JP2002055207A

JP2002055207A - 光学部品および光学装置

Info

Publication number: JP2002055207A
Application number: JP2001156878A
Authority: JP
Inventors: Tatsuo Ota; 達男太田; Takashi Nozaki; 隆野崎
Original assignee: Konica Minolta Inc
Current assignee: Konica Minolta Inc
Priority date: 2000-05-29
Filing date: 2001-05-25
Publication date: 2002-02-20

Abstract

(57)【要約】【課題】波長２００ｎｍ〜４５０ｎｍの光に対して、
光学部品の内部吸収率を低くした光学部品を提供。【解決手段】光を光入射面より基材に入射し、入射し
た光を基材の光出射面より出射する光透過型の光学部品
において、２００ｎｍ〜４５０ｎｍの波長領域で、下記
の条件を満足することを特徴とする光学部品。０≦１００−Ｔ（λ₀）−Ｒ₁（λ₀）−Ｒ₂（λ₀）≦８但し、λ₀：２００ｎｍから４５０ｎｍの波長領域の中
にある特定透過光の波長（ｎｍ）、Ｔ（λ₀）：波長λ₀
における光学部品の透過率（％）、Ｒ₁（λ₀）：波長λ
₀における光入射面の反射率（％）、Ｒ₂（λ₀）：波長
λ₀における光出射面の反射率（％）

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、光学部品及び光学
装置に係わり、さらに詳しくは、２００ｎｍから４５０
ｎｍの波長領域にある特定透過光、例えば、短波長レー
ザー光を光入射面より基材に入射し、入射した光を基材
の光出射面より出射する光透過型の光学部品、及び、こ
の光学部品を用いた光学装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来より、光を光入射面より基材に入射
し、入射した光を前記基材の光出射面より出射する光透
過型の光学部品が知られている。この光学部品は、基材
に入射する光量は、一部が光入射面（Ｓ₁）で反射して
光量が減じ、入射した光の一部は光学部品内部で吸収さ
れ、さらに光出射面（Ｓ₂）で反射して光量が減じ、残
りの光が透過する。

【０００３】近年、光学部品の透過率をより高くするこ
とが要求され、特に、２００ｎｍから４５０ｎｍの波長
領域にある特定透過光、例えば、短波長レーザー光に対
しては、透過率の高い光学部品が求められている。

【０００４】また、前記光学部品を用いることにより、
２００ｎｍから４５０ｎｍの波長領域にある特定透過
光、例えば、短波長レーザー光を光源波長に用いた高精
度の光学装置が求められている。

【０００５】ここで、従来の一例の光学部品を説明す
る。（ａ）光学部品の１つであるレンズとして、波長６
３０ｎｍ〜７８０ｎｍの光に対して、プラスチック製レ
ンズ（アクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリオレ
フィン系樹脂）、ガラス製レンズが使用され、表面に反
射防止コートが形成され、反射防止コートの構成とし
て、基材の表面に１層目として、酸化セリウムからなる
高屈折率材料層を形成し、２層目として酸化シリコンか
らなる低屈折率材料層を形成した光学部品が技術開示さ
れている（特開平８−１４６２０２号公報）。また、
（ｂ）光学部品の表面に反射防止コートを形成した構成
として、基材の表面に１層目として、酸化セリウムから
なる高屈折率材料層を形成し、２層目として酸化インジ
ウムからなる高屈折率材料層を形成し、さらに３層目と
して酸化シリコンからなる低屈折率材料層を形成した光
学部品が技術開示されている（特開平４−１１６５０１
号公報）。

【０００６】また、光学部品の位置決め調整として、波
長は５００ｎｍ程度の光が用いられ、光学部品の表面反
射光を用い、オートコリメータにより調整している。

【０００７】さらに、前記光学部品を用いた光学装置と
しては、赤色光、例えば波長７８０ｎｍおよび／または
６３５ｎｍの半導体レーザー光を光源波長として用い
た、光ディスクプレーヤや光ディスク書込装置が実用化
されている。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来技
術の課題として、上記光学部品においては、波長２００
ｎｍから４５０ｎｍに光に対して透過率が低く、例え
ば、短波長レーザー光を２００ｎｍから４５０ｎｍの光
を用いた光学装置に使用する場合、透過率が十分とはい
えず、高精度の光学装置が得られない。また、前記光学
部品の表面の波長５００ｎｍ程度の光の反射光を用いて
位置決めする場合、光学部品での反射率が低く、位置あ
わせがし難いという問題がある。

【０００９】本発明は、従来の課題に鑑みなされたもの
で、第１の発明の目的は、波長２００ｎｍ〜４５０ｎｍ
の波長領域の中にある特定透過光、例えば短波長レーザ
ー光に対し、光学部品の内部で吸収される光量比率の低
い光学部品を提供することにある。なお、本発明の光学
部品の光入射面の反射率及び光出射面の反射率を低くす
ると、その合成により透過率を高くすることができる光
学部品となる。

【００１０】また、第２の発明の目的は、波長２００ｎ
ｍ〜４５０ｎｍの波長領域の中にある特定透過光、例え
ば短波長レーザー光に対し、基材の表面に反射防止コー
トを施して光学部品の内部で吸収される光量比率が低
く、且つ、安価で、傷や、ほこりが付着しにくい光学部
品を提供することにある。なお、本発明の光学部品の光
入射面の反射率及び光出射面の反射率を低くすると、そ
の合成により透過率を高くすることができる光学部品と
なる。

【００１１】第３の発明の目的は、前記第１、第２の目
的に加え、光学部品の位置決め調整に使用する光源波長
に対して、反射率を所定以上にして、位置決め調整をし
易くできる光学部品を提供することにある。

【００１２】第４の発明の目的は、波長２００ｎｍから
４５０ｎｍの波長領域の中にある特定透過光、例えば、
青色レーザー光のような短波長レーザー光に対して透過
率の高い光学部品を提供することにあり、さらに前記光
学部品の位置決め調整する光源波長に対して反射率を所
定以上にして、位置決め調整をし易くした光学部品を提
供することにある。

【００１３】第５の発明の目的は、波長２００ｎｍから
４５０ｎｍの波長領域の中にある特定透過光、例えば青
色レーザー光を光源として用い、さらに前記第１から第
４のいずれか１項に記載の光学部品を用いて、透過光量
損失を少なくして高精度の光学装置を提供することにあ
る。

【００１４】

【課題を解決するための手段】上記の第１の発明の目的
は下記の手段により達成できる。

【００１５】（１）光を光入射面より基材に入射し、入
射した光を前記基材の光出射面より出射する光透過型の
光学部品において、２００ｎｍ〜４５０ｎｍの波長領域
で、下記の条件を満足することを特徴とする光学部品。

【００１６】０≦１００−Ｔ（λ₀）−Ｒ₁（λ₀）−Ｒ₂（λ₀）≦８・・・式［１］但し、 λ₀：２００ｎｍから４５０ｎｍの波長領域の中にある
特定透過光の波長Ｔ（λ₀）：波長λ₀における光学部品の透過率（％）Ｒ₁（λ₀）：波長λ₀における光入射面の反射率（％）Ｒ₂（λ₀）：波長λ₀における光出射面の反射率（％）上記の第２の発明の目的は下記の手段のいずれかにより
達成できる。

【００１７】（２）光を光入射面より基材に入射し、入
射した光を前記基材の光出射面より出射する光透過型の
光学部品において、前記光入射面、および／または、前
記光出射面に少なくとも反射防止コートを面上に形成
し、且つ、２００ｎｍ〜４５０ｎｍの波長領域で、下記
の条件を満足することを特徴とする光学部品。

【００１８】０≦１００−Ｔ（λ₀）−Ｒ₁（λ₀）−Ｒ₂（λ₀）≦８・・・式［２］但し、 λ₀：２００ｎｍから４５０ｎｍの波長領域の中にある
特定透過光の波長Ｔ（λ₀）：波長λ₀における光学部品の透過率（％）Ｒ₁（λ₀）：波長λ₀における光入射面の反射率（％）Ｒ₂（λ₀）：波長λ₀における光出射面の反射率（％）（３）前記光入射面、及び／または、前記光出射面に形
成した前記反射防止コートは、１層コート、２層コー
ト、または、３層コートの積層からなり、さらに、各層
の材料が高屈折率材料、中屈折率材料、または、低屈折
率材料であることを特徴とする前記（２）に記載の光学
部品。

【００１９】（４）基材に最も近い反射防止コートの層
より１層目、２層目と表したとき、反射防止コートの積
層構成を下記のごとくしたことを特徴とする前記（２）
または（３）に記載の光学部品。

【００２０】１層目：高屈折率材料からなる層とし、１．８０≦ｎ₁（λ₀）０．０７≦ｎ₁（λ₀）・ｄ₁／λ₀≦０．１８２層目：低屈折率材料からなる層とし、ｎ₂（λ₀）＜１．５００．２６≦ｎ₂（λ₀）・ｄ₂／λ₀≦０．３６但し、ｎ₁、ｎ₂：波長λ₀での１層目、２層目の屈折率ｄ₁、ｄ₂：１層目の膜厚、２層目の膜厚ｎ₁（λ₀）・ｄ₁：波長λ₀での１層目の光学膜厚ｎ₂（λ₀）・ｄ₂：波長λ₀での２層目の光学膜厚 λ₀：２００ｎｍから４５０ｎｍの波長領域の中にある
特定透過光の波長（５）基材に最も近い反射防止コートの層より１層目、
２層目と表したとき、反射防止コートの積層構成を下記
のごとくしたことを特徴とする前記（２）または（３）
に記載の光学部品。

【００２１】１層目：中屈折率材料からなる層とし、１．５０≦ｎ₁（λ₀）＜１．８００．１７≦ｎ₁（λ₀）・ｄ₁／λ₀≦０．２３２層目：低屈折率材料からなる層とし、ｎ₂（λ₀）＜１．５００．２４≦ｎ₂（λ₀）・ｄ₂／λ₀≦０．３０但し、ｎ₁、ｎ₂：波長λ₀での１層目、２層目の屈折率ｄ₁、ｄ₂：１層目の膜厚、２層目の膜厚ｎ₁（λ₀）・ｄ₁：波長λ₀での１層目の光学膜厚ｎ₂（λ₀）・ｄ₂：波長λ₀での２層目の光学膜厚 λ₀：２００ｎｍから４５０ｎｍの波長領域の中にある
特定透過光の波長（６）基材に最も近い反射防止コートの層より１層目、
２層目、３層目と表したとき、反射防止コートの積層構
成を下記のごとくしたことを特徴とする前記（２）また
は（３）に記載の光学部品。

【００２２】１層目：低屈折率材料からなる層とし、ｎ₁（λ₀）≦１．５００．０１≦ｎ₁（λ₀）・ｄ₁／λ₀≦１．０２層目：高屈折率材料からなる層とし、１．８０≦ｎ₂（λ₀）０．０７≦ｎ₂（λ₀）・ｄ₂／λ₀≦０．１８３層目：低屈折率材料からなる層とし、ｎ₃（λ₀）≦１．５００．２６≦ｎ₃（λ₀）・ｄ₃／λ₀≦０．３６但し、ｎ₁、ｎ₂、ｎ₃：波長λ₀での１層目、２層目、３層目の
屈折率ｄ₁、ｄ₂、ｄ₃：１層目、２層目、３層目の膜厚ｎ₁（λ₀）・ｄ₁：波長λ₀での１層目の光学膜厚ｎ₂（λ₀）・ｄ₂：波長λ₀での２層目の光学膜厚ｎ₃（λ₀）・ｄ₃：波長λ₀での３層目の光学膜厚 λ₀：２００ｎｍから４５０ｎｍの波長領域の中にある
特定透過光の波長（７）基材に最も近い反射防止コートの層より１層目、
２層目、３層目と表したとき、反射防止コートの積層構
成を下記のごとくしたことを特徴とする前記（２）また
は（３）に記載の光学部品。

【００２３】１層目：低屈折率材料からなる層とし、ｎ₁（λ₀）≦１．５００．０１≦ｎ₁（λ₀）・ｄ₁／λ₀≦１．０２層目：中屈折率材料からなる層とし、１．５０≦ｎ₂（λ₀）≦１．８００．１７≦ｎ₂（λ₀）・ｄ₂／λ₀≦０．２３３層目：低屈折率材料からなる層とし、ｎ₃（λ₀）≦１．５００．２４≦ｎ₃（λ₀）・ｄ₃／λ₀≦０．３０但し、ｎ₁、ｎ₂、ｎ₃：波長λ₀での１層目、２層目、３層目の
屈折率ｄ₁、ｄ₂、ｄ₃：１層目、２層目、３層目の膜厚ｎ₁（λ₀）・ｄ₁：波長λ₀での１層目の光学膜厚ｎ₂（λ₀）・ｄ₂：波長λ₀での２層目の光学膜厚ｎ₃（λ₀）・ｄ₃：波長λ₀での３層目の光学膜厚 λ₀：２００ｎｍから４５０ｎｍの波長領域の中にある
特定透過光の波長（８）前記高屈折率材料は、酸化イットリウム、サブス
タンスＭ３、酸化ハニウム、酸化ジルコニウム、酸化タ
ンタル、または、酸化チタンからなることを特徴とする
前記（３）、（４）、又は（６）に記載の光学部品。

【００２４】（９）前記中屈折率材料は、フッ化ランタ
ン、フッ化（ＮｄＦ₂）、フッ化セリウム、フッ化アル
ミニウム、サブスタンスＭ２、フッ化ナマリ、酸化イッ
トリウム、または、酸化アルミニウムからなることを特
徴とする前記（３）、（５）、又は（７）に記載の光学
部品。

【００２５】（１０）前記低屈折率材料は、酸化シリコ
ン、または、フッ化マグネシウムからなることを特徴と
する前記（３）、（４）、（５）、（６）、又は（７）
に記載の光学部品。

【００２６】上記の第３の発明の目的は下記の手段によ
り達成できる。（１１）前記（１）から（１０）のいずれか１項に記載
の光学部品において、６３５ｎｍ波長に対する光出射面
の反射率をＲ₂（λ₆₃₅）としたとき、前記Ｒ₂（λ₆₃₅）
が２．０以上であることを特徴とする光学部品。

【００２７】上記の第４の発明の目的は下記の手段のい
ずれかにより達成できる。（１２）光を光入射面より基材に入射し、入射した光を
前記基材の光出射面より出射する光透過型の光学部品に
おいて、２００ｎｍから４５０ｎｍの波長領域の中にあ
る特定透過光の波長で、反射防止コート前の同一波長の
透過率より透過率をさらに高くする反射防止コートを前
記光入射面および／または前記光出射面に形成し、前記
反射防止コートが１層コート、２層コート、又は３層コ
ートの積層からなり、さらに各層の材料が高屈折率材
料、中屈折率材料、または、低屈折率材料であることを
特徴とする光学部品。

【００２８】（１３）基材に最も近い反射防止コートの
層より１層目、２層目と表したとき、反射防止コートの
積層構成を下記のごとくしたことを特徴とする前記（１
２）に記載の光学部品。

【００２９】１層目：高屈折率材料からなる層とし、１．８０≦ｎ₁（λ₀）０．０７≦ｎ₁（λ₀）・ｄ₁／λ₀≦０．１８２層目：低屈折率材料からなる層とし、ｎ₂（λ₀）＜１．５００．２６≦ｎ₂（λ₀）・ｄ₂／λ₀≦０．３６但し、ｎ₁、ｎ₂：波長λ₀での１層目、２層目の屈折率ｄ₁、ｄ₂：１層目の膜厚、２層目の膜厚ｎ₁（λ₀）・ｄ₁：波長λ₀での１層目の光学膜厚ｎ₂（λ₀）・ｄ₂：波長λ₀での２層目の光学膜厚 λ₀：２００ｎｍから４５０ｎｍの波長領域の中にある
特定透過光の波長（１４）基材に最も近い反射防止コートの層より１層
目、２層目と表したとき、反射防止コートの積層構成を
下記のごとくしたことを特徴とする前記（１２）に記載
の光学部品。

【００３０】１層目：中屈折率材料からなる層とし、１．５０≦ｎ₁（λ₀）＜１．８００．１７≦ｎ₁（λ₀）・ｄ₁／λ₀≦０．２３２層目：低屈折率材料からなる層とし、ｎ₂（λ₀）＜１．５００．２４≦ｎ₂（λ₀）・ｄ₂／λ₀≦０．３０但し、ｎ₁、ｎ₂：波長λ₀での１層目、２層目の屈折率ｄ₁、ｄ₂：１層目の膜厚、２層目の膜厚ｎ₁（λ₀）・ｄ₁：波長λ₀での１層目の光学膜厚ｎ₂（λ₀）・ｄ₂：波長λ₀での２層目の光学膜厚 λ₀：２００ｎｍから４５０ｎｍの波長領域の中にある
特定透過光の波長（１５）基材に最も近い反射防止コートの層より１層
目、２層目、３層目と表したとき、反射防止コートの積
層構成を下記のごとくしたことを特徴とする前記（１
２）に記載の光学部品。

【００３１】１層目：低屈折率材料からなる層とし、ｎ₁（λ₀）≦１．５００．０１≦ｎ₁（λ₀）・ｄ₁／λ₀≦１．０２層目：高屈折率材料からなる層とし、１．８０≦ｎ₂（λ₀）０．０７≦ｎ₂（λ₀）・ｄ₂／λ₀≦０．１８３層目：低屈折率材料からなる層とし、ｎ₃（λ₀）≦１．５００．２６≦ｎ₃（λ₀）・ｄ₃／λ₀≦０．３６但し、ｎ₁、ｎ₂、ｎ₃：波長λ₀での１層目、２層目、３層目の
屈折率ｄ₁、ｄ₂、ｄ₃：１層目、２層目、３層目の膜厚ｎ₁（λ₀）・ｄ₁：波長λ₀での１層目の光学膜厚ｎ₂（λ₀）・ｄ₂：波長λ₀での２層目の光学膜厚ｎ₃（λ₀）・ｄ₃：波長λ₀での３層目の光学膜厚 λ₀：２００ｎｍから４５０ｎｍの波長領域の中にある
特定透過光の波長（１６）基材に最も近い反射防止コートの層より１層
目、２層目、３層目と表したとき、反射防止コートの積
層構成を下記のごとくしたことを特徴とする前記（１
２）に記載の光学部品。

【００３２】１層目：低屈折率材料からなる層とし、ｎ₁（λ₀）≦１．５００．０１≦ｎ₁（λ₀）・ｄ₁／λ₀≦１．０２層目：中屈折率材料からなる層とし、１．５０≦ｎ₂（λ₀）≦１．８０３層目：低屈折率材料からなる層とし、ｎ₃（λ₀）≦１．５００．２４≦ｎ₃（λ₀）・ｄ₃／λ₀≦０．３０但し、ｎ₁、ｎ₂、ｎ₃：波長λ₀での１層目、２層目、３層目の
屈折率ｄ₁、ｄ₂、ｄ₃：１層目、２層目、３層目の膜厚ｎ₁（λ₀）・ｄ₁：波長λ₀での１層目の光学膜厚ｎ₂（λ₀）・ｄ₂：波長λ₀での２層目の光学膜厚ｎ₃（λ₀）・ｄ₃：波長λ₀での３層目の光学膜厚 λ₀：２００ｎｍから４５０ｎｍの波長領域の中にある
特定透過光の波長（１７）前記高屈折率材料は、酸化イットリウム、サブ
スタンスＭ３、酸化ハニウム、酸化ジルコニウム、酸化
タンタル、または、酸化チタンからなることを特徴とす
る前記（１２）、（１３）、又は（１５）に記載の光学
部品。

【００３３】（１８）前記中屈折率材料は、フッ化ラン
タン、フッ化（ＮｄＦ₂）、フッ化セリウム、フッ化ア
ルミニウム、サブスタンスＭ２、フッ化ナマリ、酸化イ
ットリウム、または、酸化アルミニウムからなることを
特徴とする前記（１２）、（１４）、又は（１６）に記
載の光学部品。

【００３４】（１９）前記低屈折率材料は、酸化シリコ
ン、または、フッ化マグネシウムからなることを特徴と
する前記（１２）、（１３）、（１４）、（１５）、又
は（１６）に記載の光学部品。

【００３５】（２０）前記（１２）から（１９）のいず
れか１項に記載の光学部品において、６３５ｎｍ波長に
対する光出射面の反射率をＲ₂（λ₆₃₅）としたとき、前
記Ｒ ₂（λ₆₃₅）が２．０以上であることを特徴とする光
学部品。

【００３６】上記の第５の発明の目的は下記の手段によ
り達成できる。（２１）前記（１）から（２０）のいずれか１項に記載
の光学部品を用いたことを特徴とする光学装置。

【００３７】上記（１）、（２）において、条件式
［１］、条件式［２］は内部で吸収される光量比率（内
部吸収率）を規定したもので、上限を超えると内部で吸
収される光量比率が大きくなる。好ましくは、０．０５
≦１００−Ｔ（λ₀）−Ｒ₁（λ₀）−Ｒ₂（λ₀）≦６
で、より好ましくは、０．１≦１００−Ｔ（λ₀）−Ｒ₁
（λ ₀）−Ｒ₂（λ₀）≦４である。

【００３８】また、上記（２１）の前述の光学部品を用
いた光学装置においては、光学装置の光源からでた光
が、最初に光学部品に入射する時の面を光入射面とす
る。また、光入射面は、ランプ又はレーザー光源から出
た光が、前記光学部品を透過するとき、最初に入射する
光入射面を意味する。

【００３９】

【発明の実施の形態】実施の形態の光学部品について説
明する。実施の形態及び実施例で使用する記号は下記の
通りである。

【００４０】ｎ₁、ｎ₂、ｎ₃：波長λ₀での１層目、２層
目、３層目の屈折率 λ₀：２００ｎｍから４５０ｎｍの波長領域の中にある
特定透過光の波長Ｔ（λ₀）：波長λ₀における光学部品の透過率（％）Ｒ₁（λ₀）：波長λ₀における光入射面の反射率（％）Ｒ₂（λ₀）：波長λ₀における光出射面の反射率（％）Ｅ（λ₀）：波長λ₀における光学部品の内部吸収率
（％）ｄ₁、ｄ₂、ｄ₃：１層目、２層目、３層目の膜厚ｎ₁（λ₀）・ｄ₁：波長λ₀での１層目の光学膜厚ｎ₂（λ₀）・ｄ₂：波長λ₀での２層目の光学膜厚ｎ₃（λ₀）・ｄ₃：波長λ₀での３層目の光学膜厚ここで、「光学部品」は、光学に使用する光を透過する
全ての部品を意味し、例えば、光ディスクプレーヤ用の
光ピックアップ対物レンズ、コリメータレンズ、撮影レ
ンズ、フィルター、プリズム、光導波路等がある。特
に、光ディスクプレーヤ用の光ピックアップ対物レンズ
やコリメータレンズが該当する。なお、これに限定され
るものではない。

【００４１】「内部吸収率」は、光学部品の内部で吸収
される光量比率で、さらに詳しくは、基材、反射防止コ
ート材料等の内部で吸収される入射光量に対する光量比
率（％）を示す。

【００４２】「基材」は、光学部品のベースとなる光学
部材で、プラスチック材料の場合は、アクリル樹脂（日
立化成（株）、商品名：ＯＺ樹脂）、ゼオネックス樹脂
（Ｒ）（日本ゼオン（株））が好ましい。また、ガラス
材料の場合は、石英ガラス、ショット性ガラス（Ｕｌｔ
ａｍ２０、Ｕｌｔａｍ３０、ＦＫ５、ＰＫ１、ＰＫ２、
ＰＫ３、ＢＫ７、ＵＢＫ７、ＢａＫ２、ＬＬＦ２、ＬＦ
７、Ｆ１４等）が好ましい。

【００４３】「特定透過光」は、２００ｎｍから４５０
ｎｍの波長領域にある光で、光学部品が用いられるとき
に、透過光として使用される光を意味する。

【００４４】「特定透過光の波長」は、「特定透過光」
の波長であり、即ち、２００ｎｍから４５０ｎｍの波長
領域に有る光の波長で、且つ光学部品が用いられるとき
に、透過光として使用される光である特定透過光の波長
を意味する。

【００４５】なお、本発明の光学部品を用いた光学装置
においては、前記特定透過光の波長は、光学装置に用い
られる光源の波長に相当する。

【００４６】「低屈折率材料」は、屈折率が条件式ｎ
（λ₀）≦１．５を満足する反射防止コート材であり、
例えば、酸化シリコン、フッ化マグネシウムがある。

【００４７】「中屈折率材料」は、屈折率が条件式１．
５＜ｎ（λ₀）≦１．８を満足する反射防止コート材で
あり、例えば、フッ化ランタン、フッ化（ＮｄＦ₂）、
フッ化セリウム、フッ化アルミニウム、サブスタンスＭ
２（Ｒ）（メルジャパン（株）製、材料商品名）、フッ
化ナマリ、酸化イットリウム、酸化アルミニウムがあ
る。

【００４８】「高屈折率材料」は、屈折率が条件式１．
８＜ｎ（λ₀）を満足する反射防止コート材であり、例
えば、酸化イットリウム、サブスタンスＭ３（Ｒ）（メ
ルジャパン（株）製、材料商品名）、酸化ハニウム、酸
化ジルコニウム、酸化タンタル、酸化チタンがある。

【００４９】なお、本発明の光学部品を用いるに適した
光学装置としては、例えば、光ディスクプレイヤー、測
長器、干渉計、レーザー顕微鏡、光通信機器等がある。

【００５０】（実施の形態１）図１は本発明の光学部品
の説明図である。図１に示すごとく、光学部品Ｐは基材
Ｂの表面に光入射面Ｓ₁と光出射面Ｓ₂が形成されてい
る。

【００５１】光量Ｉからなる光学部品Ｐに入射した光
は、一部が光入射面Ｓ₁で反射して光量損失となり、入
射した光は光出射面Ｓ₂で反射して光量損失となり、さ
らに、基材Ｂ及び反射防止コート材料の内部で吸収され
て光量損失となる。残りの光量が透過光量Ｉ_Tとして出
射する。なお、図１に示すように、光学部品Ｐの光入射
面Ｓ₁に入射し、基材の内部を通過した光による光出射
面Ｓ₂での反射率は、測定できないので、前記反射率は
光入射面に入射した光量と同じ光量Ｉを光出射面Ｓ ₂に
照射して反射した反射光量Ｉ_S2より求めた反射率と等し
いとして求める。

【００５２】光入射面の反射率Ｒ₁（λ₀）はＲ₁（λ₀）
＝１００×Ｉ_S1／Ｉ（％）で表され、光出射面の反射率
Ｒ₂（λ₀）はＲ₂（λ₀）＝１００×Ｉ_S2／Ｉ（％）で表
される。

【００５３】さらに、透過率Ｔ（λ₀）はＴ（λ₀）＝１
００×Ｉ_T／Ｉ（％）で表される。さらに、内部吸収率
Ｅ（λ₀）は次の式［３］で表される。

【００５４】Ｅ（λ₀）＝１００−Ｔ（λ₀）−Ｒ₁（λ₀）−Ｒ₂（λ₀）・・・式［３］なお、Ｔ（λ₀）、Ｒ₁（λ₀）、Ｒ₂（λ₀）、Ｅ（λ₀）
の百分率で表す値が大きいとき、Ｔ（λ₀）、Ｒ
₁（λ₀）、Ｒ₂（λ₀）、Ｅ（λ₀）が高いと言うことに
する。また、逆に、前記の値が小さいとき、Ｔ
（λ₀）、Ｒ₁（λ₀）、Ｒ₂（λ₀）、Ｅ（λ₀）が低いと
いうことにする。

【００５５】図２は、本発明の反射防止コートを有する
光学部品である。図２（ａ）に示す光学部品Ｐは、基材
Ｂの光入射面Ｓ₁に反射防止コートＣを形成したもので
ある。図２（ｂ）に示す光学部品Ｐは、基材Ｂの光出射
面Ｓ₂に反射防止コートＣを形成したものである。図２
（ｃ）に示す光学部品Ｐは、基材Ｂの光入射面Ｓ₁と光
出射面Ｓ₂に反射防止コートＣを形成したものである。

【００５６】図３は、反射防止コートの積層状態を示す
説明図である。図３に示すごとく基材Ｂに最も近い側よ
り反射防止コートの１層目Ｃ₁、２層目Ｃ₂、３層目Ｃ₃
である。また、膜厚は、１層目の膜厚ｄ₁、２層目の膜
厚ｄ₂、３層目の膜厚ｄ₃である。

【００５７】（実施の形態２）図４（ａ）は本発明の光
学部品を位置決め調整する方法の説明図である。本発明
の光学部品は、半導体レーザー光源９と組み合わせて使
われ、半導体レーザー光源９から出た光を光入射面（Ｓ
₁）から入射し、光射出面（Ｓ₂）から出射する。また、
半導体レーザー光源９は２００ｎｍから４５０ｎｍの波
長領域の特定透過光を発光する。光学部品は取り付け枠
７に取り付けられる。６３５ｎｍ波長に対して、光出射
面の反射率をＲ₂（λ₆₃₅）としたとき、光出射面の反射
率Ｒ₂（λ₆₃₅）は２．０以上である。

【００５８】図４（ａ）に示すように、光学部品Ｐをセ
ットし、波長６３５ｎｍのレーザー光源１はコンデンサ
レンズ２を通過し、十字線チャート３を照明する。十字
線チャート３はハーフプリズム４、コリメータレンズ
５、リレーレンズ６を通り、光学部品Ｐの光出射面Ｓ₂
で反射し、リレーレンズ６、コリメータレンズ５を通
り、ハーフミラーで４５度に反射して位置ずれをＣＣＤ
センサ８で測定する。取付枠７に光学部品を取り付ける
とき、位置ずれがある場合、光学部品Ｐを取付枠７に対
して取り付け位置を傾けて調整（偏芯、位置ずれ等）す
る。以上のように、特に、光出射面Ｓ₂での反射率を上
げることで、調整精度を上げることができる。なお、例
では、使用する波長はレーザー光の６３５ｎｍであった
が、これに限定されるものではなく、６５０ｎｍ、７８
０ｎｍでもよい。また、レーザー光以外でもよい。

【００５９】（実施の形態３）本発明の光学装置につい
て図面を参照して説明する。図１１は本発明の光学装置
に係わる光学系の構成を示す説明図である。光学系は、
光源部２０、ビーム整形・分離プリズム３０、対物レン
ズ４０、そして信号検出系５０から構成されている。

【００６０】光源部２０は、半導体レーザー２１と、コ
リメータレンズ２２とを備えている。コリメータレンズ
２２は、半導体レーザー２１からの２００ｎｍから４５
０ｎｍの波長領域にある例えば、特定透過光の波長であ
る４０５ｎｍのレーザー光を平行とするパワーが設定さ
れている。

【００６１】ビーム整形・分離プリズム３０は、２つの
プリズム３１、３２が貼り合わされて構成され、光源部
２０から発したレーザー光の断面形状を整形すると共
に、光ディスクＤからの反射光を貼り合わせ面で反射さ
せて信号検出系５０に導く。

【００６２】本発明の光学部品である対物レンズ４０
は、プラスチック製であり、光源部２０側の第１面４０
ａ、及びディスク側の第２面４０ｂが共に反射防止コー
トが形成されて透過率が良くなっている。また、対物レ
ンズ４０は、光源部２０からのレーザー光を光ディスク
Ｄの記録面上に集光させる。信号検出系５０は、ビーム
整形・分離プリズム３０からの反射光を集光させる集光
レンズ５１と、シリンドリカルレンズ５２、センサ５３
とを備える。

【００６３】半導体レーザー２１から発したレーザー光
は、光ディスクＤにより反射された後、シリンドリカル
レンズ５２を介してセンサ５３に入射する。センサ５３
からの信号は、適宜演算されて光ディスクに記録された
情報の再生、あるいは、対物レンズのフォーカシングエ
ラー、トラキングエラーを示す信号の生成に利用され
る。以上のように、本発明の光学部品を用いた光学装置
によれば、光量損失が少なく高精度の光学装置となる。

【００６４】

【実施例】ここで、本発明の光学部品の実施例を比較例
と共に説明する。

【００６５】（試料の製作）製膜方法は、真空蒸着法で
は、通常蒸着時に蒸着槽内を真空状態にしたり、酸素ガ
スを導入した雰囲気にして高屈折率材料、中屈折率材
料、低屈折率材料を加熱蒸着して基材上に積層する。通
常のスパッタリング法でも使用可能である。

【００６６】基材は、ゼオネックス樹脂、石英ガラス等
で表１、表３、表５、表７、表９、表１１に示す。

【００６７】基材にコートするときの基材温度は、１０
℃から５００℃で加熱する。樹脂材料の基材温度は１０
℃から１２０℃、ガラス材料の基材温度は３０℃から５
００℃である。

【００６８】（測定方法）光学部品の反射率は、図４
（ｂ）に示すように、顕微分光度計（オリンパス光学工
業（株）製のレンズ反射率測定器、型式：ＵＳＰＭ−Ｒ
Ｕ−II）により測定する。光学部品の光入射面及び光出
射面の各々の反射率を測定する時、湾曲した面を有する
レンズ（光学部品）Ｐにおいては、光軸１３に沿った方
向から光入射面及び光出射面の各々の面に対し照射光１
４をあて反射光１５を測定する。

【００６９】また、透過率測定は、図４（ｃ）に示すよ
うに、自記分光光度計（日立製作所（株）製、自記分光
光度計、型式：Ｕ−４０００）を用いて測定する。湾曲
した面を有するレンズにおいては、反射率測定と同様に
光軸１３に沿った方向から、光を照射し、透過光を積分
球１１に導き受光素子１２で受光して測定する。積分球
１１に形成した開口部１１ａの位置にレンズＰを置き、
照射する光のビーム径はスリット１０でレンズ（光学部
品）Ｐの有効径の１／２から１／５に絞り、レンズ中心
付近のみに照射する。なお、１００％レベルのベースラ
イン測定は、レンズの透過光量を測るときと同じ配置に
スリット部１０を置きベースラインを測定する。

【００７０】また、反射防止膜の膜厚及び層構成は、反
射率を測定した表面の膜の断面観察により測定し、膜組
成は表面分析で確認した。

【００７１】ここで、実施例１から実施例７について説
明する。（実施例１）この光学部品は、光入射面、光出射面の両
面に同じ構成で積層に反射防止コートしたものである。
表１は試料内容を示す。図５（ａ）は実施例１−１、図
５（ｂ）は実施例１−２の透過率Ｔ、光入射面の反射率
Ｒ₁、光出射面の反射率Ｒ₂をそれぞれ示す図である。表
２はデータを示す。

【００７２】

【表１】

【００７３】

【表２】

【００７４】（実施例２）この光学部品は、光入射面、
光出射面の両面に同じ構成で積層に反射防止コートした
ものである。表３は試料内容を示す。図６は実施例２−
１の透過率Ｔ、光入射面の反射率Ｒ₁、光出射面の反射
率Ｒ₂を示す図である。表４はデータを示す。

【００７５】

【表３】

【００７６】

【表４】

【００７７】（実施例３）この光学部品は、光入射面、
光出射面の両面に同じ構成で積層に反射防止コートした
ものである。表５は試料内容を示す。図７（ａ）は実施
例３−１、図７（ｂ）は実施例３−２の透過率Ｔ、光入
射面の反射率Ｒ₁、光出射面の反射率Ｒ₂をそれぞれ示す
図である。表６はデータを示す。

【００７８】

【表５】

【００７９】

【表６】

【００８０】（実施例４）この光学部品は、光入射面、
光出射面の両面に同じ構成で積層に反射防止コートした
ものである。表７は試料内容を示す。図８（ａ）は実施
例４−１、図８（ｂ）は実施例４−２の透過率Ｔ、光入
射面の反射率Ｒ₁、光出射面の反射率Ｒ₂をそれぞれ示
す。表８は測定結果のデータを示す。

【００８１】

【表７】

【００８２】

【表８】

【００８３】（実施例５）この光学部品は、光入射面、
光出射面の両面に異なる構成で反射防止コートを積層し
たものである。表９は試料内容を示す。図９は実施例５
の透過率Ｔ、光入射面の反射率Ｒ₁、光出射面の反射率
Ｒ₂を示す。表１０は測定結果のデータを示す。

【００８４】

【表９】

【００８５】

【表１０】

【００８６】（実施例６）この光学部品は、光出射面の
みに反射防止コートを積層したものである。表１１は試
料内容を示す。図１０は実施例６の光学部品の透過率
Ｔ、光入射面の反射率Ｒ₁、光出射面の反射率Ｒ₂を示
す。表１２は、測定結果のデータを示す。

【００８７】

【表１１】

【００８８】

【表１２】

【００８９】

【発明の効果】以上のように構成したので下記のような
効果を奏する。

【００９０】請求項１に記載の発明によれば、光学部品
を構成する基材の内部吸収率は一般的に減少する傾向を
示すが、２００ｎｍから４２０ｎｍの波長領域の中にあ
る特定透過光の波長で、光学部品の前記内部吸収率を低
くしたので、光入射面の反射率及び光出射面の反射率を
低くすると、その合成により透過率の高い光学部品とな
る。透過率が高くなると、例えば、レーザー光を使用す
る光学装置の光学系に本発明の光学部品を使用すると、
光量損失が少なく信号レベルが大きくなり、ノイズレベ
ルの比率が下がり、動作等が安定するようになる。

【００９１】請求項２、３に記載の発明によれば、基材
の表面に反射防止コートを施し、光学部品の内部吸収率
を低くしたので、安価で、品質が安定し、透過率が高
く、傷やほこりが付着しにくくできる。

【００９２】請求項４から７に記載の発明によれば、簡
易な基材と反射防止コートの構成により、安価で、品質
が安定して、請求項２、３の効果と同様の効果を得る。

【００９３】請求項８、９、１０に記載の発明によれ
ば、記載された反射防止コート材料を使用することによ
り、内部吸収率及び表面反射率の低い光学部品となり、
安価で、品質が安定し、透過率を高くできる。

【００９４】請求項１１に記載の発明によれば、位置決
め調整に使用する光源波長に対して反射率を所定以上に
したので、上記の請求項１から１０の効果に加え、位置
決め調整がし易くなる。

【００９５】請求項１２から１６に記載の発明によれ
ば、簡易な基材と反射防止コートの構成により、安価
で、品質が安定し、透過率を高くできる。

【００９６】請求項１７、１８、１９に記載の発明によ
れば、記載された反射防止コート材料を使用することに
より、内部吸収率及び表面反射率の低い光学部品とな
り、安価で、品質が安定し、透過率を高くできる。

【００９７】請求項２０に記載の発明によれば、位置決
め調整に使用する光源波長に対して反射率を所定以上に
したので、上記の請求項１２から１９の効果に加え、位
置決め調整がし易くなる。

【００９８】請求項２１に記載の発明によれば、本発明
の光学部品を光学装置に用いて、透過光量損失を少なく
して高精度の光学装置になる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の光学部品の説明図である。

【図２】本発明の反射防止コートを有する光学部品の説
明図である。

【図３】反射防止コートの積層構造の説明図である。

【図４】本発明の光学部品の位置決め調整の説明図であ
る。

【図５】実施例１の光学部品の透過率、反射率を示す図
である。

【図６】実施例２の光学部品の透過率、反射率を示す図
である。

【図７】実施例３の光学部品の透過率、反射率を示す図
である。

【図８】実施例４の光学部品の透過率、反射率を示す図
である。

【図９】実施例５の光学部品の透過率、反射率を示す図
である。

【図１０】実施例６の光学部品の透過率、反射率を示す
図である。

【図１１】本発明の光学装置に係わる光学系の構成を示
す説明図である。

【符号の説明】

Ｐ光学部品（レンズ）Ｂ基材Ｓ₁ 光入射面Ｓ₂ 光出射面Ｔ（λ₀）：波長λ₀における光学部品の透過率（％）Ｒ₁（λ₀）：波長λ₀における光入射面の反射率（％）Ｒ₂（λ₀）：波長λ₀における光出射面の反射率（％）ｄ₁、ｄ₂、ｄ₃：１層目、２層目、３層目の膜厚

フロントページの続きＦターム(参考） 2K009 AA05 AA06 BB02 BB14 CC03 CC06 DD03 4F100 AA05C AA05D AA17B AA19C AA20D AA21B AA27B AG00A AK01A AT00A BA02 BA03 BA04 BA10A BA10C BA10D JN01 JN18B JN18C YY00

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】光を光入射面より基材に入射し、入射し
た光を前記基材の光出射面より出射する光透過型の光学
部品において、２００ｎｍ〜４５０ｎｍの波長領域で、
下記の条件を満足することを特徴とする光学部品。０≦１００−Ｔ（λ₀）−Ｒ₁（λ₀）−Ｒ₂（λ₀）≦８但し、 λ₀：２００ｎｍから４５０ｎｍの波長領域の中にある
特定透過光の波長Ｔ（λ₀）：波長λ₀における光学部品の透過率（％）Ｒ₁（λ₀）：波長λ₀における光入射面の反射率（％）Ｒ₂（λ₀）：波長λ₀における光出射面の反射率（％）
【請求項２】光を光入射面より基材に入射し、入射し
た光を前記基材の光出射面より出射する光透過型の光学
部品において、前記光入射面、および／または、前記光
出射面に少なくとも反射防止コートを面上に形成し、且
つ、２００ｎｍ〜４５０ｎｍの波長領域で、下記の条件
を満足することを特徴とする光学部品。０≦１００−Ｔ（λ₀）−Ｒ₁（λ₀）−Ｒ₂（λ₀）≦８但し、 λ₀：２００ｎｍから４５０ｎｍの波長領域の中にある
特定透過光の波長Ｔ（λ₀）：波長λ₀における光学部品の透過率（％）Ｒ₁（λ₀）：波長λ₀における光入射面の反射率（％）Ｒ₂（λ₀）：波長λ₀における光出射面の反射率（％）
【請求項３】前記光入射面、および／または、前記光
出射面に形成した前記反射防止コートは、１層コート、
２層コート、または、３層コートの積層からなり、さら
に、各層の材料が高屈折率材料、中屈折率材料、また
は、低屈折率材料であることを特徴とする請求項２に記
載の光学部品。
【請求項４】基材に最も近い反射防止コートの層より
１層目、２層目と表したとき、反射防止コートの積層構
成を下記のごとくしたことを特徴とする請求項２または
３に記載の光学部品。１層目：高屈折率材料からなる層とし、１．８０≦ｎ₁（λ₀）０．０７≦ｎ₁（λ₀）・ｄ₁／λ₀≦０．１８２層目：低屈折率材料からなる層とし、ｎ₂（λ₀）＜１．５００．２６≦ｎ₂（λ₀）・ｄ₂／λ₀≦０．３６但し、ｎ₁、ｎ₂：波長λ₀での１層目、２層目の屈折率ｄ₁、ｄ₂：１層目の膜厚、２層目の膜厚ｎ₁（λ₀）・ｄ₁：波長λ₀での１層目の光学膜厚ｎ₂（λ₀）・ｄ₂：波長λ₀での２層目の光学膜厚 λ₀：２００ｎｍから４５０ｎｍの波長領域の中にある
特定透過光の波長
【請求項５】基材に最も近い反射防止コートの層より
１層目、２層目と表したとき、反射防止コートの積層構
成を下記のごとくしたことを特徴とする請求項２または
３に記載の光学部品。１層目：中屈折率材料からなる層とし、１．５０≦ｎ₁（λ₀）＜１．８００．１７≦ｎ₁（λ₀）・ｄ₁／λ₀≦０．２３２層目：低屈折率材料からなる層とし、ｎ₂（λ₀）＜１．５００．２４≦ｎ₂（λ₀）・ｄ₂／λ₀≦０．３０但し、ｎ₁、ｎ₂：波長λ₀での１層目、２層目の屈折率ｄ₁、ｄ₂：１層目の膜厚、２層目の膜厚ｎ₁（λ₀）・ｄ₁：波長λ₀での１層目の光学膜厚ｎ₂（λ₀）・ｄ₂：波長λ₀での２層目の光学膜厚 λ₀：２００ｎｍから４５０ｎｍの波長領域の中にある
特定透過光の波長
【請求項６】基材に最も近い反射防止コートの層より
１層目、２層目、３層目と表したとき、反射防止コート
の積層構成を下記のごとくしたことを特徴とする請求項
２または３に記載の光学部品。１層目：低屈折率材料からなる層とし、ｎ₁（λ₀）≦１．５００．０１≦ｎ₁（λ₀）・ｄ₁／λ₀≦１．０２層目：高屈折率材料からなる層とし、１．８０≦ｎ₂（λ₀）０．０７≦ｎ₂（λ₀）・ｄ₂／λ₀≦０．１８３層目：低屈折率材料からなる層とし、ｎ₃（λ₀）≦１．５００．２６≦ｎ₃（λ₀）・ｄ₃／λ₀≦０．３６但し、ｎ₁、ｎ₂、ｎ₃：波長λ₀での１層目、２層目、３層目の
屈折率ｄ₁、ｄ₂、ｄ₃：１層目、２層目、３層目の膜厚ｎ₁（λ₀）・ｄ₁：波長λ₀での１層目の光学膜厚ｎ₂（λ₀）・ｄ₂：波長λ₀での２層目の光学膜厚ｎ₃（λ₀）・ｄ₃：波長λ₀での３層目の光学膜厚 λ₀：２００ｎｍから４５０ｎｍの波長領域の中にある
特定透過光の波長
【請求項７】基材に最も近い反射防止コートの層より
１層目、２層目、３層目と表したとき、反射防止コート
の積層構成を下記のごとくしたことを特徴とする請求項
２または３に記載の光学部品。１層目：低屈折率材料からなる層とし、ｎ₁（λ₀）≦１．５００．０１≦ｎ₁（λ₀）・ｄ₁／λ₀≦１．０２層目：中屈折率材料からなる層とし、１．５０≦ｎ₂（λ₀）≦１．８００．１７≦ｎ₂（λ₀）・ｄ₂／λ₀≦０．２３３層目：低屈折率材料からなる層とし、ｎ₃（λ₀）≦１．５００．２４≦ｎ₃（λ₀）・ｄ₃／λ₀≦０．３０但し、ｎ₁、ｎ₂、ｎ₃：波長λ₀での１層目、２層目、３層目の
屈折率ｄ₁、ｄ₂、ｄ₃：１層目、２層目、３層目の膜厚ｎ₁（λ₀）・ｄ₁：波長λ₀での１層目の光学膜厚ｎ₂（λ₀）・ｄ₂：波長λ₀での２層目の光学膜厚ｎ₃（λ₀）・ｄ₃：波長λ₀での３層目の光学膜厚 λ₀：２００ｎｍから４５０ｎｍの波長領域の中にある
特定透過光の波長
【請求項８】前記高屈折率材料は、酸化イットリウ
ム、サブスタンスＭ３、酸化ハニウム、酸化ジルコニウ
ム、酸化タンタル、または、酸化チタンからなることを
特徴とする請求項３、４、又は６に記載の光学部品。
【請求項９】前記中屈折率材料は、フッ化ランタン、
フッ化（ＮｄＦ₂）、フッ化セリウム、フッ化アルミニ
ウム、サブスタンスＭ２、フッ化ナマリ、酸化イットリ
ウム、または、酸化アルミニウムからなることを特徴と
する請求項３、５、又は７に記載の光学部品。
【請求項１０】前記低屈折率材料は、酸化シリコン、
または、フッ化マグネシウムからなることを特徴とする
請求項３、４、５、６、又は７に記載の光学部品。
【請求項１１】請求項１から１０のいずれか１項に記
載の光学部品において、６３５ｎｍ波長に対する光出射
面の反射率をＲ₂（λ₆₃₅）としたとき、前記Ｒ
₂（λ₆₃₅）が２．０以上であることを特徴とする光学部
品。
【請求項１２】光を光入射面より基材に入射し、入射
した光を前記基材の光出射面より出射する光透過型の光
学部品において、２００ｎｍから４５０ｎｍの波長領域
の中にある特定透過光の波長で、反射防止コート前の同
一波長の透過率より透過率をさらに高くする反射防止コ
ートを前記光入射面および／または前記光出射面に形成
し、前記反射防止コートが１層コート、２層コート、又
は３層コートの積層からなり、さらに各層の材料が高屈
折率材料、中屈折率材料、または、低屈折率材料である
ことを特徴とする光学部品。
【請求項１３】基材に最も近い反射防止コートの層よ
り１層目、２層目と表したとき、反射防止コートの積層
構成を下記のごとくしたことを特徴とする請求項１２に
記載の光学部品。１層目：高屈折率材料からなる層とし、１．８０≦ｎ₁（λ₀）０．０７≦ｎ₁（λ₀）・ｄ₁／λ₀≦０．１８２層目：低屈折率材料からなる層とし、ｎ₂（λ₀）＜１．５００．２６≦ｎ₂（λ₀）・ｄ₂／λ₀≦０．３６但し、ｎ₁、ｎ₂：波長λ₀での１層目、２層目の屈折率ｄ₁、ｄ₂：１層目の膜厚、２層目の膜厚ｎ₁（λ₀）・ｄ₁：波長λ₀での１層目の光学膜厚ｎ₂（λ₀）・ｄ₂：波長λ₀での２層目の光学膜厚 λ₀：２００ｎｍから４５０ｎｍの波長領域の中にある
特定透過光の波長
【請求項１４】基材に最も近い反射防止コートの層よ
り１層目、２層目と表したとき、反射防止コートの積層
構成を下記のごとくしたことを特徴とする請求項１２に
記載の光学部品。１層目：中屈折率材料からなる層とし、１．５０≦ｎ₁（λ₀）＜１．８００．１７≦ｎ₁（λ₀）・ｄ₁／λ₀≦０．２３２層目：低屈折率材料からなる層とし、ｎ₂（λ₀）＜１．５００．２４≦ｎ₂（λ₀）・ｄ₂／λ₀≦０．３０但し、ｎ₁、ｎ₂：波長λ₀での１層目、２層目の屈折率ｄ₁、ｄ₂：１層目の膜厚、２層目の膜厚ｎ₁（λ₀）・ｄ₁：波長λ₀での１層目の光学膜厚ｎ₂（λ₀）・ｄ₂：波長λ₀での２層目の光学膜厚 λ₀：２００ｎｍから４５０ｎｍの波長領域の中にある
特定透過光の波長
【請求項１５】基材に最も近い反射防止コートの層よ
り１層目、２層目、３層目と表したとき、反射防止コー
トの積層構成を下記のごとくしたことを特徴とする請求
項１２に記載の光学部品。１層目：低屈折率材料からなる層とし、ｎ₁（λ₀）≦１．５００．０１≦ｎ₁（λ₀）・ｄ₁／λ₀≦１．０２層目：高屈折率材料からなる層とし、１．８０≦ｎ₂（λ₀）０．０７≦ｎ₂（λ₀）・ｄ₂／λ₀≦０．１８３層目：低屈折率材料からなる層とし、ｎ₃（λ₀）≦１．５００．２６≦ｎ₃（λ₀）・ｄ₃／λ₀≦０．３６但し、ｎ₁、ｎ₂、ｎ₃：波長λ₀での１層目、２層目、３層目の
屈折率ｄ₁、ｄ₂、ｄ₃：１層目、２層目、３層目の膜厚ｎ₁（λ₀）・ｄ₁：波長λ₀での１層目の光学膜厚ｎ₂（λ₀）・ｄ₂：波長λ₀での２層目の光学膜厚ｎ₃（λ₀）・ｄ₃：波長λ₀での３層目の光学膜厚 λ₀：２００ｎｍから４５０ｎｍの波長領域の中にある
特定透過光の波長
【請求項１６】基材に最も近い反射防止コートの層よ
り１層目、２層目、３層目と表したとき、反射防止コー
トの積層構成を下記のごとくしたことを特徴とする請求
項１２に記載の光学部品。１層目：低屈折率材料からなる層とし、ｎ₁（λ₀）≦１．５００．０１≦ｎ₁（λ₀）・ｄ₁／λ₀≦１．０２層目：中屈折率材料からなる層とし、１．５０≦ｎ₂（λ₀）≦１．８０３層目：低屈折率材料からなる層とし、ｎ₃（λ₀）≦１．５００．２４≦ｎ₃（λ₀）・ｄ₃／λ₀≦０．３０但し、ｎ₁、ｎ₂、ｎ₃：波長λ₀での１層目、２層目、３層目の
屈折率ｄ₁、ｄ₂、ｄ₃：１層目、２層目、３層目の膜厚ｎ₁（λ₀）・ｄ₁：波長λ₀での１層目の光学膜厚ｎ₂（λ₀）・ｄ₂：波長λ₀での２層目の光学膜厚ｎ₃（λ₀）・ｄ₃：波長λ₀での３層目の光学膜厚 λ₀：２００ｎｍから４５０ｎｍの波長領域の中にある
特定透過光の波長
【請求項１７】前記高屈折率材料は、酸化イットリウ
ム、サブスタンスＭ３、酸化ハニウム、酸化ジルコニウ
ム、酸化タンタル、または、酸化チタンからなることを
特徴とする請求項１２、１３、又は１５に記載の光学部
品。
【請求項１８】前記中屈折率材料は、フッ化ランタ
ン、フッ化（ＮｄＦ₂）、フッ化セリウム、フッ化アル
ミニウム、サブスタンスＭ２、フッ化ナマリ、酸化イッ
トリウム、または、酸化アルミニウムからなることを特
徴とする請求項１２、１４、又は１６に記載の光学部
品。
【請求項１９】前記低屈折率材料は、酸化シリコン、
または、フッ化マグネシウムからなることを特徴とする
請求項１２、１３、１４、１５、又は１６に記載の光学
部品。
【請求項２０】請求項１２から１９のいずれか１項に
記載の光学部品において、６３５ｎｍ波長に対する光出
射面の反射率をＲ₂（λ₆₃₅）としたとき、前記Ｒ₂（λ
₆₃₅）が２．０以上であることを特徴とする光学部品。
【請求項２１】前記請求項１から２０のいずれか１項
に記載の光学部品を用いたことを特徴とする光学装置。