板厚が１．８〜３．２ｍｍであり、該ガラス基板の表面
圧縮応力の平均値が２０〜７０ＭＰａであり、 該ガラス基板の反り量が１．０％以下であることを特徴
とするディスプレイ用フィルター基板。 - 【請求項２】 請求項１において、前記ガラス基板の表
面圧縮応力の平均値が４０〜６０ＭＰａであることを特
徴とするディスプレイ用フィルター基板。 - 【請求項３】 請求項１又は２において、前記表面圧縮
応力は、ガラス基板を加熱後急冷することにより生じた
ものであることを特徴とするディスプレイ用フィルター
基板。 - 【請求項４】 請求項１又は２において、前記表面応力
は、ガラス基板を溶融塩中に浸漬し、前記ガラス基板中
のナトリウムイオンと溶融塩中のカリウムイオンとをイ
オン交換反応させることにより生じたものであることを
特徴とするディスプレイ用フィルター基板。 - 【請求項５】 請求項１ないし４のいずれか１項におい
て、前記フィルター基板の周囲の一部又は全周に可視光
線遮蔽用のマスキング層が形成されていることを特徴と
するディスプレイ用フィルター基板。 - 【請求項６】 請求項５において、該マスキング層の厚
さが３５μｍ以下であることを特徴とするディスプレイ
用フィルター基板。 - 【請求項７】 請求項５又は６において、前記マスキン
グ層が顔料を含んだ低融点ガラスの焼付けにより形成さ
れており、且つ該マスキング層の、フィルター基板外縁
からの幅が５０ｍｍ以下であることを特徴とするディス
プレイ用フィルター基板。 - 【請求項８】 請求項５又は６において、前記マスキン
グ層が少なくとも熱硬化性樹脂と、顔料又は染料とを含
むことを特徴とするディスプレイ用フィルター基板。 - 【請求項９】 請求項５ないし８のいずれか１項におい
て、前記マスキング層の可視光波長域での吸光度が３．
０以上であることを特徴とするディスプレイ用フィルタ
ー基板。 - 【請求項１０】 請求項５ないし９のいずれか１項にお
いて、前記マスキング層で覆われた部分のガラス基板の
表面圧縮応力が、マスキングされていない部分のガラス
基板の表面圧縮応力の平均値の８０％以上であることを
特徴とするディスプレイ用フィルター基板。 - 【請求項１１】 ディスプレイ用フィルター基板を有す
るディスプレイ装置において、該ディスプレイ用フィル
ター基板が請求項１ないし１０のいずれか１項のディス
プレイ用フィルター基板であることを特徴とするディス
プレイ装置。
Priority Applications (10)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000282083A JP3726664B2 (ja) | 2000-09-18 | 2000-09-18 | ディスプレイ用フィルター基板及びディスプレイ装置 |
| CNB018027962A CN1182500C (zh) | 2000-09-18 | 2001-06-01 | 显示器用过滤器基板及显示器装置 |
| EP06025967A EP1760499A1 (en) | 2000-09-18 | 2001-06-01 | Glass substrate for a display filter |
| EP01934517A EP1320260A4 (en) | 2000-09-18 | 2001-06-01 | SUBSTRATE FOR A DISPLAY FILTER AND INDICATOR |
| KR1020027005327A KR100839134B1 (ko) | 2000-09-18 | 2001-06-01 | 디스플레이용 필터 기판 및 디스플레이 장치 |
| EP08003267A EP1925952A1 (en) | 2000-09-18 | 2001-06-01 | Filter substrate for a display device |
| KR1020067025520A KR20070011565A (ko) | 2000-09-18 | 2001-06-01 | 디스플레이 필터용 유리 기판 |
| PCT/JP2001/004690 WO2002023895A1 (fr) | 2000-09-18 | 2001-06-01 | Substrat filtre d'afficheur et dispositif afficheur |
| TW090113692A TWI225390B (en) | 2000-09-18 | 2001-06-06 | Filter substrate for display, and display device |
| US10/098,309 US6472800B2 (en) | 2000-09-18 | 2002-03-18 | Filter substrate and display device |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000282083A JP3726664B2 (ja) | 2000-09-18 | 2000-09-18 | ディスプレイ用フィルター基板及びディスプレイ装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002091326A true JP2002091326A (ja) | 2002-03-27 |
| JP3726664B2 JP3726664B2 (ja) | 2005-12-14 |
Family
ID=18766649
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000282083A Expired - Fee Related JP3726664B2 (ja) | 2000-09-18 | 2000-09-18 | ディスプレイ用フィルター基板及びディスプレイ装置 |
Country Status (7)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6472800B2 (ja) |
| EP (3) | EP1320260A4 (ja) |
| JP (1) | JP3726664B2 (ja) |
| KR (2) | KR20070011565A (ja) |
| CN (1) | CN1182500C (ja) |
| TW (1) | TWI225390B (ja) |
| WO (1) | WO2002023895A1 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| KR101022591B1 (ko) | 2010-09-30 | 2011-03-16 | 군산대학교산학협력단 | 유리의 부분적인 화학강화 방법 및 부분적으로 화학강화된 유리 |
| EP2365361A1 (en) | 2010-03-10 | 2011-09-14 | Asahi Glass Company, Limited | Front plate for display, display device, and method and apparatus for manufacturing front plate dor display |
Families Citing this family (15)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB0219583D0 (en) * | 2002-08-22 | 2002-10-02 | Johnson Matthey Plc | Ceramic ink |
| JP3922986B2 (ja) * | 2002-08-28 | 2007-05-30 | 日本板硝子株式会社 | ディスプレイ用ガラス基板 |
| KR101113457B1 (ko) | 2010-05-10 | 2012-03-05 | 삼성모바일디스플레이주식회사 | 곡면 터치 스크린 패널 및 그 제조방법 |
| JP5973149B2 (ja) | 2010-10-14 | 2016-08-23 | ローム株式会社 | 光検出装置 |
| US9187365B2 (en) * | 2013-02-25 | 2015-11-17 | Corning Incorporated | Methods for measuring the asymmetry of a glass-sheet manufacturing process |
| TWI566395B (zh) * | 2013-11-18 | 2017-01-11 | 元太科技工業股份有限公司 | 有機發光二極體顯示器及其製造方法 |
| US11097974B2 (en) | 2014-07-31 | 2021-08-24 | Corning Incorporated | Thermally strengthened consumer electronic glass and related systems and methods |
| US20160031752A1 (en) | 2014-07-31 | 2016-02-04 | Corning Incorporated | Glass or glass-ceramic for windows, countertops, and other applications |
| US10611664B2 (en) | 2014-07-31 | 2020-04-07 | Corning Incorporated | Thermally strengthened architectural glass and related systems and methods |
| KR102492060B1 (ko) | 2016-01-12 | 2023-01-26 | 코닝 인코포레이티드 | 얇은, 열적 및 화학적으로 강화된 유리-계 제품 |
| US11795102B2 (en) | 2016-01-26 | 2023-10-24 | Corning Incorporated | Non-contact coated glass and related coating system and method |
| CN111065609A (zh) | 2017-08-24 | 2020-04-24 | 康宁股份有限公司 | 具有改进的回火能力的玻璃 |
| TWI785156B (zh) | 2017-11-30 | 2022-12-01 | 美商康寧公司 | 具有高熱膨脹係數及對於熱回火之優先破裂行為的非離子交換玻璃 |
| US11970421B2 (en) * | 2018-12-21 | 2024-04-30 | Corning Incorporated | Strengthened 3D printed surface features and methods of making the same |
| CN114514115B (zh) | 2019-08-06 | 2023-09-01 | 康宁股份有限公司 | 具有用于阻止裂纹的埋入式应力尖峰的玻璃层压体及其制造方法 |
Family Cites Families (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| GB2171990B (en) * | 1985-03-08 | 1988-12-07 | Central Glass Co Ltd | Method of strengthening glass article formed of float glass by ion exchange and strengthened glass article |
| JPH0784335B2 (ja) * | 1986-05-23 | 1995-09-13 | セントラル硝子株式会社 | 研磨ガラスの化学強化方法 |
| IE862883L (en) * | 1986-10-31 | 1988-04-30 | Assi Packaging Uk Ltd | Method of making toughened transparent glass |
| JPH08160405A (ja) * | 1994-12-09 | 1996-06-21 | Seiko Instr Inc | 表示装置及びその製造方法 |
| JPH09208246A (ja) * | 1995-10-16 | 1997-08-12 | Central Glass Co Ltd | 防火ガラス |
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| JP4352488B2 (ja) * | 1997-12-22 | 2009-10-28 | 株式会社ブリヂストン | 電磁波シールド性光透過窓材 |
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| JP2000156182A (ja) * | 1998-11-20 | 2000-06-06 | Fujitsu General Ltd | Ｐｄｐのフィルタ装置 |
| KR20000011033U (ko) * | 1998-11-30 | 2000-06-26 | 전주범 | Pdp 텔레비젼의 전자파 차폐장치 |
-
2000
- 2000-09-18 JP JP2000282083A patent/JP3726664B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2001
- 2001-06-01 WO PCT/JP2001/004690 patent/WO2002023895A1/ja not_active Application Discontinuation
- 2001-06-01 KR KR1020067025520A patent/KR20070011565A/ko not_active Application Discontinuation
- 2001-06-01 EP EP01934517A patent/EP1320260A4/en not_active Withdrawn
- 2001-06-01 EP EP06025967A patent/EP1760499A1/en not_active Withdrawn
- 2001-06-01 EP EP08003267A patent/EP1925952A1/en not_active Withdrawn
- 2001-06-01 CN CNB018027962A patent/CN1182500C/zh not_active Expired - Fee Related
- 2001-06-01 KR KR1020027005327A patent/KR100839134B1/ko not_active IP Right Cessation
- 2001-06-06 TW TW090113692A patent/TWI225390B/zh not_active IP Right Cessation
-
2002
- 2002-03-18 US US10/098,309 patent/US6472800B2/en not_active Expired - Lifetime
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| EP2365361A1 (en) | 2010-03-10 | 2011-09-14 | Asahi Glass Company, Limited | Front plate for display, display device, and method and apparatus for manufacturing front plate dor display |
| KR101022591B1 (ko) | 2010-09-30 | 2011-03-16 | 군산대학교산학협력단 | 유리의 부분적인 화학강화 방법 및 부분적으로 화학강화된 유리 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| KR100839134B1 (ko) | 2008-06-19 |
| CN1393102A (zh) | 2003-01-22 |
| EP1925952A1 (en) | 2008-05-28 |
| EP1760499A1 (en) | 2007-03-07 |
| JP3726664B2 (ja) | 2005-12-14 |
| EP1320260A1 (en) | 2003-06-18 |
| EP1320260A4 (en) | 2006-08-02 |
| KR20020057980A (ko) | 2002-07-12 |
| WO2002023895A1 (fr) | 2002-03-21 |
| US6472800B2 (en) | 2002-10-29 |
| KR20070011565A (ko) | 2007-01-24 |
| CN1182500C (zh) | 2004-12-29 |
| TWI225390B (en) | 2004-12-11 |
| US20020135281A1 (en) | 2002-09-26 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20040928 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20041112 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20050118 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20050316 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20050614 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20050804 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20050906 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20050919 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
| R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
| S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313113 |
|
| R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091007 Year of fee payment: 4 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091007 Year of fee payment: 4 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101007 Year of fee payment: 5 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111007 Year of fee payment: 6 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121007 Year of fee payment: 7 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131007 Year of fee payment: 8 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131007 Year of fee payment: 8 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20141007 Year of fee payment: 9 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |