JP2002072476A - アルカリ現像可能な感光性樹脂組成物及びその製造方法 - Google Patents

アルカリ現像可能な感光性樹脂組成物及びその製造方法

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JP2002072476A JP2000267893A JP2000267893A JP2002072476A JP 2002072476 A JP2002072476 A JP 2002072476A JP 2000267893 A JP2000267893 A JP 2000267893A JP 2000267893 A JP2000267893 A JP 2000267893A JP 2002072476 A JP2002072476 A JP 2002072476A
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 光感度を低下させることなく、また、紫外線
等のエネルギー線を照射した後も充分な柔軟性を発現で
きる感光性樹脂組成物を提供すること。 【解決手段】 カルボキシル基を含有するラクトン系ポ
リエステルポリオール(A)、ポリイソシアネート
(B)、水酸基を含有する(メタ)アクリレート類
(C)を反応させて得られるウレタン(メタ)アクリレ
ート(D)、単位分子内にカルボキシル基と(メタ)ア
クリロイル基(両者は共有部分を有してもよい)をそれ
ぞれ1基含有する(メタ)アクリレート(E)、及び有
機溶剤からなる感光性樹脂組成物及び有機溶剤中でカル
ボキシル基を含有するラクトン系ポリエステルポリオー
ル(A)、ポリイソシアネート(B)、水酸基を含有す
る(メタ)アクリレート類(C)を反応させて得られる
ウレタン(メタ)アクリレート(D)に、単位分子内に
カルボキシル基と(メタ)アクリロイル基(両者は共有
部分を有してもよい)をそれぞれ1基含有する(メタ)
アクリレート(E)を添加することを特徴とする前記の
感光性樹脂組成物の製造方法。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は特定のウレタン(メ
タ)アクリレートと(メタ)アクリル酸系化合物誘導体
からなる感光性樹脂組成物及びその製造方法に関する。
より詳しくは、紫外線や電子線等の活性エネルギーによ
り、速やかに硬化し、有用な被膜を与える感光性樹脂組
成物及びその製造方法に関するものである。得られる感
光性樹脂組成物は、樹脂の未硬化部分をアルカリ水溶液
で現像し、パターンを形成させるようなプリント基板の
レジスト材料や、PS板(Presensitized plate)を始
めとする印刷版材等に用いられる。
【0002】
【従来の技術】プリント基板用レジスト材料は従来、
(メタ)アクリル酸−(メタ)アクリル酸エステル共重
合体と(メタ)アクリレートモノマーの組成物やグリシ
ジル基を有するノボラックやビスフェノールタイプのエ
ポキシ化合物に(メタ)アクリル酸を付加させたエポキ
シアクリレート、更には該エポキシアクリレートの水酸
基にカルボン酸無水物を付加させたものと(メタ)アク
リレートモノマーの組成物などが用いられている。
【0003】しかしながら、近年家電製品の小型化、軽
量化に伴い、基板の薄化、フィルム化が進んできてお
り、従来のエポキシアクリレートや、アクリル樹脂で
は、基板の曲げ、歪みに対応ができないという欠点が生
じてきた。また、柔軟性のみを考慮すると、アクリレー
ト系ではウレタン系のアクリルオリゴマーを使用するこ
とが好ましいことは、容易に類推されることであるが、
柔軟性を重視して、単位重量当たりのアクリル基濃度を
減少させると、光感度が低下し、また、光感度を向上さ
せるために多官能のアクリルモノマーを配合すると、柔
軟性が低下するという欠点がある。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、これ
らの欠点を改良し、光感度を低下させることなく、ま
た、紫外線等のエネルギー線を照射した後も充分な柔軟
性を発現できる感光性樹脂組成物を提供することであ
る。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記課題
を解決すべく鋭意検討した結果、カルボキシル基を含有
するラクトン系ポリエステルポリオール、ポリイソシア
ネート、水酸基を含有する(メタ)アクリレート類を反
応させて得られるウレタン(メタ)アクリレートと単位
分子内にカルボキシル基と(メタ)アクリロイル基をそ
れぞれ1基含有する(メタ)アクリレートの組み合わせ
により得られる組成物を、塗布、溶剤乾燥後に活性エネ
ルギー線による硬化後も塗膜は柔軟性を有し、且つ光感
度が向上することを見出し、本発明を完成させるに至っ
た。即ち、本発明は、カルボキシル基を含有するラクト
ン系ポリエステルポリオール(A)、ポリイソシアネー
ト(B)、水酸基を含有する(メタ)アクリレート類
(C)を反応させて得られるウレタン(メタ)アクリレ
ート(D)、単位分子内にカルボキシル基と(メタ)ア
クリロイル基(両者は共有部分を有してもよい)をそれ
ぞれ1基含有する(メタ)アクリレート(E)、及び有
機溶剤からなる感光性樹脂組成物を提供する。ウレタン
(メタ)アクリレート(D)100重量部と(メタ)ア
クリレート(E)10〜120重量部からなる前記発明
の感光性樹脂組成物を提供する。ウレタン(メタ)アク
リレート(D)がカルボキシル基を含有するラクトン系
ポリエステルポリオール(A)、ポリイソシアネート
(B)、水酸基を含有する(メタ)アクリレート類
(C)をモル比で(1〜10):(2〜11):(2〜
3)の割合で反応させて得られる前記発明の感光性樹脂
組成物を提供する。更に、本発明は有機溶剤中でカルボ
キシル基を含有するラクトン系ポリエステルポリオール
(A)、ポリイソシアネート(B)、水酸基を含有する
(メタ)アクリレート類(C)を反応させて得られるウ
レタン(メタ)アクリレート(D)に、単位分子内にカ
ルボキシル基と(メタ)アクリロイル基(両者は共有部
分を有してもよい)をそれぞれ1基含有する(メタ)ア
クリレート(E)を添加することを特徴とする前記発明
の感光性樹脂組成物の製造方法を提供する。
【0006】
【発明の実施の形態】以下、本発明を詳細に説明する。
本発明においては、2官能以上の多官能基を有する(メ
タ)アクリレートモノマーを使用しないため、単位重量
当たりの(メタ)アクリロイル基の濃度を増加させて
も、架橋し難く、柔軟性が保持されると考えられる。ま
た、親水基であるカルボキシル基を有するので未硬化部
分の現像性にも優れるという付加効果もある。
【0007】本発明の感光性樹脂組成物を構成するカル
ボキシル基を含有するラクトン系ポリエステルポリオー
ル(A)(以下、「ポリオール(A)」と略称する。)
は、触媒の存在下、ジヒドロキシカルボン酸を開始剤と
してラクトン類を用い、開環付加重合させることにより
合成できる。ラクトン類の付加量としては、ジヒドロキ
シカルボン酸1モルに対し1〜50モル、更には2〜3
0モルである。ラクトン類の付加量が、1モル未満で
は、柔軟性が不十分となって好ましくない。また、50
モルを超えると、耐汚染性が悪くなったり、水性化がで
きなくなり好ましくない。ジヒドロキシカルボン酸とし
ては、例えば、2,2−ジメチロールブタン酸、2,2
−ジメチロールプロピオン酸、ジオキシアジピン酸等が
挙げられる。ラクトン類としては、ε−カプロラクト
ン、γ−ブチロラクトン、δ−バレロラクトン等が挙げ
られる。このうちε−カプロラクトンが好ましく用いら
れる。ポリオール(A)の数平均分子量は、250〜
6,000、好ましくは350〜3,000である。ポ
リオール(A)の数平均分子量が、250未満では、柔
軟性が不十分となり、好ましくない。また、6,000
を超えると、耐汚染性が悪くなったり、アルカリ現像性
が悪化し好ましくない。ジヒドロキシカルボン酸に付加
するラクトン類のモル数でポリオール(A)の数平均分
子量を調整することができる。
【0008】ポリオール(A)の合成時に開環付加重合
に用いる触媒としては、例えば、テトラエチルチタネー
ト、テトラブチルチタネートなどの有機チタン系化合
物、オクチル酸スズ、ジブチルスズオキサイド、ジブチ
ルスズジラウレートなどの有機スズ系化合物、塩化第一
スズ、臭化第一スズなどのハロゲン系第一スズが挙げら
れる。これらの触媒は、仕込み原料に対して、0.1〜
1,000ppm,好ましくは1〜800ppm用い
る。反応温度は、70〜240℃、好ましくは90〜2
20℃である。
【0009】本発明に用いられるポリイソシアネート
(B)としては、芳香族系、脂肪族系、脂環脂肪族系又
は脂環式のポリイソシアネート又はその混合物が挙げら
れる。例えば、イソホロンジイソシアネート(IPD
I)、トリレンジイソシアネート(TDI)、ジフェニ
ルメタンジイソシアネート(MDI)、水添ジフェニル
メタンジイソシアネート(H12MDI)、ポリフェニ
ルメタンポリイソシアネート(クルードMDI)、変性
ジフェニルメタンジイソシアネート(変性MDI)キシ
リレンジイソシアネート(XDI)、水添キシリレンジ
イソシアネート(H−XDI)、ヘキサメチレンジイソ
シアネート(HMDI)、トリメチルヘキサメチレンジ
イソシアネート(TMHDI)などのポリイソシアネー
ト或いはこれらのポリイソシアネートの三量体化合物な
どが挙げられる。
【0010】本発明における、水酸基を含有する(メ
タ)アクリレート類(C)としては、2−ヒドロキシエ
チル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル
(メタ)アクリレート、3−ヒドロキシプロピル(メ
タ)アクリレート、4−ヒドロキシブチル(メタ)アク
リレート;ジ−もしくはトリ−エチレングリコール又は
プロピレングリコール(メタ)アクリレートのようなジ
−もしくはトリ−アルキレングリコール(メタ)アクリ
レート;グリセロールモノ(メタ)アクリレート、グリ
セロールジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロ
パンジ(メタ)アクリレート、グリセロールメタクリレ
ートアクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)
アクリレートのような多価アルコールの多価もしくは混
基(メタ)アクリレート;カプロラクトン変性2−ヒド
ロキシ(メタ)アクリレートのような上記ヒドロキシ基
含有(メタ)アクリレート類のカプロラクトン変性物な
どが挙げられる。なお、本発明において、(メタ)アク
リレートの記載は、アクリレート及び/又はメタクリレ
ートを意味する。
【0011】有機溶剤中、前記ポリオール(A)、ポリ
イソシアネート(B)、水酸基を含有する(メタ)アク
リレート類(C)を反応させてウレタン(メタ)アクリ
レート(D)が得られる。成分(A)、(B)、(C)
は、モル比で1〜10:2〜11:2〜3、更には、1
〜6:2〜7:2〜3の割合で反応させることが好まし
い。反応温度は、30〜150℃、更には50〜90℃
が好ましい。得られるウレタン(メタ)アクリレート
(D)の酸価は10〜300mgKOH/gの範囲にあ
ることが好ましい。
【0012】ウレタン(メタ)アクリレート(D)に、
単位分子内にカルボキシル基と(メタ)アクリロイル基
(両者は共有部分を有してもよい)をそれぞれ1基含有
する(メタ)アクリレート(E)を配合する。(メタ)
アクリレート(E)としては、(メタ)アクリル酸やそ
れらの多量体、例えば、アクリル酸の2量体であるβ−
カルボキシエチルアクリレート、ヒドロキシ酢酸やヒド
ロキシカルボン酸のポリアルキレンオキサイド付加物の
(メタ)アクリル酸エステルが挙げられる。(メタ)ア
クリレート(E)の配合量は、ウレタン(メタ)アクリ
レート(D)100重量部に対して10〜120重量
部、更には40〜100重量部が好ましい。(メタ)ア
クリレート(E)の配合量が120重量部を超えると感
光性樹脂組成物から得られる膜の柔軟性が失われるので
好ましくない。配合量が10重量部に満たないと塗布膜
に屈折試験で折り曲げ白化、割れの現象が発現しタック
フリー性の効果が発現しない。
【0013】ウレタン(メタ)アクリレート(D)と
(メタ)アクリレート(E)からなる組成物には、光重
合開始剤を加えてもよい。光重合開始剤は(メタ)アク
リレート(E)を添加する時に同時に加えるとよい。光
重合開始剤は使用する光源の波長において、分解し、ラ
ジカル発生するものであれば特に限定されない。光重合
開始剤としては、例えば、1−ヒドロキシシクロヘキシ
ルフェニルケトン、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−
フェニルプロパン−1−オン、ジエトキシアセトフェノ
ン、1−(4−イソプロピルフェニル)−2−ヒドロキ
シ−2−メチルプロパン−1−オン、1−(4−ドデシ
ルフェニル)−2−ヒドロキシ−2−メチルプロパン−
1−オン、4−(2−ヒドロキシエトキシ)−フェニル
(2−ヒドロキシ−2−プロピル)ケトン、2−メチル
−1−[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モルホリ
ノプロパン−1、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテ
ル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピ
ルエーテル、ベンゾインn−ブチルエーテル、ベンゾイ
ンフェニルエーテル、ベンジルジメチルケタール、ベン
ゾフェノン、ベンゾイル安息香酸、ベンゾイル安息香酸
メチル、4−フェニルベンゾフェノン、ヒドロキシベン
ゾフェノン、アクリル化ベンゾフェノン、4−ベンゾイ
ル−4‘−メチルジフェニルサルファイド、3,3’−
ジメチル−4−メトキシベンゾフェノン、チオキサンソ
ン、2−クロルチオキサンソン、2−メチルチオキサン
ソン、2,4−ジメチルチオキサンソン、イソプロピル
チオキサンソン、2,4−ジクロロチオキサンソン、
2,4−ジエチルチオキサンソン、2,4−ジイソプロ
ピルチオキサンソン、2,4,6−トリメチルベンゾイ
ルジフェニルホスフインオキサイド、メチルフェニルグ
リオキシレート、ベンジル、カンファーキノンなどが挙
げられる。光重合開始剤の添加量は、ウレタン(メタ)
アクリレート(D)100重量部に対して1.0〜1
0.0重量部が好ましい。
【0014】本発明で用いられる有機溶剤としては、一
般的なエステル類、エーテル類、ケトン類を挙げること
ができる。沸点が反応温度よりも高いものであれば使用
可能であるが、イソシアネートと反応するような官能
基、例えば水酸基、カルボキシル基、アミノ基などを含
まないものが好ましい。これらの溶剤は前記ウレタン
(メタ)アクリレート(D)の合成時、ウレタン(メ
タ)アクリレート(D)に化合物(E)を配合する時、
或いは(D)と(E)の混合物に添加して本発明の感光
性樹脂組成物を構成し、塗布操作を容易にするために用
いられる。有機溶剤は固形分濃度が20〜80重量%と
なる様に用いることが好ましい。
【0015】このようにして得られる本発明の感光性樹
脂組成物には、必要に応じて充填剤、分散剤、その他の
添加剤を添加してもよい。また、感光性樹脂組成物はポ
リ塩化ビニル(PVC)、ポリエチレンテレフタレート
(PET)、ポリプロピレン(PP)、ポリイミド等の
ポリマーのフィルム基材に塗布し、溶剤を除去すると、
タックフリーの膜を得ることができる。膜厚は、用途に
より変えることができるが通常1.0〜200μm程度
である。この膜は活性エネルギー線により硬化させて
も、柔軟性を有しており、未硬化の部分はアルカリ水溶
液で現像し、パターンを形成できるので、プリント基板
のレジスト材料や、PS板を始めとする印刷板材料等に
用いることができる。
【0016】
【実施例】以下、実施例及び比較例を挙げて、本発明を
更に具体的に説明するが、本発明は、これらの実施例に
限定されるものではない。なお、実施例及び比較例中の
%、部数値は、全て重量基準を意味する。また、評価方
法は以下のように行った。 (溶剤乾燥後のタックフリー性):厚さ0.25mmの
アルミ板上に乾燥後の厚さが約30μmとなるように感
光性樹脂組成物の溶液を塗布し、80℃の熱風乾燥機中
で30分間乾燥させる。その後、室温まで戻し、指触で
タック性を調べた。 (感度及び現像時間)前記タックフリー性を試験したの
と同様のアルミ板上に塗布された樹脂の上に21段のス
テップタブレットを載せ、80W/cmの高圧水銀ラン
プで、照射距離10cm、進行方向の照射幅10cm、
コンベアースピード5m/分で紫外線を照射した。紫外
線照射後、1%のNa2CO3水溶液を15秒間スプレー
し、現像時間を測定し、水洗した。現像されたステップ
段数により感度を確認した。 (柔軟性)前記タックフリー性を試験したと同様のアル
ミ板上に塗布された樹脂を150℃のオーブンで30分
間、後硬化を行った。その後、室温まで戻し、塗膜形成
されたアルミ板をティーの直径が2mmの屈曲試験機に
かけ、折り目の白化、割れ状況を目視で観察した。表中
の記号は以下の意味を表す。 ○:折り目の白化及び割れが認められない。
【0017】次に本発明の実施例において用いたウレタ
ン(メタ)アクリレート(D)の合成例について記載す
る。 (合成例1(D1)の製造)カルボキシル基含有ポリエ
ステルポリオール成分(A)として、ラクトン系ポリエ
ステルポリオール(ダイセル化学工業(株)製、PCL205
BA、数平均分子量500、酸価112mgKOH/
g)、ジイソシアネート(B)としてTDI(トリレン
ジイソシアネート)、(メタ)アクリレート類(C)と
して、ヒドロキシエチルアクリレートをそれぞれ、モル
比5:6:2とり、製品総重量の30%となる量のMM
PGAC(ダイセル化学工業(株)製、プロピレングリ
コールモノメチルエーテルアセテート)中70℃で反応
させ、カルボキシル基含有ウレタン(メタ)アクリレー
ト(D1)を合成した。反応終了間際、残存NCO濃度
が0.5%程度のところで、DBTDL(ジラウリン酸
ジブチルスズ)を全重量の100ppm相当量添加し、
反応を促進させ、NCO濃度0.14%で加熱、攪拌を
停止した。
【0018】(合成例2(D2)の製造)合成例1にお
けるヒドロキシエチルアクリレートをアクリロイル基含
有ラクトン系ポリエステルポリオール(ダイセル化学工
業(株)製、PCL FA2D)に変えた他は合成例1
と同じ条件で、カルボキシル基含有ウレタンアクリレー
ト(D2)を合成した。
【0019】(実施例1)合成例1で合成された溶液状
のウレタンアクリレート(D1)95部(固形分基準)
に、(メタ)アクリレート(E)としてβ−カルボキシ
アクリレート(E1)(β−CEA)(ダイセル・ユー
シービー(株)製)を5部、及び光重合開始剤として、
イルガキュア907(日本チバガイギー(株)製)を4
部加え、攪拌混合し、溶液状の感光性樹脂組成物を得
た。この樹脂組成物について、タックフリー性、感度及
び現像時間及び柔軟性を評価し表1に示した。
【0020】(実施例2)(メタ)アクリレート(E)
として(β−CEA)の代わりにアクリル酸(E2)を
用いたこと以外は実施例1と同様に行い、実施例1と同
じ条件で評価を行った。
【0021】(実施例3)合成例1のウレタンアクリレ
ート(D1)の代わりに合成例2のウレタンアクリレー
ト(D2)を用いた以外は実施例1と同様に行い、実施
例1と同じ条件で評価を行った。
【0022】(比較例1)(β−CEA)を用いず、合
成例1のウレタンアクリレート(D1)100部に光重
合開始剤として、イルガキュア907を4部加えたこと
以外は、実施例1と同様に行い、実施例1と同じ条件で
評価を行った。
【0023】(比較例2)合成例1のウレタンアクリレ
ート(D1)を95部、トリメチロールプロパントリア
クリレート(TMPTA−N)(ダイセル・ユーシービ
ー(株)製)を5部に光重合開始剤として、イルガキュ
ア907を4部加えたこと以外は、実施例1と同様に行
い、実施例1と同じ条件で評価を行った。実施例及び比
較例の結果を表1に示した。
【0024】
【表1】
【0025】
【発明の効果】本発明のアルカリ現像可能な感光性樹脂
組成物は、エネルギー線による硬化後も充分な柔軟性が
保たれるため、フレキシブルな基材への印刷、パターン
ニング用インキ、塗料として極めて有用である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) H01L 21/027 H05K 3/00 F H05K 3/00 H01L 21/30 502R Fターム(参考) 2H025 AA00 AB01 AB15 AC01 AD01 BC14 BC66 BC85 BC86 CB19 CB20 CC03 FA17 4J011 AC04 QA03 QA04 QB24 SA06 SA16 SA26 SA32 SA34 SA42 SA64 SA78 UA01 VA01 WA01 4J027 AG03 AG09 AG23 AG24 AG27 AG28 BA08 CA21 CB10 CC03

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】カルボキシル基を含有するラクトン系ポリ
    エステルポリオール(A)、ポリイソシアネート
    (B)、水酸基を含有する(メタ)アクリレート類
    (C)を反応させて得られるウレタン(メタ)アクリレ
    ート(D)、単位分子内にカルボキシル基と(メタ)ア
    クリロイル基(両者は共有部分を有してもよい)をそれ
    ぞれ1基含有する(メタ)アクリレート(E)、及び有
    機溶剤からなる感光性樹脂組成物。
  2. 【請求項2】ウレタン(メタ)アクリレート(D)10
    0重量部と(メタ)アクリレート(E)10〜120重
    量部からなる請求項1記載の感光性樹脂組成物。
  3. 【請求項3】ウレタン(メタ)アクリレート(D)がカ
    ルボキシル基を含有するラクトン系ポリエステルポリオ
    ール(A)、ポリイソシアネート(B)、水酸基を含有
    する(メタ)アクリレート類(C)をモル比で(1〜1
    0):(2〜11):(2〜3)の割合で反応させて得
    られることを特徴とする請求項1記載の感光性樹脂組成
    物。
  4. 【請求項4】有機溶剤中でカルボキシル基を含有するラ
    クトン系ポリエステルポリオール(A)、ポリイソシア
    ネート(B)、水酸基を含有する(メタ)アクリレート
    類(C)を反応させて得られるウレタン(メタ)アクリ
    レート(D)に、単位分子内にカルボキシル基と(メ
    タ)アクリロイル基(両者は共有部分を有してもよい)
    をそれぞれ1基含有する(メタ)アクリレート(E)を
    添加することを特徴とする請求項1記載の感光性樹脂組
    成物の製造方法。
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CN103709826B (zh) * 2013-12-30 2014-12-24 东莞智源彩印有限公司 一种凹印冰点雪花油墨及其制备方法

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5684958B1 (ja) * 2014-01-14 2015-03-18 株式会社メイコー プリント配線基板
WO2015079713A1 (ja) * 2014-01-14 2015-06-04 株式会社メイコー プリント配線基板
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