JPH0249263B2 - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPH0249263B2 JPH0249263B2 JP56091983A JP9198381A JPH0249263B2 JP H0249263 B2 JPH0249263 B2 JP H0249263B2 JP 56091983 A JP56091983 A JP 56091983A JP 9198381 A JP9198381 A JP 9198381A JP H0249263 B2 JPH0249263 B2 JP H0249263B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- glass
- ion exchange
- treatment
- polishing
- scratches
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims description 43
- 238000005342 ion exchange Methods 0.000 claims description 17
- 238000011282 treatment Methods 0.000 claims description 15
- 239000002173 cutting fluid Substances 0.000 claims description 10
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 10
- 238000005498 polishing Methods 0.000 claims description 10
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 8
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 claims description 3
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 5
- 239000002480 mineral oil Substances 0.000 description 5
- 235000010446 mineral oil Nutrition 0.000 description 5
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 4
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 3
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 3
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 3
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 3
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910000420 cerium oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910003437 indium oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N indium(iii) oxide Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[In+3].[In+3] PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 2
- ORUIBWPALBXDOA-UHFFFAOYSA-L magnesium fluoride Chemical compound [F-].[F-].[Mg+2] ORUIBWPALBXDOA-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 229910001635 magnesium fluoride Inorganic materials 0.000 description 2
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BMMGVYCKOGBVEV-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoceriooxy)cerium Chemical compound [Ce]=O.O=[Ce]=O BMMGVYCKOGBVEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N silicon carbide Chemical compound [Si+]#[C-] HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 description 2
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000005341 toughened glass Substances 0.000 description 2
- 101710134784 Agnoprotein Proteins 0.000 description 1
- KKCBUQHMOMHUOY-UHFFFAOYSA-N Na2O Inorganic materials [O-2].[Na+].[Na+] KKCBUQHMOMHUOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003082 abrasive agent Substances 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000149 argon plasma sintering Methods 0.000 description 1
- ODINCKMPIJJUCX-UHFFFAOYSA-N calcium oxide Inorganic materials [Ca]=O ODINCKMPIJJUCX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 229910052681 coesite Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052593 corundum Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052906 cristobalite Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 1
- 238000003795 desorption Methods 0.000 description 1
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 1
- 230000003628 erosive effect Effects 0.000 description 1
- YEXPOXQUZXUXJW-UHFFFAOYSA-N lead(II) oxide Inorganic materials [Pb]=O YEXPOXQUZXUXJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 239000005304 optical glass Substances 0.000 description 1
- 239000012188 paraffin wax Substances 0.000 description 1
- 238000007517 polishing process Methods 0.000 description 1
- NOTVAPJNGZMVSD-UHFFFAOYSA-N potassium monoxide Inorganic materials [K]O[K] NOTVAPJNGZMVSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 238000003672 processing method Methods 0.000 description 1
- JPJALAQPGMAKDF-UHFFFAOYSA-N selenium dioxide Chemical compound O=[Se]=O JPJALAQPGMAKDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 1
- 229910052682 stishovite Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005728 strengthening Methods 0.000 description 1
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 1
- 229910052905 tridymite Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000013311 vegetables Nutrition 0.000 description 1
- 229910001845 yogo sapphire Inorganic materials 0.000 description 1
Landscapes
- Liquid Crystal (AREA)
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
- Surface Treatment Of Glass (AREA)
Description
本発明は、ガラスの表面処理方法の改良に関す
る。 例えば太陽電池用ガラス、液晶テレビ用ガラ
ス、フオトマスクガラス、光学ガラスとしては、
引上法によるもの或いは表面を機械的に研摩し平
滑度を上げたものが使用されている。これらのガ
ラスについては、一般に機械的強度、耐熱性およ
び耐レーザ性が高く、且つ平滑度や透明度等が良
好なことが望まれており、特に機械的強度が高い
ことが要望されている。ガラスの強化手段として
はイオン交換処理が知られているが、このイオン
交換処理をガラスに単に適用した場合、均質性、
耐レーザ性および歩留まりが劣ると云う問題があ
る。すなわち、素材ガラスを所定の形状や大きさ
に研摩、加工して得たガラスにイオン交換処理を
施した場合、表面部に存在している潜傷部分がイ
オン交換の際に溶融塩におかされ、これが原因し
て潜傷部分にクラツクが発生し、歩留まりの低下
を来すと云う不都合さがある。また、強いレーザ
光の照射によつてクラツクが生じ素子製造上の歩
留まりに低下をもたらす等の問題がある。このク
ラツクの発生は、例えば液晶テレビ用ガラスやフ
オトマスクガラス等のガラス表面について高い平
滑度を要求される場合、特に重要である。その理
由は、液晶テレビ用ガラスやフオトマスクガラス
の場合、光の散乱があると像が正確にとらえられ
ないからである。 本発明は上記事情を考慮してなされたもので、
その目的とするところは、煩雑な操作を特に要せ
ず表面平滑度、耐熱性および耐レーザ性の高い強
化ガラスを容易且つ廉価に形成することができ、
さらに強化ガラスの歩留まり向上をはかり得るガ
ラスの表面処理方法を提供することにある。 まず、本発明の概要を説明する。本発明者等は
鋭意研究の結果、前記クラツクの発生がガラス表
面に残存する潜傷を基点とするイオン交換処理用
の溶融塩の侵蝕によるものであり、この溶融塩の
侵蝕はガラス表面に残存する潜傷を除去若しくは
低減し、さらにイオン交換処理に先立つて一定の
昇温速度で加熱処理することにより著しく低減さ
れることを見出した。また、イオン交換処理の後
ガラス表面に金属系の膜を形成するとグリフイス
クラツクが防止され、耐レーザ性、耐電子ビーム
性および耐熱性が著しく向上することを見出し
た。 本発明はこのような点に着目し、無機質研摩材
を含有する不水溶性切削油剤を用いガラスの表面
に研摩処理を施し該表面に残存する潜傷を除去若
しくは低減したのち、上記ガラスを100〔℃／sec〕
以下の昇温速度で熱処理し、次いで上記ガラスに
イオン交換処理を施し、しかるのち上記ガラスの
表面に該表面の傷を埋める少なくとも１層のガラ
ス接着性良好な膜を形成するようにした方法であ
る。 本発明において処理されるべきガラスは、まず
上記不水溶性切削油剤によつて研摩加工され潜傷
が除去されるか若しくは著しく低減され、さらに
グリフイスクラツクにかかる応力集中が著しく減
少される。しかして加工されたガラスは上記切削
油剤を用いて研摩により表面に残存する傷の大き
さが高々1μｍであるように容易に鏡面仕上げさ
れる。このように表面の仕上げにより、後述する
加熱処理過程で容易に表面の潜傷が除去若しくは
著しく減少し、且つ応力集中も緩和され、イオン
交換処理過程でのクラツク発生等も抑制されるか
らである。さらに、研摩後残存する潜傷について
も、例えば弗化マグネシウム、酸化チタン、酸化
インジウム系の膜をガラス上に形成すると、潜傷
部分への応力集中を減少させガラスの耐レーザ
性、耐光照射特性を著しく改善する。なお、上記
において無機質研摩材を含む鉱油系若しくは植物
系の不水溶性切削油剤を用いると良好な結果が得
られる理由は定かではない。しかし、上記組成の
研摩剤はガラスに対する侵蝕作用が弱く、このた
め研摩時にガラスに存在している潜傷を侵蝕作用
で拡大させる虞がなく、しかも滑り効果によつて
潜傷部分への応力集中を緩和させ、その結果とし
て潜傷除去効果に勝れているものと推察される。
一方、上記研摩加工後の昇温、加熱処理において
昇温速度は常に100℃／sec以下（好ましくは10
℃／sec〜100℃／sec）の範囲で選ばれる。その
理由は、昇温速度が100〔℃／sec〕を超えるとイ
オン交換処理においてクラツク発生等が生じ歩留
まりが低下するからである。また、イオン交換後
金属系の膜を形成させると潜傷部分への応力集中
を減少させ、耐レーザ性、耐光照射性が著しく改
善されるからである。また、傷が減少するから光
散乱が減少した光透過性も改善される。かくして
本発明によれば前述した目的を達成することがで
きる。 以下、本発明の詳細を実施例によつて説明す
る。 SiO2、Al2O3、Na2O、K2O、PbO、CaO、
MgO、B2O3、ZnO、TiO2等を主成分とした次表
に示す如き組成比（重量％）からなるガラス板
（４×４×0.05インチ）を用意し、これらのガラ
ス板（実施例１、２、３）を、粒度2000メツシユ
の酸化アルミニウム研摩剤(A)、粒度1500メツシユ
の酸化セリウム研摩剤(B)、もしくは粒度2000メツ
シユ以上の炭化ケイ素超微粒研摩剤(C)を含む鉱油
系の不水溶性切削油剤でそれぞれ研摩加工し鏡面
仕上げを行つた。 ここで、各不水溶性切削油剤は酸化アルミニウ
ム(A)90％と切削油剤10％（スピンドル油80％＋塩
化パラフイン20％）、酸化セリウム(B)95％と切削
油剤５％（スピンドル油80％＋硫化脂肪20％）、
炭化ケイ素(C)90％とスピンドル油10％の組成をな
すものである。
る。 例えば太陽電池用ガラス、液晶テレビ用ガラ
ス、フオトマスクガラス、光学ガラスとしては、
引上法によるもの或いは表面を機械的に研摩し平
滑度を上げたものが使用されている。これらのガ
ラスについては、一般に機械的強度、耐熱性およ
び耐レーザ性が高く、且つ平滑度や透明度等が良
好なことが望まれており、特に機械的強度が高い
ことが要望されている。ガラスの強化手段として
はイオン交換処理が知られているが、このイオン
交換処理をガラスに単に適用した場合、均質性、
耐レーザ性および歩留まりが劣ると云う問題があ
る。すなわち、素材ガラスを所定の形状や大きさ
に研摩、加工して得たガラスにイオン交換処理を
施した場合、表面部に存在している潜傷部分がイ
オン交換の際に溶融塩におかされ、これが原因し
て潜傷部分にクラツクが発生し、歩留まりの低下
を来すと云う不都合さがある。また、強いレーザ
光の照射によつてクラツクが生じ素子製造上の歩
留まりに低下をもたらす等の問題がある。このク
ラツクの発生は、例えば液晶テレビ用ガラスやフ
オトマスクガラス等のガラス表面について高い平
滑度を要求される場合、特に重要である。その理
由は、液晶テレビ用ガラスやフオトマスクガラス
の場合、光の散乱があると像が正確にとらえられ
ないからである。 本発明は上記事情を考慮してなされたもので、
その目的とするところは、煩雑な操作を特に要せ
ず表面平滑度、耐熱性および耐レーザ性の高い強
化ガラスを容易且つ廉価に形成することができ、
さらに強化ガラスの歩留まり向上をはかり得るガ
ラスの表面処理方法を提供することにある。 まず、本発明の概要を説明する。本発明者等は
鋭意研究の結果、前記クラツクの発生がガラス表
面に残存する潜傷を基点とするイオン交換処理用
の溶融塩の侵蝕によるものであり、この溶融塩の
侵蝕はガラス表面に残存する潜傷を除去若しくは
低減し、さらにイオン交換処理に先立つて一定の
昇温速度で加熱処理することにより著しく低減さ
れることを見出した。また、イオン交換処理の後
ガラス表面に金属系の膜を形成するとグリフイス
クラツクが防止され、耐レーザ性、耐電子ビーム
性および耐熱性が著しく向上することを見出し
た。 本発明はこのような点に着目し、無機質研摩材
を含有する不水溶性切削油剤を用いガラスの表面
に研摩処理を施し該表面に残存する潜傷を除去若
しくは低減したのち、上記ガラスを100〔℃／sec〕
以下の昇温速度で熱処理し、次いで上記ガラスに
イオン交換処理を施し、しかるのち上記ガラスの
表面に該表面の傷を埋める少なくとも１層のガラ
ス接着性良好な膜を形成するようにした方法であ
る。 本発明において処理されるべきガラスは、まず
上記不水溶性切削油剤によつて研摩加工され潜傷
が除去されるか若しくは著しく低減され、さらに
グリフイスクラツクにかかる応力集中が著しく減
少される。しかして加工されたガラスは上記切削
油剤を用いて研摩により表面に残存する傷の大き
さが高々1μｍであるように容易に鏡面仕上げさ
れる。このように表面の仕上げにより、後述する
加熱処理過程で容易に表面の潜傷が除去若しくは
著しく減少し、且つ応力集中も緩和され、イオン
交換処理過程でのクラツク発生等も抑制されるか
らである。さらに、研摩後残存する潜傷について
も、例えば弗化マグネシウム、酸化チタン、酸化
インジウム系の膜をガラス上に形成すると、潜傷
部分への応力集中を減少させガラスの耐レーザ
性、耐光照射特性を著しく改善する。なお、上記
において無機質研摩材を含む鉱油系若しくは植物
系の不水溶性切削油剤を用いると良好な結果が得
られる理由は定かではない。しかし、上記組成の
研摩剤はガラスに対する侵蝕作用が弱く、このた
め研摩時にガラスに存在している潜傷を侵蝕作用
で拡大させる虞がなく、しかも滑り効果によつて
潜傷部分への応力集中を緩和させ、その結果とし
て潜傷除去効果に勝れているものと推察される。
一方、上記研摩加工後の昇温、加熱処理において
昇温速度は常に100℃／sec以下（好ましくは10
℃／sec〜100℃／sec）の範囲で選ばれる。その
理由は、昇温速度が100〔℃／sec〕を超えるとイ
オン交換処理においてクラツク発生等が生じ歩留
まりが低下するからである。また、イオン交換後
金属系の膜を形成させると潜傷部分への応力集中
を減少させ、耐レーザ性、耐光照射性が著しく改
善されるからである。また、傷が減少するから光
散乱が減少した光透過性も改善される。かくして
本発明によれば前述した目的を達成することがで
きる。 以下、本発明の詳細を実施例によつて説明す
る。 SiO2、Al2O3、Na2O、K2O、PbO、CaO、
MgO、B2O3、ZnO、TiO2等を主成分とした次表
に示す如き組成比（重量％）からなるガラス板
（４×４×0.05インチ）を用意し、これらのガラ
ス板（実施例１、２、３）を、粒度2000メツシユ
の酸化アルミニウム研摩剤(A)、粒度1500メツシユ
の酸化セリウム研摩剤(B)、もしくは粒度2000メツ
シユ以上の炭化ケイ素超微粒研摩剤(C)を含む鉱油
系の不水溶性切削油剤でそれぞれ研摩加工し鏡面
仕上げを行つた。 ここで、各不水溶性切削油剤は酸化アルミニウ
ム(A)90％と切削油剤10％（スピンドル油80％＋塩
化パラフイン20％）、酸化セリウム(B)95％と切削
油剤５％（スピンドル油80％＋硫化脂肪20％）、
炭化ケイ素(C)90％とスピンドル油10％の組成をな
すものである。
【表】
しかるのち、これら鏡面仕上げした各ガラス板
について、所定の昇温速度で400〜470℃まで昇温
し、その昇温速度に10分〜１時間保持して加熱処
理した。この加熱処理後所定温度のKNO3溶融塩
ａまたは80％KNO3−20％AgNO3溶融塩ｂにそ
れぞれ一定時間侵漬しイオン交換処理を行つた。
上記一連の処理を施したガラス板について研摩傷
に基づく歩留り状況（クラツク等の発生したもの
は不良品となる）をそれぞれ求める一方、シリコ
ンウエハ面上に載置して全反射率比で処理済みガ
ラスの平滑度をも含めた結果を比較例を含め前記
表に併せて示した。なお、比較例イ、ロ、ハは鉱
油系切削油剤を用いない場合の例を示した。 表から明らかな如く、実施例１、２、３は比較
例イ、ロ、ハに比して歩留り、平滑度、強度、い
ずれの点でも優れていることが判る。また、他の
比較例として前記研摩剤（酸化セレン粉末）のみ
による研摩加工（鏡面仕上げ）後の昇温加熱処理
を施さずにイオン交換を行つた場合の歩留りは、
各実施例１、２、３の場合における歩留りよりい
ずれも約30〜50前後劣つていた。また、鉱物系油
剤を用いると潜傷がないかまたは非常に小さいた
めに、その強度が1.6〜2.2倍であり、イオン交換
層の厚さも1.4〜2.0倍となつていた。 また、実施例１、２、３では良好な平滑度を有
するため、例えばフオトマスクガラスに用いた場
合、ガラスの消耗を15〜35％も低減できると共
に、蒸着膜の破損率も数％程度低減できる。さら
に、蒸着膜の密着性も向上し脱離破損等が抑制さ
れる。また、13W・CW−Arレーザ照射（スキヤ
ン速度25cm／sec、ΔY＝40μｍ、スポツト径80μ
ｍ）後の歩留りも比較例イ、ロ、ハより実施例
１、２、３の方が著しく向上していた。 このように、無機質研摩剤を含有する鉱油系油
剤を用いガラス板表面を研摩処理し、さらに加熱
処理、イオン交換処理を施した後膜付けをするこ
とにより、潜傷が著しく減少するかまたは消滅
し、強度、平滑度、歩留りおよびイオン交換性が
格段に向上する。このため、本ガラスの処理方法
は工業上すぐれた機能を有していると云える。 なお、本発明は上述した実施例に限定されるも
のではない。例えば、ガラス表面に形成する膜は
弗化マグネシウム、酸化チタンおよび酸化インジ
ウム等の金属系膜に限るものではなく、ガラス表
面の傷を埋めることのできるガラス接着性の良好
な膜であればよい。さらに、この膜は１層に限ら
ず多層に形成してもよい。その他、本発明の要旨
を逸脱しない範囲で、種々変形して実施すること
ができる。
について、所定の昇温速度で400〜470℃まで昇温
し、その昇温速度に10分〜１時間保持して加熱処
理した。この加熱処理後所定温度のKNO3溶融塩
ａまたは80％KNO3−20％AgNO3溶融塩ｂにそ
れぞれ一定時間侵漬しイオン交換処理を行つた。
上記一連の処理を施したガラス板について研摩傷
に基づく歩留り状況（クラツク等の発生したもの
は不良品となる）をそれぞれ求める一方、シリコ
ンウエハ面上に載置して全反射率比で処理済みガ
ラスの平滑度をも含めた結果を比較例を含め前記
表に併せて示した。なお、比較例イ、ロ、ハは鉱
油系切削油剤を用いない場合の例を示した。 表から明らかな如く、実施例１、２、３は比較
例イ、ロ、ハに比して歩留り、平滑度、強度、い
ずれの点でも優れていることが判る。また、他の
比較例として前記研摩剤（酸化セレン粉末）のみ
による研摩加工（鏡面仕上げ）後の昇温加熱処理
を施さずにイオン交換を行つた場合の歩留りは、
各実施例１、２、３の場合における歩留りよりい
ずれも約30〜50前後劣つていた。また、鉱物系油
剤を用いると潜傷がないかまたは非常に小さいた
めに、その強度が1.6〜2.2倍であり、イオン交換
層の厚さも1.4〜2.0倍となつていた。 また、実施例１、２、３では良好な平滑度を有
するため、例えばフオトマスクガラスに用いた場
合、ガラスの消耗を15〜35％も低減できると共
に、蒸着膜の破損率も数％程度低減できる。さら
に、蒸着膜の密着性も向上し脱離破損等が抑制さ
れる。また、13W・CW−Arレーザ照射（スキヤ
ン速度25cm／sec、ΔY＝40μｍ、スポツト径80μ
ｍ）後の歩留りも比較例イ、ロ、ハより実施例
１、２、３の方が著しく向上していた。 このように、無機質研摩剤を含有する鉱油系油
剤を用いガラス板表面を研摩処理し、さらに加熱
処理、イオン交換処理を施した後膜付けをするこ
とにより、潜傷が著しく減少するかまたは消滅
し、強度、平滑度、歩留りおよびイオン交換性が
格段に向上する。このため、本ガラスの処理方法
は工業上すぐれた機能を有していると云える。 なお、本発明は上述した実施例に限定されるも
のではない。例えば、ガラス表面に形成する膜は
弗化マグネシウム、酸化チタンおよび酸化インジ
ウム等の金属系膜に限るものではなく、ガラス表
面の傷を埋めることのできるガラス接着性の良好
な膜であればよい。さらに、この膜は１層に限ら
ず多層に形成してもよい。その他、本発明の要旨
を逸脱しない範囲で、種々変形して実施すること
ができる。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 無機質研摩材を含有する不水溶性切削油剤を
用いガラスの表面に研摩処理を施し該表面に残存
する潜傷を除去または低減する工程と、上記研摩
処理を施したガラスを100〔℃／sec〕以下の昇温
速度で軟化点より低い温度まで加熱する工程と、
上記加熱処理したガラスにイオン交換処理を施す
工程と、上記イオン交換処理を施したガラスの表
面に該表面の傷を埋める少なくとも１層のガラス
接着性良好な膜を形成する工程とを具備したこと
を特徴とするガラスの表面処理方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9198381A JPS57205343A (en) | 1981-06-15 | 1981-06-15 | Surface treatment of glass |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9198381A JPS57205343A (en) | 1981-06-15 | 1981-06-15 | Surface treatment of glass |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS57205343A JPS57205343A (en) | 1982-12-16 |
| JPH0249263B2 true JPH0249263B2 (ja) | 1990-10-29 |
Family
ID=14041712
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9198381A Granted JPS57205343A (en) | 1981-06-15 | 1981-06-15 | Surface treatment of glass |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS57205343A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02174365A (ja) * | 1988-12-27 | 1990-07-05 | Canon Inc | 画像データ処理装置 |
Families Citing this family (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0820634B2 (ja) * | 1987-05-11 | 1996-03-04 | 株式会社東芝 | 液晶表示器の製造方法 |
| GB9121581D0 (en) * | 1991-10-11 | 1991-11-27 | Caradon Everest Ltd | Fire resistant glass |
| EP0838723A1 (en) * | 1996-10-24 | 1998-04-29 | Agfa-Gevaert N.V. | A material comprising a layer on a glass support |
| JP2004091291A (ja) * | 2002-09-03 | 2004-03-25 | Seiko Epson Corp | ガラス板、電気光学パネル用のガラス基板、電気光学パネル、ガラス板の製造方法、電気光学パネル用のガラス基板の製造方法、電気光学パネルの製造方法及び電子機器 |
| JP5463457B2 (ja) * | 2009-03-02 | 2014-04-09 | Ａｇｃテクノグラス株式会社 | 抗菌性耐熱ガラス容器の製造方法 |
| JP2010202514A (ja) * | 2010-06-10 | 2010-09-16 | Hoya Corp | 携帯型液晶ディスプレイ用のガラス基板及びその製造方法並びにこれを用いた携帯型液晶ディスプレイ |
| JP5792937B2 (ja) * | 2010-08-30 | 2015-10-14 | Ａｇｃテクノグラス株式会社 | 抗菌性耐熱ガラス容器の製造方法および抗菌性耐熱ガラス容器 |
| JP5002067B2 (ja) * | 2011-07-01 | 2012-08-15 | Ｈｏｙａ株式会社 | 携帯型液晶ディスプレイ用のガラス基板及びその製造方法並びにこれを用いた携帯型液晶ディスプレイ |
| JP5502937B2 (ja) * | 2012-06-11 | 2014-05-28 | Ｈｏｙａ株式会社 | ディスプレイ用ガラス基板及びその製造方法並びにこれを用いたディスプレイ |
| CN112047643A (zh) * | 2019-06-06 | 2020-12-08 | 华为技术有限公司 | 玻璃强化的方法 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5626749A (en) * | 1979-08-10 | 1981-03-14 | Toshiba Corp | Surface treatment of glass |
-
1981
- 1981-06-15 JP JP9198381A patent/JPS57205343A/ja active Granted
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5626749A (en) * | 1979-08-10 | 1981-03-14 | Toshiba Corp | Surface treatment of glass |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02174365A (ja) * | 1988-12-27 | 1990-07-05 | Canon Inc | 画像データ処理装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS57205343A (en) | 1982-12-16 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP7431872B2 (ja) | 改善された曲げ性および化学強化性を有する薄板ガラス | |
| JP3384286B2 (ja) | 磁気記録媒体用ガラス基板 | |
| WO2019150654A1 (ja) | 化学強化用ガラス | |
| US9926225B2 (en) | Media and methods for etching glass | |
| US4042405A (en) | High strength ophthalmic lens | |
| US3656923A (en) | Method for strengthening photochromic glass articles | |
| US2998675A (en) | Glass body having a semicrystalline surface layer and method of making it | |
| JPH0249263B2 (ja) | ||
| CN112739658B (zh) | 含锂玻璃的逆离子交换过程 | |
| TWI756171B (zh) | 可經由化學強化而具有經控制翹曲之玻璃片材 | |
| JPWO2014122935A1 (ja) | ガラス組成物、化学強化用ガラス組成物、強化ガラス物品、およびディスプレイ用カバーガラス | |
| WO2016117474A1 (ja) | 化学強化ガラス及び化学強化ガラスの製造方法 | |
| JP2004505882A (ja) | 高銀含有ホウケイ酸ガラス | |
| JP2972830B1 (ja) | 磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法 | |
| WO2016010050A1 (ja) | 防眩処理用ガラス、および、それを用いた防眩ガラス | |
| US3317297A (en) | Method of chemically strengthening glass | |
| KR970000900B1 (ko) | 편광 유리 | |
| TW201710201A (zh) | 可經由化學強化而具有經控制翹曲之玻璃片材 | |
| JPH0151458B2 (ja) | ||
| JPS6351986B2 (ja) | ||
| KR102289741B1 (ko) | 화학적으로 강화된 방현 유리 및 방현 처리용 유리 | |
| US3301649A (en) | Method of making high strength glass articles | |
| JPH0132174B2 (ja) | ||
| WO2019044563A1 (ja) | ガラス | |
| JPS6240310B2 (ja) |