JP2002082455A - 電子写真感光体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 表面層が、耐摩耗性と耐傷性に優れ、長期
間にわたって機械的強度や電子写真特性を維持すること
ができるとともに、安全衛生上の問題のない製法によっ
て得ることのできる電子写真感光体を提供する。 【解決手段】導電性基体上に、ビス（３−メチル−４−
ヒドロキシフェニル）メタンまたはビス（３−メチル−
４−ヒドロキシフェニル）メタンと他のビスフェノール
類の残基からなる構成単位を有するポリカーボネート樹
脂を含有する感光層を設けて構成された電子写真感光
体。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、表面層が耐摩耗性
や耐刷性に優れ、長期間にわたって機械的強度や電子写
真特性を維持することができると共に、安全衛生上の問
題のない製法によって得ることのできる電子写真感光体
に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来、電子写真感光体として、無機光導
電性材料を用いたものが使用されてきたが、近年、有機
光導電性材料を用いた有機電子写真感光体の性能の著し
い向上により、その使用割合が拡大している。この有機
電子写真感光体には、適用される電子写真プロセスに応
じて、所定の感度や電気特性、光学特性を備えているこ
とが要求されている。そして、この電子写真感光体は、
その感光層の表面に、コロナ帯電または接触帯電、トナ
ー現像、紙への転写、クリーニング処理などの操作が繰
返し行われる。そして、これらの操作に伴って、感光層
の表面には摩擦による摩耗や傷が発生することがあり、
またコロナ帯電または接触帯電、転写に際しては、オゾ
ンなどの活性ガスや放電による表面劣化が進行すること
がある。したがって、長期間にわたって電子写真の画質
を維持するためには、電子写真感光体の表面に設けた感
光層には、これら摩耗や傷の発生、活性ガスや放電によ
る表面劣化を抑止することのできる高い耐久性が要求さ
れる。

【０００３】このような要請に応えるため、有機電子写
真感光体の表面に設ける感光層の形成材料の一つである
バインダー樹脂には、感光層に用いる電荷輸送物質との
相溶性がよく、かつ光学特性の良好なポリカーボネート
樹脂が使用されてきた。そして、このポリカーボネート
樹脂として、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）
プロパンや、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）
シクロヘキサンを原料とするポリカーボネート樹脂が用
いられてきたが、これらポリカーボネート樹脂をバイン
ダー樹脂とする感光層においては、光学特性や電子写真
特性については充分に満足し得るが、耐摩耗性や耐傷性
および活性ガスや放電による表面劣化の抑止について
は、充分に満足できるには至っていない。

【０００４】また、この有機電子写真感光体の製造工程
においては、その感光層の形成時に、バインダー樹脂で
あるポリカーボネート樹脂を塩化メチレンなどのハロゲ
ン系溶剤に溶解させて塗工液を調整し、この塗工液を塗
布した後、ハロゲン系溶剤を揮発させて固化することに
よって感光層を形成する方法が採用されている。ところ
が、この塩化メチレンなどのハロゲン系溶剤は人体に対
する安全衛生上の問題があることから、非ハロゲン系溶
剤、例えばトルエンやテトラヒドロフランなどへの切替
えが進められている。しかしながら、従来の上記ポリカ
ーボネート樹脂は、これら非ハロゲン系溶剤への溶解性
が低く、溶解させた場合においても、その塗工液が時間
の経過とともに結晶化したり、塗工した後に感光層が白
化して透明性が低下するという問題がある。

【０００５】このような状況から、有機電子写真感光体
の表面層となる感光層の形成材料として、耐摩耗性や耐
傷性に優れていて、長期間の使用においても電子写真特
性の低下をきたすことがなく、かつ人体に対する安全衛
生上の問題のない製法により得ることのできる有機電子
写真感光体の開発が要望されている。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、表面層が耐
摩耗性や耐傷性に優れ、長期間にわたって機械的強度や
電子写真特性を維持することができると共に、安全衛生
上の問題のない製法により得ることのできる電子写真感
光体を提供することを目的とするものである。

【０００７】

【課題を解決するための手段】本発明者らは、前記課題
を解決するために鋭意研究を重ねた結果、ビス（３−メ
チル−４−ヒドロキシフェニル）メタン、またはビス
（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）メタンと他の
ビスフェノール類を、炭酸エステル形成性化合物を用い
て重合または共重合させた特定化学構造のポリカーボネ
ート樹脂を感光層に含有させた電子写真感光体によれ
ば、上記目的を達成することができることを見出し、こ
れら知見に基づいて本発明を完成するに至った。

【０００８】すなわち、本発明の要旨は、下記のとおり
である。 （１）導電性基体上に感光層を有する電子写真感光体に
おいて、該感光層に、下記構造式〔１〕、

【０００９】

【化４】

【００１０】で表される繰返し単位（１）を有するポリ
カーボネート樹脂を含有させてなる電子写真感光体。 （２）導電性基体上に感光層を有する電子写真感光体に
おいて、該感光層に、前記（１）における構造式〔１〕
で表わされる繰返し単位（１）、および下記一般式
〔２〕、

【００１１】

【化５】

【００１２】〔式〔２〕中、Ａｒは下記一般式〔２ａ〕
または〔２ｂ〕、

【００１３】

【化６】

【００１４】（式〔２ａ〕、〔２ｂ〕中、Ｒ¹ は各々独
立に置換基を有していてもよいアルキル基、アルコキシ
基、アリール基、アリール基置換アルケニル基および縮
合多環式炭化水素基の群から選択される一価の基を示
し、Ｒ² 、Ｒ³ 、Ｒ⁴ は各々独立に置換基を有していて
もよいアルキル基、アリール基、アリール基置換アルケ
ニル基および縮合多環式炭化水素基の群から選択される
一価の基を示す。また、Ｘは単結合、−Ｏ−、−ＣＯ
−、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ₂ −、−ＣＲ⁵ Ｒ⁶ −
（ただし、Ｒ⁵ 、Ｒ⁶ は、各々独立に水素原子、炭素数
１〜６のアルキル基、トリフルオロメチル基、炭素数６
〜１２の置換もしくは無置換のシクロアルキリデン基、
９，９−フルオレニリデン基、１，８−メンタンジイル
基、２，８−メンタンジイル基、置換もしくは無置換の
ピラジリデン基または炭素数６〜１２の置換もしくは無
置換のアリーレン基を示す。）を示し、Ｙ¹ は各々独立
に炭素数２以上のアルキレン基または炭素数２以上のア
ルキレンオキシアルキレン基を示し、Ｙ² は各々独立に
酸素原子、炭素数２以上のアルキレン基または炭素数２
以上のアルキレンオキシアルキレン基を示す。また、ｍ
は各々独立に０〜４の整数であり、ｎ¹ 〜ｎ⁴ は各々独
立に０または１以上の整数であり、かつｎ¹ 〜ｎ⁴ の合
計が０〜４５０の整数である。）を示す。〕で表される
繰返し単位（２）を有するポリカーボネート樹脂を含有
させてなる電子写真感光体。 （３）ポリカーボネート樹脂の塩化メチレンを溶媒とす
る濃度０．５ｇ／デシリットルの溶液の２０℃で測定し
た還元粘度〔η_SP／ｃ〕が、０．１デシリットル／ｇ以
上である前記（１）または（２）に記載の電子写真感光
体。

【００１５】

【発明の実施の形態】本発明における電子写真感光体
は、導電性基体上に感光層を有する電子写真感光体にお
いて、該感光層に、前記構造式〔１〕で表される繰返し
単位（１）を有するポリカーボネート樹脂を含有する電
子写真感光体である。また、本発明における電子写真感
光体の感光層に含有させるポリカーボネート樹脂とし
て、前記構造式〔１〕で表される繰返し単位（１）と、
前記一般式〔２〕で表される繰返し単位（２）を任意の
割合で含有するポリカーボネート樹脂を含有する電子写
真感光体である。

【００１６】さらに、このポリカーボネート樹脂は、上
記繰返し単位（１）またはこの繰返し単位（１）と上記
繰返し単位（２）の基本的な構成単位のほかに、前記構
造式〔１〕や前記一般式〔２〕で規定した以外の化学構
造を有するポリカーボネート構造単位や、ポリエステル
構造単位、ポリウレタン構造単位、ポリエーテル構造単
位、ポリシロキサン構造単位を、本発明の目的を阻害し
ない範囲において含有しているものであってもよい。

【００１７】そして、このポリカーボネート樹脂におけ
る前記一般式〔２ａ〕においてＲ¹が表わすハロゲン原
子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子または沃
素原子が挙げられ、また、置換もしくは無置換のアルキ
ル基としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、
ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｉ−ブチル基、ｓｅｃ
−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−ヘキシル基、シ
クロヘキシル基などが挙げられる。また、置換もしくは
無置換のアルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ
基、ｎ−プロポキシ基、ｉ−プロポキシ基、ｎ−ブトキ
シ基、ｉ−ブトキシ基、ｓｅｃ−ブトキシ基、ｔｅｒｔ
−ブトキシ基、などが挙げられる。さらに、置換もしく
は無置換のアリール基としては、フェニル基、トリル
基、キシリル基などが挙げられる。

【００１８】また、前記一般式〔２ａ〕および〔２ｂ〕
において、Ｒ² 〜Ｒ⁶ が表わすアルキル基やアルコキシ
基、アリール基については、それらの具体例は、上述の
一般式〔２ａ〕におけるアルキル基などの具体例と同様
な基が挙げられる。さらに、前記一般式〔２ｂ〕におい
て、Ｙ¹ およびＹ² が表わすアルキレン基としては、エ
チレン基、トリメチレン基、テトラメチレン基、ペンタ
メチレン基などが挙げられ、またアルキレンオキシアル
キレン基としては、エチレンオキシエチレン基やトリメ
チレンオキシトリメチレン基などが挙げられる。

【００１９】そして、このポリカーボネート系樹脂は、
上記の繰返し単位（１）あるいはこの繰返し単位（１）
と繰返し単位（２）を含有するとともに、塩化メチレン
を溶媒とする濃度０．５ｇ／デシリットルの溶液の２０
℃で測定した還元粘度〔η_SP／ｃ〕が、０．１デシリッ
トル／ｇ以上、好ましくは０．２〜５．０デシリットル
／ｇ、さらに好ましくは０．３〜４．０デシリットル／
ｇであるものが好適に用いられる。このポリカーボネー
ト系樹脂の上記還元粘度が、０．１デシリットル／ｇ未
満であると、そのポリカーボネート系樹脂の機械的強度
が充分でなく、感光層の耐摩耗性や耐傷性が充分に得ら
れないことがある。

【００２０】つぎに、このポリカーボネート樹脂の製造
法については、下記構造式〔Ａ〕、

【００２１】

【化７】

【００２２】で表されるビス（３−メチル−４−ヒドロ
キシフェニル）メタンを単独で原料に用いるか、あるい
はこのビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）メ
タンと、下記一般式〔Ｂ〕、

【００２３】

【化８】

【００２４】〔式〔Ｂ〕中のＡｒは、前記一般式〔２〕
におけるＡｒと同じ意味を有する〕で表されるビスフェ
ノール類との混合物を原料として、重合溶媒や酸受容
体、末端停止剤、触媒の存在下に、これらを炭酸エステ
ル形成性化合物と反応させて重合する方法によることが
できる。

【００２５】ここで、上記一般式〔Ｂ〕で表されるビス
フェノール類としては、例えば、４，４’−ジヒドロキ
シビフェニル、３，３’−ジフルオロ−４，４’−ジヒ
ドロキシビフェニル、３，３’−ジクロロ−４，４’−
ジヒドロキシビフェニル、３，３’−ジメチル−４，
４’−ジヒドロキシビフェニル、３，３’−ジフェニル
−４，４’−ジヒドロキシビフェニル、３，３’−ジシ
クロヘキシル−４，４’−ジヒドロキシビフェニル、
２，２’−ジメチル−４，４’−ジヒドロキシビフェニ
ル、３，３’，５，５’−テトラメチル−４，４’−ジ
ヒドロキシビフェニルなどの４，４’−ジヒドロキシビ
フェニル類；ビス（４−ヒドロキシフェニル）メタン、
ビス（４−ヒドロキシフェニル）ジフェニルメタン、ビ
ス（４−ヒドロキシフェニル）フェニルメタン、ビス
（３−ノニル−４−ヒドロキシフェニル）メタン、ビス
（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）メタ
ン、ビス（３，５−ジブロモ−４−ヒドロキシフェニ
ル）メタン、ビス（３−クロロ−４−ヒドロキシフェニ
ル）メタン、ビス（３−フルオロ−４−ヒドロキシフェ
ニル）メタン、ビス（２−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒド
ロキシフェニル）フェニルメタン、ビス（２−ヒドロキ
シフェニル）メタン、２−ヒドロキシフェニル−４−ヒ
ドロキシフェニル）メタン、ビス（２−ヒドロキシ−４
メチルフェニル）メタン、ビス（２−ヒドロキシ−４−
メチル−６−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）メタン、ビス
（２−ヒドロキシ−４，６−ジメチルフェニル）メタ
ン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）エタン、
１，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）エタン、１，
１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−１−フェニルエ
タン、１，１−ビス（４−ヒドロキシ−３−メチルフェ
ニル）−１−フェニルエタン、１，１−ビス（４−ヒド
ロキシ−３−フェニルフェニル）−１−フェニルエタ
ン、２−（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）−２
−（４−ヒドロキシフェニル）−１−フェニルエタン、
１，１−ビス（２−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ
−３−メチルフェニル）エタン、１−フェニル−１，１
−ビス（３−フルオロ−４−ヒドロキシフェニル）エタ
ン、１，１−ビス（２−ヒドロキシ−４−メチルフェニ
ル）エタン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）
プロパン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プ
ロパン、２，２−ビス（２−メチル−４−ヒドロキシフ
ェニル）プロパン、２，２−ビス（３−メチル−４−ヒ
ドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（３−イソ
プロピル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２
−ビス（３−ｓｅｃ−ブチル−４−ヒドロキシフェニ
ル）プロパン、２，２−ビス（３−フェニル−４−ヒド
ロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（３−シクロ
ヘキシル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２
−ビス（３−クロロ−４−ヒドロキシフェニル）プロパ
ン、２，２−ビス（３−フルオロ−４−ヒドロキシフェ
ニル）プロパン、２，２−ビス（３−ブロモ−４−ヒド
ロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−ヒドロ
キシ−３，５−ジメチルフェニル）プロパン、１，１−
ビス（２−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メ
チルフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−ヒドロキ
シ−３，５−ジクロロフェニル）プロパン、２，２−ビ
ス（４−ヒドロキシ−３，５−ジフルオロフェニル）プ
ロパン、２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３，５−ジブ
ロモフェニル）プロパン、２，２−ビス（３−ブロモ−
４−ヒドロキシ−５−クロロフェニル）プロパン、２，
２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−１，１，１，
３，３，３−ヘキサフルオロプロパン、２，２−ビス
（２−ヒドロキシ−４−ｓｅｃ−ブチルフェニル）プロ
パン、２，２−ビス（２−ヒドロキシ−４，６−ジメチ
ルフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−ヒドロキシ
フェニル）ブタン、２，２−（３−メチル−４−ヒドロ
キシフェニル）ブタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシ
フェニル）−２−メチルプロパン、１，１−ビス（２−
ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニ
ル）−２−メチルプロパン、１，１−ビス（２−ブチル
−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）ブタン、１，
１−ビス（２−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５
−メチルフェニル）ブタン、１，１−ビス（２−メチル
−４−ヒドロキシ−５−ｔｅｒｔ−ペンチルフェニル）
ブタン、２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３，５−ジク
ロロフェニル）ブタン、２，２−ビス（４−ヒドロキシ
−３，５−ジブロモフェニル）ブタン、２，２−ビス
（４−ヒドロキシフェニル）−３−メチルブタン、１，
１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−３−メチルブタ
ン、３，３−ビス（４−ヒドロキシフェニル）ペンタ
ン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）ヘキサ
ン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）ヘプタ
ン、２，２−ビス（２−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロ
キシ−５−メチルフェニル）ヘプタン、２，２−ビス
（４−ヒドロキシフェニル）オクタン、２，２−ビス
（４−ヒドロキシフェニル）ノナン、２，２−ビス（４
−ヒドロキシフェニル）デカン、１，１−ビス（４−ヒ
ドロキシフェニル）シクロペンタン、１，１−ビス（４
−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン、１，１−ビス
（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサ
ン、１，１−ビス（４−ヒドロキシ−３，５−ジメチル
フェニル）シクロヘキサン、１，１−ビス（３−シクロ
ヘキシル−４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン、
１，１−ビス（３−フェニル−４−ヒドロキシフェニ
ル）シクロヘキサン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフ
ェニル）−３，３，５−トリメチルシクロヘキサン、
１，１−ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）
−３，３，５−トリメチルシクロヘキサンなどのビス
（ヒドロキシフェニル）アルカン類；ビス（４−ヒドロ
キシフェニル）エーテル、ビス（３−フルオロ−４−ヒ
ドロキシフェニル）エーテルなどのビス（４−ヒドロキ
シフェニル）エーテル類；ビス（４−ヒドロキシフェニ
ル）スルフィド、ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフ
ェニル）スルフィドなどのビス（４−ヒドロキシフェニ
ル）スルフィド類；ビス（４−ヒドロキシフェニル）ス
ルホキシド、ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニ
ル）スルホキシドなどのビス（４−ヒドロキシフェニ
ル）スルホキシド類；ビス（４−ヒドロキシフェニル）
スルホン、ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニ
ル）スルホン、ビス（３−フェニル−４−ヒドロキシフ
ェニル）スルホンなどのビス（４−ヒドロキシフェニ
ル）スルホン類；４，４’−ジヒドロキシベンゾフェノ
ンなどのビス（４−ヒドロキシフェニル）ケトン類；
９，９−ビス（４−ヒドロキシフェニル）フルオレン、
９，９−ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）
フルオレン、９，９−ビス（３−フェニル−４−ヒドロ
キシフェニル）フルオレンなどのビス（ヒドロキシフェ
ニル）フルオレン類；４，４”−ジヒドロキシ−ｐ−タ
ーフェニルなどのジヒドロキシ−ｐ−ターフェニル類；
４，４’’’−ジヒドロキシ−ｐ−クォーターフェニル
などのジヒドロキシ−ｐ−クォーターフェニル類；２，
５−ビス（４−ヒドロキシフェニル）ピラジン、２，５
−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−３，６−ジメチル
ピラジン、２，５−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−
２，６−ジエチルピラジンなどのビス（ヒドロキシフェ
ニル）ピラジン類；１，８−ビス（４−ヒドロキシフェ
ニル）メンタン、２，８−ビス（４−ヒドロキシフェニ
ル）メンタン、１，８−ビス（３−メチル−４−ヒドロ
キシフェニル）メンタン、１，８−ビス（４−ヒドロキ
シ−３，５−ジメチルフェニル）メンタンなどのビス
（ヒドロキシフェニル）メンタン類；１，４−ビス〔２
−（４−ヒドロキシフェニル）−２−プロピル〕ベンゼ
ン、１，３−ビス〔２−（４−ヒドロキシフェニル）−
２−プロピル〕ベンゼンなどのビス〔２−（４−ヒドロ
キシフェニル）−２−プロピル〕ベンゼン類；１，３−
ジヒドロキシナフタレン、１，４−ジヒドロキシナフタ
レン、１，５−ジヒドロキシナフタレン、２，６−ジヒ
ドロキシナフタレン、２，７−ジヒドロキシナフタレン
などのジヒドロキシナフタレン類；α，ω−ジヒドロキ
シポリジメチルシロキサン、α，ω−ビス〔３−（２−
ヒドロキシフェニル）プロピル〕ポリジメチルシロキサ
ンなどのポリシロキサン類；１，１，８，８−テトラヒ
ドロ−１，８−ジヒドロキシパーフルオロオクタン、
１，１，６，６−テトラヒドロ−１，６−ジヒドロキシ
パーフルオロヘキサンなどのジヒドロパーフルオロアル
カン類などが挙げられる。

【００２６】これら化合物の中でも、４，４’−ジヒド
ロキシビフェニル、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェ
ニル）エタン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニ
ル）プロパン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニ
ル）プロパン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニ
ル）１，１−ジフェニルメタン、１，１−ビス（４−ヒ
ドロキシフェニル）１−フェニルエタン、１，１−ビス
（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン、、２，２
−ビス（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）プロパ
ン、２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３−フェニルフェ
ニル）プロパン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニ
ル）ブタン、２，７−ジヒドロキシナフタレン、ビス
（４−ヒドロキシフェル）スルホン、４，４’−（３，
３，５−トリメチルシクロヘキシリデン）ジフェノー
ル、４，４’−〔１，４−フェニレンビス（１−メチル
エチリデン）〕ビスフェノール、α，ω−ビス〔３−
（２−ヒドロキシフェニル）プロピル〕ポリジメチルシ
ロキサンなどの化合物が特に好適に用いられる。

【００２７】また、この反応において用いる溶媒として
は、通常のポリカーボネート樹脂の製造に際して使用さ
れているものを用いることができる。例えば、トルエ
ン、キシレンなどの芳香族炭化水素系溶媒、塩化メチレ
ン、クロロホルム、１．１−ジクロロエタン、１，２−
ジクロロエタン、１，１，１−トリクロロエタン、１，
１，２−トリクロロエタン、１，１，１，２−テトラク
ロロエタン、１，１，２，２−テトラクロロエタン、ペ
ンタクロロエタン、クロロベンゼンなどのハロゲン化炭
化水素、アセトフェノンなどが好適なものとして挙げら
れる。これら溶媒は、１種単独で用いても、２種以上を
組み合わせて用いてもよい。さらに、互いに混ざり合わ
ない２種の溶媒を用いて界面重縮合反応を行ってもよ
い。

【００２８】また、酸受容体としては、水酸化ナトリウ
ム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、水酸化セシウム
などのアルカリ金属水酸化物や、炭酸ナトリウム、炭酸
カリウムなどのアルカリ金属炭酸塩、ピリジンなどの有
機塩基、あるいはこれらの混合物を用いることができ
る。これら酸受容体の使用割合は、反応の化学量論比
（当量）を考慮して適宜調整すればよい。具体的には、
原料の二価フェノールの水酸基１モル当たり、１当量も
しくはそれより若干過剰量、好ましくは１〜５当量の酸
結合剤を使用すればよい。

【００２９】さらに、末端停止剤としては、一価のフェ
ノール類を用いることができる。例えば、ｐ−ｔｅｒｔ
−ブチル−フェノール、ｐ−フェニルフェノール、ｐ−
クミルフェノール、ｐ−パーフルオロノニルフェノー
ル、ｐ−（パーフルオロノニルフェニル）フェノール、
ｐ−（パーフルオロキシルフェニル）フェノール、ｐ−
ｔｅｒｔ−パーフルオロブチルフェノール、１−（Ｐ−
ヒドロキシベンジル）パーフルオロデカンなどが好適に
用いられる。

【００３０】そして、触媒としては、トリエチルアミン
などの第三級アミン類や第四級アンモニウム塩が好適に
用いられる。さらに、上記炭酸エステル形成性化合物と
しては、ホスゲンなどの各種ジハロゲン化カルボニル
や、クロロホーメートなどのハロホーメート、炭酸エス
テル化合物などを用いることができる。ホスゲンなどの
ガス状の炭酸エステル形成性化合物を使用する場合、こ
れを反応系に吹き込む方法が好適に採用できる。この炭
酸エステル形成性化合物の使用割合は、反応の化学量論
比（当量）を考慮して適宜調整すればよい。

【００３１】また、分岐型ポリカーボネート樹脂を製造
する場合には、様々な分岐剤を用いることができる。こ
のような分岐剤の具体例としては、フロログルシン、ピ
ロガロール、４，６−ジメチル−２，４，６−トリス
（４−ヒドロキシフェニル）−２−ヘプテン、２，６−
ジメチル−２，４，６−トリス（４−ヒドロキシフェニ
ル）−３−ヘプテン、２，４−ジメチル−２，４，６−
トリス（４−ヒドロキシフェニル）ヘプタン、１，３，
５−トリス（２−ヒドロキシフェニル）ベンゼン、１，
３，５−トリス（４−ヒドロキシフェニル）ベンゼン、
１，１，１−トリス（４−ヒドロキシフェニル）エタ
ン、トリス（４−ヒドロキシフェニル）フェニルメタ
ン、２，２−ビス〔４，４−ビス（４−ヒドロキシフェ
ニル）シクロヘキシル〕プロパン、２，４−ビス〔２−
ビス（４−ヒドロキシフェニル）−２−プロピル〕フェ
ノール、２，６−ビス（２−ヒドロキシ−５−メチルベ
ンジル）−４−メチルフェノール、２−（４−ヒドロキ
シフェニル）−２−（２，４−ジヒドロキシフェニル）
プロパン、テトラキス（４−ヒドロキシフェニル）メタ
ン、テトラキス〔４−（４−ヒドロキシフェニルイソプ
ロピル）フェノキシ〕メタン、２，４−ジヒドロキシ安
息香酸、トリメシン酸、シアヌル酸などが好適なものと
して挙げられる。

【００３２】さらに、所望により、この反応系に亜硫酸
ナトリウムやハイドロサルファイドなどの酸化防止剤を
少量添加してもよい。つぎに、前記重縮合反応を行う際
の反応条件については、反応温度は、通常、０〜１５０
℃、好ましくは５〜４０℃であり、反応圧力は減圧、常
圧、加圧のいずれでもよいが、通常は常圧もしくは反応
系の自圧程度の加圧下に行うことができる。反応時間に
ついては、反応温度により左右されるが、０．５分間〜
１０時間、好ましくは１分間〜２時間程度である。ま
た、この反応は、連続法、半連続法、回分法のいずれの
反応方式で実施してもよい。

【００３３】このポリカーボネート系樹脂の分子量を前
記還元粘度の数値範囲内に調節をするには、例えば反応
条件の選択、末端停止剤や分岐剤の使用量の増減などに
より行うことができる。また、場合により、得られたポ
リカーボネート系樹脂に、物理式処理（混合、分画等）
や化学的処理（ポリマー反応、架橋処理、部分分解処理
等）を施して所望の還元粘度のポリカーボネート系樹脂
としてもよい。さらに、この反応により得られたポリカ
ーボネート系樹脂は、公知の分離、精製法により、高純
度のポリカーボネート系樹脂を得ることができる。

【００３４】つぎに、本発明の電子写真感光体は、導電
性基体上に感光層を設けた電子写真感光体であって、そ
の感光層に上記のポリカーボネート系樹脂を含有させた
表面層を有するものである。そして、この電子写真感光
体の構造は、特に制限はなく、単層型、積層型などの公
知の種々の形態に形成することができる。たとえば、感
光層が１層の電荷発生層と、表面層を形成する１層の電
荷輸送層を有する積層型の電子写真感光体が好ましい。
そして、この電荷輸送層中に、上記のポリカーボネート
系樹脂がバインダー樹脂として、あるいはさらに表面保
護層として用いられているものが好ましい。

【００３５】本発明の電子写真感光体において、上記ポ
リカーボネート系樹脂をバインダー樹脂として用いる場
合、このポリカーボネート系樹脂を１種または２種以上
を組合せて用いてもよいし、また、所望に応じて、本発
明の目的達成を阻害しない範囲で、他のポリカーボネー
ト樹脂などの樹脂成分を併用してもよい。

【００３６】本発明の電子写真感光体に用いられる導電
性基体としては、公知の各種のものを使用することがで
きる。具体的には、アルミニウムやニッケル、クロム、
パラジウム、チタン、モリブデン、インジウム、金、白
金、銀、銅、亜鉛、真鍮、ステンレス、酸化鉛、酸化
錫、酸化インジウム、インジウム錫酸化物（ＩＴＯ）、
インジウム錫亜鉛酸化物もしくはグラファイトからなる
板やドラム、シートが挙げられる。また、蒸着法やスパ
ッタリング法、塗布法などによりコーティングして導電
処理したガラス、布、紙、プラスチックフィルム、シー
ト、シームレスベルトなどを用いてもよく、さらに、電
極酸化などにより金属酸化処理した金属ドラムなどを使
用することができる。

【００３７】積層型電子写真感光体の電荷発生層は、少
なくとも電荷発生物質を含む層であり、この電荷発生層
は、その下地となる基体上に、真空蒸着法や化学蒸着
法、スパッタリング法によって電荷発生物質の層を形成
するか、またはその下地となる層上に電荷発生物質をバ
インダー樹脂を用いて結着してなる層を形成させること
によって得ることができる。バインダー樹脂を用いる電
荷発生層の形成方法は、公知の方法によることができ
る。たとえば、電荷発生物質をバインダー樹脂と共に適
当な溶媒により分散もしくは溶解した塗工液を、下地と
なる層上に塗布し、乾燥する方法が好適に用いられる。
このようにして形成する電荷発生層の厚さは、０．０１
〜２．０μｍ、好ましくは０．１〜０．８μｍである。
電荷発生層の厚さが０．０１μｍ未満であると、均一な
厚さに層を形成することが困難であり、また、この厚さ
が２．０μｍを超えると電子写真特性の低下を招くこと
があるからである。

【００３８】ここで用いる電荷発生物質としては、たと
えば特開平８−２２５６３９号公報や特開平１１−１７
２００３号公報等で公知の各種化合物を使用することが
できる。具体的な化合物としては、非晶性セレンや三方
晶セレンなどのセレン単体、テルル単体、セレン−テル
ル合金、セレン−ヒ素合金などのセレン合金、Ａｓ₂Ｓ
ｅ₃ などのセレン化合物もしくはセレン含有組成物、酸
化亜鉛、硫化カドミウム、硫化アンチモン、硫化亜鉛、
ＣｄＳ−Ｓｅなどの合金、第１２族および第１６族元素
からなる無機材料、酸化チタンなどの酸化物系半導体、
アモルファスシリコンなどのシリコン系材料、τ型無金
属フタロシアニン、χ型無金属フタロシアニンなどの無
金属フタロシアニン顔料、α型銅フタロシアニン、β型
銅フタロシアニン、γ型銅フタロシアニン、ε型銅フタ
ロシアニン、Ｘ型銅フタロシアニン、Ａ型チタニルフタ
ロシアニン、Ｂ型チタニルフタロシアニン、Ｃ型チタニ
ルフタロシアニン、Ｄ型チタニルフタロシアニン、Ｅ型
チタニルフタロシアニン、Ｆ型チタニルフタロシアニ
ン、Ｇ型チタニルフタロシアニン、Ｈ型チタニルフタロ
シアニン、Ｋ型チタニルフタロシアニン、Ｌ型チタニル
フタロシアニン、Ｍ型チタニルフタロシアニン、Ｎ型チ
タニルフタロシアニン、Ｙ型チタニルフタロシアニン、
オキソチタニルフタロシアニン、Ｘ線回折図におけるブ
ラッグ角２θが２７．３±０．２度に強い回折ピークを
示すチタニルフタロシアニンなどの金属フタロシアニン
顔料、シアニン染料、アントラセン顔料、ビスアゾ顔
料、ピレン顔料、多環キノン顔料、キナクリドン顔料、
インジゴ顔料、ペリレン顔料、ピリリウム染料、スクェ
アリウム顔料、アントアントロン顔料、ベンズイミダゾ
ール顔料、アゾ顔料、チオインジゴ顔料、キノリン顔
料、レーキ顔料、オキサジン顔料、ジオキサジン顔料、
トリフェニルメタン顔料、アズレニウム染料、トリアリ
ールメタン染料、キサンチン染料、チアジン染料、チア
ピリリウム染料、ポリビニルカルバゾール、ビスベンゾ
イミダゾール顔料などが挙げられる。これら化合物は、
１種単独で、あるいは２種以上のものを混合して、電荷
発生物質として用いることができる。

【００３９】また、電荷発生層に用いるバインダー樹脂
としては、特に制限はなく、公知の各種のものを使用す
ることができる。例えば、ポリスチレン、ポリ塩化ビニ
ル、ポリ酢酸ビニル、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合
体、ポリビニルアセタール、アルキッド樹脂、アクリル
樹脂、ポリアクリロニトリル、ポリカーボネート、ポリ
ウレタン、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、ポリアミ
ド、ポリケトン、ポリアクリルアミド、ブチラール樹
脂、ポリエステル樹脂、塩化ビニリデン−塩化ビニル共
重合体、メタクリル樹脂、スチレン−ブタジエン共重合
体、塩化ビニリデン−アクリロニトリル共重合体、塩化
ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸共重合体、シリコ
ーン樹脂、シリコーン−アルキッド樹脂、フェノール−
ホルムアルデヒド樹脂、スチレン−アルキッド樹脂、メ
ラミン樹脂、ポリエーテル樹脂、ベンゾグアナミン樹
脂、エポキシアクリレート樹脂、ウレタンアクリレート
樹脂、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール、ポリビニルブチ
ラール、ポリビニルホルマール、ポリスルホン、カゼイ
ン、ゼラチン、ポリビニルアルコール、エチルセルロー
ス、ニトロセルロース、カルボキシ−メチルセルロー
ス、塩化ビニリデン系ポリマーラテックス、アクリロニ
トリル−ブタジエン共重合体、ビニルトルエン−スチレ
ン共重合体、大豆油変性アルキッド樹脂、ニトロ化ポリ
スチレン、ポリメチルスチレン、ポリイソプレン、ポリ
チオカーボネート、ポリアリレート、ポリハロアリレー
ト、ポリアリルエーテル、ポリビニルアクリレート、ポ
リエステルアクリレートなどが挙げられる。上記電荷発
生層におけるバインダー樹脂として、上記のポリカーボ
ネート系樹脂を使用することもできる。

【００４０】つぎに、本発明の電子写真感光体の電荷輸
送層については、その下地となる層、例えば電荷発生層
の上に、上記のポリカーボネート系樹脂と電荷輸送物質
を含有する層を形成することにより得ることができる。
この電荷輸送層の形成方法としては、種々の方式による
ことができるが、電荷輸送物質と、上記のポリカーボネ
ート系樹脂、あるいはさらに適量の上記電荷発生層で用
いるバインダー樹脂を、溶媒に分散もしくは溶解した塗
工液を、所定の下地となる層上に塗布し、乾燥させる方
式によるのが好ましい。この場合の電荷輸送物質とポリ
カーボネート樹脂との配合割合は、質量比において、２
０：８０〜８０：２０、好ましくは３０；７０〜７０：
３０である。また、この電荷輸送層の厚みは、５〜１０
０μｍ、好ましくは１０〜３０μｍである。この厚さを
５μｍ未満にすると、初期電位の低下を招くようにな
り、また１００μｍを超えると、電子写真特性が低下す
ることがある。

【００４１】この電荷輸送物質としては、公知の各種の
化合物を用いることができる。例えば、カルバゾール化
合物、インドール化合物、イミダゾール化合物、オキサ
ゾール化合物、ピラゾール化合物、オキサジアゾール化
合物、ピラゾリン化合物、チアジアゾール化合物、アニ
リン化合物、ヒドラゾン化合物、芳香族アミン化合物、
脂肪族アミン化合物、スチルベン化合物、フルオレノン
化合物、ブタジエン化合物、キノン化合物、キノジメタ
ン化合物、チアゾール化合物、トリアゾール化合物、イ
ミダゾロン化合物、イミダゾリジン化合物、ビスイミダ
ゾリジン化合物、オキサゾロン化合物、ベンゾチアゾー
ル化合物、ベンズイミダゾール化合物、キナゾリン化合
物、ベンゾフラン化合物、アクリジン化合物、フェナジ
ン化合物、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール、ポリビニル
ピレン、ポリビニルアントラセン、ポリビニルアクリジ
ン、ポリ−９−ビニルフェニルアントラセン、ピレン−
ホルムアルデヒド樹脂、エチルカルバゾール樹脂、ある
いはこれら構造を主鎖や側鎖に有する重合体などが好適
に用いられる。これら化合物のなかでも、特開平１１−
１７２００３号公報において具体的に例示されている化
合物がことに好適に用いられる。そして、これら化合物
は１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用しても
よい。

【００４２】本発明の電子写真感光体においては、導電
性基体と感光層との間に下引き層を設けることができ
る。この下引き層としては、酸化チタンや酸化アルミニ
ウム、ジルコニア、チタン酸、ジルコン酸、ランタン
鉛、チタンブラック、シリカ、チタン酸鉛、チタン酸バ
リウム、酸化錫、酸化インジウム、酸化珪素などの微粒
子、ポリアミド樹脂、フェノール樹脂、カゼイン、メラ
ミン樹脂、ベンゾグアナミン樹脂、ポリウレタン樹脂、
エポキシ樹脂、セルロース、ニトロセルロース、ポリビ
ニルアルコール、ポリビニルブチラール樹脂などを用い
て形成することができる。また、この下引き層用の樹脂
として、上記電荷発生層で用いるバインダー樹脂を用い
てもよいし、本発明のポリカーボネート系樹脂を用いて
もよい。これら微粒子や樹脂は、単独でも種々混合して
用いてもよい。これらを混合物として用いる場合には、
無機質微粒子と樹脂を併用すると、平滑性のよい皮膜が
形成されることから好適である。そして、この下引き層
の厚みは、０．０１〜１０μｍ、好ましくは０．０１〜
１μｍである。この厚みが０．０１μｍ未満であると、
下引き層を均一に形成することが困難であり、また１０
μｍを超えると電子写真特性が低下することがある。

【００４３】また、前記導電性基体と感光層との間に、
ブロッキング層を設けてもよい。このブロッキング層と
しては、前記のバインダー樹脂と同種の樹脂を用いるこ
とができる。また本発明のポリカーボネート系樹脂を用
いてもよい。このブロッキング層の厚みは、０．０１〜
２０μｍ、好ましくは０．１〜１０μｍである。この厚
みが０．０１μｍ未満であると、ブロッキング層を均一
に形成することが困難であり、また２０μｍを超えると
電子写真特性が低下することがある。

【００４４】さらに、本発明の電子写真感光体には、感
光層の上に、保護層を積層してもよい。この保護層に
は、前記のバインダー樹脂と同種の樹脂を用いることが
できる。また、本発明のポリカーボネート系樹脂を用い
ることが特に好ましい。この保護層の厚みは、０．０１
〜２０μｍ、好ましくは０．１〜１０μｍである。そし
て、この保護層には、前記電荷発生物質や電荷輸送物
質、添加剤、金属、金属酸化物、金属窒化物、金属塩、
合金、カーボンブラック、有機導電性化合物などの導電
性材料を含有していてもよい。

【００４５】さらに、この電子写真感光体の性能向上の
ために、前記電荷発生層および電荷輸送層には、結合
剤、可塑剤、硬化触媒、流動性付与剤、ピンホール制御
剤、分光感度増感剤（増感染料）を添加してもよい。ま
た、繰返し使用に対しての残留電位の増加、帯電電位の
低下、感度の低下を防止する目的で種々の化学物質、酸
化防止剤、界面活性剤、カール防止剤、レベリング剤な
どの添加剤を添加することができる。

【００４６】前記結合剤としては、シリコーン樹脂、ポ
リアミド樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、
エポキシ樹脂、ポリケトン樹脂、ポリカーボネート樹
脂、ポリスチレン樹脂、ポリメタクリレート樹脂、ポリ
アクリルアミド樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリイソブ
レン樹脂、メラミン樹脂、ベンゾグアナミン樹脂、ポリ
クロロプレン樹脂、ポリアクリロニトリル樹脂、エチル
セルロース樹脂、ニトロセルロース樹脂、尿素樹脂、フ
ェノール樹脂、フェノキシ樹脂、ポリビニルブチラール
樹脂、ホルマール樹脂、酢酸ビニル樹脂、酢酸ビニル・
塩化ビニル共重合樹脂、ポリエステルカーボネート樹脂
などが挙げられる。また、熱硬化性樹脂や光硬化性樹脂
も使用できる。この結合剤は、電気絶縁性で通常の状態
で皮膜を形成し得る樹脂であればよい。これら結合剤の
配合割合は、上記ポリカーボネート樹脂に対して、１〜
２００質量％とするのが好ましく、１０〜１００質量％
がより好ましい。この結合剤の配合割合が１質量％未満
では感光層の皮膜が不均一になりやすく、画質が劣る傾
向があり、２００質量％を超えると感度が低下し、残留
電位が高くなることがある。

【００４７】前記可塑剤の具体例としては、ビフェニ
ル、塩化ビフェニル、ｏ−ターフェニル、ハロゲン化パ
ラフィン、ジメチルナフタレン、ジメチルフタレート、
ジブチルフタレート、ジオクチルフタレート、ジエチレ
ングリコールフタレート、トリフェニルフォスフェー
ト、ジイソブチルアジペート、ジメチルセバケート、ジ
ブチルセバケート、ラウリル酸ブチル、メチルフタリー
ルエチルグリコレート、ジメチルグリコールフタレー
ト、メチルナフタレン、ベンゾフェノン、ポリプロピレ
ン、ポリスチレン、フルオロ炭化水素などが挙げられ
る。

【００４８】前記硬化触媒の具体例としては、メタンス
ルホン酸、ドデシルベンゼンスルホン酸、ジノニルナフ
タレンジスルホン酸などが挙げられ、流動性付与剤とし
ては、モダフロー、アクロナール４Ｆなどが挙げられ、
ピンホール制御剤としては、ベンゾイン、ジメチルフタ
レートが挙げられる。これら可塑剤や硬化触媒、流動付
与剤、ピンホール制御剤は、前記電荷輸送物質に対し
て、いずれも５質量％以下で用いることが好ましい。

【００４９】また、分光感度増感剤としては、増感染料
を用いる場合には，例えば、メチルバイオレット、クリ
スタルバイオレット、ナイトブルー、ビクトリアブルー
などのトリフェニルメタン系染料、エリスロシン、ロー
ダミンＢ、ローダミン３Ｒ、アクリジンオレンジ、フラ
ペオシンなどのアクリジン染料、メチレンブルー、メチ
レングリーンなどのチアジン染料、カプリブルー、メル
ドラブルーなどのオキサジン染料、シアニン染料、メロ
シアニン染料、スチリル染料、ピリリュウム塩染料、チ
オピリリュウム塩染料などが適している。

【００５０】感光層には、感度の向上、残留電位の減
少、反復使用時の疲労低減などの目的で、電子受容性物
質を添加することができる。その具体例としては、無水
コハク酸、無水マレイン酸、ジブロモ無水マレイン酸、
無水フタル酸、テトラクロロ無水フタル酸、テトラブロ
モ無水フタル酸、３−ニトロ無水フタル酸、４−ニトロ
無水フタル酸、無水ピロメリット酸、無水メリット酸、
テトラシアノエチレン、テトラシアノキノジメタン、ｏ
−ジニトロベンゼン、ｍ−ジニトロベンゼン、１，３，
５−トリニトロベンゼン、ｐ−ニトロベンゾニトリル、
ピクリルクロライド、キノンクロルイミド、クロラニ
ル、ブロマニル、ベンゾキノン、２，３−ジクロロベン
ゾキノン、ジクロロジシアノパラベンゾキノン、ナフト
キノン、ジフェノキノン、トロポキノン、アントラキノ
ン、１−クロロアントラキノン、ジニトロアントラキノ
ン、４−ニトロベンゾフェノン、４，４’−ジニトロベ
ンゾフェノン、４−ニトロベンザルマロンジニトリル、
α−シアノ−β−（ｐ−シアノフェニル）アクリル酸エ
チル、９−アントラセニルメチルマロンジニトリル、１
−シアノ−（ｐ−ニトロフェニル）−２−（ｐ−クロロ
フェニル）エチレン、２，７−ジニトロフルオレノン、
２，４，７−トリニトロフルオレノン、２，４，５，７
−テトラニトロフルオレノン、９−フルオレニリデン−
（ジシアノメチレンマロノニトリル）、ポリニトロ−９
−フルオレニリデン−（ジシアノメチレンマロノジニト
リル）、ピクリン酸、ｏ−ニトロ安息香酸、ｐ−ニトロ
安息香酸、３，５−ジニトロ安息香酸、ペンタフルオロ
安息香酸、５−ニトロサリチル酸、３，５−ジニトロサ
リチル酸、フタル酸、メリット酸などの電子親和力の大
きい化合物が好ましい。これら化合物は電荷発生層、電
荷輸送層のいずれに加えてもよく、その配合割合は、電
荷発生物質または電荷輸送物質に対して０．０１〜２０
０質量％、好ましくは０．１〜５０質量％である。

【００５１】また、表面性の改良のため、四フッ化エチ
レン樹脂、三フッ化塩化エチレン樹脂、四フッ化エチレ
ン六フッ化プロピレン樹脂、フッ化ビニル樹脂、フッ化
ビニリデン樹脂、二フッ化二塩化エチレン樹脂およびそ
れらの共重合体、フッ素系グラフトポリマーを用いても
よい。これら表面改質剤の配合割合は、前記バインダー
樹脂に対して、０．１〜６０質量％、好ましくは５〜４
０質量％である。この配合割合が０．１質量％より少な
いと、表面耐久性、表面エネルギー低下などの表面改質
が充分でなく、６０質量％より多いと、電子写真特性の
低下を招くことがある。

【００５２】前記酸化防止剤としては、ヒンダードフェ
ノール系酸化防止剤、芳香族アミン系酸化防止剤、ヒン
ダードアミン系酸化防止剤、スルフィド系酸化防止剤、
有機リン酸系酸化防止剤などが好ましい。これら酸化防
止剤のなかでも、前記特開平１１−１７２００３号公報
に具体的に例示されている化合物がとくに好適に用いる
ことができる。これら酸化防止剤の配合割合は、前記電
荷輸送物質に対して、通常、０．０１〜１０質量％、好
ましくは０．１〜５質量％である。そして、これら酸化
防止剤は、１種単独で用いてもよく、２種以上を混合し
て用いてもよい。さらに、これらは前記感光層のほか、
表面保護層や下引き層、ブロッキング層に添加して用い
てもよい。

【００５３】前記電荷発生層、電荷輸送層の形成の際に
用いる溶媒としては、ベンゼン、トルエン、キシレン、
クロルベンゼン、アニソールなどの芳香族系溶媒や、ア
セトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノンなどの
ケトン類、メタノール、エタノール、イソプロパノール
などのアルコール類、酢酸エチル、エチルセロソルブな
どのエステル類、四塩化炭素、クロロホルム、ジクロロ
メタン、テトラクロロエタンなどのハロゲン化炭化水
素、テトラヒドロフラン、ジオキサンなどのエーテル
類、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、ジ
エチルホルムアミド類などを用いることができるが、こ
れら溶媒の中でも、ハロゲン原子を含まない上記芳香族
系溶媒やケトン類、アルコール類、エステル類、エーテ
ル類およびアミド類が好適に用いられる。

【００５４】つぎに、前記電荷輸送層を形成する方法と
しては、前記電荷輸送物質、添加剤、バインダー樹脂と
して用いるポリカーボネート樹脂を溶媒に分散または溶
解させてなる塗工液を調製し、これを所定の下地となる
例えば前記電荷発生層の上に塗工し、前記ポリカーボネ
ート樹脂がバインダー樹脂として電荷輸送物質と共存す
る形態の電荷輸送層を形成する。

【００５５】前記塗工液を調製する方法としては、前記
の調合原料をボールミル、超音波、ペイントシェーカ
ー、レッドデビル、サンドミル、ミキサー、アトライタ
ーなどを用いて、分散あるいは溶解させることができ
る。このようにして得られた塗工液を用いて塗工する方
法については、浸漬塗工法、静電塗工法、粉体塗工法、
スプレー塗工法、ロール塗工法、アプリケーター塗工
法、スプレーコーター塗工法、バーコーター塗工法、ロ
ールコーター塗工法、ディップコーター塗工法、ドクタ
ーブレード塗工法、ワイヤーバー塗工法、ナイフコータ
ー塗工法、アトライター塗工法、スピナー塗工法、ビー
ド塗工法、ブレード塗工法、カーテン塗工法などが採用
できる。

【００５６】また、単層型の電子写真感光体の感光層に
ついては、前記のポリカーボネート系樹脂、電荷発生物
質、添加剤、電荷輸送物質や他のバインダー樹脂を用い
て形成される。この場合の塗工液を調製やその塗工法、
添加剤の処方などに関しては、積層型電子写真感光体に
おける感光層の形成の場合と同様である。さらに、この
単層型電子写真感光体においても、上記と同様に下引き
層、ブロッキング層、表面保護層を設けてもよい。これ
らの層を形成する場合にも、前記のポリカーボネート系
樹脂を用いることが好ましい。

【００５７】単層型電子写真感光体における感光層の厚
さは、５〜１００μｍ、好ましくは８〜５０μｍであ
り、これが５μｍ未満であると初期電位が低くなりやす
く、１００μｍを超えると電子写真特性が低下すること
がある。

【００５８】この単層型電子写真感光体の製造に用いら
れる電荷発生物質：バインダー樹脂の比率は、質量比で
１：９９〜３０：７０、好ましくは３：９７〜１５：８
５である。また、電荷輸送物質：ポリカーボネート系樹
脂の比率は、質量比で２０：８０〜８０：２０、好まし
くは３０：７０〜７０：３０である。

【００５９】このようにして得られる本発明の電子写真
感光体は、優れた耐摩耗性を有し、長期間にわたって優
れた耐刷性および電子写真特性を維持する感光体であ
り、複写機（モノクロ、マルチカラー、フルカラー；ア
ナログ、デジタル）、プリンター（レーザー、発光ダイ
オード、液晶シャッター）、ファクシミリ、製版機など
の各種の電子写真分野に好適に用いられる。

【００６０】また、本発明の電子写真感光体を使用する
にあたっては、帯電には、コロナ放電（コロトロン、ス
コロトロン）、接触帯電（帯電ロール、帯電ブラシ）な
どが用いられる。また、露光には、ハロゲンランプや蛍
光ランプ、レーザー（半導体、Ｈｅ−Ｎｅ）、発光ダイ
オード、感光体内部露光方式のいずれを採用してもよ
い。また、現像には、カスケード現像、二成分磁気ブラ
シ現像、一成分絶縁トナー現像、一成分導電トナー現像
などの乾式現像方式や液体トナーなどを用いた湿式現像
方式が用いられる。さらに、転写には、コロナ転写、ロ
ーラ転写、ベルト転写などの静電転写法や、圧力転写
法、粘着転写法が用いられる。定着には、熱ローラ定
着、ラジアントフラッシュ定着、オープン定着、圧力定
着などが用いられる。さらに、クリーニング・除電に
は、ブラシクリーナー、磁気ブラシクリーナー、静電ブ
ラシクリーナー、磁気ローラクリーナー、ブレードクリ
ーナーなどが用いられる。

【００６１】

〔実施例１〕

（１）ポリカーボネート樹脂の製造 ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）メタン１
４９ｇを２規定濃度の水酸化ナトリウム水溶液１，５３
０ミリリットルに溶解させた溶液に、塩化メチレン９０
０ミリリットルを混合し、この混合液を攪拌しながら、
冷却下に、該混合液にホスゲンガスを９５０ミリリット
ル／分の割合で、３０分間にわたって吹き込んだ。つい
で、得られた反応液を静置分離して、重合度が２〜４で
あり、かつ分子末端にクロロホーメート基を有するポリ
カーボネートオリゴマーの塩化メチレン溶液を得た。

【００６２】このポリカーボネートオリゴマーの塩化メ
チレン溶液２２５ミリリットルに、さらに塩化メチレン
を加えて全量を３１０ミリリットルとした後、これに、
ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）メタン１
２ｇを２規定濃度の水酸化ナトリウム水溶液１０４ミリ
リットルに溶解させた溶液を加え、さらに、分子量調節
剤としてｐ−ｔｅｒｔーブチルフェノール０．５ｇを加
えた。つぎに、この混合液を激しく攪拌しながら、触媒
として７質量％濃度のトリエチルアミン水溶液を１．４
ミリリットル加え、２５℃において、攪拌下に、１．５
時間にわたり反応を行った。

【００６３】反応終了後、反応生成物を塩化メチレン１
リットルで希釈し、ついで、水１．５リットルで２回、
０．０１規定濃度の塩酸１リットルで１回、さらに水１
リットルで２回の順で洗浄した後、有機層をメタノール
中に投入し、再沈精製して、ポリカーボネート樹脂を得
た。

【００６４】このようにして得られたポリカーボネート
樹脂につき、塩化メチレンを溶媒とする濃度０．５ｇ／
デシリットルの溶液の２０℃で測定（以下の実施例も同
一条件において測定）した還元粘度〔η_sp／ｃ〕は、
１．０デシリットル／ｇであった。この還元粘度の測定
には、離合社製の自動粘度測定装置ＶＭＲ−０４２を用
い、自動粘度用ウッベローデ改良型粘度計（ＲＭ型）に
より測定した。また、このポリカーボネート樹脂につい
て測定した¹ Ｈ−ＮＭＲスペクトル分析の結果より、こ
こで得られたポリカーボネート樹脂の化学構造は、下記
のとおりであると認められた。

【００６５】

【化９】

【００６６】（２）電子写真感光体の製造 導電性基体としてアルミニウム金属を蒸着したポリエチ
レンテレフタレート樹脂フィルムを用い、その表面に、
電荷発生層と電荷輸送層を順次積層して積層型感光層を
形成した電子写真感光体を製造した。

【００６７】電荷発生物質としてオキソチタニウムフタ
ロシアニン０．５質量部を用い、バインダー樹脂として
はブチラール樹脂０．５質量部を用いた。これらを溶媒
の塩化メチレン１９質量部に加え、ボールミルにて分散
し、この分散液をバーコーターにより、前記導電性基体
フィルム表面に塗工し、乾燥させることにより、膜厚約
０．５μm の電荷発生層を形成した。

【００６８】つぎに、電荷輸送層の形成材料として、電
荷輸送物質として下記式、

【００６９】

【化１０】

【００７０】で表される化学構造を有する化合物０．５
ｇと、上記（１）で得られたポリカーボネート樹脂０．
５ｇを用い、これらをテトラヒドロフラン１０ミリリッ
トルに溶解させて塗工液を調製した。ついで、この塗工
液をアプリケーターにより、上記電荷発生層の上に塗布
し、乾燥させて、膜厚約２０μm の電荷輸送層を形成す
ることにより、電子写真感光体を製造した。

【００７１】（３）電子写真感光体の評価 このようにして得られた電子写真感光体の電子写真特性
については、静電気帯電試験装置〔川口電機製作所社
製：ＥＰＡ−８１００〕を用いて測定した。ここでの測
定条件は、−６ｋｖでコロナ放電を行い、その際の初期
表面電位（Ｖ₀ ）と、１０ルックスでの光照射から５秒
後の残留電位（Ｖ_R ）および半減露光量（Ｅ_1/2 ）を測
定した。

【００７２】また、この電子写真感光体の電荷輸送層の
耐摩耗性を、摩耗試験機〔スガ試験機社製：ＮＵＳ−Ｉ
ＳＯ−３型〕を用いて評価した。摩耗試験の条件として
は、５００ｇの荷重をかけた摩耗紙（粒径３μm のアル
ミナ粒子を含有）を感光層表面と接触させて２０００回
の往復運動を行い、質量の減少量の測定をした。これら
の測定結果を第１表に示す。

【００７３】〔実施例２〕 （１）ポリカーボネート樹脂の製造 ２，２−ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）
メタン１４９ｇを２規定濃度の水酸化ナトリウム水溶液
１，５３０ミリリットルに溶解した溶液に、塩化メチレ
ン９００ミリリットルを混合し、この混合液を攪拌しな
がら、冷却下に、該混合液にホスゲンガスを９５０ミリ
リットル／分の割合で３０分間にわたって吹き込んだ。
ついで、得られた反応液を静置分離して、重合度が２〜
４であり、かつ分子末端にクロロホーメート基を有する
ポリカーボネートオリゴマーの塩化メチレン溶液を得
た。

【００７４】このポリカーボネートオリゴマーの塩化メ
チレン溶液２２５ミリリットルに、さらに塩化メチレン
を加えて全量を３１０ミリリットルとした後、これに、
９，９−ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）
フルオレン１４ｇを２規定濃度の水酸化ナトリウム水溶
液１０４ミリリットルに溶解した溶液を加え、さらに、
分子量調節剤としてｐ−ｔｅｒｔーブチルフェノール
０．５ｇを加えた。つぎに、この混合液を激しく攪拌し
ながら、触媒として７質量％濃度のトリエチルアミン水
溶液を１．４ミリリットル加え、２５℃において、攪拌
下に、１．５時間にわたって反応を行った。

【００７５】反応終了後、反応生成物を塩化メチレン１
リットルで希釈し、ついで、水１．５リットルで２回、
０．０１規定濃度の塩酸１リットルで１回、さらに水１
リットルで２回の順で洗浄した後、有機層をメタノール
中に投入し、再沈精製して、ポリカーボネート樹脂を得
た。

【００７６】このようにして得られたポリカーボネート
樹脂につき、塩化メチレンを溶媒とする濃度０．５ｇ／
デシリットルの溶液の２０℃で測定（以下の実施例も同
一条件において測定）した還元粘度〔η_sp／ｃ〕は、
１．０デシリットル／ｇであった。また、このポリカー
ボネート樹脂について測定した¹ Ｈ−ＮＭＲスペクトル
分析の結果より、ここで得られたポリカーボネート樹脂
の化学構造は、下記のとおりであると認められた。

【００７７】

【化１１】

【００７８】（２）電子写真感光体の製造 電荷輸送層の形成材料として上記（１）で得られたポリ
カーボネート樹脂を用いた他は、実施例１の（２）と同
様にして電子写真感光体を製造した。 （３）電子写真感光体の評価 上記（２）で得られた電子写真感光体について、実施例
１の（３）と同様にして評価をした。ここでの評価結果
を第１表に示す。

【００７９】〔実施例３〕 （１）ポリカーボネート樹脂の製造 ２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）ブタン９２ｇ
を２規定濃度の水酸化ナトリウム水溶液５５０ミリリッ
トルに溶解した溶液に、塩化メチレン３５０ミリリット
ルを混合し、この混合液を攪拌しながら、冷却下、該混
合液にホスゲンガスを９５０ミリリットル／分の割合で
３０分間吹き込んだ。ついで、得られた反応液を静置分
離して、重合度が２〜４であり、かつ分子末端にクロロ
ホーメート基を有するポリカーボネートオリゴマーの塩
化メチレン溶液を得た。

【００８０】このポリカーボネートオリゴマーの塩化メ
チレン溶液３１５ミリリットルに、さらに塩化メチレン
を加えて全量を４００ミリリットルとした後、これに、
ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）メタン１
５ｇを２規定濃度の水酸化ナトリウム水溶液１３３ミリ
リットルに溶解した溶液を加え、さらに、分子量調節剤
としてｐ−ｔｅｒｔーブチルフェノール０．６ｇを加え
た。つぎに、この混合液を激しく攪拌しながら、触媒と
して７質量％濃度のトリエチルアミン水溶液を２ミリリ
ットル加え、２５℃において、攪拌下に、１．５時間に
わたって反応を行った。

【００８１】反応終了後、反応生成物を塩化メチレン１
リットルで希釈し、ついで、水１．５リットルで２回、
０．０１規定濃度の塩酸１リットルで１回、さらに水１
リットルで２回の順で洗浄した後、有機層をメタノール
中に投入し、再沈精製して、ポリカーボネート樹脂を得
た。

【００８２】このようにして得られたポリカーボネート
樹脂の還元粘度〔η_sp／ｃ〕は、１．１デシリットル／
ｇであった。また、このポリカーボネート樹脂について
測定した¹ Ｈ−ＮＭＲスペクトル分析の結果より、ここ
で得られたポリカーボネート樹脂の化学構造は、下記の
とおりであると認められた。

【００８３】

【化１２】

【００８４】（２）電子写真感光体の製造 電荷輸送層の形成材料として上記（１）で得られたポリ
カーボネート樹脂を用いた他は、実施例１の（２）と同
様にして電子写真感光体を製造した。 （３）電子写真感光体の評価 上記（２）で得られた電子写真感光体について、実施例
１の（３）と同様にして評価をした。ここでの評価結果
を第１表に示す。

【００８５】〔実施例４〕 （１）ポリカーボネート樹脂の製造 ２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン１０
２ｇを２規定濃度の水酸化ナトリウム水溶液５５０ミリ
リットルに溶解した溶液に、塩化メチレン３５０ミリリ
ットルを混合し、この混合液を攪拌しながら、冷却下
に、該混合液にホスゲンガスを９５０ミリリットル／分
の割合で３０分間にわたって吹き込んだ。ついで、得ら
れた反応液を静置分離して、重合度が２〜４であり、か
つ分子末端にクロロホーメート基を有するポリカーボネ
ートオリゴマーの塩化メチレン溶液を得た。

【００８６】このポリカーボネートオリゴマーの塩化メ
チレン溶液１８５ミリリットルに、さらに塩化メチレン
を加えて全量を６００ミリリットルとした後、これに、
ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）メタン２
７ｇを２規定濃度の水酸化ナトリウム水溶液１３５ミリ
リットルに溶解した溶液を加え、さらに、分子量調節剤
としてｐ−ｔｅｒｔーブチルフェノール０．５ｇを加え
た。つぎに、この混合液を激しく攪拌しながら、触媒と
して７質量％濃度のトリエチルアミン水溶液を２ミリリ
ットル加え、２５℃において、攪拌下に１．５時間反応
を行った。

【００８７】反応終了後、反応生成物を塩化メチレン１
リットルで希釈し、ついで、水１．５リットルで２回、
０．０１規定濃度の塩酸１リットルで１回、さらに水１
リットルで２回の順で洗浄した後、有機層をメタノール
中に投入し、再沈精製して、ポリカーボネート樹脂を得
た。

【００８８】このようにして得られたポリカーボネート
樹脂の還元粘度〔η_sp／ｃ〕は、１．０デシリットル／
ｇであった。また、このポリカーボネート樹脂について
測定した¹ Ｈ−ＮＭＲスペクトル分析の結果より、ここ
で得られたポリカーボネート樹脂の化学構造は、下記の
とおりであると認められた。

【００８９】

【化１３】

【００９０】（２）電子写真感光体の製造 電荷輸送層の形成材料として上記（１）で得られたポリ
カーボネート樹脂を用いた他は、実施例１の（２）と同
様にして、電子写真感光体を製造した。 （３）電子写真感光体の評価 上記（２）で得られた電子写真感光体について、実施例
１の（３）と同様にして評価をした。ここでの評価結果
を第１表に示す。

【００９１】〔実施例５〕 （１）ポリカーボネート樹脂の製造 ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）メタン１
４９ｇを２規定濃度の水酸化ナトリウム水溶液１，５３
０ミリリットルに溶解した溶液に、塩化メチレン９００
ミリリットルを混合し、この混合液を攪拌しながら、冷
却下に、該混合液にホスゲンガスを９５０ミリリットル
／分の割合で３０分間にわたって吹き込んだ。ついで、
得られた反応液を静置分離して、重合度が２〜４であ
り、かつ分子末端にクロロホーメート基を有するポリカ
ーボネートオリゴマーの塩化メチレン溶液を得た。

【００９２】このポリカーボネートオリゴマーの塩化メ
チレン溶液２２５ミリリットルに、さらに塩化メチレン
を加えて全量を３１０ミリリットルとした後、これに、
ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）メタン１
１ｇおよび下記構造式、

【００９３】

【化１４】

【００９４】で表されるフェノール変性ポリジメチルシ
ロキサン０．４ｇを２規定濃度の水酸化ナトリウム水溶
液１０４ミリリットルに溶解させた溶液を加えた。また
分子量調節剤としてｐ−ｔｅｒｔーブチルフェノール
０．５ｇを加えた。

【００９５】つぎに、これらの混合液を激しく攪拌しな
がら、触媒として７質量％濃度のトリエチルアミン水溶
液１．４ミリリットルを加え、２５℃において攪拌下に
１．５時間反応を行った。

【００９６】反応終了後、反応生成物を塩化メチレン１
リットルで希釈し、ついで、水１．５リットルで２回、
０．０１規定濃度の塩酸１リットルで１回、さらに水１
リットルで２回の順で洗浄した後、有機層をメタノール
中に投入し、再沈精製して、ポリカーボネート樹脂を得
た。

【００９７】このようにして得られたポリカーボネート
樹脂の還元粘度〔η_sp／ｃ〕は、１．０デシリットル／
ｇであった。また、このポリカーボネート樹脂について
測定した¹ Ｈ−ＮＭＲスペクトル分析の結果より、ここ
で得られたポリカーボネート樹脂の化学構造は、下記の
とおりであると認められた。

【００９８】

【化１５】

【００９９】（２）電子写真感光体の製造 電荷輸送層の形成材料として上記（１）で得られたポリ
カーボネート樹脂を用いた他は、実施例１の（２）と同
様にして電子写真感光体を製造した。 （３）電子写真感光体の評価 上記（２）で得られた電子写真感光体について、実施例
１の（３）と同様にして評価をした。ここでの評価結果
を第１表に示す。

【０１００】〔比較例１〕電荷輸送層の形成材料とし
て、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘ
キサンを原料とする、下記の構造単位を有するポリカー
ボネート樹脂（還元粘度〔η_sp／ｃ〕；１．０デシリッ
トル／ｇ）０．５ｇと、実施例１で用いた電荷輸送物質
０．５ｇを用いた他は、実施例１と同様にして電子写真
感光体を製造した後、その評価をした。

【０１０１】

【化１６】

【０１０２】これら評価結果を第１表に示す。 〔比較例２〕電荷輸送層の形成材料として、２，２−ビ
ス（４−ヒドロキシフェニル）プロパンを原料とする、
下記の構造単位を有するポリカーボネート樹脂（還元粘
度〔η_sp／ｃ〕；１．１デシリットル／ｇ）０．５ｇ
と、実施例１で用いた電荷輸送物質０．５ｇを用いた他
は、実施例１と同様にして電子写真感光体を製造した
後、その評価をした。

【０１０３】

【化１７】

【０１０４】これら評価結果を第１表に示す。 〔比較例３〕電荷輸送層の形成材料として、２，２−ビ
ス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）プロパンを
原料とする、下記の構造単位を有するポリカーボネート
樹脂（還元粘度〔η_sp／ｃ〕；１．１デシリットル／
ｇ）０．５ｇと、実施例１で用いた電荷輸送物質０．５
ｇを用いた他は、実施例１と同様にして電子写真感光体
を製造した後、その評価をした。

【０１０５】

【化１８】

【０１０６】これら評価結果を第１表に示す。

【０１０７】

【表１】

【０１０８】

【発明の効果】本発明の電子写真感光体は、その表面層
が耐摩耗性と耐傷性に優れることから、長期間にわたっ
て機械的強度や電子写真特性を維持することができると
共に、その感光層を非ハロゲン系溶剤を用いた塗工液に
より形成できるので、安全衛生上の問題のない製造法に
よって電子写真感光体を得ることができる。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 2H068 AA03 AA13 AA21 BB20 BB26 BB32 BB51 4J029 AA09 AB01 AC01 AC02 AD01 AE18 BB10A BB10B BB12A BB12B BB12C BB13A BB13B BB16A BB18 BC04A BC05A BC06A BC07A BC07B BD08 BD09A BD09B BD09C BF14A BG07X BG08X BG08Y BG20X BG24X BH01 BH02 BH04 DA16 DB07 DB11 DB13 HC01 HC03 KE09 KE11

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 導電性基体上に感光層を有する電子写真
   感光体において、該感光層に、下記構造式〔１〕、 【化１】 で表される繰返し単位（１）を有するポリカーボネート
   樹脂を含有させてなる電子写真感光体。
2. 【請求項２】 導電性基体上に感光層を有する電子写真
   感光体において、該感光層に、請求項１における構造式
   〔１〕で表わされる繰返し単位（１）、および下記一般
   式〔２〕、 【化２】 〔式〔２〕中、Ａｒは、下記一般式〔２ａ〕または〔２
   ｂ〕、 【化３】 （式〔２ａ〕、〔２ｂ〕中、Ｒ¹ は各々独立に置換基を
   有していてもよいアルキル基、アルコキシ基、アリール
   基、アリール基置換アルケニル基および縮合多環式炭化
   水素基の群から選択される一価の基を示し、Ｒ² 、
   Ｒ³ 、Ｒ⁴ は各々独立に置換基を有していてもよいアル
   キル基、アリール基、アリール基置換アルケニル基およ
   び縮合多環式炭化水素基の群から選択される一価の基を
   示す。また、Ｘは単結合、−Ｏ−、−ＣＯ−、−Ｓ−、
   −ＳＯ−、−ＳＯ₂ −、−ＣＲ⁵ Ｒ⁶ −（ただし、
   Ｒ⁵ 、Ｒ⁶ は、各々独立に水素原子、炭素数１〜６のア
   ルキル基、トリフルオロメチル基、炭素数６〜１２の置
   換もしくは無置換のシクロアルキリデン基、９，９−フ
   ルオレニリデン基、１，８−メンタンジイル基、２，８
   −メンタンジイル基、置換もしくは無置換のピラジリデ
   ン基または炭素数６〜１２の置換もしくは無置換のアリ
   ーレン基を示す。）を示し、Ｙ¹ は各々独立に炭素数２
   以上のアルキレン基または炭素数２以上のアルキレンオ
   キシアルキレン基を示し、Ｙ² は各々独立に酸素原子、
   炭素数２以上のアルキレン基または炭素数２以上のアル
   キレンオキシアルキレン基を示す。また、ｍは各々独立
   に０〜４の整数であり、ｎ¹ 〜ｎ⁴ は各々独立に０また
   は１以上の整数であり、かつｎ¹ 〜ｎ⁴ の合計が０〜４
   ５０の整数である）を示す。〕で表される繰返し単位
   （２）を有するポリカーボネート樹脂を含有させてなる
   電子写真感光体。
3. 【請求項３】 ポリカーボネート樹脂の塩化メチレンを
   溶媒とする濃度０．５ｇ／デシリットルの溶液の２０℃
   で測定した還元粘度〔η_SP／ｃ〕が、０．１デシリット
   ル／ｇ以上である請求項１または２に記載の電子写真感
   光体。