JP2002057063A - 積層セラミック電子部品 - Google Patents

積層セラミック電子部品

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JP2002057063A
JP2002057063A JP2000244742A JP2000244742A JP2002057063A JP 2002057063 A JP2002057063 A JP 2002057063A JP 2000244742 A JP2000244742 A JP 2000244742A JP 2000244742 A JP2000244742 A JP 2000244742A JP 2002057063 A JP2002057063 A JP 2002057063A
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ceramic electronic
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JP2000244742A
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Yasunobu Yoneda
康信 米田
Giichi Takagi
義一 高木
Takuji Nakagawa
卓二 中川
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Murata Manufacturing Co Ltd
Original Assignee
Murata Manufacturing Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 耐熱衝撃サイクル特性が良く、しかもESR
の比較的小さな積層セラミック電子部品を提供する。 【解決手段】 積層セラミック電子部品10は、2個の
積層セラミックコンデンサ素子12の両端に接合層18
a,18bを介して金属端子が接続される。金属端子2
0a,20bは、中間部22a,22bと、中間部の一
端縁に形成される基板当接部26a,26bと、中間部
の一端縁の延びる方向と交差する方向へ延びる側端縁2
2a1,22a2に連続し、中間部に間隔を隔てて対向
するように形成される素子当接部24a,24bを含
み、素子当接部は、中間部および基板当接部に対してば
ね性を有し、積層セラミックコンデンサ素子の外部電極
に接合層で接続される。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】この発明は積層セラミック電
子部品に関し、特にたとえば、DC−DCコンバータな
どの電源回路の平滑用のタンタル電解コンデンサなどの
置き換えに用いられる高容量の積層セラミック電子部品
に関する。
【0002】
【従来の技術】金属端子付きの積層セラミックコンデン
サは、低底面積高容量化や耐熱衝撃性の向上を目途とし
て用いられる。そのような積層セラミックコンデンサ
は、一般に、金属端子で基板から浮かされている。ま
た、実開平1−112032号に開示されているよう
に、金属端子を折り曲げることが行われている。これら
の技術を用いると、アルミニウム基板などの熱膨張の大
きい基板と積層セラミックコンデンサ素子との熱膨張の
差を緩和することができる。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、金属端
子を折り曲げる技術は、耐熱衝撃サイクル特性に対して
効果的な構造であるが、ESR(等価直列抵抗値、Equi
valent Series Resistanceの略)が大きくなりやすい問
題があった。
【0004】それゆえに、この発明の主たる目的は、耐
熱衝撃サイクル特性が良く、しかもESRの比較的小さ
な積層セラミック電子部品を提供することである。
【0005】
【課題を解決するための手段】この発明にかかる積層セ
ラミック電子部品は、両端に外部電極が形成される積層
セラミック電子部品素子と、外部電極の少なくとも一部
に接合層で電気的に接続される金属端子とを含み、金属
端子は、中間部と、中間部の一端縁に形成される基板当
接部と、中間部の一端縁の延びる方向と交差する方向へ
延びる側縁に連続し、中間部に間隔を隔てて対向するよ
うに形成される素子当接部とを含み、素子当接部は、中
間部および基板当接部に対してばね性を有し、外部電極
に接合層で接続される、積層セラミック電子部品であ
る。また、この積層セラミック電子部品では、積層セラ
ミック電子部品素子は中間部の側縁の延びる方向に複数
積み重ねられ、外部電極の少なくとも一部が素子当接部
に接合層で接続されるようにしてもよく、中間部の側縁
の延びる方向と交差する方向へ複数並べられ、それぞれ
の外部電極の少なくとも一部が素子当接部に接合層で接
続されるようにしてもよい。さらに、素子当接部は、複
数の積層セラミック電子部品の外部電極のそれぞれに対
応して複数形成されてもよい。また、積層セラミック電
子部品素子の一方の外部電極に接続される金属端子と、
他方の外部電極に接続される金属端子とは、前記積層セ
ラミック電子部品素子の両側に線対称に形成されてもよ
く、積層セラミック電子部品素子の両側に点対称に形成
されてもよい。また、リアクタンス成分を調整するため
の切欠部が金属端子に形成されてもよく、積層セラミッ
ク電子部品素子の外部電極との接触面積を減少させるた
めの切欠部が金属端子に形成されてもよい。
【0006】この発明にかかる積層セラミック電子部品
では、金属端子の素子当接部が、中間部の一端縁の延び
る方向と交差する方向へ延びる側縁に連続し、中間部に
間隔を隔てて対向するように形成されるので、ESRが
大きくなるのを防止することができる。また、金属端子
の素子当接部は、中間部および基板当接部に対してばね
性を有するので、耐熱衝撃サイクル特性も良い。
【0007】この発明の上述の目的、その他の目的、特
徴および利点は、図面を参照して行う以下の発明の実施
の形態の詳細な説明から一層明らかとなろう。
【0008】
【発明の実施の形態】図1はこの発明にかかる第1実施
例の積層セラミック電子部品を示す斜視図である。図1
に示す積層セラミック電子部品10は、2つの積層セラ
ミックコンデンサ素子12,12を含む積層セラミック
コンデンサである。
【0009】各積層セラミックコンデンサ素子12は、
たとえばチタン酸バリウム系の誘電体からなる複数の誘
電体層と、たとえばNiなどの電極材料からなる複数の
内部電極とを、交互に積層して形成された積層体14を
含む。積層体14の両端部には、Cu層,Ni層および
Sn層をこの順に積層してなる外部電極16a、16b
が形成される。外部電極16a、16bは、Cuペース
トを塗布し、焼き付けることによって形成されたCu
層、湿式めっきによって形成されたNi層、およびSn
層により形成される。
【0010】2個の積層セラミックコンデンサ素子1
2,12は、たとえばFe−Ni製の2つの金属端子2
0aおよび20bに、リフローはんだ付けされる。この
実施例の金属端子20aおよび20bは、それぞれ、厚
さ0.1mmの片面はんだめっきの施された幅5.1m
mのものである。
【0011】図2に示すように、一方の金属端子20a
は、板状の中間部22aを含む。中間部22aの一方側
縁22a1には、短冊状の折曲部25aを介して板状の
素子当接部24aが連続的かつ一体的に形成される。板
状の素子当接部24aは中間部22aに間隔を隔てて対
向するように形成される。この間隔は折曲部25aの幅
長により決定される。また、中間部22aの一方側縁と
略直交する下端縁には、板状の基板当接部26aが中間
部22aとほぼ直角方向にのびて一体的に形成される。
積層セラミック電子部品10の実装時には、基板当接部
26aが図示しない基板の実装ランド上にはんだ付けさ
れる。素子当接部24aは、折曲部25a、中間部22
aおよび基板当接部26aに対してばね性を有する。
【0012】さらに、金属端子20aの外面(中間部2
2aおよび素子当接部24aの対向しない面とそれにつ
ながる基板当接部26aの下面、および折曲部25a外
面)には、はんだめっきが施される。また、はんだが付
きやすい金属端子材料、たとえば黄銅を用いるときは金
属端子20aの内面(中間部22aと素子当接部24a
とが互いに対向する面とそれにつながる基板当接部26
aの上面、および折曲部25a内面)には、はんだがつ
きにくい処理が施されたり皮膜が形成される。この皮膜
は、たとえば酸化金属,ワックス,樹脂またはシリコン
オイルから形成される。同様に、他方の金属端子20b
は、中間部22b、折曲部25b、素子当接部24bお
よび基板当接部26bを含み、外面にはんだめっきが施
され、内面にはんだがつきにくい皮膜が形成される。
【0013】そして、2個の積層セラミックコンデンサ
素子12,12は、金属端子20a,20bの側縁22
a1,22b1の延びる方向と平行に延びる方向へ積み
重ねられた状態で、金属端子20a,20bの素子当接
部24a,24bにリフローはんだ付けされる。この場
合の接合層18a,18bに用いられるはんだは、高温
はんだ(Pb:Sn=85:15)が好ましい。
【0014】第1実施例では、積層セラミックコンデン
サ素子12の一方の外部電極16aに接続される金属端
子20aと、他方の外部電極16bに接続される金属端
子20bとは、積層セラミックコンデンサ素子12の両
側に線対称に形成される。すなわち、金属端子20aの
素子当接部24aは中間部22aの一方側縁22a1に
接続され他方側縁は開放される。また、金属端子20b
の素子当接部24bは中間部22bの一方側縁22b1
で接続され他方側縁は開放される。そして、金属端子2
0aの一方側縁22a1と金属端子20bの一方側縁2
2b1とは、それぞれ積層セラミックコンデンサ素子1
2の図1図示奥行き方向の奥側に配置される。
【0015】図3はこの発明にかかる第2実施例の積層
セラミック電子部品を示す斜視図である。図3に示す積
層セラミック電子部品10では、図1に示す積層セラミ
ック電子部品10と比べて、他方の金属端子20bのみ
が異なる。この金属端子20bは、第1実施例のものと
異なり、板状の中間部22bの他方側縁22b2に、折
曲部25bを介して板状の素子当接部24bが連続的か
つ一体的に形成される。板状の素子当接部24bは中間
部22bに間隔を隔てて対向するように形成される。こ
の間隔は折曲部25bの幅長により決定される。そし
て、中間部22bの一方側縁と略直交する下端縁には、
板状の基板当接部26bが中間部22bとほぼ直角方向
にのびて一体に形成される。素子当接部24bは、折曲
部25b,中間部22bおよび基板当接部26bに対し
てばね性を有する。
【0016】第2実施例では、積層セラミックコンデン
サ素子12の両側の金属端子20a、20bが積層セラ
ミックコンデンサ素子12の両側に点対称に形成され
る。すなわち、一方の金属端子20aの素子当接部24
aは中間部22aの一方側縁22a1に接続され他方側
縁は開放されるが、他方の金属端子20bの素子当接部
24bは中間部22bの他方側縁22b2に接続され一
方側縁は開放される。そして、金属端子20aの一方側
縁22a1は積層セラミックコンデンサ素子12の図3
図示奥行き方向の奥側に配置され、金属端子20bの他
方側縁22b2は、積層セラミックコンデンサ素子12
の図3図示奥行き方向の手前側に配置される。
【0017】図4はこの発明にかかる第3実施例の積層
セラミック電子部品を示す斜視図である。第3実施例の
積層セラミック電子部品10の金属端子20aは、板状
の中間部22aの一方側縁22a1に連続的かつ一体的
に形成される折曲部25aおよび素子当接部24aが、
図5(A)(B)に示すように、中間部22aの高さ方
向に間隔をおきながら上下に分割されて形成される点で
第1実施例のものと異なる。
【0018】同様に第3実施例の積層セラミック電子部
品10の金属端子20bは、板状の中間部22bの一方
側縁22b1に連続的かつ一体的に形成される折曲部2
5b,素子当接部24bが、中間部22bの高さ方向に
間隔をおきながら分割されて形成される点で第1実施例
のものと異なる。分割された素子当接部24a,24b
は、積層セラミックコンデンサ素子12,12のそれぞ
れの外部電極16a,16bに対応するものである。
【0019】第3実施例の金属端子20aの上下に分割
された素子当接部24a,24aは、折曲部25a,2
5a,中間部22aおよび基板当接部26aに対してば
ね性を有する。また、金属端子20bの上下に分割され
た素子当接部24b,24bは、折曲部25b,25
b,中間部22bおよび基板当接部26bに対してばね
性を有する。
【0020】図6はこの発明にかかる第4実施例の積層
セラミック電子部品を示す斜視図である。第4実施例の
積層セラミック電子部品10の金属端子20aでは、折
曲部25aおよび素子当接部24aが、図7(A)
(B)に示すように、中間部22aの高さ方向に間隔を
おきながら分割されて形成されるが、下に形成される素
子当接部24aは中間部22の図7図示奥側の側縁22
a1に折曲部25aを介して接続され、上に形成される
素子当接部24aは中間部22の図7図示手前側の側縁
22a2に別の折曲部25aを介して接続される点が第
3実施例の積層セラミック電子部品と異なる。同様に、
第4実施例の金属端子20bでは、折曲部25bおよび
素子当接部24bが、中間部22bの高さ方向に間隔を
おきながら分割されて形成されるが、下に形成される素
子当接部24bは中間部22の図6図示奥側の側縁22
b1に折曲部25aを介して接続され、上に形成される
素子当接部24bは中間部22の図6図示手前側の側縁
22b2に折曲部25bを介して接続される点が第3実
施例の積層セラミック電子部品と異なる。その他の点は
第3実施例と同様である。
【0021】図8はこの発明にかかる第5実施例の積層
セラミック電子部品を示す斜視図である。図9(A)は
図8に示した積層セラミック電子部品の金属端子を示す
斜視図であり、(B)はその金属端子の分割された一方
部を示す端面図である。さらに図10は図8に示した積
層セラミック電子部品の等価回路図である。第5実施例
の積層セラミック電子部品10の金属端子20aでは、
図9(A)に示すように、中間部22aが幅方向におけ
る中央に形成された切り欠き40aによって、一方側縁
22a1側と他方側縁22a2側とに分割される。そし
て、分割された中間部22a,22aのそれぞれの一方
側縁22a1および他方側縁22a2にそれぞれ折曲部
25a,25aを介して素子当接部24a,24aが連
続的かつ一体的に形成される。他方の金属端子20bも
同様に形成される。なお、切欠部40a,40bは、金
属端子20a,20bの中間部22a,22bの幅方向
における中央に限らず、金属端子20a,20bの他の
部分に形成されても、複数個形成されてもよい。
【0022】図11は第1比較例の積層セラミック電子
部品を示す斜視図である。図11に示す積層セラミック
電子部品11は、図1に示す積層セラミック電子部品1
0と比べて、金属端子の形状のみが異なるものである。
第1比較例の積層セラミック電子部品11の金属端子2
1a,21bは、中間部22a,22bの上端部に折曲
部25a,25bを介して素子当接部24a,24bが
連続的かつ一体的に形成される。この素子当接部24
a,24bは中間部22a,22bとの間に間隔をおき
ながら対向するように形成される。素子当接部24a,
24bは、中間部22a,22b、折曲部25a,25
b、および基板当接部26a,26bに対してばね性を
有して形成される。
【0023】図12は第2比較例の積層セラミック電子
部品を示す斜視図である。図12に示す積層セラミック
電子部品11は、図1に示す積層セラミック電子部品1
0と比べて、金属端子の形状のみが異なるものである。
第2比較例の積層セラミック電子部品11の金属端子2
1a,21bは、上述の各実施例のような素子当接部を
有さず、板状の中間部22a,22bに接合層18a,
18bを介して積層セラミックコンデンサ素子12の外
部電極16a,16bが直接接続される。
【0024】さらに、図13は第3比較例の積層セラミ
ック電子部品を示す斜視図である。この積層セラミック
電子部品11は、2つの積層セラミックコンデンサ素子
12,12を積層して外部電極の外側全面にはんだ層を
形成してなるものであり、金属端子21a,21bを有
しない点のみが上述の各実施例の積層セラミック電子部
品と相違する。
【0025】そして、第1実施例、第2実施例、第3実
施例、第4実施例、第5実施例、第1比較例、第2比較
例および第3比較例の積層セラミック電子部品をアルミ
ニウム基板に実装したときの熱衝撃サイクル特性を調
べ、その結果を表1に示した。なお、この場合、熱衝撃
サイクル特性は、−55℃〜125℃の熱変化を1サイ
クルの熱衝撃として、250サイクルの熱衝撃を印加し
たときと、500サイクルの熱衝撃を印加したときとに
おいて、静電容量の変化(減少)が10%以上の不良発
生率(不良発生数/72個)を調べた。
【0026】
【表1】
【0027】表1の結果より、第1実施例ないし第5実
施例では、250サイクルの熱衝撃による不良発生数が
0であるに対して、第2比較例および第3比較例では2
0%以上の不良が発生していることがわかる。また、第
1実施例ないし第5実施例では、500サイクルの熱衝
撃による不良発生数が10%以下であるに対して、第2
比較例および第3比較例では60%以上の不良が発生し
ていることがわかる。一方、第1比較例はESRが9.
0mΩと大きいのに比べて、第1実施例ないし第5実施
例ではESRが5.5mΩと小さい。
【0028】第1実施例ないし第5実施例では、金属端
子20a,20bの素子当接部24a,24bを横方向
に折り曲げたような形状の横2重端子とすることによ
り、第1比較例に比べて実装ランドから積層セラミック
コンデンサ素子までの電気的な距離が近くなるので、E
SRを大きく低下させることができると考えられる。ま
た、第1実施例ないし第5実施例では、金属端子20
a,20bの素子当接部24a,24bを横方向に折り
曲げたような形状の横2重端子とすることにより、積層
セラミック電子部品10の固着される図示しないアルミ
ニウム基板と、積層セラミックコンデンサ素子12との
熱膨張率の差を緩和することができる。さらに、第3実
施例および第4実施例の積層セラミック電子部品10で
は、金属端子20a,20bの素子当接部24a,24
bが2つの積層セラミックコンデンサ素子12、12に
それぞれ対応するよう分別されているのでESRを低下
させながら、第1実施例および第2実施例のものよりも
熱膨張率の差を緩和することができる。
【0029】また、第5実施例の積層セラミック電子部
品10では、金属端子20a,20bのL分を相殺する
ことができる。すなわち、金属端子20a(20b)の
分割された一方部分および他方部分に図10に図示した
矢印に示すように逆向きの電流を流して、磁束が相殺さ
れるようにすることによって、低ESL化が可能とな
る。
【0030】図14はこの発明にかかる第6実施例の積
層セラミック電子部品を示す斜視図である。図14に示
す積層セラミック電子部品10は、3つの積層セラミッ
クコンデンサ素子12,12,12を、金属端子20
a,20bの側縁22a1,22b1の延びる方向とは
略直交する方向へ並べた状態で、外部電極16a,16
bに金属端子20a,20bの素子当接部24a,24
bを接続した点を除いて、図1に示した第1実施例と同
様の構造である。
【0031】図15はこの発明にかかる第7実施例の積
層セラミック電子部品を示す斜視図である。図15に示
す積層セラミック電子部品10では、3つの積層セラミ
ックコンデンサ素子12,12,12が、金属端子20
a,20bの側縁22a2,22b1の延びる方向とは
略直交する方向へ並べた状態で、外部電極16a,16
bに金属端子20a,20bの素子当接部24a,24
bを接続した点を除いて、図3に示した第2実施例と同
様の構造である。
【0032】図16はこの発明にかかる第8実施例の積
層セラミック電子部品を示す斜視図であり、図17はそ
の金属端子を示す斜視図である。図16に示す積層セラ
ミック電子部品10は、2つの積層セラミックコンデン
サ素子12,12を、金属端子20a,20bの側縁2
2a1,22a2,22b1,22b2の延びる方向と
は略直交する方向へ並べた状態で、外部電極16a,1
6bに金属端子20a,20bの素子当接部24a,2
4bを接続したものである。第8実施例の積層セラミッ
ク電子部品10の金属端子20aの素子当接部24a
は、中間部22aの一方側縁22a1側と他方側縁22
a2側とに分割され、分割された一方の素子当接部24
aは折曲部25aを介して中間部22aの一方側縁22
a1に連続的かつ一体的に接続され、他方の素子当接部
24aは別の折曲部25aを介して中間部22aの他方
側縁22a2に連続的かつ一体的に接続される。
【0033】また、第8実施例の金属端子20bの素子
当接部24bは、中間部22bの一方側縁22b1側と
他方側縁22b2側とに分割されて、分割された一方の
素子当接部24bは折曲部25b1を介して一方側縁2
2b1に連続的かつ一体的に接続され,他方の素子当接
部24bは別の折曲部25b2を介して中間部22bの
他方側縁24b2に連続的かつ一体的に接続される。
【0034】図18はこの発明にかかる第9実施例の積
層セラミック電子部品を示す斜視図であり、図19はそ
の金属端子を示す斜視図である。図18に示す積層セラ
ミック電子部品10は、3つの積層セラミックコンデン
サ素子12,12,12を、金属端子20a,20bの
側縁22a1,22a2,22b1,22b2の延びる
方向とは略直交する方向へ並べた状態で、外部電極16
a,16bにそれぞれ金属端子20a,20bの素子当
接部24a,24bを接続してなるものである。第9実
施例の積層セラミック電子部品10の金属端子20aの
中間部22aは、一方側縁22a1側と他方側縁22a
2側とに分割され、分割された一方の中間部22aは折
曲部25aを介して素子当接部24aの一方側縁に連続
的かつ一体的に接続され、他方の中間部22aは別の折
曲部25aを介して該素子当接部24aの他方側縁に連
続的かつ一体的に接続される。
【0035】また、第9実施例の金属端子20bの中間
部22bは、一方側縁22b1側と他方側縁22b2側
とに分割され、分割された一方の中間部22bは折曲部
25b1を介して素子当接部24bの一方側縁に連続的
かつ一体的に接続され、他方の中間部22bは別の折曲
部25b2を介して該素子当接部24bの他方側縁に連
続的かつ一体的に接続される。
【0036】図20は、この発明にかかる第10実施例
の積層コンデンサの金属端子を示す斜視図である。この
金属端子は図14に示した第6実施例の金属端子の変形
例である。この金属端子20a(20b)は、素子当接
部24aの中央に略U字形状の貫通した切り欠き部24
a1(24b1)を備えている点のみが第6実施例のも
のと相違する。
【0037】図21は第4比較例の積層セラミック電子
部品を示す斜視図である。図21に示す積層セラミック
電子部品11は、3つの積層セラミックコンデンサ素子
12、12,12を金属端子21a,21bの側縁22
a1,22a2,22b1,22b2の延びる方向と略
直行する方向へ間隔をおきながら並べた点を除いては、
図11に示した第1比較例と同様のものである。
【0038】図22は第5比較例の積層セラミック電子
部品を示す斜視図である。図22に示す積層セラミック
電子部品11は、3つの積層セラミックコンデンサ素子
12、12,12を金属端子21a,21bの側縁22
a1,22a2,22b1,22b2の延びる方向と略
直行する方向へ間隔をおきながら並べた点を除いては、
図12に示した第2比較例と同様のものである。
【0039】そして、第6実施例、第7実施例、第8実
施例、第9実施例、第10実施例、第4比較例、および
第5比較例の積層セラミック電子部品をアルミニウム基
板に実装したときの熱衝撃サイクル特性を調べ、その結
果を表2に示した。なお、この場合、熱衝撃サイクル特
性は、−55℃〜125℃の熱変化を1サイクルの熱衝
撃として、250サイクルの熱衝撃を印加したときと、
500サイクルの熱衝撃を印加したときとにおいて、静
電容量の変化(減少)が10%以上の不良発生率(不良
発生数/72個)を調べた。
【0040】
【表2】
【0041】表2の結果より、第6実施例ないし第10
実施例では、250サイクルの熱衝撃による不良発生数
が0%であるに対して、第5比較例では20%の不良が
発生していることがわかる。また、第6実施例ないし第
10実施例では、500サイクルの熱衝撃による不良発
生数が6%以下であるに対して、第5比較例では50%
以上の不良が発生していることがわかる。一方、第4比
較例はESRが9.0mΩと大きいのに比べて、第6実
施例ないし第10実施例ではESRが6.0mΩ以下と
小さい。
【0042】第6実施例ないし第10実施例では、金属
端子20a,20bの素子当接部24a,24bを横方
向に折り曲げたような形状の横2重端子とすることによ
り、比較例4に比べて実装ランドから積層セラミックコ
ンデンサ素子までの電気的な距離が近くなるので、ES
Rを大きく低下させることができると考えられる。ま
た、第6実施例ないし第10実施例では、金属端子20
a,20bの素子当接部24a,24bを横方向に折り
曲げたような形状の横2重端子とすることにより、積層
セラミック電子部品10の固着される図示しないアルミ
ニウム基板と、積層セラミックコンデンサ素子12との
熱膨張率の差を緩和することができる。さらに、第8実
施例の積層セラミック電子部品10では、金属端子20
a,20bの素子当接部24a,24bが各積層セラミ
ックコンデンサ素子12の外部電極にそれぞれ対応して
複数設けられているので、ESRを低下させながら、第
1実施例および第2実施例のものよりも熱膨張率の差を
緩和することができる。
【0043】また、第9実施例の積層セラミック電子部
品10では、第5実施例と同様に、金属端子20a,2
0bのL分を相殺することができる。
【0044】さらに、第10実施例の積層セラミック電
子部品10では、金属端子20a,20bと積層セラミ
ック素子12の外部電極との接続面積が減少するので、
金属端子20a,20bと積層セラミックコンデンサ素
子12との間において熱膨張または熱収縮の起こる部分
を減少させることができる。
【0045】なお、この発明では、積層セラミック電子
部品素子は1個でもよく、4個以上の積層セラミック電
子部品素子を積層して用いてもよい。積層する場合に
は、各積層セラミック電子部品素子間は当接されても一
定の間隔をもって配置されてもよい。さらに、複数の積
層セラミック電子部品素子間の強度を向上させるため
に、それらの間の中央部に接合用の樹脂を入れてもよ
い。
【0046】また、上述の各実施例では外部電極がCu
層、Ni層およびSn層の3層構造に形成されている
が、外部電極ははんだがつくなら他の構造に形成されて
もよい。また、外部電極の全表面にはんだ層を設けても
よい。さらに、上述の各実施例では積層セラミック電子
部品素子と金属端子との接合をはんだによるものを例示
したが、ろう付け、導電性接着剤などの接合層によって
行われてもよい。
【0047】また、金属端子の材質は、Fe−Ni,黄
銅に限らず、Ag,Ni,Cu,Fe,Crあるいはこ
れらの合金やクラッド材などで構成してもよい。
【0048】さらに、この発明は、積層セラミックコン
デンサに限らず、インダクタ、バリスタ、多層部品等の
積層型積層セラミック電子部品に適用してもよい。
【0049】
【発明の効果】この発明によれば、熱衝撃に対する信頼
性が良く、しかも、ESRの小さい、積層セラミック電
子部品を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】この発明にかかる第1実施例の積層セラミック
電子部品を示す斜視図である。
【図2】(A)は図1に示す積層セラミック電子部品の
金属端子を示す斜視図であり、(B)はその断面図解図
である。
【図3】この発明にかかる第2実施例の積層セラミック
電子部品を示す斜視図である。
【図4】この発明にかかる第3実施例の積層セラミック
電子部品を示す斜視図である。
【図5】(A)は図4に示す積層セラミック電子部品の
金属端子を示す斜視図であり、(B)はその断面図解図
である。
【図6】この発明にかかる第4実施例の積層セラミック
電子部品を示す斜視図である。
【図7】(A)は図6に示す積層セラミック電子部品の
金属端子を示す斜視図であり、(B)はその断面図解図
である。
【図8】この発明にかかる第5実施例の積層セラミック
電子部品を示す斜視図である。
【図9】(A)は図8に示す積層セラミック電子部品の
金属端子を示す斜視図であり、(B)はその分割された
一方を示す端面図である。
【図10】図8に示す第5実施例の積層セラミック電子
部品の等価回路図である。
【図11】第1比較例の積層セラミック電子部品を示す
斜視図である。
【図12】第2比較例の積層セラミック電子部品を示す
斜視図である。
【図13】第3比較例の積層セラミック電子部品を示す
斜視図である。
【図14】この発明にかかる第6実施例の積層セラミッ
ク電子部品を示す斜視図である。
【図15】この発明にかかる第7実施例の積層セラミッ
ク電子部品を示す斜視図である。
【図16】この発明にかかる第8実施例の積層セラミッ
ク電子部品を示す斜視図である。
【図17】図16に示す積層セラミック電子部品の金属
端子を示す斜視図である。
【図18】この発明にかかる第9実施例の積層セラミッ
ク電子部品を示す斜視図である。
【図19】図18に示す積層セラミック電子部品の金属
端子を示す斜視図である。
【図20】この発明にかかる第10実施例の金属端子を
示す斜視図である。
【図21】この発明にかかる第4比較例の積層セラミッ
ク電子部品を示す斜視図である。
【図22】この発明にかかる第5比較例の積層セラミッ
ク電子部品を示す斜視図である。
【符号の説明】
10 積層セラミック電子部品 12 積層セラミックコンデンサ素子 14 積層体 16a,16b 外部電極 18a,18b 接合層 20a、20b 金属端子 22a、22b 中間部 22a1、22a2、22b1、22b2 中間部の側
縁 24a、24b 素子当接部 25a、25b 折曲部 26a、26b 基板当接部
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 中川 卓二 京都府長岡京市天神二丁目26番10号 株式 会社村田製作所内 Fターム(参考) 5E001 AB03 AF03 AH04 AJ03 AZ01 5E082 AB03 BC14 BC23 CC05 FG26 GG08 GG23 GG26 JJ07 JJ09 JJ27

Claims (8)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 両端に外部電極が形成される積層セラミ
    ック電子部品素子、および前記外部電極の少なくとも一
    部に接合層で電気的に接続される金属端子を含み、 前記金属端子は、 中間部、 前記中間部の一端縁に形成される基板当接部、および 前記中間部の前記一端縁の延びる方向と交差する方向へ
    延びる側縁に連続し、前記中間部に間隔を隔てて対向す
    るように形成される素子当接部を含み、 前記素子当接部は、前記中間部および前記基板当接部に
    対してばね性を有し、前記外部電極に前記接合層で接続
    される、積層セラミック電子部品。
  2. 【請求項2】 前記積層セラミック電子部品素子は、前
    記中間部の側縁の延びる方向に複数積み重ねられ、前記
    外部電極の少なくとも一部が前記素子当接部に前記接合
    層で接続される、請求項1に記載の積層セラミック電子
    部品。
  3. 【請求項3】 前記積層セラミック電子部品素子は、前
    記中間部の側縁の延びる方向と交差する方向へ複数並べ
    られ、それぞれの前記外部電極の少なくとも一部が前記
    素子当接部に前記接合層で接続される、請求項1に記載
    の積層セラミック電子部品。
  4. 【請求項4】 前記素子当接部は、前記複数の積層セラ
    ミック電子部品の外部電極のそれぞれに対応して複数形
    成される、請求項2または請求項3のいずれかに記載の
    積層セラミック電子部品。
  5. 【請求項5】 前記積層セラミック電子部品素子の一方
    の外部電極に接続される金属端子と、他方の外部電極に
    接続される金属端子とは、前記積層セラミック電子部品
    素子の両側に線対称に形成される、請求項1ないし請求
    項4のいずれかに記載の積層セラミック電子部品。
  6. 【請求項6】 前記積層セラミック電子部品の一方の外
    部電極に接続される金属端子と、他方の外部電極に接続
    される金属端子とは、前記積層セラミック電子部品素子
    の両側に点対称に形成される、請求項1ないし請求項4
    のいずれかに記載の積層セラミック電子部品。
  7. 【請求項7】 リアクタンス成分を調整するための切欠
    部が前記金属端子に形成された、請求項1ないし請求項
    6のいずれかに記載の積層セラミック電子部品。
  8. 【請求項8】 前記外部電極との接触面積を減少させる
    ための切欠部が前記金属端子に形成された、請求項1な
    いし請求項7のいずれかに記載の積層セラミック電子部
    品。
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