JP2005008433A - ディスプレイ用前面基板 - Google Patents

Abstract

【課題】第１の目的は、カレット原料として再利用可能であって、耐酸性及び耐塩基性や光遮蔽性に優れ、歪みが少ない着色膜付きガラス基板を提供することにある。第２の目的は、第１の目的に加え多機能フィルムの貼り付けにおいても外観を損なわない着色膜付きガラス基板を提供することにある。さらに第３の目的は、第１の目的及び第２の目的に加えて着色膜に導電性を持った着色膜付きガラス基板を提供することにある。
【解決手段】ディスプレイ用前面基板の着色膜の着色成分にブラックカーボンを使用した。このブラックカーボンは、ディスプレイ用前面基板を再利用のために溶解する際に焼失してしまう。従って、このディスプレイ用前面基板は、例えば、フロートガラス等のカレット原料として再利用することができる。このディスプレイ用前面基板をプラズマディスプレイパネル１の光学フィルタ２に具体化した場合、着色膜は、光遮蔽部３を構成する。
【選択図】 図１

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、ディスプレイ用前面基板に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来、フラットパネルディスプレイの一形態として、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）が広く知られている。一般にＰＤＰには、電磁波遮断又はコントラスト改善等の目的からその前面にディスプレイ用前面基板から構成される光学フィルタが取り付けられている。この光学フィルタには、そのディスプレイ用前面基板の周縁部に光遮蔽部が設けてあって、この光遮蔽部によってＰＤＰ基板の周囲（映像表示部の外縁）に形成される配線部又は部品等を隠している。
【０００３】
通常、この種の光遮蔽部は、光学フィルタのガラス基板の周縁部に光遮蔽性を有する着色膜を形成することで構成されている。この着色膜には、遷移金属酸化物（ＣｕＯ、ＮｉＯ等）又は遷移金属（ガラスの着色剤であって、Ｃｒ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ等のこと。）を含有させることによって、着色するとともに、紫外線遮蔽、熱線吸収等の性能を付与にしている。
【０００４】
しかしながら、このような遷移金属酸化物又は遷移金属を多量に含有する着色膜が形成された光フィルタを、カレット原料として再溶融して再利用する場合、カレット原料は多量の遷移金属酸化物又は遷移金属を含有することになる。従って、このカレット原料から製造されたガラス製品には、遷移金属酸化物又は遷移金属による光学特性（透明度、或いは着色されてしまう等）への影響が強く出ることとなる。
【０００５】
このため、この光遮蔽部を有する光学フィルタを再利用する際には、ガラスの分別が必要となる。又例え分別したとしても、このような着色成分（遷移金属酸化物又は遷移金属）を含むカレット原料を透明なガラスの製造に再利用することはできず、廃棄するか又は路面材等の他の用途に間接的に利用することしかできなかった。
【０００６】
一方、新たな着色膜の組成物として、例えばＰ_２Ｏ_５系、アルカリ金属酸化物−ＺｎＯ−Ｂ_２Ｏ_３−ＳｉＯ_２系の組成物が種々提案されている（特許文献１〜特許文献５。）。
【０００７】
特許文献１では、着色膜に起因する遷移金属の含有量が、着色膜付きガラスを再溶融した際の同ガラスに対して重量％換算で１００ｐｐｍ以下に抑えれば、カレット原料としてフロートガラスに用いた場合にも、フロートガラスが着色することがないとしている。
【０００８】
特許文献２では、ガラスの組成をモルパーセントで計算して、２５〜５０％のＰ_２Ｏ_５と、３０〜７０％のＳｎＯと、０〜１５％のＺｎＯと、２５％までのＲ_２Ｏ、２０％までのＢ_２Ｏ_３、５％までのＡｌ_２Ｏ_３、５％までのＳｉＯ_２、及び５％までのＷＯ_３からなる群を設定している。この群より選択される合計が２５％までの指示した割合の少なくとも１つの効果的な量の安定化酸化物とから実質的になり、ＳｎＯ：ＺｎＯのモル比がＳｎＯの観点から見て５：１より大きく、Ｒ_２Ｏが０〜２５％のＬｉ_２Ｏ、０〜２５％のＮａ_２Ｏ、及び０〜２５％のＫ_２Ｏからリン酸スズガラスを組成している。このリン酸スズガラスを基にして、鉛が不含有の中温（３５０℃〜４５０℃）シーリングガラスを提供している。
【０００９】
特許文献３では、ガラスの組成がモルパーセントで計算して、Ｌｉ_２ＯとＮａ_２ＯとＫ_２Ｏの合計量が５〜２５％、ＺｎＯとＭｇＯの合計量が３５〜５５％、Ｐ_２Ｏ_５の量が２０〜３５％、Ａｌ_２Ｏ_３の量が１〜５％、Ｂ_２Ｏ_３の量が８〜２０％としている。これによって、低融点のガラスであって、成形性が良好かつ耐水性にも優れるガラスを提供している。
【００１０】
特許文献４では、組成がモルパーセントで計算して、Ｐ_２Ｏ_５の量が１０〜７０％、ＷＯ_３が２０〜８０％、Ｌｉ_２Ｏが０〜４０％、Ｎａ_２Ｏが０〜４０％、Ｌｉ_２ＯとＮａ_２Ｏの合計量が０．１〜４０％であって、鉛を不含有で低融点のフリット組成物を提供している。
【００１１】
特許文献５では、セラミックカラー組成物の組成を、無機成分が着色耐熱性顔料粉末５〜４０重量％、亜鉛含有ガラス粉末６０〜９５重量％、耐火物フィラー粉末０〜２０重量％としている。そして、前記亜鉛含有ガラスは本質的に重量％表示で、ＳｉＯ_２が２７〜４０％、Ｂ_２Ｏ_３が１０〜２０％、ＺｎＯが３５〜４５％、Ｌｉ_２Ｏが０〜５％、Ｎａ_２Ｏが０〜１０％、Ｋ_２Ｏが０〜５％、Ｌｉ_２ＯとＮａ_２ＯとＫ_２Ｏとの合計量が０〜１５％としている。これによって、鉛、カドミウム及びビスマスを含まず、ガラス板の強度が損なわれることなく、型離れ性に優れたセラミック組成物を提供している。
【００１２】
【特許文献１】
特開２００１−２５３７３１号公報
【特許文献２】
特開平７−６９６７２号公報
【特許文献３】
特開平８−１８３６３２号公報
【特許文献４】
特開平９−２０８２５９号公報
【特許文献５】
特開平８−１３３７８４号公報
【００１３】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、特許文献１〜５を含む上述したそれぞれの組成物には、耐酸性や膨張係数等の問題点がある。特に、Ｐ_２Ｏ_５系組成物ではＰ_２Ｏ_５とアルカリ金属酸化物及びアルカリ土類酸化物等で構成される。このため、これらを着色膜としてガラス基板に形成すると、その膨張係数が基板として多く用いられるフロートガラスの膨張係数と比較して大きくなってしまう。このような着色膜とガラス基板の膨張係数の差は、ガラス基板を熱して冷却する際の歪みの原因となり、ガラス基板の変形及び割れなどを引き起こしてしまう。
【００１４】
また、アルカリ金属酸化物−ＺｎＯ−Ｂ_２Ｏ_３−ＳｉＯ_２系組成物では、ＴｉＯ_２などの耐酸性を向上させる成分が含まれずに、Ｂ_２Ｏ_３及びＺｎＯ等が多量に含まれていることにより、耐酸性の低下が生じてしまう。
【００１５】
一般にフロートガラスでは、アルカリ金属酸化物及びアルカリ土類金属酸化物、ＳｉＯ_２を主成分として含んでいる。そのため、着色膜付きのガラス基板をフロートガラスのカレット原料として使用するためには、フロートガラスに一般的に含まれない成分（例えば、ＴｉＯ_２，ＺｎＯ，ＺｒＯ_２，Ｐ_２Ｏ_５，Ｌａ_２Ｏ_３等）を含まないようにしなければならない。
【００１６】
一方、セラミックカラー（セラミック組成物）の着色膜が形成された光学フィルタでは、Ｐ_２Ｏ_５、ＺｎＯ、Ｂ_２Ｏ_３等を含んでいるので、フロートガラスのカレット原料としての再利用が困難である。従って、このような光学フィルタでは再利用することができずに、産業廃棄物として処理せざるを得なかった。
【００１７】
近年では、環境保全の観点からセラミックカラーの材料に鉛を含ませないことが求められている。このような鉛を含まないセラミックカラーの材料では、光遮蔽性が悪く、適切な光遮蔽性を得るためには、着色膜の膜厚を厚くする必要があった。しかしながら、これに従って膜厚を厚くした場合には、ガラス基板に光学フィルタとしての機能を付与するために多機能フィルムを張る際に、ガラス基板上の着色膜の形成部と非形成部との段差にエアーを巻き込んでしまい外観を損なっていた。
【００１８】
また、ガラス基板に多機能フィルムとして電磁波防止フィルムを貼り付ける場合、セラミックカラーの着色膜には導電性がなく電気を逃がしにくいので、着色膜上にバスバー（Ａｇペースト）をスクリーン印刷等で形成して強化処理の際に焼き付けていた。或いは、銅箔テープを貼り付ける必要があって、製造コストがかかっていた。
【００１９】
本発明は、このような従来の問題点に着目してなされたものである。
その第１の目的は、カレット原料として再利用可能であって、耐酸性及び耐塩基性や光遮蔽性に優れ、歪みが少ないディスプレイ用前面基板を提供することにある。第２の目的は、第１の目的に加え多機能フィルムの貼り付けにおいても外観を損なわないディスプレイ用前面基板を提供することにある。さらに第３の目的は、第１の目的及び第２の目的に加えて着色膜に導電性を持ったディスプレイ用前面基板を提供することにある。
【００２０】
【課題を解決するための手段】
請求項１に記載の発明は、酸化物を主成分とする着色膜をガラス基板の表面の一部に被覆したディスプレイ用前面基板において、前記着色膜は、ケイ素酸化物と、少なくとも１種類以上のアルカリ金属酸化物と、炭素を主成分とする微粒子とを含むことを要旨とする。
【００２１】
請求項１に記載の発明によれば、着色膜は、ケイ素酸化物と、少なくとも１種類以上のアルカリ金属酸化物と、炭素を主成分とする微粒子とを含む。これによって、ディスプレイ用前面基板はその周縁部に光遮蔽性を有することができる。
【００２２】
また、一般に、フロートガラスは、アルカリ金属酸化物及びアルカリ土類金属酸化物、ＳｉＯ_２を主成分として含んでいる。従って、本発明のディスプレイ用前面基板は、一般にフロートガラスが含んでいない成分（ＴｉＯ_２，ＺｎＯ，ＺｒＯ_２，Ｐ_２Ｏ_５，Ｌａ_２Ｏ_３等）を含まないので、フロートガラスのカレット原料として再利用することができる。また、この着色膜は、遷移金属酸化物又は遷移金属を用いないで炭素を主成分としている。炭素を主成分とする着色剤としては、例えば、炭素のみで構成される黒鉛（グラファイト）、アゾ顔料、フタロシアニン顔料、縮合多環顔料を上げることができる。従って、カレット原料として溶融炉に入れられた際に、着色剤（炭素）は、二酸化炭素となって揮発する。このため、このカレット原料から製造されるガラス製品は、着色されることが無いので、再利用するのに最適である。さらに、このようなディスプレイ用前面基板は、酸又は水に接触させる脱アルカリ処理をすることにより、耐水性及び耐湿性を向上させることができる。また、着色膜にはアルカリ金属酸化物及び着色剤（微粒子）が含まれるため、ケイ素酸化物だけで構成される膜よりその収縮量を低く抑えることができる。これによって重ね塗りしなくても厚膜を形成できる。このように構成されたディスプレイ用前面基板は、フラットパネルディスプレイ、特にプラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）に用いるのに好適である。
【００２３】
さらに、このディスプレイ用前面基板は、少なくとも１種類以上のアルカリ金属酸化物を共存させることにより、着色膜に耐湿性と化学耐久性を付与することができる。
【００２４】
請求項２に記載の発明は、請求項１に記載のディスプレイ用前面基板において、前記着色膜は、質量％換算で表わして、前記ケイ素酸化物を４０〜９０％と、前記アルカリ金属酸化物を０．１〜２５％と、前記微粒子を３〜４５％とを含むことを要旨とする。
【００２５】
請求項２に記載の発明によれば、着色膜は、質量％換算で表わして、ケイ素酸化物を４０〜９０％と、アルカリ金属酸化物を０．１〜２５％と、微粒子を３〜４５％とを含む。
【００２６】
ケイ素化合物は着色膜の骨格となり、４０％未満では着色膜の強度が低下し、さらに耐アルカリ性の低下も引き起こしてしまうので好ましくない。またさらに、着色膜はガラスと異なり、熱膨張起因による収縮のみではなく、水分蒸発による収縮をもたらす。水分蒸発による収縮はアルカリ依存で抑制され、熱膨張由来の収縮が支配的になるためケイ素酸化物を９０％以下にすることが好ましい。
【００２７】
アルカリ金属酸化物が０．１％未満では、ガラス及び着色膜の強度の低下や耐水性及び耐湿性を低下させる。２５％超では、熱膨張係数が大きくなりすぎ、乾燥及び焼成時に膜の収縮量が大きくなる。この結果、着色膜にクラックが発生しやすくなってしまう。従って、好ましくは２５％以下である。
【００２８】
炭素を主成分とする微粒子は、アルカリ金属酸化物及びケイ素酸化物に対する割合により、膜強度や耐アルカリ性に影響を及ぼす。従って、微粒子は、アルカリ金属酸化物及びケイ素酸化物に対して所定量を含有することが好ましい。具体的には３〜４５％であることが好ましい。
【００２９】
また、このように構成されたディスプレイ用前面基板は、フラットパネルディスプレイ、特にプラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）に用いるのに好適である。
【００３０】
請求項３に記載の発明は、請求項１又は２に記載のディスプレイ用前面基板において、前記着色膜は、質量％換算で表わして、前記ケイ素酸化物を４９〜７３％と、前記アルカリ金属酸化物を１１〜２３％と、前記微粒子を１６〜４０％とを含むことを要旨とする。
【００３１】
請求項３に記載の発明によれば、着色膜は、質量％換算で表わして、ケイ素酸化物を４９〜７３％と、アルカリ金属酸化物を１１〜２３％と、微粒子を１６〜４０％とを含む。
【００３２】
ケイ素化合物は着色膜の骨格となり、４０％未満では着色膜の強度が低下し、さらに耐アルカリ性の低下も引き起こしてしまうので好ましくない。そこで４９％以上とすることが好ましい。またさらに、着色膜はガラスと異なり、熱膨張起因による収縮のみではなく、水分蒸発による収縮をもたらす。水分蒸発による収縮はアルカリ依存で抑制され、熱膨張由来の収縮が支配的になるためケイ素酸化物を９０％以下にすることが好ましい。さらに、７３％以下とすることがより好ましい。
【００３３】
アルカリ金属酸化物が０．１％未満では、ガラス及び着色膜の強度の低下や耐水性及び耐湿性を低下させる。より好ましくは１１％以上である。２５％超では、熱膨張係数が大きくなりすぎ、乾燥及び焼成時に膜の収縮量が大きくなる。この結果、着色膜にクラックが発生しやすくなってしまう。従って、好ましくは２５％以下であり、より好ましくは２３％以下である。
【００３４】
炭素を主成分とする微粒子は、アルカリ金属酸化物及びケイ素酸化物に対する割合により、膜強度や耐アルカリ性に影響を及ぼす。従って、微粒子は、アルカリ金属酸化物及びケイ素酸化物に対して所定量を含有することが好ましい。具体的には３〜４５％であることが好ましく、１６〜４０％であることがより好ましい。また、このように構成されたディスプレイ用前面基板は、フラットパネルディスプレイ、特にプラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）に用いるのに好適である。
【００３５】
請求項４に記載の発明は、請求項１又は２に記載のディスプレイ用前面基板において、前記着色膜は、質量％換算で表わして、前記ケイ素酸化物を５４〜８９％と、前記アルカリ金属酸化物を０．１〜５％と、前記微粒子を１０〜４５％とを含むことを要旨とする。
【００３６】
請求項４に記載の発明によれば、着色膜は、質量％換算で表わして、ケイ素酸化物を５４〜８９％と、アルカリ金属酸化物を０．１〜５％と、微粒子を１０〜４５％とを含む。
【００３７】
ケイ素化合物は着色膜の骨格となり、４０％未満では着色膜の強度が低下し、さらに耐アルカリ性の低下も引き起こしてしまうので好ましくない。好ましくは、５４％以上である。またさらに、着色膜はガラスと異なり、熱膨張起因による収縮のみではなく、水分蒸発による収縮をもたらす。水分蒸発による収縮はアルカリ依存で抑制され、熱膨張由来の収縮が支配的になるためケイ素酸化物を８９％以下にすることが好ましい。
【００３８】
アルカリ金属酸化物が０．１％未満では、ガラス及び着色膜の強度の低下や耐水性及び耐湿性を低下させる。２５％超では、熱膨張係数が大きくなりすぎ、乾燥及び焼成時に膜の収縮量が大きくなる。この結果、着色膜にクラックが発生しやすくなってしまう。従って、好ましくは２５％以下であって、５％以下とするとより好ましい。
【００３９】
炭素を主成分とする微粒子は、アルカリ金属酸化物及びケイ素酸化物に対する割合により、膜強度や耐アルカリ性に影響を及ぼす。従って、微粒子は、アルカリ金属酸化物及びケイ素酸化物に対して所定量を含有することが好ましい。具体的には３〜４５％であることが好ましく、１０〜４５％とするとより好ましい。また、このように構成されたディスプレイ用前面基板は、フラットパネルディスプレイ、特にプラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）に用いるのに好適である。
【００４０】
請求項５に記載の発明は、請求項１〜４に記載のディスプレイ用前面基板において、前記アルカリ金属酸化物が少なくとも２種のアルカリ金属酸化物を含むことを要旨とする。
【００４１】
請求項５に記載の発明によれば、ディスプレイ用前面基板は、アルカリ金属酸化物を少なくとも２種含む。一般に、混合アルカリ効果と呼ばれる現象は、アルカリの一部を他のアルカリで置換すると、アルカリの総量が一定であっても、その性質が加成則から大きくずれるというものである。この混合アルカリ効果により大きく変化する性質としては、耐水性、耐酸性、耐アルカリ性に代表される化学的耐久性や、拡散係数等が挙げられる。アモルファスでガラス質な着色膜においては、混合アルカリ効果を発現することによりアルカリの易移動度が低下し、アルカリ溶出が抑制され、これにより耐湿性を改善することができる。
【００４２】
これによって、アルカリ金属酸化物を２種以上含ませることによって、耐湿性及び化学耐久性（耐酸性・耐アルカリ性）に優れ、硬質な着色膜を得ることができる。また、このように構成されたディスプレイ用前面基板は、フラットパネルディスプレイ、特にプラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）に用いるのに好適である。
【００４３】
請求項６に記載の発明は、請求項５に記載のディスプレイ用前面基板において、前記アルカリ金属酸化物が、ナトリウムと、カリウム及びリチウムから選ばれる少なくとも１種とを含むことを要旨とする。
【００４４】
請求項６に記載の発明によれば、アルカリ金属酸化物が、ナトリウムと、カリウム及びリチウムから選ばれる少なくとも１種とを含む。カリウム又はリチウムは、ナトリウムと共存させると、着色膜に耐湿性と化学耐久性を付与することができる。このように構成したディスプレイ用前面基板は、フラットパネルディスプレイ、特にプラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）に用いるのが好適である。
【００４５】
請求項７に記載の発明は、請求項１又は２に記載のディスプレイ用前面基板において、前記着色膜は、質量％換算で表わして、Ｎａ_２Ｏを１〜１８％と、Ｋ_２Ｏを０〜１８％と、Ｌｉ_２Ｏを０〜１０％と、Ｋ_２Ｏ＋Ｌｉ_２Ｏを０．１〜１９％と、ＳｉＯ_２を４０〜７０％と、前記微粒子を１５〜４０％とを含むことを要旨とする。
【００４６】
請求項７に記載の発明によれば、着色膜は、質量％換算で表わして、Ｎａ_２Ｏを１〜１８％と、Ｋ_２Ｏを０〜１８％と、Ｌｉ_２Ｏを０〜１０％と、Ｋ_２Ｏ＋Ｌｉ_２Ｏを０．１〜１９％と、ＳｉＯ_２を４０〜７０％と、微粒子を１５〜４０％とを含む。
【００４７】
Ｎａ_２Ｏは、その含有量が１％未満では、着色膜の耐アルカリ性が低下し、また膨張係数が小さくなりすぎることで、ガラス及び着色膜の強度の低下を引き起こすため好ましくない。一方、Ｎａ_２Ｏの含有量が１８％超では、膨張係数が大きくなりすぎ、乾燥及び焼成時における膜の収縮量が大きくなり、着色膜にクラックが発生しやすくなるため好ましくない。
【００４８】
Ｋ_２Ｏ又はＬｉ_２Ｏは、Ｎａ_２Ｏと共存させることにより、着色膜に耐湿性と化学耐久性を付与する。Ｋ_２ＯとＬｉ_２Ｏの合計量が０．１％未満では、耐水性及び耐湿性を低下させる。１９％超では、熱膨張係数が大きくなりすぎ、Ｎａ_２Ｏと同様に、乾燥及び焼成時に膜の収縮量が大きくなる。この結果、着色膜にクラックが発生しやすくなってしまう。各成分の含有量としては、Ｋ_２Ｏの含有量は好ましくは１８％以下であり、Ｌｉ_２Ｏの含有量は好ましくは１０％以下である。
【００４９】
ＳｉＯ_２は必須成分であり、骨格となる。４０％未満では着色膜の強度が低下し、さらに耐アルカリ性の低下も引き起こしてしまうので好ましくない。７０％超では、熱膨張係数が小さくなる。またさらに、着色膜はガラスと異なり、熱膨張起因による収縮のみではなく、水分蒸発による収縮をもたらす。水分蒸発による収縮はアルカリ依存で抑制され、熱膨張由来の収縮が支配的になるためＳｉＯ_２を７０％以下にすることが好ましい。
【００５０】
炭素を主成分とする微粒子は、アルカリ金属酸化物及びケイ素酸化物に対する割合により、膜強度や耐アルカリ性に影響を及ぼす。従って、微粒子は、アルカリ金属酸化物及びケイ素酸化物に対して所定量を含有することが好ましい。具体的には１５〜４０％であることが好ましい。また、このように構成されたディスプレイ用前面基板は、フラットパネルディスプレイ、特にプラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）に用いるのに好適である。
【００５１】
請求項８に記載の発明は、請求項１又は２に記載のディスプレイ用前面基板において、前記着色膜は、質量％換算で表わして、Ｎａ_２Ｏを５〜１５％と、Ｋ_２Ｏを０〜１１％と、Ｌｉ_２Ｏを０〜５％と、Ｋ_２Ｏ＋Ｌｉ_２Ｏを１〜１２％と、ＳｉＯ_２を５０〜７０％と、前記微粒子を１５〜３５％とを含むことを要旨とする。
【００５２】
請求項８に記載の発明によれば、着色膜は、質量％換算で表わして、Ｎａ_２Ｏを５〜１５％と、Ｋ_２Ｏを０〜１１％と、Ｌｉ_２Ｏを０〜５％と、Ｋ_２Ｏ＋Ｌｉ_２Ｏを１〜１２％と、ＳｉＯ_２を５０〜７０％と、微粒子を１５〜３５％とを含む。
【００５３】
Ｎａ_２Ｏは、その含有量が１％未満では、着色膜の耐アルカリ性が低下し、また膨張係数が小さくなりすぎることで、ガラス及び着色膜の強度の低下を引き起こすため好ましくない。より好ましい含有量は、５％以上である。一方、Ｎａ_２Ｏの含有量が１８％超では、膨張係数が大きくなりすぎ、乾燥及び焼成時における膜の収縮量が大きくなり、着色膜にクラックが発生しやすくなるため好ましくない。より好ましくは１５％以下である。
【００５４】
Ｋ_２Ｏ又はＬｉ_２Ｏは、Ｎａ_２Ｏと共存させることにより、着色膜に耐湿性と化学耐久性を付与する。Ｋ_２ＯとＬｉ_２Ｏの合計量が０．１％未満では、耐水性及び耐湿性を低下させる。好ましくは１％以上である。１９％超では、熱膨張係数が大きくなりすぎ、Ｎａ_２Ｏと同様に、乾燥及び焼成時に膜の収縮量が大きくなる。この結果、着色膜にクラックが発生しやすくなってしまう。好ましくは、１２％以下である。各成分の含有量としては、Ｋ_２Ｏの含有量は好ましくは１８％以下、より好ましくは１１％以下であり、Ｌｉ_２Ｏの含有量は好ましくは１０％以下、より好ましくは５％以下である。
【００５５】
ＳｉＯ_２は必須成分であり、骨格となる。４０％未満では着色膜の強度が低下し、さらに耐アルカリ性の低下も引き起こしてしまうので好ましくない。より好ましくは５０％以上である。７０％超では、熱膨張係数が小さくなる。またさらに、着色膜はガラスと異なり、熱膨張起因による収縮のみではなく、水分蒸発による収縮をもたらす。水分蒸発による収縮はアルカリ依存で抑制され、熱膨張由来の収縮が支配的になるためＳｉＯ_２を７０％以下にすることが好ましい。
【００５６】
炭素を主成分とする微粒子は、アルカリ金属酸化物及びケイ素酸化物に対する割合により、膜強度や耐アルカリ性に影響を及ぼす。従って、微粒子は、アルカリ金属酸化物及びケイ素酸化物に対して所定量を含有することが好ましい。具体的には１５〜４０％であることが好ましく、さらに好ましくは３５％以下である。また、このように構成されたディスプレイ用前面基板は、フラットパネルディスプレイ、特にプラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）に用いるのに好適である。
【００５７】
請求項９に記載の発明は、請求項１〜８のいずれか１つに記載のディスプレイ用前面基板において、前記着色膜には、遷移金属或いは遷移金属化合物が実質的に含まれていないことを要旨とする。
【００５８】
請求項９に記載の発明によれば、着色膜の着色成分として炭素を主体とする微粒子を用いているので、ディスプレイ用前面基板には、遷移金属或いは遷移金属酸化物を実質的に含ませる必要がない。従って、このディスプレイ用前面基板には遷移金属或いは遷移金属酸化物を含ませないので、例えば、フロートガラスのカレット原料として再利用することができる。尚、「実質的に含まない」とは意図して含有させないことを意味し、原料などから意図せずに混入する不純物レベルの含有は許容する。また、このように構成されたディスプレイ用前面基板は、フラットパネルディスプレイ、特にプラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）に用いるのに好適である。
【００５９】
請求項１０に記載の発明は、請求項１〜９のいずれか１つに記載のディスプレイ用前面基板において、前記着色膜には、鉛（Ｐｂ）或いは鉛化合物が実質的に含まれていないことを要旨とする。
【００６０】
請求項１０に記載の発明によれば、着色膜には、鉛（Ｐｂ）或いは鉛化合物が実質的に含まれていない。着色膜の着色成分として炭素を主体とする微粒子を用いたことによって、着色膜は、光遮蔽性も備えるので、ディスプレイ用前面基板には、鉛を実質的に含ませる必要がない。従って、このディスプレイ用前面基板には鉛を含ませないので、環境保全の観点から非常に有用である。このように構成したディスプレイ用前面基板は、フラットパネルディスプレイ、特にプラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）に用いるのが好適である。
【００６１】
請求項１１に記載の発明は、請求項１〜１０のいずれか１つに記載のディスプレイ用前面基板において、前記微粒子は、カーボンブラック微粒子であることを要旨とする。
【００６２】
請求項１１に記載の発明によれば、微粒子（炭素を主成分とする）は、カーボンブラック微粒子である。このカーボンブラック微粒子としては、例えばアセチレンブラック、チャンネルブラック、ファーネスブラック、ケッチェンブラック（ライオン株式会社の商標名）がある。一般に、フロートガラスは、通常原材料を１０００℃以上に加熱して溶融し、さらに成形して製造される。このことから、カーボンブラック微粒子は、１０００℃以上又はそれ以下の温度でも酸素と反応して二酸化炭素となって揮発するので、これを含むカレット原料をフロートガラスの製造に用いたとしても、その製造の際に揮発してしまい、製造されるガラスが着色されてしまうことは無い。従って、カーボンブラック微粒子は着色膜が含む微粒子として望ましい形態である。このように構成されたディスプレイ用前面基板は、フラットパネルディスプレイ、特にプラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）に用いるのに好適である。
【００６３】
請求項１２に記載の発明は、請求項１〜１１のいずれか１つに記載のディスプレイ用前面基板において、前記着色膜は、その膜厚が１５μｍ以下であることを要旨とする。
【００６４】
請求項１２に記載の発明によれば、ディスプレイ用前面基板において、着色膜の膜厚は１５μｍ以下である。着色膜にはアルカリ金属酸化物及び微粒子が含まれるため、ケイ素酸化物だけで構成される膜よりその収縮量を低く抑えることができ、１５μｍ以下の膜厚を形成することができる。膜厚を１５μｍ以下にすることによって、着色膜を被覆するように電磁波遮断フィルム等の多機能フィルムを張る際に着色膜の形成部と非形成部との段差にエアーを巻き込みによる外観を損ねることを低減することができる。このように構成されたディスプレイ用前面基板は、フラットパネルディスプレイ、特にプラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）に用いるのに好適である。
【００６５】
請求項１３に記載の発明は、請求項１〜１２のいずれか１つに記載のディスプレイ用前面基板において、前記着色膜は、その光遮蔽性が透過濃度で表わして３．２以上であることを要旨とする。
【００６６】
請求項１３に記載の発明によれば、着色膜の光遮蔽性は、透過濃度で３．２以上であるので、光を十分に遮蔽することができる。従って、ディスプレイ用前面基板は、その周辺部に光遮蔽部を形成することができる。このように構成されたディスプレイ用前面基板は、フラットパネルディスプレイ、特にプラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）に用いるのに好適である。
【００６７】
請求項１４に記載の発明は、請求項１〜１３のいずれか１つに記載のディスプレイ用前面基板において、前記着色膜は、その導電性が１×１０^−４Ω^−１以上であることを要旨とする。
【００６８】
請求項１４に記載の発明によれば、着色膜の導電性が、１×１０^−４Ω^−１以上を有している。従って、このディスプレイ用前面基板に、例えば電磁波防止フィルム等を貼り付ける場合、着色膜上に電気を逃がすためのバスバー（Ａｇペースト）をスクリーン印刷する必要や、或いは、銅箔テープを貼り付ける必要が無い。従って、製造コストの低減を実現することができる。このように構成されたディスプレイ用前面基板は、フラットパネルディスプレイ、特にプラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）に用いるのに好適である。
【００６９】
請求項１５に記載の発明は、請求項１〜１４のいずれか１つに記載のディスプレイ用前面基板において、前記ディスプレイ用前面基板は、その反りが０．２％以下であることを要旨とする。
【００７０】
請求項１５に記載の発明によれば、ディスプレイ用前面基板は、その反りが０．２％以下である。これは、上述した着色膜の線膨張率が、ガラス基板の線膨張率と近いためである。これによって、焼成等の熱処理工程後も、ガラス基板に対する残留の応力が小さくなる。このディスプレイ用前面基板は、反りが小さいことから、フラットパネルディスプレイ、特に、ＰＤＰ（プラズマディスプレイパネル）に用いるのに好適である。
【００７１】
請求項１６に記載の発明は、請求項１〜１５のいずれか１つに記載のディスプレイ用前面基板において、前記着色膜は、前記ガラス基板の表面の周縁部に被覆したことを要旨とする。
【００７２】
請求項１６に記載の発明によれば、ガラス基板の周縁部に着色膜を被覆した。従って、例えばディスプレイ用前面基板をフラットパネルディスプレイの光学フィルタに使用した場合、ガラス基板の周縁部に被覆された着色膜は、フラットパネルディスプレイの表示部周辺に形成される配線部を隠すことができる。また、この光学フィルタは、カレット原料として再利用することができる。このように構成されたディスプレイ用前面基板は、特にプラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）に用いるのに好適である。
【００７３】
【発明の実施の形態】
以下、本発明のディスプレイ用前面基板を具体化した実施形態について説明する。
【００７４】
本実施形態のディスプレイ用ガラス基板では、ガラス基板の表面上（周縁部）に着色膜を形成した着色膜付きガラス基板となっている。
この着色膜の着色成分には、ケイ素酸化物としてケイ酸ナトリウム溶液、アルカリ金属酸化物としてコロイダルシリカ、炭素を主体とする微粒子としてカーボンブラック微粒子を使用する。このカーボンブラック微粒子としては、例えばアセチレンブラック、チャンネルブラック、ファーネスブラック、ケッチェンブラック（ライオン株式会社の商標名）がある。一般に、フロートガラスは、通常原材料を１０００℃以上に加熱して溶融し、さらに成形して製造される。このことから、カーボンブラック微粒子は、１０００℃以上又はそれ以下の温度でも酸素と反応して二酸化炭素となって揮発するので、これを含むカレット原料をフロートガラスの製造に用いたとしても、その製造の際に揮発してしまい、製造されるガラスが着色されてしまうことは無い。従って、カーボンブラック微粒子は着色膜が含む微粒子として望ましい形態である。
【００７５】
また、本実施形態の着色膜の組成では、アルカリ金属酸化物（コロイダルシリカ）としてＮａ_２Ｏ、Ｋ_２Ｏ、Ｌｉ_２Ｏを含む。
Ｎａ_２Ｏは、その含有量が１％未満では、着色膜の耐アルカリ性が低下し、また膨張係数が小さくなりすぎることで、ガラス及び着色膜の強度の低下を引き起こすため好ましくない。より好ましい含有量は、５％以上である。一方、Ｎａ_２Ｏの含有量が１８％超では、膨張係数が大きくなりすぎ、乾燥及び焼成時における膜の収縮量が大きくなり、着色膜にクラックが発生しやすくなるため好ましくない。より好ましくは１５％以下である。
【００７６】
Ｋ_２Ｏ又はＬｉ_２Ｏは、Ｎａ_２Ｏと共存させることにより、着色膜に耐湿性と化学耐久性を付与する。Ｋ_２ＯとＬｉ_２Ｏの合計量が０．１％未満では、耐水性及び耐湿性を低下させる。好ましくは１％以上である。１９％超では、熱膨張係数が大きくなりすぎ、Ｎａ_２Ｏと同様に、乾燥及び焼成時に膜の収縮量が大きくなる。この結果、着色膜にクラックが発生しやすくなってしまう。好ましくは、１２％以下である。各成分の含有量としては、Ｋ_２Ｏの含有量は好ましくは１８％以下、より好ましくは１１％以下であり、Ｌｉ_２Ｏの含有量は好ましくは１０％以下、より好ましくは５％以下である。
【００７７】
また、本実施形態の着色膜は必須成分としてＳｉＯ_２を含み、このＳｉＯ_２は着色膜形成の上で骨格となる。ＳｉＯ_２の含有量は、４０％未満では着色膜の強度が低下し、さらに耐アルカリ性の低下も引き起こしてしまうので好ましくない。より好ましくは５０％以上である。７０％超では、熱膨張係数が小さくなる。またさらに、着色膜はガラスと異なり、熱膨張起因による収縮のみではなく、水分蒸発による収縮をもたらす。水分蒸発による収縮はアルカリ依存で抑制され、熱膨張由来の収縮が支配的になるためＳｉＯ_２を７０％以下にすることが好ましい。
【００７８】
上記をふまえて、炭素を主成分とする微粒子（本実施形態ではカーボンブラック微粒子）は、アルカリ金属酸化物及びケイ素酸化物に対する割合により、着色膜の膜強度や耐アルカリ性に影響を及ぼす。従って、微粒子はアルカリ金属酸化物及びケイ素酸化物に対して所定量を含有することが好ましい。具体的には１５〜４０％であることが好ましく、さらに好ましくは３５％以下である。
【００７９】
次に、着色膜形成用の液組成物の塗布方法としては、例えばディップコーティング、フローコーティング、カーテンコーティング、スピンコーティング、スプレーコーティング、バーコーティング、ロールコーティング、刷毛塗り、スクリーン印刷、インクジェット、メタルマスク等が挙げられる。そして、これら塗布方法によって、ガラス基板の主表面の周縁部に液組成物を塗布した後、焼成工程を経て、着色膜を形成する。
【００８０】
着色膜付きガラス基板の製造方法については、焼成工程に先立ち、前乾燥工程を含むことが好ましい。この前乾燥工程は、室温〜２５０℃の温度で乾燥を行うことが好ましく、乾燥時間は必要に応じて２４時間以内とするとよい。このとき、大気雰囲気下での２５０℃以上の乾燥を行うと、カーボンブラックの燃焼を引き起こすため好ましくない。また、前乾燥工程での乾燥が不十分な場合には、着色膜が発泡しやすく、発泡に伴うクラックも生じやすくなる。従って、室温乾燥のみの場合には、長時間の乾燥が必要になる。一方、前乾燥工程の際、雰囲気が高湿の場合には、着色膜に水を吸収しやすくなるため、短時間の乾燥が好ましい。さらに、カーボンブラックの分散を十分な状態にさせた場合には、長時間の乾燥による膜の相分離は起こりにくくなり、カーボンブラックの燃焼が抑制されるため着色膜の光遮蔽性を確保できるので好ましい。
【００８１】
また、前記乾燥工程は、着色膜表面の凹凸を抑制する上で、室温による第１乾燥工程と、加熱しながらの第２乾燥工程からなることが好ましい。
そして、上述した前乾燥工程の後に少なくとも５００℃の温度で焼成を行うことが好ましく、さらに、この焼成工程は７３０℃以下の温度で行うことが好ましい。５００℃以下での焼成は、ガラス基板の強化加工などの成形をする上で必要となる温度を下回ることになるため好ましくなく、７３０℃を超える温度ではガラス基板の変形が顕著になるため、上記の焼成温度で焼成することが望ましい。
【００８２】
焼成時間は、カーボンの燃焼及び膜の強度を向上させるために、少なくとも８０秒行うのが好ましい。
また、一般にケイ酸アルカリ金属を主成分とした薄膜を常温でガラス基板に形成すると、シロキシシラノール表面にアルカリ金属イオン、水酸化物イオン及び水がランダムに吸着した状態となる。これを加熱すると、縮合反応が部分的に起こることで、高分子化し、シリカのネットワーク構造が形成される。
【００８３】
このように生成した膜表面には、アルカリ金属及び水酸基が存在しており、さらにそこに水が存在すると、アルカリ金属イオンが選択的に溶出して、膜表面を白華させる。これを防ぐために、着色膜表面を例えば酸溶液に接触させる脱アルカリ処理を行うことで、アルカリ金属を減少除去させて、ケイ酸分子が重合及び縮合による膜の不溶化を生じさせると良い。これにより、着色膜の耐水性及び耐湿性を格段に向上させることができる。
【００８４】
脱アルカリ処理で使用する酸は、特に限定されていないが、例えば、塩酸、硫酸、硝酸、フッ酸、リン酸などの、Ａｒｒｈｅｎｉｕｓ、Ｂｒｏｎｓｔｅｄ−Ｌｏｗｒｙ、Ｌｅｗｉｓ、Ｃａｄｙ＆Ｅｌｓｅｙ等で定義されている酸を挙げることができる。さらに処理方法は、特に限定されるものではなく、例えば酸溶液への浸漬、酸溶液で湿らした布での払拭などが挙げられる。
【００８５】
またさらに、脱アルカリ処理前後にＮａＯＨ、Ｃａ（ＯＨ）_２、Ａｌ（ＯＨ）_３などの塩性溶液または水に接触させて中和処理すると好ましく、さらに着色膜表面の余分な水分は布などで拭き取ることが好ましい。水の場合も基本的なメカニズムは酸で処理する場合と同様である。接触させる水としては、ガラス基板を汚すことがなければ、特に限定されることなく、水道水、蒸留水、イオン交換水などが挙げられる。処理方法としては、酸と同様に水への浸漬、水で湿らした布での払拭などが挙げられる。この場合も、水処理前後にＮａＯＨ、Ｃａ（ＯＨ）_２、Ａｌ（ＯＨ）_３などの塩基性溶液または水に接触させることが好ましく、さらに着色膜表面の水分は布などで拭き取ることが好ましい。
【００８６】
次に表１〜表３に従って、第１〜第１７実施形態について説明する。表１〜表３は、本発明における着色膜の組成及び成膜条件を示している。
【００８７】
【表１】

【００８８】
【表２】

【００８９】
【表３】

（第１実施形態）
本第１実施形態では、例えば、ケイ酸ナトリウム溶液（水ガラス３号、キシダ化学製）３０ｇ、コロイダルシリカ（ＰＣ５００、日産化学工業製）２０ｇ、カーボンブラック（ライオンペースト、Ｗ−３１１Ｎ、ＬＩＯＮ製）５０ｇを秤量し、攪拌した。これによって、表１に示すように、質量％に換算して固形分比がＮａ_２Ｏ：１２％、ＳｉＯ_２：５３％、カーボン：３５％となる着色膜形成用の液組成物を得た。
【００９０】
この液組成物を洗浄済みのガラス基板（ソーダ石灰ケイ酸塩ガラス、１０００×５００×２．５ｍｍ）の表面上（周縁部）にバーコーダにて塗布し、室温で５分乾燥させた後、１９０℃で４０分間乾燥炉にて乾燥させた。その後、このガラス基板を７２０℃に昇温した焼成炉に投入し、塗布した着色膜を９０秒間焼成した。これによって、着色膜付きガラス基板が得ることができ、その着色膜の膜厚を計測したところ約１０μｍであった。また、この焼成した着色膜付きガラス基板に対して、脱アルカリ処理を行ったところ、表１に示すように脱アルカリ処理後の着色膜の膜組成では、質量％に換算してＮａ_２Ｏ：１６％、ＳｉＯ_２：６１％、カーボン：２３％となった。
【００９１】
上記した焼成後の着色膜付きガラス基板の性能試験を以下に記載するようにそれぞれ行った。
着色膜付きガラス基板の可視光線透過率及び紫外線透過率を測定した。この測定には、分光光度計（島津製作所、ＵＶＰＣ−３１００）を用いた。その結果、可視光線透過率及び紫外線透過率は、これら全ての波長域において、それぞれ０．１％以下という値を得ることができた。また、透過濃度を測定すると５以上であった。このことから、この着色膜は、良好な光遮蔽性機能を有していることがわかり、さらに着色膜付きガラス基板の周縁部には良好な光遮蔽部が形成されていることがわかる。
【００９２】
着色膜付きガラス基板の歪みを評価した。このとき着色膜付きガラス基板に映る基盤目を持つパターンで評価を行う。その結果、歪みの殆ど無い良好な反射映像が得られた。その着色膜付きガラス基板を垂直に立て、辺に沿った「反り」を測定とすると、０．１％以下の良好な結果を得た。これは、着色膜の着色成分にセラミックカラーの材料を用いた場合の「反り」の０．２％〜０．３％に比べて格段と良くなっている。これは、着色膜の線膨張率がガラス基板の線膨張率と近いためである。このように構成したことによって、焼成等の熱処理工程後もガラス基板に対する残留の応力が小さい。この着色膜付きガラス基板（ディスプレイ用前面基板）は、反りが小さいことから、フラットパネルディスプレイ、特に、ＰＤＰ（プラズマディスプレイパネル）に用いるのに好適である。
【００９３】
次に、着色膜付きガラス基板に対して落球試験を行った。
この落球試験では、５０８ｇの鋼球を焼成後の着色膜付きガラス基板の主表面から１５０ｃｍの高さに置き、静止の状態から力を加えずに、その着色膜付きガラス基板の中心部に向かって落下させた。この落球試験から「ガラス破損無し」という良好な結果を得ることができた。
【００９４】
また、着色膜付きガラス基板に、反射防止フィルムを貼り付け、着色膜の形成部と、非形成部との段差部を観察した。その結果、段差部には、エアーの巻き込みによる外観の欠点の発生は無かった。これは、上記したように着色膜の膜厚が１０μｍであるので、ガラス基板上の着色膜の形成部と非形成部との段差部にエアーを巻き込むことがなかったためである。また、本第１実施形態では、説明の便宜上、反射防止フィルムを貼り付けたが、この限りでなく、電磁波遮断フィルム等の他のフィルムでもよい。
【００９５】
次に、着色膜付きガラス基板の着色膜について導電性を測定した。
この着色膜の導電性を測定したところ、１×１０^−４Ω^−１以上の良好な結果を得ることができた。従って、この着色膜付きガラス基板に、例えば電磁波遮断フィルム等を貼り付ける場合、着色膜上に電気を逃がすためのバスバー（Ａｇペースト）をスクリーン印刷する必要や、或いは、銅箔テープを貼り付ける必要が無くなる。従って、製造コストの低減を実現することができる。
【００９６】
一方、着色膜付きガラス基板の耐酸性及び耐アルカリ性（耐塩基性）を調べるために、以下の試験を行った。
０．１Ｎ硫酸（耐酸試験）及び０．１Ｎ水酸化ナトリウム（耐アルカリ試験）溶液中に、着色膜付きガラス板を２４時間浸漬したときにおける、ガラス面及び膜面の明度変化を、分光式色彩系（日本電色工業製、ＳＥ−２０００）により測定した。その結果、耐酸試験及び耐アルカリ試験において、着色膜面及び未被覆のガラス面のいずれも、明度の変化はないことがわかった。つまり、本発明による着色膜付きガラス基板は、良好な耐酸性及び耐アルカリ性を有していることがわかった。
【００９７】
また、着色膜付きガラス基板の着色膜について、その硬度の評価を行った。
着色膜の硬度の評価は、テーバ−磨耗試験機（ＴＡＢＥＲ ＩＮＤＵＳＴＲＩＥＳ ５１５０ ＡＢＲＡＳＥＲ）を用い、着色膜付きガラス板に対して、５００ｇの荷重で１０００回磨耗輪を回転させて行い、試験前後で透過性の変化を測定した。その結果、本発明による着色膜は、試験前後でともに透過性に変化はなく、非常に硬度の高い膜であり、良好な耐磨耗性を有していることがわかった。
【００９８】
さらに本発明による着色膜形成用の液組成物が、カレット原料としてガラス製造の際に再溶融された場合の影響を調べるために、高温溶融試験を行った。試験は、ＴＧ−ＤＴＡ分析装置（リガク製、熱分析装置、ＴＡＳ−１００）を用い、１３００℃まで１０℃／分の加熱速度で前記液組成物を加熱した。
【００９９】
溶融後の液組成物を目視により観察したところ、着色成分であるカーボンブラックは燃焼して焼失しており、液組成物は透明であることが確認された。この結果、本発明による着色膜は、ガラス製造の際にカレット原料に含まれたとしても、当該ガラスの着色に影響しないことがわかった。
【０１００】
以上のように構成された本第１実施形態によれば、以下の作用効果を奏する。
（１）本第１実施形態では、着色膜の着色成分としてカーボンブラック微粒子を用いた。これによって、着色膜付きガラス基板には、遷移金属或いは遷移金属酸化物を実質的に含ませる必要がない。従って、この着色膜付きガラス基板は、例えば、フロートガラスのカレット原料として用いることができる。また、着色膜は着色されるとともに光遮蔽性も備えるので、着色膜付きガラス基板には、鉛を実質的に含ませる必要がない。従って、この着色膜付きガラス基板には鉛を含ませないので、環境保全の観点から非常に有用である。尚、「実質的に含まない」とは意図して含有させないことを意味し、原料などから意図せずに混入する不純物レベルの含有は許容する。
（第２実施形態）
次に、第２実施形態について説明する。第２実施形態では、説明の便宜上、第１実施形態と差異のある部分について詳細に説明し、同一の部分については省略する。
【０１０１】
第２実施形態では、表１に示すように、質量％に換算して固形分比がＮａ_２Ｏ：１９％、ＳｉＯ_２：６５％、カーボン：１６％となる着色膜形成用の液組成物を用いる。
【０１０２】
この液組成物を洗浄済みのガラス基板（ソーダ石灰ケイ酸塩ガラス組成、１０００×５００×２．５ｍｍ）の表面上（周縁部）にバーコーダにて塗布し、室温で５分乾燥させた後、１９０℃で３０分間乾燥炉にて乾燥させた。その後、このガラス基板を６８０℃に昇温した焼成炉投入し、塗布した着色膜を１２０秒間焼成した。これによって、着色膜付きガラス基板が得ることができ、その着色膜の膜厚を計測したところ１０μｍであった。また、この焼成した着色膜付きガラス基板に対して、脱アルカリ処理を行ったところ、表１に示すように、脱アルカリ処理後の着色膜の膜組成は、質量％に換算してＮａ_２Ｏ：１２％、ＳｉＯ_２：７５％、カーボン：１３％となった。
【０１０３】
上記した焼成後の着色膜付きガラス基板の性能試験を以下に記載するようにそれぞれ行った。
着色膜付きガラス基板の可視光線透過率及び紫外線透過率を第１実施形態と同様に測定した。その結果、可視光線透過率及び紫外線透過率は、これら全ての波長域において、それぞれ０．１％以下という値を得ることができ、また透過濃度を測定すると５以上であった。このことから、この着色膜は、良好な光遮蔽性機能を有していることがわかり、さらに着色膜付きガラス基板の周縁部には良好な光遮蔽部が形成されていることがわかる。
【０１０４】
第１実施形態と同様に、ガラスの歪みを評価した。その結果、歪みの殆ど無い良好な反射映像が得られた。その着色膜付きガラス基板を垂直に立て、辺に沿った「反り」を測定とすると、０．１％以下の良好な結果を得た。また、第１実施形態と同様に落球試験を行ったところ、この落球試験から「ガラス破損無し」という良好な結果を得ることができた。
【０１０５】
また、着色膜付きガラス基板に、反射防止フィルムを貼り付け、着色膜の形成部と、非形成部との段差部を観察した。その結果、段差部には、エアーの巻き込みによる外観の欠点の発生は無かった。
【０１０６】
次に、着色膜付きガラス基板の着色膜について導電性を測定したところ、１×１０^−４Ω^−１以上の良好な結果を得ることができた。従って、この着色膜付きガラス基板に、例えば電磁波遮断フィルム等を貼り付ける場合、着色膜上に電気を逃がすためのバスバー（Ａｇペースト）をスクリーン印刷する必要や、或いは、銅箔テープを貼り付ける必要が無くなる。従って、製造コストの低減を実現することができる。
【０１０７】
一方、第１実施形態と同様に着色膜付きガラス基板の耐酸性及び耐アルカリ性（耐塩基性）を調べるための試験を行った。その結果、耐酸試験及び耐アルカリ試験において、着色膜面及び未被覆のガラス面のいずれも、明度の変化はないことがわかった。つまり、本発明による着色膜付きガラス基板は、良好な耐酸性及び耐アルカリ性を有していることがわかった。
【０１０８】
また、第１実施形態と同様に着色膜付きガラス基板の着色膜について、その硬度の評価を行った。その結果、本発明による着色膜は、試験前後でともに透過性に変化はなく、非常に硬度の高い膜であり、良好な耐磨耗性を有していることがわかった。
【０１０９】
さらに、第１実施形態と同様に本発明による着色膜形成用の液組成物が、カレット原料としてガラス製造の際に再溶融された場合の影響を調べるために、高温溶融試験を行った。
【０１１０】
溶融後の液組成物を目視により観察したところ、着色成分であるカーボンブラックは燃焼して焼失しており、液組成物は透明であることが確認された。この結果、本発明による着色膜は、ガラス製造の際にカレット原料に含まれたとしても、当該ガラスの着色に影響しないことがわかった。
【０１１１】
次に、上記の第１及び第２実施形態と同様に、表１に従って第３〜第７実施形態について説明する。表１には、液組成の固形分比、着色膜の組成及び成膜条件が示してある。
【０１１２】
第３〜７実施形態では、説明の便宜上、第１又は第２実施形態と差異のある部分について詳細に説明し、同一の部分については省略する。
（第３実施形態）
第３実施形態では、表１に示すように、質量％に換算して固形分比がＮａ_２Ｏ：１２％、ＳｉＯ_２：５２％、カーボン：３６％となる着色膜形成用の液組成物を用いる。
【０１１３】
この液組成物を洗浄済みのガラス基板（ソーダ石灰ケイ酸塩ガラス組成、１０００×５００×２．５ｍｍ）の表面上（周縁部）にバーコーダにて塗布し、室温で５分乾燥させた後、１９０℃で１５分間乾燥炉にて乾燥させた。その後、このガラス基板を６２０℃に昇温した焼成炉投入し、塗布した着色膜を６００秒間焼成した。これによって、着色膜付きガラス基板が得ることができ、その着色膜の膜厚を計測したところ１０μｍであった。また、この焼成した着色膜付きガラス基板に対して、脱アルカリ処理を行ったところ、表１に示すように、脱アルカリ処理後の着色膜の膜組成は、質量％に換算してＮａ_２Ｏ：１９％、ＳｉＯ_２：７３％、カーボン：８％となった。
（第４実施形態）
第４実施形態では、表１に示すように、質量％に換算して固形分比がＮａ_２Ｏ：１１％、ＳｉＯ_２：５０％、カーボン：３９％となる着色膜形成用の液組成物を用いる。
【０１１４】
この液組成物を洗浄済みのガラス基板（ソーダ石灰ケイ酸塩ガラス組成、１０００×５００×２．５ｍｍ）の表面上（周縁部）にバーコーダにて塗布し、室温で６０分乾燥させた後、１９０℃で１５分間乾燥炉にて乾燥させた。その後、このガラス基板を７２０℃に昇温した焼成炉投入し、塗布した着色膜を９０秒間焼成した。これによって、着色膜付きガラス基板が得ることができ、その着色膜の膜厚を計測したところ１０μｍであった。また、この焼成した着色膜付きガラス基板に対して、脱アルカリ処理を行ったところ、表１に示すように、脱アルカリ処理後の着色膜の膜組成は、質量％に換算してＮａ_２Ｏ：２１％、ＳｉＯ_２：５９％、カーボン：２０％となった。
（第５実施形態）
第５実施形態では、表１に示すように、質量％に換算して固形分比がＮａ_２Ｏ：１２％、ＳｉＯ_２：５３％、カーボン：３５％となる着色膜形成用の液組成物を用いる。
【０１１５】
この液組成物を洗浄済みのガラス基板（ソーダ石灰ケイ酸塩ガラス組成、１０００×５００×２．５ｍｍ）の表面上（周縁部）にバーコーダにて塗布し、室温で１２０分乾燥させた（本第５実施形態では、第２乾燥工程を行わない。）。その後、このガラス基板を７２０℃に昇温した焼成炉投入し、塗布した着色膜を８０秒間焼成した。これによって、着色膜付きガラス基板が得ることができ、その着色膜の膜厚を計測したところ１０μｍであった。また、この焼成した着色膜付きガラス基板に対して、脱アルカリ処理を行ったところ、表１に示すように、脱アルカリ処理後の着色膜の膜組成は、質量％に換算してＮａ_２Ｏ：１４％、ＳｉＯ_２：５８％、カーボン：２８％となった。
（第６実施形態）
第６実施形態では、表１に示すように、質量％に換算して固形分比がＮａ_２Ｏ：１２％、ＳｉＯ_２：５３％、カーボン：３５％となる着色膜形成用の液組成物を用いる。
【０１１６】
この液組成物を洗浄済みのガラス基板（ソーダ石灰ケイ酸塩ガラス組成、１０００×５００×２．５ｍｍ）の表面上（周縁部）にバーコーダにて塗布し、室温で２０分乾燥させた後、１４０℃で６０分間乾燥炉にて乾燥させた。その後、このガラス基板を６２０℃に昇温した焼成炉投入し、塗布した着色膜を２４０秒間焼成した。これによって、着色膜付きガラス基板が得ることができ、その着色膜の膜厚を計測したところ１０μｍであった。また、この焼成した着色膜付きガラス基板に対して、脱アルカリ処理を行ったところ、表１に示すように、脱アルカリ処理後の着色膜の膜組成は、質量％に換算してＮａ_２Ｏ：１７％、ＳｉＯ_２：７４％、カーボン：９％となった。
（第７実施形態）
第７実施形態では、表１に示すように、質量％に換算して固形分比がＮａ_２Ｏ：１２％、ＳｉＯ_２：５３％、カーボン：３５％となる着色膜形成用の液組成物を用いた。
【０１１７】
この液組成物を洗浄済みのガラス基板（ソーダ石灰ケイ酸塩ガラス組成、１０００×５００×２．５ｍｍ）の表面上（周縁部）にバーコーダにて塗布し、室温で２０分乾燥させた後、２４０℃で２０分間乾燥炉にて乾燥させた。その後、このガラス基板を７２０℃に昇温した焼成炉投入し、塗布した着色膜を８０秒間焼成した。これによって、着色膜付きガラス基板が得ることができ、その着色膜の膜厚を計測したところ１０μｍであった。また、この焼成した着色膜付きガラス基板に対して、脱アルカリ処理を行ったところ、表１に示すように、脱アルカリ処理後の着色膜の膜組成は、質量％に換算してＮａ_２Ｏ：１５％、ＳｉＯ_２：６６％、カーボン：１９％となった。
【０１１８】
上記した第３〜第７実施形態の着色膜付きガラス基板を、前記第１実施形態と同様に性能試験を以下に記載するようにそれぞれ行った。
第３〜第７実施形態の着色膜付きガラス基板の可視光線透過率及び紫外線透過率を第１実施形態と同様に測定した。その結果、第３〜第７実施形態の着色膜付きガラス基板の可視光線透過率及び紫外線透過率は、これら全ての波長域において、表１に示すようにそれぞれ０．１％以下という値を得ることができ、また透過濃度を測定すると５以上であった。このことから、第３〜第７実施形態の着色膜は、それぞれ良好な光遮蔽性機能を有していることがわかり、さらに着色膜付きガラス基板の周縁部には良好な光遮蔽部が形成されていることがわかる。
【０１１９】
第１実施形態と同様に、第３〜第７実施形態のガラスの歪みを評価した。その結果、歪みの殆ど無い良好な反射映像が得られた。その着色膜付きガラス基板を垂直に立て、辺に沿った「反り」を測定とすると、０．１％以下の良好な結果を得た。また、第１実施形態と同様に落球試験を行ったところ、この落球試験から「ガラス破損無し」という良好な結果を得ることができた。
【０１２０】
また、第３〜第７実施形態の着色膜付きガラス基板に、反射防止フィルムを貼り付け、着色膜の形成部と、非形成部との段差部を観察した。その結果、段差部には、エアーの巻き込みによる外観の欠点の発生は無かった。
【０１２１】
次に、着色膜付きガラス基板の着色膜について導電性を測定したところ、１×１０^−４Ω^−１以上の良好な結果を得ることができた。従って、この着色膜付きガラス基板に、例えば電磁波遮断フィルム等を貼り付ける場合、着色膜上に電気を逃がすためのバスバー（Ａｇペースト）をスクリーン印刷する必要や、或いは、銅箔テープを貼り付ける必要が無くなる。従って、製造コストの低減を実現することができる。
【０１２２】
一方、第１実施形態と同様に第３〜第７実施形態の着色膜付きガラス基板の耐酸性及び耐アルカリ性（耐塩基性）を調べるための試験を行った。その結果、耐酸試験及び耐アルカリ試験において、着色膜面及び未被覆のガラス面のいずれも、明度の変化はないことがわかった。つまり、本発明による第３〜第７実施形態の着色膜付きガラス基板は、良好な耐酸性及び耐アルカリ性を有していることがわかった。
【０１２３】
また、第１実施形態と同様に第３〜第７実施形態の着色膜付きガラス基板の着色膜について、それぞれその硬度の評価を行った。その結果、本発明による着色膜は、試験前後でともに透過性に変化はなく、非常に硬度の高い膜であり、良好な耐磨耗性を有していることがわかった。
【０１２４】
さらに本発明による着色膜形成用の液組成物が、カレット原料としてガラス製造の際に再溶融された場合の影響を調べるために、高温溶融試験を行った。
溶融後の液組成物を目視により観察したところ、着色成分であるカーボンブラックは燃焼して焼失しており、液組成物は透明であることが確認された。この結果、本発明による着色膜は、ガラス製造の際にカレット原料に含まれたとしても、当該ガラスの着色に影響しないことがわかった。
（第８実施形態）
次に、表２に従って第８実施形態について説明する。表２には、液組成の固形分比、着色膜の組成及び成膜条件が示してある。第８実施形態では、説明の便宜上、第１実施形態と差異のある部分について詳細に説明し、同一の部分については省略する。
【０１２５】
第８実施形態では、例えば、ケイ酸ナトリウム溶液（水ガラス３号、キシダ化学製）２３ｇ、ケイ酸カリウム溶液（スノーテックＫ、日産化学工業製）８ｇ、コロイダルシリカ（ＰＣ５００、日産化学工業製）２９ｇ、カーボンブラック（ライオンペースト、Ｗ−３１１Ｎ、ＬＩＯＮ製）４０ｇを秤量し、攪拌した。これによって、質量％に換算して固形分比がＮａ_２Ｏ：１０％、Ｋ_２Ｏ：３％、ＳｉＯ_２：５７％、カーボン：３０％となる着色膜形成用の液組成物を得た。
【０１２６】
この液組成物を洗浄済みのガラス基板（ソーダ石灰ケイ酸塩ガラス組成、１０００×５００×２．５ｍｍ）の表面上（周縁部）にバーコーダにて塗布し、室温で５分乾燥させた後、１９０℃で１０分間乾燥炉にて乾燥させた。その後、このガラス基板を７２０℃に昇温した焼成炉投入し、塗布した着色膜を９０秒間焼成した。これによって、着色膜付きガラス基板が得ることができ、その着色膜の膜厚は約７μｍであった。また、表２に示すように、脱アルカリ処理後の着色膜の膜組成は、質量％に換算してＮａ_２Ｏ：１１％、Ｋ_２Ｏ：４％、ＳｉＯ_２：６０％、カーボン：２５％となった。
【０１２７】
上記した焼成後の着色膜付きガラス基板の性能試験を以下に記載するようにそれぞれ行った。
着色膜付きガラス基板の可視光線透過率及び紫外線透過率を第１実施形態と同様に測定した。その結果、可視光線透過率及び紫外線透過率は、これら全ての波長域において、それぞれ０．１％以下という値を得ることができ、また透過濃度を測定すると５以上であった。このことから、この着色膜は、良好な光遮蔽性機能を有していることがわかり、さらに着色膜付きガラス基板の周縁部には良好な光遮蔽部が形成されていることがわかる。
【０１２８】
第１実施形態と同様に、ガラスの歪みを評価した。その結果、歪みの殆ど無い良好な反射映像が得られた。その着色膜付きガラス基板を垂直に立て、辺に沿った「反り」を測定とすると、０．１％以下の良好な結果を得た。これは、着色膜の線膨張率がガラス基板の線膨張率と近いためである。このように構成したことによって、焼成等の熱処理工程後もガラス基板に対する残留の応力が小さい。この着色膜付きガラス基板（ディスプレイ用前面基板）は、反りが小さいことから、フラットパネルディスプレイ、特に、ＰＤＰ（プラズマディスプレイパネル）に用いるのに好適である。
【０１２９】
また、第１実施形態と同様に落球試験を行ったところ、この落球試験から「ガラス破損無し」という良好な結果を得ることができた。
また、着色膜付きガラス基板に、反射防止フィルムを貼り付け、着色膜の形成部と、非形成部との段差部を観察した。その結果、段差部には、エアーの巻き込みによる外観の欠点の発生は無かった。
【０１３０】
次に、着色膜付きガラス基板の着色膜について導電性を測定したところ、１×１０^−４Ω^−１以上の良好な結果を得ることができた。
一方、第１実施形態と同様に着色膜付きガラス基板の耐酸性及び耐アルカリ性（耐塩基性）を調べるための試験を行った。その結果、耐酸試験及び耐アルカリ試験において、着色膜面及び未被覆のガラス面のいずれも、明度の変化はないことがわかった。つまり、本発明による着色膜付きガラス基板は、良好な耐酸性及び耐アルカリ性を有していることがわかった。
【０１３１】
また、第１実施形態と同様に着色膜付きガラス基板の着色膜について、その硬度の評価を行った。その結果、本発明による着色膜は、試験前後でともに透過性に変化はなく、非常に硬度の高い膜であり、良好な耐磨耗性を有していることがわかった。
【０１３２】
さらに本発明による着色膜形成用の液組成物が、カレット原料としてガラス製造の際に再溶融された場合の影響を調べるために、高温溶融試験を行った。
溶融後の液組成物を目視により観察したところ、着色成分であるカーボンブラックは燃焼して焼失しており、液組成物は透明であることが確認された。この結果、本発明による着色膜は、ガラス製造の際にカレット原料に含まれたとしても、当該ガラスの着色に影響しないことがわかった。
【０１３３】
さらにまた、本第８実施形態の着色膜付きガラス基板について、その耐湿性の評価を行った。この評価には、温湿度試験機（エタックエンジニアリング製、ＪＬＨ−３００）、分光式色彩計（日本電色工業、ＳＥ−２０００）を用いた。評価には、温湿度試験機によって着色膜付きガラス基板を４００時間、５０℃、９５％ＲＨの雰囲気に保持した。そして、着色膜の膜面及びガラス面の明度変化を分光式色彩計にて測定し、さらに目視によっても観察した。その結果、着色膜付きガラス基板の着色膜及びガラス面のいずれにも明度は変化せず、着色膜の剥離も生じなかった。
【０１３４】
（第９〜第１４実施形態）
次に、上記の第８実施形態と同様に、第９〜第１４実施形態について説明する。第９〜１４実施形態では、説明の便宜上、第８実施形態と差異のある部分について詳細に説明し、同一の部分については省略する。
（第９実施形態）
第９実施形態では、表２に示すように、質量％に換算して固形分比がＮａ_２Ｏ：５％、Ｋ_２Ｏ：８％、ＳｉＯ_２：５１％、カーボン：３６％となる着色膜形成用の液組成物を用いる。
【０１３５】
この液組成物を洗浄済みのガラス基板（ソーダ石灰ケイ酸塩ガラス組成、１０００×５００×２．５ｍｍ）の表面上（周縁部）にバーコーダにて塗布し、室温で５分乾燥させた後、１９０℃で３０分間乾燥炉にて乾燥させた。その後、このガラス基板を７２０℃に昇温した焼成炉投入し、塗布した着色膜を１２０秒間焼成した。これによって、着色膜付きガラス基板が得ることができ、その着色膜の膜厚は約７μｍであった。また、この焼成した着色膜付きガラス基板に対して、脱アルカリ処理を行ったところ、表２に示すように、脱アルカリ処理後の着色膜の膜組成は、質量％に換算してＮａ_２Ｏ：７％、Ｋ_２Ｏ：１０％、ＳｉＯ_２：５４％、カーボン：２９％となった。
（第１０実施形態）
第１０実施形態では、表２に示すように、質量％に換算して固形分比がＮａ_２Ｏ：１０％、Ｋ_２Ｏ：３％、ＳｉＯ_２：５６％、カーボン：３１％となる着色膜形成用の液組成物を用いる。
【０１３６】
この液組成物を洗浄済みのガラス基板（ソーダ石灰ケイ酸塩ガラス組成、１０００×５００×２．５ｍｍ）の表面上（周縁部）にバーコーダにて塗布し、室温で５分乾燥させた後、１９０℃で１０分間乾燥炉にて乾燥させた。その後、このガラス基板を６２０℃に昇温した焼成炉投入し、塗布した着色膜を６００秒間焼成した。これによって、着色膜付きガラス基板が得ることができ、その着色膜の膜厚は約７μｍであった。また、この焼成した着色膜付きガラス基板に対して、脱アルカリ処理を行ったところ、表２に示すように、脱アルカリ処理後の着色膜の膜組成は、質量％に換算してＮａ_２Ｏ：１４％、Ｋ_２Ｏ：５％、ＳｉＯ_２：６３％、カーボン：１８％となった。
（第１１実施形態）
第１１実施形態では、表２に示すように、質量％に換算して固形分比がＮａ_２Ｏ：１２％、Ｌｉ_２Ｏ：１％、ＳｉＯ_２：６０％、カーボン：２７％となる着色膜形成用の液組成物を用いる。
【０１３７】
この液組成物を洗浄済みのガラス基板（ソーダ石灰ケイ酸塩ガラス組成、１０００×５００×２．５ｍｍ）の表面上（周縁部）にバーコーダにて塗布し、室温で１０分乾燥させた後、１９０℃で１５分間乾燥炉にて乾燥させた。その後、このガラス基板を７２０℃に昇温した焼成炉投入し、塗布した着色膜を９０秒間焼成した。これによって、着色膜付きガラス基板が得ることができ、その着色膜の膜厚は約７μｍであった。また、この焼成した着色膜付きガラス基板に対して、脱アルカリ処理を行ったところ、表２に示すように、脱アルカリ処理後の着色膜の膜組成は、質量％に換算してＮａ_２Ｏ：１５％、Ｌｉ_２Ｏ：２％、ＳｉＯ_２：６５％、カーボン：１８％となった。
（第１２実施形態）
第１２実施形態では、表２に示すように、質量％に換算して固形分比がＮａ_２Ｏ：９％、Ｋ_２Ｏ：３％、ＳｉＯ_２：４９％、カーボン：３９％となる着色膜形成用の液組成物を用いる。
【０１３８】
この液組成物を洗浄済みのガラス基板（ソーダ石灰ケイ酸塩ガラス組成、１０００×５００×２．５ｍｍ）の表面上（周縁部）にバーコーダにて塗布し、室温で２０分乾燥させた後、１９０℃で２０分間乾燥炉にて乾燥させた。その後、このガラス基板を７２０℃に昇温した焼成炉投入し、塗布した着色膜を１００秒間焼成した。これによって、着色膜付きガラス基板が得ることができ、その着色膜の膜厚は約７μｍであった。また、この焼成した着色膜付きガラス基板に対して、脱アルカリ処理を行ったところ、表２に示すように、脱アルカリ処理後の着色膜の膜組成は、質量％に換算してＮａ_２Ｏ：１１％、Ｋ_２Ｏ：５％、ＳｉＯ_２：５４％、カーボン：３０％となった。
（第１３実施形態）
第１３実施形態では、表２に示すように、質量％に換算して固形分比がＮａ_２Ｏ：３％、Ｋ_２Ｏ：１２％、ＳｉＯ_２：５６％、カーボン：２９％となる着色膜形成用の液組成物を用いる。
【０１３９】
この液組成物を洗浄済みのガラス基板（ソーダ石灰ケイ酸塩ガラス組成、１０００×５００×２．５ｍｍ）の表面上（周縁部）にバーコーダにて塗布し、室温で２０分乾燥させた後、１９０℃で２０分間乾燥炉にて乾燥させた。その後、このガラス基板を７２０℃に昇温した焼成炉投入し、塗布した着色膜を８０秒間焼成した。これによって、着色膜付きガラス基板が得ることができ、その着色膜の膜厚は約７μｍであった。また、この焼成した着色膜付きガラス基板に対して、脱アルカリ処理を行ったところ、表２に示すように、脱アルカリ処理後の着色膜の膜組成は、質量％に換算してＮａ_２Ｏ：６％、Ｋ_２Ｏ：１４％、ＳｉＯ_２：６０％、カーボン：２０％となった。
（第１４実施形態）
第１４実施形態では、表２に示すように、質量％に換算して固形分比がＮａ_２Ｏ：６％、Ｋ_２Ｏ：４％、Ｌｉ_２Ｏ：１％、ＳｉＯ_２：５９％、カーボン：３０％となる着色膜形成用の液組成物を用いる。
【０１４０】
この液組成物を洗浄済みのガラス基板（ソーダ石灰ケイ酸塩ガラス組成、１０００×５００×２．５ｍｍ）の表面上（周縁部）にバーコーダにて塗布し、室温で５分乾燥させた後、２３０℃で１０分間乾燥炉にて乾燥させた。その後、このガラス基板を７２０℃に昇温した焼成炉投入し、塗布した着色膜を９０秒間焼成した。これによって、着色膜付きガラス基板が得ることができ、その着色膜の膜厚は約７μｍであった。また、この焼成した着色膜付きガラス基板に対して、脱アルカリ処理を行ったところ、表１に示すように、脱アルカリ処理後の着色膜の膜組成は、質量％に換算してＮａ_２Ｏ：８％、Ｋ_２Ｏ：６％、Ｌｉ_２Ｏ：２％、ＳｉＯ_２：６３％、カーボン：２１％となった。
【０１４１】
上記した第９〜第１４実施形態の着色膜付きガラス基板を、前記第８実施形態と同様に性能試験を以下に記載するようにそれぞれ行った。
第９〜第１４実施形態の着色膜付きガラス基板の可視光線透過率及び紫外線透過率を第８実施形態と同様に測定した。その結果、第９〜第１４実施形態の着色膜付きガラス基板の可視光線透過率及び紫外線透過率は、これら全ての波長域において、表２に示すようにそれぞれ０．１％以下という値を得ることができ、また透過濃度を測定すると５以上であった。このことから、第９〜第１４実施形態の着色膜は、それぞれ良好な光遮蔽性機能を有していることがわかり、さらに着色膜付きガラス基板の周縁部には良好な光遮蔽部が形成されていることがわかる。
【０１４２】
第８実施形態と同様に、第９〜第１４実施形態のガラスの歪みを評価した。その結果、歪みの殆ど無い良好な反射映像が得られた。その着色膜付きガラス基板を垂直に立て、辺に沿った「反り」を測定とすると、０．１％以下の良好な結果を得た。また、第８実施形態と同様に落球試験を行ったところ、この落球試験から「ガラス破損無し」という良好な結果を得ることができた。
【０１４３】
また、第９〜第１４実施形態の着色膜付きガラス基板に、反射防止フィルムを貼り付け、着色膜の形成部と、非形成部との段差部を観察した。その結果、段差部には、エアーの巻き込みによる外観の欠点の発生は無かった。
【０１４４】
次に、着色膜付きガラス基板の着色膜について導電性を測定したところ、１×１０^−４Ω^−１以上の良好な結果を得ることができた。従って、この着色膜付きガラス基板に、例えば電磁波遮断フィルム等を貼り付ける場合、着色膜上に電気を逃がすためのバスバー（Ａｇペースト）をスクリーン印刷する必要や、或いは、銅箔テープを貼り付ける必要が無くなる。従って、製造コストの低減を実現することができる。
【０１４５】
一方、第８実施形態と同様に第９〜第１４実施形態の着色膜付きガラス基板の耐酸性及び耐アルカリ性（耐塩基性）を調べるための試験を行った。その結果、耐酸試験及び耐アルカリ試験において、着色膜面及び未被覆のガラス面のいずれも、明度の変化はないことがわかった。つまり、本発明による第９〜第１４実施形態の着色膜付きガラス基板は、良好な耐酸性及び耐アルカリ性を有していることがわかった。
【０１４６】
また、第８実施形態と同様に第９〜第１４実施形態の着色膜付きガラス基板の着色膜について、それぞれその硬度の評価を行った。その結果、本発明による着色膜は、試験前後でともに透過性に変化はなく、非常に硬度の高い膜であり、良好な耐磨耗性を有していることがわかった。
【０１４７】
さらに本発明による着色膜形成用の液組成物が、カレット原料としてガラス製造の際に再溶融された場合の影響を調べるために、高温溶融試験を行った。
溶融後の液組成物を目視により観察したところ、着色成分であるカーボンブラックは燃焼して焼失しており、液組成物は透明であることが確認された。この結果、本発明による着色膜は、ガラス製造の際にカレット原料に含まれたとしても、当該ガラスの着色に影響しないことがわかった。
【０１４８】
さらにまた、第９〜第１４実施形態の着色膜付きガラス基板について、その耐湿性の評価を行った。この評価には、温湿度試験機（エタックエンジニアリング製、ＪＬＨ−３００）、分光式色彩計（日本電色工業、ＳＥ−２０００）を用いた。評価には、温湿度試験機によって着色膜付きガラス基板を４００時間、５０℃、９５％ＲＨの雰囲気に保持した。そして、着色膜の膜面及びガラス面の明度変化を分光式色彩計にて測定し、さらに目視によっても観察した。その結果、着色膜付きガラス基板の着色膜及びガラス面のいずれにも明度は変化せず、着色膜の剥離も生じなかった。
【０１４９】
次に、第１５〜第１７実施形態について説明する。第１５〜第１７実施形態では、説明の便宜上、第８実施形態と差異のある部分について詳細に説明し、同一の部分については省略する。
（第１５実施形態）
第１５実施形態では、例えば、ケイ酸ナトリウム溶液（水ガラス３号、キシダ化学製）３０ｇ、コロイダルシリカ（ＰＣ５００、日産化学工業製）２０ｇ、カーボンブラック（ライオンペースト、Ｗ−３１１Ｎ、ＬＩＯＮ製）５０ｇを秤量し、攪拌した。これによって、表３に示すように、質量％に換算して固形分比がＮａ_２Ｏ：１２％、ＳｉＯ_２：５３％、カーボン：３５％となる着色膜形成用の液組成物を得た。
【０１５０】
この液組成物を洗浄済みのガラス基板（ソーダ石灰ケイ酸塩ガラス組成、１０００×５００×２．５ｍｍ）の表面上（周縁部）にバーコーダにて塗布し、室温で５分乾燥させた後、１９０℃で１０分間乾燥炉にて乾燥させた。その後、このガラス基板を７２０℃に昇温した焼成炉投入し、塗布した着色膜を１２０秒間焼成した。これによって、着色膜付きガラス基板が得ることができ、その着色膜の膜厚は約７μｍであった。また、表３に示すように、脱アルカリ処理後の着色膜の膜組成は、質量％に換算してＮａ_２Ｏ：１％、ＳｉＯ_２：５９％、カーボン：４０％となった。
（第１６実施形態）
第１６実施形態では、表３に示すように、質量％に換算して固形分比がＮａ_２Ｏ：１９％、ＳｉＯ_２：６５％、カーボン：１６％となる着色膜形成用の液組成物を用いる。
【０１５１】
この液組成物を洗浄済みのガラス基板（ソーダ石灰ケイ酸塩ガラス組成、１０００×５００×２．５ｍｍ）の表面上（周縁部）にバーコーダにて塗布し、室温で５分乾燥させた後、１９０℃で３０分間乾燥炉にて乾燥させた。その後、このガラス基板を７２０℃に昇温した焼成炉投入し、塗布した着色膜を９０秒間焼成した。これによって、着色膜付きガラス基板が得ることができ、その着色膜の膜厚は約７μｍであった。また、表３に示すように、脱アルカリ処理後の着色膜の膜組成は、質量％に換算してＮａ_２Ｏ：１％、ＳｉＯ_２：７８％、カーボン：２１％となった。
（第１７実施形態）
第１７実施形態では、表３に示すように、質量％に換算して固形分比がＮａ_２Ｏ：１１％、ＳｉＯ_２：５０％、カーボン：３９％となる着色膜形成用の液組成物を用いる。
【０１５２】
この液組成物を洗浄済みのガラス基板（ソーダ石灰ケイ酸塩ガラス組成、１０００×５００×２．５ｍｍ）の表面上（周縁部）にバーコーダにて塗布し、室温で１５分乾燥させた後、１９０℃で１５分間乾燥炉にて乾燥させた。その後、このガラス基板を７２０℃に昇温した焼成炉投入し、塗布した着色膜を９０秒間焼成した。これによって、着色膜付きガラス基板が得ることができ、その着色膜の膜厚は約７μｍであった。また、表３に示すように、脱アルカリ処理後の着色膜の膜組成は、質量％に換算してＮａ_２Ｏ：０．４％、ＳｉＯ_２：８３．６％、カーボン：１６％となった。
【０１５３】
上記した第１５〜第１７実施形態の着色膜付きガラス基板を以下に記載するようにそれぞれ行った。
第１５〜第１７実施形態の着色膜付きガラス基板の可視光線透過率及び紫外線透過率を第８実施形態と同様に測定した。その結果、第１５〜第１７実施形態の着色膜付きガラス基板の可視光線透過率及び紫外線透過率は、これら全ての波長域において、表３に示すようにそれぞれ０．１％以下という値を得ることができ、また透過濃度を測定すると５以上であった。このことから、第１５〜第１７実施形態の着色膜は、それぞれ良好な光遮蔽性機能を有していることがわかり、さらに着色膜付きガラス基板の周縁部には良好な光遮蔽部が形成されていることがわかる。
【０１５４】
第８実施形態と同様に、第１５〜第１７実施形態のガラスの歪みを評価した。その結果、歪みの殆ど無い良好な反射映像が得られた。その着色膜付きガラス基板を垂直に立て、辺に沿った「反り」を測定とすると、０．１％以下の良好な結果を得た。また、第８実施形態と同様に落球試験を行ったところ、この落球試験から「ガラス破損無し」という良好な結果を得ることができた。
【０１５５】
また、第１５〜第１７実施形態の着色膜付きガラス基板に、反射防止フィルムを貼り付け、着色膜の形成部と、非形成部との段差部を観察した。その結果、段差部には、エアーの巻き込みによる外観の欠点の発生は無かった。
【０１５６】
次に、着色膜付きガラス基板の着色膜について導電性を測定したところ、１×１０^−４Ω^−１以上の良好な結果を得ることができた。従って、この着色膜付きガラス基板に、例えば電磁波遮断フィルム等を貼り付ける場合、着色膜上に電気を逃がすためのバスバー（Ａｇペースト）をスクリーン印刷する必要や、或いは、銅箔テープを貼り付ける必要が無くなる。従って、製造コストの低減を実現することができる。
【０１５７】
一方、第８実施形態と同様に第１５〜第１７実施形態の着色膜付きガラス基板の耐酸性及び耐アルカリ性（耐塩基性）を調べるための試験を行った。その結果、耐酸試験及び耐アルカリ試験において、着色膜面及び未被覆のガラス面のいずれも、明度の変化はないことがわかった。つまり、本発明による第１５〜第１７実施形態の着色膜付きガラス基板は、良好な耐酸性及び耐アルカリ性を有していることがわかった。
【０１５８】
また、第８実施形態と同様に第１５〜第１７実施形態の着色膜付きガラス基板の着色膜について、それぞれその硬度の評価を行った。その結果、本発明による着色膜は、試験前後でともに透過性に変化はなく、非常に硬度の高い膜であり、良好な耐磨耗性を有していることがわかった。
【０１５９】
さらに本発明による着色膜形成用の液組成物が、カレット原料としてガラス製造の際に再溶融された場合の影響を調べるために、高温溶融試験を行った。
溶融後の液組成物を目視により観察したところ、着色成分であるカーボンブラックは燃焼して焼失しており、液組成物は透明であることが確認された。この結果、本発明による着色膜は、ガラス製造の際にカレット原料に含まれたとしても、当該ガラスの着色に影響しないことがわかった。
【０１６０】
さらにまた、第１５〜第１７実施形態の着色膜付きガラス基板について、その耐湿性の評価を行った。この評価には、温湿度試験機（エタックエンジニアリング製、ＪＬＨ−３００）、分光式色彩計（日本電色工業、ＳＥ−２０００）を用いた。評価には、温湿度試験機によって着色膜付きガラス基板を４００時間、５０℃、９５％ＲＨの雰囲気に保持した。そして、着色膜の膜面及びガラス面の明度変化を分光式色彩計にて測定し、さらに目視によっても観察した。その結果、着色膜付きガラス基板の着色膜及びガラス面のいずれにも明度は変化せず、着色膜の剥離も生じなかった。
【０１６１】
上記の試験に加えて、ウレタンシーラント接着性を確認するために、着色膜付きガラス基板にガラス用プライマー（横浜ゴム製）を塗布し、５分保持させた後、ウインドシールド用接着剤を塗布した。さらに、接着剤を硬化させるために７２時間放置し試験片とした、試験片は、それぞれの条件で硬化又は老化させ、剥離試験により評価した。それぞれの条件は、以下の通りである。
（Ａ）室温に１４４時間放置し硬化させた（室温硬化）。
（Ｂ）８０℃の高温槽に２４０時間放置後、標準状態で２４時間保持した（加熱老化）。
（Ｃ）６０℃の水中に２４０時間浸漬後、２０℃の水で１時間冷却した（水浸漬老化）。
【０１６２】
いずれの条件においても、接着剤の凝集破壊が確認され、ウレタン接着性での良好な結果が得られた。
次に、第１８及び第１９実施形態について説明する。第１８及び第１９実施形態では、説明の便宜上、第１７実施形態と差異のある部分について詳細に説明し、同一の部分については省略する。
（第１８実施形態）
第１８実施形態では、表４に示すように、質量％に換算して固形分比がＮａ_２Ｏ：３％、ＳｉＯ_２：１３％、カーボン：８％となる着色膜形成用の液組成物を用いる。
【０１６３】
この液組成物を洗浄済みのガラス基板（ソーダ石灰ケイ酸塩ガラス組成、１０００×５００×２．５ｍｍ）の表面上（周縁部）にバーコーダにて塗布し、室温で１分乾燥させた後、１９０℃で５分間乾燥炉にて乾燥させた。その後、このガラス基板を６００℃に昇温した焼成炉投入し、塗布した着色膜を１８０秒間焼成した。これによって、着色膜付きガラス基板が得ることができ、その着色膜の膜厚は約５μｍであった。
（第１９実施形態）
第１９実施形態では、表４に示すように、質量％に換算して固形分比がＮａ_２Ｏ：３％、ＳｉＯ_２：１３％、カーボン：８％となる着色膜形成用の液組成物を用いる。
【０１６４】
この液組成物を洗浄済みのガラス基板（ソーダ石灰ケイ酸塩ガラス組成、１０００×５００×２．５ｍｍ）の表面上（周縁部）にバーコーダにて塗布し、室温で１分乾燥させた後、１９０℃で２分３０秒間（２．５分間）乾燥炉にて乾燥させた。その後、このガラス基板を６３０℃に昇温した焼成炉投入し、塗布した着色膜を１９０秒間焼成した。これによって、着色膜付きガラス基板が得ることができ、その着色膜の膜厚は約５μｍであった。
【０１６５】
第１８及び第１９実施形態の着色膜付きガラス基板の可視光線透過率及び紫外線透過率を第１７実施形態と同様に測定した。その結果、第１８及び第１９実施形態の着色膜付きガラス基板の可視光線透過率及び紫外線透過率は、これら全ての波長域において、表４に示すようにそれぞれ０．１％以下という値を得ることができ、また透過濃度を測定すると５以上であった。このことから、第１８及び第１９実施形態の着色膜は、それぞれ良好な光遮蔽性機能を有していることがわかり、さらに着色膜付きガラス基板の周縁部には良好な光遮蔽部が形成されていることがわかる。
【０１６６】
第１７実施形態と同様に、第１８及び第１９実施形態のガラスの歪みを評価した。その結果、歪みの殆ど無い良好な反射映像が得られた。その着色膜付きガラス基板を垂直に立て、辺に沿った「反り」を測定とすると、０．１％以下の良好な結果を得た。
【０１６７】
また、第１７実施形態と同様に落球試験を行ったところ、この落球試験から「ガラス破損無し」という良好な結果を得ることができた。
また、第１８及び第１９実施形態の着色膜付きガラス基板に、反射防止フィルムを貼り付け、着色膜の形成部と、非形成部との段差部を観察した。その結果、段差部には、エアーの巻き込みによる外観の欠点の発生は無かった。
【０１６８】
次に、着色膜付きガラス基板の着色膜について導電性を測定したところ、１×１０^−４Ω^−１以上の良好な結果を得ることができた。
一方、第１７実施形態と同様に第１８及び第１９実施形態の着色膜付きガラス基板の耐酸性及び耐アルカリ性（耐塩基性）を調べるための試験を行った。その結果、耐酸試験及び耐アルカリ試験において、着色膜面及び未被覆のガラス面のいずれも、明度の変化はないことがわかった。つまり、本発明による第１８及び第１９実施形態の着色膜付きガラス基板は、良好な耐酸性及び耐アルカリ性を有していることがわかった。
【０１６９】
また、第１７実施形態と同様に第１８及び第１９実施形態の着色膜付きガラス基板の着色膜について、それぞれその硬度の評価を行った。その結果、本発明による着色膜は、試験前後でともに透過性に変化はなく、非常に硬度の高い膜であり、良好な耐磨耗性を有していることがわかった。
【０１７０】
さらに本発明による着色膜形成用の液組成物が、カレット原料としてガラス製造の際に再溶融された場合の影響を調べるために、高温溶融試験を行った。
溶融後の液組成物を目視により観察したところ、着色成分であるカーボンブラックは燃焼して焼失しており、液組成物は透明であることが確認された。この結果、本発明による着色膜は、ガラス製造の際にカレット原料に含まれたとしても、当該ガラスの着色に影響しないことがわかった。
【０１７１】
さらにまた、第１７実施形態と同様に第１８及び第１９実施形態の着色膜付きガラス基板について、その耐湿性の評価を行った。その結果、着色膜付きガラス基板の着色膜及びガラス面のいずれにも明度は変化せず、着色膜の剥離も生じなかった。
【０１７２】
一方、第１７実施形態と同様に第１８及び第１９実施形態の着色膜付きガラス基板について、ウレタンシーラント接着性を確認するために、着色膜付きガラス基板にガラス用プライマー（横浜ゴム製）を塗布し、５分保持させた後、ウインドシールド用接着剤を塗布した。さらに、接着剤を硬化させるために７２時間放置し試験片とした、試験片は、それぞれの条件で硬化又は老化させ、剥離試験により評価した。それぞれの条件は、第１７実施形態と同様である。
【０１７３】
そして、いずれの条件においても、接着剤の凝集破壊が確認され、ウレタン接着性での良好な結果が得られた。
【０１７４】
【表４】

次に、本発明の実施形態と比較するための第１及び第２比較例を表５に従って説明する。
【０１７５】
【表５】

（第１比較例）
第１比較例では、表５に示すように、固形分比がＳｉＯ_２：８３％、カーボン：１７％となる着色膜形成用の液組成物を用いる。
【０１７６】
この液組成物を洗浄済みのガラス基板（ソーダ石灰ケイ酸塩ガラス組成、１０００×５００×２．５ｍｍ）の表面上（周縁部）にバーコーダにて塗布し、室温で５分乾燥させた後、１９０℃で３０分間乾燥炉にて乾燥させた。その後、このガラス基板を７２０℃に昇温した焼成炉投入し、塗布した着色膜を９０秒間焼成した。
（第２比較例）
第２比較例では、表５に示すように、固形分比がＳｉＯ_２：７４％、カーボン：２６％となる着色膜形成用の液組成物を用いる。
【０１７７】
この液組成物を洗浄済みのガラス基板（ソーダ石灰ケイ酸塩ガラス組成、１０００×５００×２．５ｍｍ）の表面上（周縁部）にバーコーダにて塗布し、室温で５分乾燥させた後、１９０℃で３０分間乾燥炉にて乾燥させた。その後、このガラス基板を７２０℃に昇温した焼成炉投入し、塗布した着色膜を９０秒間焼成した。
【０１７８】
上記、第１及び第２比較例では、いずれも焼成後の着色膜にクラックが無数に発生し、着色膜付きガラス基板として成立しなかった。
（具体例）
次に、本発明によるディスプレイ用前面基板（例えば、上記した第１〜第１９実施形態のいずれかのように構成した着色膜付きガラス基板）を光学フィルタとして適用し、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）に用いた具体例を図１及び図２に基づいて説明する。図１は、本具体例のプラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）の構成を説明する概略図である。図２は、本具体例の光学フィルタの構造を説明する概略図である。
【０１７９】
図１に示すように、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）１の主表面側（表示面側）には、光学フィルタ２が設けられている。この光学フィルタ２の周縁部には、光遮蔽部３が設けられている。この光遮蔽部３によって、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）１は、その周縁部から内部の配線が見えてしまうことを防ぐことができる。
【０１８０】
図２に示すように、光学フィルタ２は、ディスプレイ用前面基板４、フィルム５，６から構成されている。このディスプレイ用前面基板４は、ガラス基板４ａの周縁部（ＰＤＰの蛍光面側）には、着色膜４ｂ（上述した、ブラックカーボン微粒子を着色成分とする）が形成され、これによって光学フィルタ２の光遮蔽部３は構成されている。またこの着色膜４ｂは、上記したように、ＰＤＰの蛍光面側に形成したが、ガラス基板４ａの主表面側（表示面側）の周縁部に形成して光遮蔽部として構成してもよい。
【０１８１】
前記着色膜４ｂは、アースに接続されている。さらに、ガラス基板４ａには、着色膜４ｂを被覆するようにフィルム５が貼り付けられている。このフィルム５は、ＰＤＰ本体に内蔵された駆動回路からの電磁波防止、ＰＤＰの励起発光による近赤外線遮蔽及びＰＤＰの蛍光面からの反射光抑制するためのものである。
【０１８２】
従って、上述したようにこの着色膜４ｂは導電性を有するので、フィルム５が電磁波遮蔽のため帯電すると、着色膜４ｂはその電荷をアースに逃がす。
一方、ガラス基板４ａの主表面側（表示面側）には、フィルム６が貼り付けられている。このフィルム６は、ガラス基板４ａの主表面側での光の反射を防止するためのものである。
【０１８３】
尚、本発明の実施の形態は、上記実施形態に限定されるものではなく、以下のように実施してもよい。
・本実施形態では、ディスプレイ用前面基板４をプラズマディスプレイパネルの前面に貼り付ける光学フィルタとして具体化したが、この限りではなく、例えば、フィールドエミッション（ＦＥＤ）に取り付ける光学フィルタとしてもよい。
【０１８４】
・本実施形態では、ディスプレイ用前面基板４のガラス基板４ａの周縁部（ＰＤＰの蛍光面側）に着色膜４ｂを形成し光遮蔽部３を構成したが、この限りではなく、ガラス基板４ａの主表面側（表示面側）の周縁部に形成して光遮蔽部としてもよい。
【０１８５】
【発明の効果】
以上説明したように、請求項１〜１６に記載の発明によれば、カレット原料として再利用可能であって、耐酸性及び耐塩基性や光遮蔽性に優れ、歪みが少ない着色膜付きガラス基板を実現することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】は、本具体例のプラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）の構成を説明する概略図。
【図２】本具体例の光学フィルタの構造を説明する概略図。
【符号の説明】
１…プラズマディスプレイパネル、２…光学フィルタ、３…光遮蔽部、４…ディスプレイ用前面基板、４ａ…ガラス基板、４ｂ…着色膜、５，６…フィルタ。

Claims (16)

1. 酸化物を主成分とする着色膜をガラス基板の表面の一部に被覆したディスプレイ用前面基板において、
   前記着色膜は、ケイ素酸化物と、少なくとも１種類以上のアルカリ金属酸化物と、炭素を主成分とする微粒子とを含むことを特徴とするディスプレイ用前面基板。
2. 請求項１に記載のディスプレイ用前面基板において、
   前記着色膜は、質量％換算で表わして、前記ケイ素酸化物を４０〜９０％と、
   前記アルカリ金属酸化物を０．１〜２５％と、
   前記微粒子を３〜４５％と
   を含むことを特徴とするディスプレイ用前面基板。
3. 請求項１又は２に記載のディスプレイ用前面基板において、
   前記着色膜は、質量％換算で表わして、前記ケイ素酸化物を４９〜７３％と、
   前記アルカリ金属酸化物を１１〜２３％と、
   前記微粒子を１６〜４０％と
   を含むことを特徴とするディスプレイ用前面基板。
4. 請求項１又は２に記載のディスプレイ用前面基板において、
   前記着色膜は、質量％換算で表わして、前記ケイ素酸化物を５４〜８９％と、
   前記アルカリ金属酸化物を０．１〜５％と、
   前記微粒子を１０〜４５％と
   を含むことを特徴とするディスプレイ用前面基板。
5. 請求項１〜４に記載のディスプレイ用前面基板において、
   前記アルカリ金属酸化物が少なくとも２種のアルカリ金属酸化物を含むことを特徴とするディスプレイ用前面基板。
6. 請求項５に記載のディスプレイ用前面基板において、
   前記アルカリ金属酸化物が、ナトリウムと、カリウム及びリチウムから選ばれる少なくとも１種とを含むことを特徴とするディスプレイ用前面基板。
7. 請求項１又は２に記載のディスプレイ用前面基板において、
   前記着色膜は、質量％換算で表わして、
   Ｎａ_２Ｏを１〜１８％と、
   Ｋ_２Ｏを０〜１８％と、
   Ｌｉ_２Ｏを０〜１０％と、
   Ｋ_２Ｏ＋Ｌｉ_２Ｏを０．１〜１９％と、
   ＳｉＯ_２を４０〜７０％と、
   前記微粒子を１５〜４０％と
   を含むことを特徴とするディスプレイ用前面基板。
8. 請求項１又は２に記載のディスプレイ用前面基板において、
   前記着色膜は、質量％換算で表わして、
   Ｎａ_２Ｏを５〜１５％と、
   Ｋ_２Ｏを０〜１１％と、
   Ｌｉ_２Ｏを０〜５％と、
   Ｋ_２Ｏ＋Ｌｉ_２Ｏを１〜１２％と、
   ＳｉＯ_２を５０〜７０％と、
   前記微粒子を１５〜３５％と
   を含むことを特徴とするディスプレイ用前面基板。
9. 請求項１〜８のいずれか１つに記載のディスプレイ用前面基板において、
   前記着色膜には、遷移金属或いは遷移金属化合物が実質的に含まれていないことを特徴とするディスプレイ用前面基板。
10. 請求項１〜９のいずれか１つに記載のディスプレイ用前面基板において、
    前記着色膜には、鉛（Ｐｂ）或いは鉛化合物が実質的に含まれていないことを特徴とするディスプレイ用前面基板。
11. 請求項１〜１０のいずれか１つに記載のディスプレイ用前面基板において、
    前記微粒子は、カーボンブラック微粒子であることを特徴とするディスプレイ用前面基板。
12. 請求項１〜１１のいずれか１つに記載のディスプレイ用前面基板において、
    前記着色膜は、その膜厚が１５μｍ以下であることを特徴とするディスプレイ用前面基板。
13. 請求項１〜１２のいずれか１つに記載のディスプレイ用前面基板において、
    前記着色膜は、その光遮蔽性が透過濃度で表わして３．２以上であることを特徴とするディスプレイ用前面基板。
14. 請求項１〜１３のいずれか１つに記載のディスプレイ用前面基板において、
    前記着色膜は、その導電性が１×１０^−４Ω^−１以上であることを特徴とするディスプレイ用前面基板。
15. 請求項１〜１４のいずれか１つに記載のディスプレイ用前面基板において、
    前記ディスプレイ用前面基板は、その反りが０．２％以下であることを特徴とするディスプレイ用前面基板。
16. 請求項１〜１５のいずれか１つに記載のディスプレイ用前面基板において、
    前記着色膜は、前記ガラス基板の表面の周縁部に被覆したことを特徴とするディスプレイ用前面基板。

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