JPH0784335B2 - 研磨ガラスの化学強化方法 - Google Patents
研磨ガラスの化学強化方法Info
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- JPH0784335B2 JPH0784335B2 JP61117546A JP11754686A JPH0784335B2 JP H0784335 B2 JPH0784335 B2 JP H0784335B2 JP 61117546 A JP61117546 A JP 61117546A JP 11754686 A JP11754686 A JP 11754686A JP H0784335 B2 JPH0784335 B2 JP H0784335B2
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Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、フロー方式で製造され、表面を0.1〜2.0μｍ
研磨したガラス、例えば板厚が3mm以下の火造り面に近
い程度に研磨されたソーダ石灰系フロートガラスを、電
子材料の基板、ことに光デイスク用ガラス基板、フオト
マスク用ガラス基板、各種デイスプレイ、デイバイス部
材等として適用することのできる反りも小さい平坦度の
よい高強度をもつ化学強化フロードガラスとして得る化
学強化方法に関する。
研磨したガラス、例えば板厚が3mm以下の火造り面に近
い程度に研磨されたソーダ石灰系フロートガラスを、電
子材料の基板、ことに光デイスク用ガラス基板、フオト
マスク用ガラス基板、各種デイスプレイ、デイバイス部
材等として適用することのできる反りも小さい平坦度の
よい高強度をもつ化学強化フロードガラスとして得る化
学強化方法に関する。
さらに本発明は、上記のほか、薄板で大面積の建築用お
よび車輌用窓ガラス、フロートガラスを用いた各種成型
品、調理用硝子製品および各種電子電気機器の基板等、
幅広く用いられるものである。
よび車輌用窓ガラス、フロートガラスを用いた各種成型
品、調理用硝子製品および各種電子電気機器の基板等、
幅広く用いられるものである。
フロートガラスはいわゆる各種板ガラスに比べ表面平滑
性、平坦性、厚みの均一性等に優れているので建築、車
輌等の分野に加え電子材料分野、例えば液晶やプラズマ
等のデイスプレイなどにも広く利用されつつある。
性、平坦性、厚みの均一性等に優れているので建築、車
輌等の分野に加え電子材料分野、例えば液晶やプラズマ
等のデイスプレイなどにも広く利用されつつある。
さらに最近の傾向として3mm厚以下の薄板ガラスが員用
されており、厚みが薄くなるほど、強度の向上が望まれ
ている。
されており、厚みが薄くなるほど、強度の向上が望まれ
ている。
薄板ガラスの効果的に強化するために、低温型あるいは
高温型等のアルカリイオン置換による化学強化方法を適
用することは周知であるが、例えばフロートガラスにそ
のまま化学強化法を持いた場合、ガラスに反りが生じて
（例えば約1mm厚で0.4〜1.3mm/300mm径）平坦性を損な
い、ことに光デイスク基板等において要求される平坦度
（例えば約1mm厚で0.2mm/300mm径以下）を得ることがで
きないものであつた。
高温型等のアルカリイオン置換による化学強化方法を適
用することは周知であるが、例えばフロートガラスにそ
のまま化学強化法を持いた場合、ガラスに反りが生じて
（例えば約1mm厚で0.4〜1.3mm/300mm径）平坦性を損な
い、ことに光デイスク基板等において要求される平坦度
（例えば約1mm厚で0.2mm/300mm径以下）を得ることがで
きないものであつた。
前記反りの原因はガラスのフロート成形時における溶融
金属、通例Snの接触ガラス面への浸入の影響によるもの
であるが、この反りに対する画期的な対処法は見出され
ていない。例えば、ガラスのSn浸入面を研削、研磨した
うえでアルカリイオン置換処理することが実施されてい
るが、該Snの接触ガラス面におけるSnの拡散層は10〜20
μｍであり、最大この層の研削研磨が必要となり、この
方法では工程が煩雑であるのみならず、そのためのガラ
スの割れおよび欠陥を生じるという研削研磨自体にも問
題があるものであつて、コスト上も高価なものとなる。
金属、通例Snの接触ガラス面への浸入の影響によるもの
であるが、この反りに対する画期的な対処法は見出され
ていない。例えば、ガラスのSn浸入面を研削、研磨した
うえでアルカリイオン置換処理することが実施されてい
るが、該Snの接触ガラス面におけるSnの拡散層は10〜20
μｍであり、最大この層の研削研磨が必要となり、この
方法では工程が煩雑であるのみならず、そのためのガラ
スの割れおよび欠陥を生じるという研削研磨自体にも問
題があるものであつて、コスト上も高価なものとなる。
したがつて、上述の方法では光デイスク基板等にはフロ
ートガラスが採用されないものであつた。
ートガラスが採用されないものであつた。
そこで、本出願人は既に出願した特願昭60−44926等に
よつて、フロートガラス製造の成形時における溶融金属
に接触した面（以下ボトム面という。）と非接触面（以
下トツプ面という。）とではその表層部でガラス成分組
成量に差が生ずることから、その差を矯正し、かつ強化
時のイオン交換量も増大させるために、Naイオンを含む
溶融塩、もしくはLiイオンをも含む混合溶融塩に浸漬処
理した後、化学強化を行う方法等を提案している。これ
により、安価で表面状態が優れかつ反り量が少ない高強
度の化学強化フロートガラスを提供することが可能とな
つたものである。
よつて、フロートガラス製造の成形時における溶融金属
に接触した面（以下ボトム面という。）と非接触面（以
下トツプ面という。）とではその表層部でガラス成分組
成量に差が生ずることから、その差を矯正し、かつ強化
時のイオン交換量も増大させるために、Naイオンを含む
溶融塩、もしくはLiイオンをも含む混合溶融塩に浸漬処
理した後、化学強化を行う方法等を提案している。これ
により、安価で表面状態が優れかつ反り量が少ない高強
度の化学強化フロートガラスを提供することが可能とな
つたものである。
前記フロートガラスを基板用として使用するためには、
所定の形状に切断し、その端面を仕上げ処理する必要が
あり、その際ガラス表面におけるキズ防止手段として塩
ビ系の溶質とアルコール系の溶剤を用いる等によつて保
護膜をコーテイングすることが多々なされている。
所定の形状に切断し、その端面を仕上げ処理する必要が
あり、その際ガラス表面におけるキズ防止手段として塩
ビ系の溶質とアルコール系の溶剤を用いる等によつて保
護膜をコーテイングすることが多々なされている。
しかし、前述のようなキズ防止対策を行つてもガラス表
面にキズが発生してしまうことがあり、そのキズをなく
し再生するためには、キズが生じている表面を0.1〜2.0
μｍ程度のCeO2等の研磨剤で表面研磨する必要があるも
のであつた。該CeO2研磨は通常行われている表面研削研
磨とはガラス表層の除去量が大きく異なり、フロートガ
ラスにおけるSnの拡数層が除去されないで残留している
こととなる。
面にキズが発生してしまうことがあり、そのキズをなく
し再生するためには、キズが生じている表面を0.1〜2.0
μｍ程度のCeO2等の研磨剤で表面研磨する必要があるも
のであつた。該CeO2研磨は通常行われている表面研削研
磨とはガラス表層の除去量が大きく異なり、フロートガ
ラスにおけるSnの拡数層が除去されないで残留している
こととなる。
しかして、研磨されたフロートガラスに、前記特願昭60
−44926等の手段をそのまま適用すると、理由はさだか
でないがガラス表面に白濁現象が生じるという問題があ
り、結果的に前記白濁現象を阻止しつつ、反よりも小さ
くしかもより破壊強度を増加することができず、前記研
磨されたフロートガラスは基板等の製品に再生しがたい
ものであつた。
−44926等の手段をそのまま適用すると、理由はさだか
でないがガラス表面に白濁現象が生じるという問題があ
り、結果的に前記白濁現象を阻止しつつ、反よりも小さ
くしかもより破壊強度を増加することができず、前記研
磨されたフロートガラスは基板等の製品に再生しがたい
ものであつた。
また、フロート法以外で製造されたガラスはSnの拡散層
はないが、一般に表面平滑性等表面状態がフロートガラ
スに比して悪く、表面研削研磨を行つて化学強化してい
る。
はないが、一般に表面平滑性等表面状態がフロートガラ
スに比して悪く、表面研削研磨を行つて化学強化してい
る。
しかし、前記フロート法以外で製造されたガラス基板あ
るいはフロートガラスのSn拡散層まで研削研磨したガラ
ス板を、従来の単なる化学強化のみの破壊強度よりさら
に増加しようとして、前記特願昭60−44926等の手段を
そのまま適用すると、やはりガラス表面に白濁現象が生
じるという問題がある。
るいはフロートガラスのSn拡散層まで研削研磨したガラ
ス板を、従来の単なる化学強化のみの破壊強度よりさら
に増加しようとして、前記特願昭60−44926等の手段を
そのまま適用すると、やはりガラス表面に白濁現象が生
じるという問題がある。
前述したように、表面を0.1〜２μｍ程度研磨したガラ
スでは破壊強度をより増加しようとすると白濁現象がガ
ラス表面に生じて透明のより高強度の化学強化ガラス製
品が得られず、また表面を0.1〜2.0程度研磨したフロー
トガラスでは、化学強化における反りを小さくすること
は難しく、さらに反り防止対策および破壊強度の向上対
策としてのNaイオンあるいはLiイオンをも含む溶融塩に
浸漬前処理を実施すると、ガラス表面に白濁を生じてし
まい、透明でより高強度の反り量の少ない化学強化ガラ
ス製品を得ることができないものである。
スでは破壊強度をより増加しようとすると白濁現象がガ
ラス表面に生じて透明のより高強度の化学強化ガラス製
品が得られず、また表面を0.1〜2.0程度研磨したフロー
トガラスでは、化学強化における反りを小さくすること
は難しく、さらに反り防止対策および破壊強度の向上対
策としてのNaイオンあるいはLiイオンをも含む溶融塩に
浸漬前処理を実施すると、ガラス表面に白濁を生じてし
まい、透明でより高強度の反り量の少ない化学強化ガラ
ス製品を得ることができないものである。
本発明は、従来のかかる欠点に鑑みてなしたものであつ
て、NaイオンもしくはLiイオンをも含む溶融塩に浸漬前
処理する前に、比較的イオン半径の大きいイオンをもつ
溶融塩中に極めてわずかな時間、浸漬することで、表面
を0.1〜2.0μｍ程度研磨されたガラスを透明で高強度の
化学強化ガラス製品となし、特に表面を0.1〜2.0μｍ程
度研磨されたフロートガラスでも、反り量が少ない高強
度でしかも透明な化学強化ガラス製品となる研磨ガラス
の化学強化方法を提供するものである。
て、NaイオンもしくはLiイオンをも含む溶融塩に浸漬前
処理する前に、比較的イオン半径の大きいイオンをもつ
溶融塩中に極めてわずかな時間、浸漬することで、表面
を0.1〜2.0μｍ程度研磨されたガラスを透明で高強度の
化学強化ガラス製品となし、特に表面を0.1〜2.0μｍ程
度研磨されたフロートガラスでも、反り量が少ない高強
度でしかも透明な化学強化ガラス製品となる研磨ガラス
の化学強化方法を提供するものである。
すなわち、本発明は、表面を0.1〜2.0μｍ研磨したフロ
ートガラスを、NaイオンもしくはLiイオンをも含む溶融
塩中に浸漬前処理した後、低温型イオン交換法等によつ
て化学強化するに当り、前以って350〜510℃のＫあるい
はRbイオンを含む溶融塩中に１〜600秒間浸漬処理した
後、前記浸漬前処理、化学強化を順次行うことを特徴と
する研磨ガラスの化学強化方法を提供するものである。
ートガラスを、NaイオンもしくはLiイオンをも含む溶融
塩中に浸漬前処理した後、低温型イオン交換法等によつ
て化学強化するに当り、前以って350〜510℃のＫあるい
はRbイオンを含む溶融塩中に１〜600秒間浸漬処理した
後、前記浸漬前処理、化学強化を順次行うことを特徴と
する研磨ガラスの化学強化方法を提供するものである。
ここで、本発明において、Ｋイオンを選んだのはLiイオ
ンあるいはNaイオンでは前記白濁を解消する効果がな
く、これらイオンよりイオン半径の大きいＫイオンが効
果的であり、Rbイオンを用いても、同様に目的を達成で
きるものである。
ンあるいはNaイオンでは前記白濁を解消する効果がな
く、これらイオンよりイオン半径の大きいＫイオンが効
果的であり、Rbイオンを用いても、同様に目的を達成で
きるものである。
本発明によれば、ＫあるいはRbイオンを含む溶融塩中に
浸漬する時間が極めて短くてよいという特徴がある。す
なわち510℃以下350℃以上の溶融塩中に１〜600秒間と
いうのは、化学強化という概念からみれば、極めて短い
特異な時間で処理することになるものであり、言い換え
れば、化学強化の場合、前記限定温度範囲中イオン交換
が最も促進される上限の510℃でも１〜２時間以上の処
理時間を必要とし、350℃では数十時間以上をも要する
ものであり、本発明は、ＫあるいはRbイオンを含んだ溶
融塩で化学強化処理するのではなくガラス表面状態を変
えることにその意義があるものであり、化学強化の作用
には遠く及ばないものであり、極めて短い処理時間でも
白濁防止に十分に効果を奏するものである。
浸漬する時間が極めて短くてよいという特徴がある。す
なわち510℃以下350℃以上の溶融塩中に１〜600秒間と
いうのは、化学強化という概念からみれば、極めて短い
特異な時間で処理することになるものであり、言い換え
れば、化学強化の場合、前記限定温度範囲中イオン交換
が最も促進される上限の510℃でも１〜２時間以上の処
理時間を必要とし、350℃では数十時間以上をも要する
ものであり、本発明は、ＫあるいはRbイオンを含んだ溶
融塩で化学強化処理するのではなくガラス表面状態を変
えることにその意義があるものであり、化学強化の作用
には遠く及ばないものであり、極めて短い処理時間でも
白濁防止に十分に効果を奏するものである。
そこで、前記白濁防止の処理温度を350〜510℃としたの
は、510℃を超えると、反り量の修正がしにくくなるこ
と、ガラスの表面性状が低下することおよびＫあるいは
Rbイオンを含む溶融塩の化学的安定性が非常に悪くなる
ため溶融塩の管理が難しくなり白濁防止効率が悪くなる
ためであり、350℃未満では溶融塩の活性が充分でなく
効果的に作用しないためである。好ましい処理温度は40
0〜490℃である。
は、510℃を超えると、反り量の修正がしにくくなるこ
と、ガラスの表面性状が低下することおよびＫあるいは
Rbイオンを含む溶融塩の化学的安定性が非常に悪くなる
ため溶融塩の管理が難しくなり白濁防止効率が悪くなる
ためであり、350℃未満では溶融塩の活性が充分でなく
効果的に作用しないためである。好ましい処理温度は40
0〜490℃である。
またさらに、前記白濁防止の処理時間を１〜600秒とし
たのは、１秒未満では、処理されるガラスの大きさにも
よるが、白濁防止に充分作用せず、600秒を超えると反
りの修正が難しくなるためである。
たのは、１秒未満では、処理されるガラスの大きさにも
よるが、白濁防止に充分作用せず、600秒を超えると反
りの修正が難しくなるためである。
前述したとおり、本発明の浸漬処理、浸漬前処理および
化学強化処理と順次特定条件で処理することによって、
ガラス表面を0.1〜2.0μｍ研磨した場合でも、白濁する
ことがなく透明な化学強化ガラス製品を得ることができ
るようになるものである。
化学強化処理と順次特定条件で処理することによって、
ガラス表面を0.1〜2.0μｍ研磨した場合でも、白濁する
ことがなく透明な化学強化ガラス製品を得ることができ
るようになるものである。
すなわち、本発明によつて、フロート法で製造され、表
面を0.1〜2.0μｍ研磨されたガラスは、研磨してもその
表面を火造り面に近い状態で、白濁および反りの問題を
解決できて、しかも破壊強度においても、従来の単なる
化学強化したガラスよりも約30％程度の大幅な増加が可
能になり、フロート法で製造されSn拡散層まで研削研磨
されたガラスおよびフロー法以外で製造され表面を0.1
〜2.0μｍ研削研磨されたガラスにおいても、白濁の問
題を解決できて、破壊強度を研磨されたフロートガラス
と同様に約30％程度の大幅な増加をもたらすものであ
る。
面を0.1〜2.0μｍ研磨されたガラスは、研磨してもその
表面を火造り面に近い状態で、白濁および反りの問題を
解決できて、しかも破壊強度においても、従来の単なる
化学強化したガラスよりも約30％程度の大幅な増加が可
能になり、フロート法で製造されSn拡散層まで研削研磨
されたガラスおよびフロー法以外で製造され表面を0.1
〜2.0μｍ研削研磨されたガラスにおいても、白濁の問
題を解決できて、破壊強度を研磨されたフロートガラス
と同様に約30％程度の大幅な増加をもたらすものであ
る。
これらにより、フロートガラスの加工時における表面キ
ズの発生に対しても、比較的安価に対応できて再生で
き、例えば0.2mm/300mm径以下というデイスク基板の仕
様を満足する反り量で、破壊強度の大きい透明な基板と
なつて製品化できることになるものである。
ズの発生に対しても、比較的安価に対応できて再生で
き、例えば0.2mm/300mm径以下というデイスク基板の仕
様を満足する反り量で、破壊強度の大きい透明な基板と
なつて製品化できることになるものである。
以下本発明の実施例について説明する。
実施例１〜４ 約１μｍ程度のキズを表面に発生している約1mm厚で約3
00mm径のフロートガラス基板をCeO2で研磨してキズを除
去したものを用いて、表１の実施例に示す条件で先ず硝
酸カリウム中で所定の第１の処理をし、つぎに、硝酸ナ
トリウム中で所定の第２の処理をした後、硝酸カリウム
で化学強化処理を行ない試料とした。
00mm径のフロートガラス基板をCeO2で研磨してキズを除
去したものを用いて、表１の実施例に示す条件で先ず硝
酸カリウム中で所定の第１の処理をし、つぎに、硝酸ナ
トリウム中で所定の第２の処理をした後、硝酸カリウム
で化学強化処理を行ない試料とした。
得られた試料について、それぞれ５枚づつについて、そ
の表面状態は目視で調べ、破壊強度は同心円負荷曲げ法
で測定し、反り量については、DEKTAKII（SLOAN社製の
形状測定器）の測定によつて調べた。その結果を表１の
実施例に示し、破壊強度は５枚の平均値であり、反り量
については５枚のバラツキを示した。
の表面状態は目視で調べ、破壊強度は同心円負荷曲げ法
で測定し、反り量については、DEKTAKII（SLOAN社製の
形状測定器）の測定によつて調べた。その結果を表１の
実施例に示し、破壊強度は５枚の平均値であり、反り量
については５枚のバラツキを示した。
比較例１〜６ 実施例と同一の研磨したガラス基板を用いて、表１に示
す条件で処理して、実施例と同様な手段で測定した、そ
の結果を表１の比較例に示す。
す条件で処理して、実施例と同様な手段で測定した、そ
の結果を表１の比較例に示す。
但し、反り量はプラスはトツプ面に凸、マイナスはボト
ム面に凸であることを示す。
ム面に凸であることを示す。
前述した本発明の実施例と比較例を対比して示した表１
からも明らかなように、表面キズを発生した際も、表面
を0.1〜2.0μｍ研磨して化学強化し充分例えばデイスク
基板等に再生し得て、特に薄板フロートガラス基板等で
高強度で反り量の少ない高品質のフロートガラスの本来
の特性を生かしたものとなるものである。
からも明らかなように、表面キズを発生した際も、表面
を0.1〜2.0μｍ研磨して化学強化し充分例えばデイスク
基板等に再生し得て、特に薄板フロートガラス基板等で
高強度で反り量の少ない高品質のフロートガラスの本来
の特性を生かしたものとなるものである。
また、本発明は・表面を0.1〜2.0μｍ研削研磨したフロ
ートガラスにおいても、破壊強度が増加できて透明性を
保持できるので、従来より広い分野で採用でき得るよう
になるものである。
ートガラスにおいても、破壊強度が増加できて透明性を
保持できるので、従来より広い分野で採用でき得るよう
になるものである。
Claims (1)
- 【請求項１】表面を0.1〜２μｍ研磨したフロートガラ
スを、NaイオンもしくはLiイオンをも含む溶融塩中に浸
漬する前処理をした後、低温型イオン交換法によって化
学強化するに当り、前以つて350〜510℃のＫあるいはRb
イオンを含む溶融塩中に１〜600秒間浸漬処理した後、
前記浸漬前処理、化学強化を順次行うことを特徴とする
研磨ガラスの化学強化方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61117546A JPH0784335B2 (ja) | 1986-05-23 | 1986-05-23 | 研磨ガラスの化学強化方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61117546A JPH0784335B2 (ja) | 1986-05-23 | 1986-05-23 | 研磨ガラスの化学強化方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62275044A JPS62275044A (ja) | 1987-11-30 |
| JPH0784335B2 true JPH0784335B2 (ja) | 1995-09-13 |
Family
ID=14714479
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61117546A Expired - Fee Related JPH0784335B2 (ja) | 1986-05-23 | 1986-05-23 | 研磨ガラスの化学強化方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0784335B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH08160405A (ja) * | 1994-12-09 | 1996-06-21 | Seiko Instr Inc | 表示装置及びその製造方法 |
| JP3726664B2 (ja) * | 2000-09-18 | 2005-12-14 | 日本板硝子株式会社 | ディスプレイ用フィルター基板及びディスプレイ装置 |
| US9890075B2 (en) | 2016-01-20 | 2018-02-13 | International Business Machines Corporation | Chemically strengthened glass and methods of making same |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5483923A (en) * | 1977-12-16 | 1979-07-04 | Asahi Glass Co Ltd | Ion exchange strengthening of glass |
-
1986
- 1986-05-23 JP JP61117546A patent/JPH0784335B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5483923A (en) * | 1977-12-16 | 1979-07-04 | Asahi Glass Co Ltd | Ion exchange strengthening of glass |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS62275044A (ja) | 1987-11-30 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |