JP2002047292A - フェニルボロン酸類およびトリフェニルボロキシン類の製造方法 - Google Patents
フェニルボロン酸類およびトリフェニルボロキシン類の製造方法Info
- Publication number
- JP2002047292A JP2002047292A JP2000227107A JP2000227107A JP2002047292A JP 2002047292 A JP2002047292 A JP 2002047292A JP 2000227107 A JP2000227107 A JP 2000227107A JP 2000227107 A JP2000227107 A JP 2000227107A JP 2002047292 A JP2002047292 A JP 2002047292A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- represented
- following formula
- phenyl
- solvent
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Abstract
(57)【要約】
【課題】 有用なフェニルボロン酸およびトリフェニル
ボロキシンを高収率かつ低コストで製造する方法を提供
すること。 【解決手段】 下記式１で示されるフェニルグリニャー
ル試薬と、非エーテル系芳香族溶剤に溶解された下記式
２で示されるホウ酸エステルとを、−１０〜＋１５℃で
反応させることにより、下記式３で示されるフェニルボ
ロン酸類を得る。さらにこのフェニルボロン酸類を脱水
することにより下記式４で示されるトリフェニルボロキ
シン類を得る。 【化１】 （式中、R1は２位、３位、４位、5位または６位の置換
基であり、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アル
コキシ基、ハロゲン原子を示す。ｎは１または２であ
り、n=2の場合、各R1は同一でもあるいは異なってもよ
い。R2は、アルキル基、フェニル基を示す。Xは、塩
素、臭素原子を示す。） また、前記非エーテル系芳香族溶剤は、トルエンまたは
ベンゼン、あるいはこれらの混合物を使用するのが好ま
しい。
ボロキシンを高収率かつ低コストで製造する方法を提供
すること。 【解決手段】 下記式１で示されるフェニルグリニャー
ル試薬と、非エーテル系芳香族溶剤に溶解された下記式
２で示されるホウ酸エステルとを、−１０〜＋１５℃で
反応させることにより、下記式３で示されるフェニルボ
ロン酸類を得る。さらにこのフェニルボロン酸類を脱水
することにより下記式４で示されるトリフェニルボロキ
シン類を得る。 【化１】 （式中、R1は２位、３位、４位、5位または６位の置換
基であり、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アル
コキシ基、ハロゲン原子を示す。ｎは１または２であ
り、n=2の場合、各R1は同一でもあるいは異なってもよ
い。R2は、アルキル基、フェニル基を示す。Xは、塩
素、臭素原子を示す。） また、前記非エーテル系芳香族溶剤は、トルエンまたは
ベンゼン、あるいはこれらの混合物を使用するのが好ま
しい。
Description
【０００１】
【発明の技術分野】本発明は、フェニルボロン酸類およ
びトリフェニルボロキシン類の製造方法に関するもので
ある。より詳しくは、本発明はビフェニル化合物などの
合成原料としても有用なフェニルボロン酸類およびトリ
フェニルボロキシン類を安価に大量に製造する方法に関
するものである。
びトリフェニルボロキシン類の製造方法に関するもので
ある。より詳しくは、本発明はビフェニル化合物などの
合成原料としても有用なフェニルボロン酸類およびトリ
フェニルボロキシン類を安価に大量に製造する方法に関
するものである。
【０００２】
【発明の技術的背景】フェニルボロン酸類およびトリフ
ェニルボロキシン類は、たとえば各種ビフェニル化合物
などを合成する際の出発物質となるために重要な化合物
である。これらの化合物の合成方法は、Organic Synthe
ses，Coll. Vol.IV, p68, John Wiley & Sons (196
3)に記載された方法が知られている。この文献に記載さ
れた方法では、アルキルボレートとフェニルグリニャー
ル試薬とを反応させてフェニルボロン酸を得ているが、
この反応は反応選択性が悪く、しかも温度により著しい
影響を受けやすい。すなわち、温度が高いとアルキルボ
レート１当量に対してフェニルグリニャール試薬が２当
量または３当量反応してしまい、ジフェニルボリン酸、
トリフェニルボランが生成する結果となる。このことか
ら選択性よくフェニルボロン酸類を得るためには、エー
テル溶媒中で、−６０℃以下の温度で反応を行わなけれ
ばならない。しかしながら、合成のスケールを拡大し、
このような極低温で工業的に実施するためには、反応の
間、極低温に維持するための特殊な装置を必要とするこ
とから著しい困難さを伴う。したがって、工業的規模で
フェニルボロン酸およびトリフェニルボロキシンを製造
する場合、その採算性は満足できるものではなかった。
ェニルボロキシン類は、たとえば各種ビフェニル化合物
などを合成する際の出発物質となるために重要な化合物
である。これらの化合物の合成方法は、Organic Synthe
ses，Coll. Vol.IV, p68, John Wiley & Sons (196
3)に記載された方法が知られている。この文献に記載さ
れた方法では、アルキルボレートとフェニルグリニャー
ル試薬とを反応させてフェニルボロン酸を得ているが、
この反応は反応選択性が悪く、しかも温度により著しい
影響を受けやすい。すなわち、温度が高いとアルキルボ
レート１当量に対してフェニルグリニャール試薬が２当
量または３当量反応してしまい、ジフェニルボリン酸、
トリフェニルボランが生成する結果となる。このことか
ら選択性よくフェニルボロン酸類を得るためには、エー
テル溶媒中で、−６０℃以下の温度で反応を行わなけれ
ばならない。しかしながら、合成のスケールを拡大し、
このような極低温で工業的に実施するためには、反応の
間、極低温に維持するための特殊な装置を必要とするこ
とから著しい困難さを伴う。したがって、工業的規模で
フェニルボロン酸およびトリフェニルボロキシンを製造
する場合、その採算性は満足できるものではなかった。
【０００３】一方、WO９９／６４４２８号公報には、フ
ェニルグリニャール試薬とアルキルボレートとを1：1.5
の比率で、エーテル系溶媒であるテトラヒドロフラン
（THF）溶剤中で、−10〜0℃で反応させ、フェニルボロ
ン酸が収率50〜70％で得られたことが記載されている。
しかし、この方法では、フェニルグリニャール試薬に対
してアルキルボレートを過剰に使用するために製造コス
トがかさむという問題があり、収率の点でもまだ改良の
余地があった。
ェニルグリニャール試薬とアルキルボレートとを1：1.5
の比率で、エーテル系溶媒であるテトラヒドロフラン
（THF）溶剤中で、−10〜0℃で反応させ、フェニルボロ
ン酸が収率50〜70％で得られたことが記載されている。
しかし、この方法では、フェニルグリニャール試薬に対
してアルキルボレートを過剰に使用するために製造コス
トがかさむという問題があり、収率の点でもまだ改良の
余地があった。
【０００４】本発明者らは上記の問題点を解決すべく鋭
意研究を重ねたところ、フェニルグリニャール試薬と、
非エーテル系芳香族溶剤に溶解されたホウ酸エステルと
を反応させると、驚くべきことに−10〜＋15℃の温度で
反応を行っても選択性よく反応が進行し、フェニルボロ
ン酸およびトリフェニルボロキシンが極めて高収量で得
られることなどを見出して、本発明を完成するに至っ
た。しかも反応の際には、特殊な低温反応用の設備は必
要とせず、フェニルボロン酸類およびトリフェニルボロ
キシン類を工業的に安価にしかも容易に製造することが
実現できる。
意研究を重ねたところ、フェニルグリニャール試薬と、
非エーテル系芳香族溶剤に溶解されたホウ酸エステルと
を反応させると、驚くべきことに−10〜＋15℃の温度で
反応を行っても選択性よく反応が進行し、フェニルボロ
ン酸およびトリフェニルボロキシンが極めて高収量で得
られることなどを見出して、本発明を完成するに至っ
た。しかも反応の際には、特殊な低温反応用の設備は必
要とせず、フェニルボロン酸類およびトリフェニルボロ
キシン類を工業的に安価にしかも容易に製造することが
実現できる。
【０００５】
【発明の目的】本発明の目的は、フェニルボロン酸類お
よびトリフェニルボロキシン類を高収率かつ低コストで
容易に製造する方法を提供することである。
よびトリフェニルボロキシン類を高収率かつ低コストで
容易に製造する方法を提供することである。
【０００６】
【発明の概要】本発明は、下記式１で示されるフェニル
グリニャール試薬と、非エーテル系芳香族溶剤に溶解さ
れた下記式２で示されるホウ酸エステルとを、−１０〜
＋１５℃で反応させることにより、下記式３で示される
フェニルボロン酸類を得ることを特徴としている。
グリニャール試薬と、非エーテル系芳香族溶剤に溶解さ
れた下記式２で示されるホウ酸エステルとを、−１０〜
＋１５℃で反応させることにより、下記式３で示される
フェニルボロン酸類を得ることを特徴としている。
【０００７】
【化３】
【０００８】（式中、R1は２位、３位、４位、5位また
は６位の置換基であり、水素原子、アルキル基、アルケ
ニル基、アルコキシ基、ハロゲン原子を示す。ｎは１ま
たは２であり、n=2の場合、各R1は同一でもあるいは異
なってもよい。R2は、アルキル基、フェニル基を示す。
Xは、塩素、臭素原子を示す。） また、本発明は、下記式１で示されるフェニルグリニャ
ール試薬と、非エーテル系芳香族溶剤に溶解された下記
式２で示されるホウ酸エステルとを、−１０〜＋１５℃
で反応させることにより、下記式３で示されるフェニル
ボロン酸類を生成させ、次いでこのフェニルボロン酸類
を脱水することにより下記式４で示されるトリフェニル
ボロキシン類を得ることを特徴としている。
は６位の置換基であり、水素原子、アルキル基、アルケ
ニル基、アルコキシ基、ハロゲン原子を示す。ｎは１ま
たは２であり、n=2の場合、各R1は同一でもあるいは異
なってもよい。R2は、アルキル基、フェニル基を示す。
Xは、塩素、臭素原子を示す。） また、本発明は、下記式１で示されるフェニルグリニャ
ール試薬と、非エーテル系芳香族溶剤に溶解された下記
式２で示されるホウ酸エステルとを、−１０〜＋１５℃
で反応させることにより、下記式３で示されるフェニル
ボロン酸類を生成させ、次いでこのフェニルボロン酸類
を脱水することにより下記式４で示されるトリフェニル
ボロキシン類を得ることを特徴としている。
【０００９】
【化４】
【００１０】（式中、R1は２位、３位、４位、5位また
は６位の置換基であり、水素原子、アルキル基、アルケ
ニル基、アルコキシ基、ハロゲン原子を示す。ｎは１ま
たは２であり、n=2の場合、各R1は同一でもあるいは異
なってもよい。R2は、アルキル基、フェニル基を示す。
Xは、塩素、臭素原子を示す。） また、本発明による製造方法において、前記非エーテル
系芳香族溶剤が、トルエンまたはベンゼン、あるいはこ
れらの混合物であることが好ましい。
は６位の置換基であり、水素原子、アルキル基、アルケ
ニル基、アルコキシ基、ハロゲン原子を示す。ｎは１ま
たは２であり、n=2の場合、各R1は同一でもあるいは異
なってもよい。R2は、アルキル基、フェニル基を示す。
Xは、塩素、臭素原子を示す。） また、本発明による製造方法において、前記非エーテル
系芳香族溶剤が、トルエンまたはベンゼン、あるいはこ
れらの混合物であることが好ましい。
【００１１】
【発明の具体的説明】本発明のフェニルボロン酸類およ
びトリフェニルボロキシン類の製造方法では、下記式１
で示されるフェニルグリニャール試薬と、非エーテル系
芳香族溶剤に溶解された下記式２で示されるホウ酸エス
テル（ボレート化合物）とを、−１０〜＋１５℃で反応
させることにより下記式３で示されるフェニルボロン酸
類を生成させるとともに、さらにこのフェニルボロン酸
類を脱水することにより下記式４で示されるトリフェニ
ルボロキシン類を得ている。
びトリフェニルボロキシン類の製造方法では、下記式１
で示されるフェニルグリニャール試薬と、非エーテル系
芳香族溶剤に溶解された下記式２で示されるホウ酸エス
テル（ボレート化合物）とを、−１０〜＋１５℃で反応
させることにより下記式３で示されるフェニルボロン酸
類を生成させるとともに、さらにこのフェニルボロン酸
類を脱水することにより下記式４で示されるトリフェニ
ルボロキシン類を得ている。
【００１２】
【化５】
【００１３】（式中、R1は２位、３位、４位、5位また
は６位の置換基であり、水素原子、アルキル基、アルケ
ニル基、アルコキシ基、ハロゲン原子を示す。ｎは１ま
たは２であり、n=2の場合、各R1は同一でもあるいは異
なってもよい。R2は、アルキル基、フェニル基を示す。
Xは、塩素、臭素原子を示す。） なお、本発明においては、上記（３）と（４）をともに
製造する場合に限られず、（１）と（２）から（３）の
みを製造する態様、および（１）と（２）から（３）を
製造してさらにこれを脱水して（４）のみを得る態様も
包含される。
は６位の置換基であり、水素原子、アルキル基、アルケ
ニル基、アルコキシ基、ハロゲン原子を示す。ｎは１ま
たは２であり、n=2の場合、各R1は同一でもあるいは異
なってもよい。R2は、アルキル基、フェニル基を示す。
Xは、塩素、臭素原子を示す。） なお、本発明においては、上記（３）と（４）をともに
製造する場合に限られず、（１）と（２）から（３）の
みを製造する態様、および（１）と（２）から（３）を
製造してさらにこれを脱水して（４）のみを得る態様も
包含される。
【００１４】前記非エーテル系芳香族溶剤とは、エーテ
ル結合を含まない芳香族溶剤を言い、ベンゼン又はトル
エンのいずれか１種、またはベンゼンとトルエンの２種
の混合溶剤が好ましく、特にトルエンが望ましい。この
ように本発明においては、フェニルボロン酸類、さらに
トリフェニルボロキシン類の合成において、溶解または
希釈用の溶剤として非エーテル系溶剤のトルエンあるい
はベンゼンなどを使用することにより、常温に近い−１
０〜＋１５℃で反応させているにもかかわらず、予想外
の高収率で上記目的化合物を得ている。式３で示される
フェニルボロン酸類のベンゼン環に結合する置換基の数
および種類は，フェニルグリニャール試薬（１）のもと
となるハロゲン化合物（５）においてその置換基の数お
よび種類を選択することとなる。以下、本発明で用いら
れるフェニルグリニャール試薬（１）およびホウ酸エス
テル（２）、反応条件などについて、さらに具体的に説
明する。フェニルグリニャール試薬（１） 一般式１で示されるフェニルグリニャール試薬におい
て、R1は２位、３位、４位、5位または６位の置換基で
ある。ｎは１または２であり、ｎ＝２の場合、各R 1は同
一でもあるいは異なってもよい。R1がアルキル基である
場合は、炭素数が１〜１６、好ましくは１〜１０である
ことが望ましく、具体的にはメチル基、エチル基、ｎ−
プロピル基、ｎ−ブチル基などが挙げられる。R1がアル
ケニル基である場合には、炭素数が１〜１６、好ましく
は１〜１０であることが望ましく、たとえば、エテニル
基、プロペニル基、ブテニル基などが挙げられる。R1が
アルコキシ基である場合には、総炭素数が１〜１６、好
ましくは１〜１０であることが望ましく、具体的にはメ
トキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｎ−ブトキ
シ基、ｔ−ブトキシ基などが挙げられる。R1がハロゲン
原子である場合には、具体的には、塩素、フッ素、臭素
などが挙げられる。このようなフェニルグリニャール試
薬(1)として、具体的には、フェニルマグネシウムブロ
ミド、フェニルマグネシウムクロリド、４−メトキシフ
ェニルマグネシウムクロリド、2，6−ジメチルフェニル
マグネシウムブロミドなどを例示できる。
ル結合を含まない芳香族溶剤を言い、ベンゼン又はトル
エンのいずれか１種、またはベンゼンとトルエンの２種
の混合溶剤が好ましく、特にトルエンが望ましい。この
ように本発明においては、フェニルボロン酸類、さらに
トリフェニルボロキシン類の合成において、溶解または
希釈用の溶剤として非エーテル系溶剤のトルエンあるい
はベンゼンなどを使用することにより、常温に近い−１
０〜＋１５℃で反応させているにもかかわらず、予想外
の高収率で上記目的化合物を得ている。式３で示される
フェニルボロン酸類のベンゼン環に結合する置換基の数
および種類は，フェニルグリニャール試薬（１）のもと
となるハロゲン化合物（５）においてその置換基の数お
よび種類を選択することとなる。以下、本発明で用いら
れるフェニルグリニャール試薬（１）およびホウ酸エス
テル（２）、反応条件などについて、さらに具体的に説
明する。フェニルグリニャール試薬（１） 一般式１で示されるフェニルグリニャール試薬におい
て、R1は２位、３位、４位、5位または６位の置換基で
ある。ｎは１または２であり、ｎ＝２の場合、各R 1は同
一でもあるいは異なってもよい。R1がアルキル基である
場合は、炭素数が１〜１６、好ましくは１〜１０である
ことが望ましく、具体的にはメチル基、エチル基、ｎ−
プロピル基、ｎ−ブチル基などが挙げられる。R1がアル
ケニル基である場合には、炭素数が１〜１６、好ましく
は１〜１０であることが望ましく、たとえば、エテニル
基、プロペニル基、ブテニル基などが挙げられる。R1が
アルコキシ基である場合には、総炭素数が１〜１６、好
ましくは１〜１０であることが望ましく、具体的にはメ
トキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｎ−ブトキ
シ基、ｔ−ブトキシ基などが挙げられる。R1がハロゲン
原子である場合には、具体的には、塩素、フッ素、臭素
などが挙げられる。このようなフェニルグリニャール試
薬(1)として、具体的には、フェニルマグネシウムブロ
ミド、フェニルマグネシウムクロリド、４−メトキシフ
ェニルマグネシウムクロリド、2，6−ジメチルフェニル
マグネシウムブロミドなどを例示できる。
【００１５】一般式１で表されるフェニルグリニャール
試薬は、通常のグリニャール試薬と同様の調製法で得ら
れるが、たとえば、活性化した金属マグネシウムを無水
テトラヒドロフラン（THF）中で撹拌しつつ、前記一般
式５で示されるハロゲン化合物を２０℃ないし溶剤の還
流温度で滴下し、さらに１〜８時間撹拌することにより
得られる。一般式５で示されるハロゲン化合物のハロゲ
ンとしては、臭素が特に好ましいが、塩素でもよい。ま
た、この時に使用される溶剤は、芳香族系溶剤との混合
物であっても何ら差し支えない。ホウ酸エステル（２） 一般式２で示されるホウ酸エステル、B(O R2)3におい
て、R2がアルキル基の場合には、炭素数が１〜１６、好
ましくは１〜１０であることが望ましく、具体的にはメ
チル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｎ
−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基などが挙げられる。この
ホウ酸エステル（２）は、たとえば、アルコールR2OHま
たはナトリウムアルコキシドR2ONaとホウ酸または無水
ホウ酸との反応により容易に合成できる。このようなホ
ウ酸エステル(2)として、具体的には、トリメチルボレ
ート、トリエチルボレート、トリブチルボレート、トリ
フェニルボレートなどが例示できる。フェニルグリニャール試薬(1)とホウ酸エステル(2)との
反応 一般式１で表されるフェニルグリニャール試薬と、一般
式２で表されるホウ酸エステルとの反応に際して、フェ
ニルグリニャール試薬１モルに対して、ホウ酸エステル
が0.1〜５モル、好ましくは0.8〜1.5モルの量を用い
る。フェニルグリニャール試薬(1)とホウ酸エステル(2)
とを交互に反応器中の冷却した溶剤に滴下するか、ある
いは冷却したホウ酸エステル溶液にフェニルグリニャー
ル試薬を滴下してもよい。
試薬は、通常のグリニャール試薬と同様の調製法で得ら
れるが、たとえば、活性化した金属マグネシウムを無水
テトラヒドロフラン（THF）中で撹拌しつつ、前記一般
式５で示されるハロゲン化合物を２０℃ないし溶剤の還
流温度で滴下し、さらに１〜８時間撹拌することにより
得られる。一般式５で示されるハロゲン化合物のハロゲ
ンとしては、臭素が特に好ましいが、塩素でもよい。ま
た、この時に使用される溶剤は、芳香族系溶剤との混合
物であっても何ら差し支えない。ホウ酸エステル（２） 一般式２で示されるホウ酸エステル、B(O R2)3におい
て、R2がアルキル基の場合には、炭素数が１〜１６、好
ましくは１〜１０であることが望ましく、具体的にはメ
チル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｎ
−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基などが挙げられる。この
ホウ酸エステル（２）は、たとえば、アルコールR2OHま
たはナトリウムアルコキシドR2ONaとホウ酸または無水
ホウ酸との反応により容易に合成できる。このようなホ
ウ酸エステル(2)として、具体的には、トリメチルボレ
ート、トリエチルボレート、トリブチルボレート、トリ
フェニルボレートなどが例示できる。フェニルグリニャール試薬(1)とホウ酸エステル(2)との
反応 一般式１で表されるフェニルグリニャール試薬と、一般
式２で表されるホウ酸エステルとの反応に際して、フェ
ニルグリニャール試薬１モルに対して、ホウ酸エステル
が0.1〜５モル、好ましくは0.8〜1.5モルの量を用い
る。フェニルグリニャール試薬(1)とホウ酸エステル(2)
とを交互に反応器中の冷却した溶剤に滴下するか、ある
いは冷却したホウ酸エステル溶液にフェニルグリニャー
ル試薬を滴下してもよい。
【００１６】反応は溶剤中で、−10〜15℃、好ましく
は、常圧下−10〜0℃の温度で、30分から30時間、好ま
しくは３時間から10時間撹拌することが望ましい。反応
温度を上記範囲より低下させるとフェニルボロン酸類
(3)またはトリフェニルボロキシン類(4)の反応収率は上
がり、逆に上記範囲を超えて上昇させると反応の進行が
早まるが、反面、副成物の生成が増加して収率低下が著
しくなることから、反応温度の上限は１５℃以下にとど
めるのが好ましい。
は、常圧下−10〜0℃の温度で、30分から30時間、好ま
しくは３時間から10時間撹拌することが望ましい。反応
温度を上記範囲より低下させるとフェニルボロン酸類
(3)またはトリフェニルボロキシン類(4)の反応収率は上
がり、逆に上記範囲を超えて上昇させると反応の進行が
早まるが、反面、副成物の生成が増加して収率低下が著
しくなることから、反応温度の上限は１５℃以下にとど
めるのが好ましい。
【００１７】このような反応の際に、フェニルグリニャ
ール試薬(1)と、ベンゼン、トルエンなどの非エーテル
系芳香族溶剤により溶解または希釈したホウ酸エステル
(2)とを反応させているため、反応収率は著しく上昇す
る。上記のような特定の溶剤の使用により予想外の高収
率でフェニルボロン酸類(3)およびトリフェニルボロキ
シン類(4)を得られる点が本発明の最大の技術的特徴で
あり、本発明のように−10〜＋15℃で反応を行う場合
に、エーテル系溶剤を含む他の溶剤を使用するとかかる
高い収率を確保することはできない。すなわち、上記の
溶解または希釈をたとえばエーテル、テトラヒドロフラ
ン（THF）などのエーテル系溶剤で行うと、Organic Syn
theses，Coll. Vol.IV, p68, John Wiley & Sons
(1963)に記載されているように、反応温度が０〜15℃で
は、収率は49〜76％となってしまい、これより高収率で
得ようとすれば、−60℃という極低温を終始維持して反
応を行わなければならない。
ール試薬(1)と、ベンゼン、トルエンなどの非エーテル
系芳香族溶剤により溶解または希釈したホウ酸エステル
(2)とを反応させているため、反応収率は著しく上昇す
る。上記のような特定の溶剤の使用により予想外の高収
率でフェニルボロン酸類(3)およびトリフェニルボロキ
シン類(4)を得られる点が本発明の最大の技術的特徴で
あり、本発明のように−10〜＋15℃で反応を行う場合
に、エーテル系溶剤を含む他の溶剤を使用するとかかる
高い収率を確保することはできない。すなわち、上記の
溶解または希釈をたとえばエーテル、テトラヒドロフラ
ン（THF）などのエーテル系溶剤で行うと、Organic Syn
theses，Coll. Vol.IV, p68, John Wiley & Sons
(1963)に記載されているように、反応温度が０〜15℃で
は、収率は49〜76％となってしまい、これより高収率で
得ようとすれば、−60℃という極低温を終始維持して反
応を行わなければならない。
【００１８】本発明ではホウ酸エステル(2)を溶解また
は希釈する溶剤として、非エーテル系芳香族溶剤を使用
するが、具体的な溶剤としては、トルエン、ベンゼン、
キシレン、エチルベンゼンなどが例示さる。本発明では
好ましくはトルエン、ベンゼンが用いられ、さらに好ま
しくはトルエンが用いられる。これらの溶剤を１種また
は、２種以上組合せて使用してもよい。これらの溶剤を
使用すると、上記したように反応収率が著しく向上する
ことに加えて、たとえばトルエン（引火点；4.4℃、沸
点；110.6℃）を用いる場合には、低温引火性のエーテ
ル（引火点；−４５℃、沸点；３５℃）よりもはるかに
取り扱いやすく、しかもより安価に入手できる。トルエ
ンの使用は溶剤として再利用の点でも問題がないため、
特に大量の溶剤を使用するフェニルボロン酸類の工業的
規模の生産において、決定的な利点となる。
は希釈する溶剤として、非エーテル系芳香族溶剤を使用
するが、具体的な溶剤としては、トルエン、ベンゼン、
キシレン、エチルベンゼンなどが例示さる。本発明では
好ましくはトルエン、ベンゼンが用いられ、さらに好ま
しくはトルエンが用いられる。これらの溶剤を１種また
は、２種以上組合せて使用してもよい。これらの溶剤を
使用すると、上記したように反応収率が著しく向上する
ことに加えて、たとえばトルエン（引火点；4.4℃、沸
点；110.6℃）を用いる場合には、低温引火性のエーテ
ル（引火点；−４５℃、沸点；３５℃）よりもはるかに
取り扱いやすく、しかもより安価に入手できる。トルエ
ンの使用は溶剤として再利用の点でも問題がないため、
特に大量の溶剤を使用するフェニルボロン酸類の工業的
規模の生産において、決定的な利点となる。
【００１９】反応収量に影響を与える他の要因として、
撹拌効率があり、適切な撹拌機の選択により系全体の効
率よい撹拌を実現することが望ましい。上記のようにグ
リニャール試薬(1)とホウ酸エステル(2)とを反応させる
と、まず、（R1）nArB(OR2)2（Ar:フェニル基）で示さ
れるエステルが生成する。これを酸性条件下で、たとえ
ば希硫酸などの希鉱酸により加水分解することにより容
易にフェニルボロン酸類(3)が得られる。このフェニル
ボロン酸類を脱水すればトリフェニルボロキシン類(4)
に変わる。たとえば、フェニルボロン酸類の反応液を濃
縮したり、あるいは必要に応じて加熱脱水して無水物に
することで、あるいは共沸脱水を行うことで容易にトリ
フェニルボロキシン類となる。
撹拌効率があり、適切な撹拌機の選択により系全体の効
率よい撹拌を実現することが望ましい。上記のようにグ
リニャール試薬(1)とホウ酸エステル(2)とを反応させる
と、まず、（R1）nArB(OR2)2（Ar:フェニル基）で示さ
れるエステルが生成する。これを酸性条件下で、たとえ
ば希硫酸などの希鉱酸により加水分解することにより容
易にフェニルボロン酸類(3)が得られる。このフェニル
ボロン酸類を脱水すればトリフェニルボロキシン類(4)
に変わる。たとえば、フェニルボロン酸類の反応液を濃
縮したり、あるいは必要に応じて加熱脱水して無水物に
することで、あるいは共沸脱水を行うことで容易にトリ
フェニルボロキシン類となる。
【００２０】このように、ホウ酸エステルをトルエンな
どの非エーテル系芳香族溶剤で希釈することにより、従
来技術よりはるかに常温に近い温度でも選択性よくフェ
ニルボロン酸類(3)そしてトリフェニルボロキシン類(4)
を高収率で合成することができる。
どの非エーテル系芳香族溶剤で希釈することにより、従
来技術よりはるかに常温に近い温度でも選択性よくフェ
ニルボロン酸類(3)そしてトリフェニルボロキシン類(4)
を高収率で合成することができる。
【００２１】
【発明の効果】本発明の製造方法によれば、上記のよう
に反応の高選択性と併せて、極低温下で反応を行わない
ために特殊な低温反応設備を必要とせず、また反応速度
も上昇するので、従来技術の方法と比べて効率およびコ
スト面から格段の向上が可能である。
に反応の高選択性と併せて、極低温下で反応を行わない
ために特殊な低温反応設備を必要とせず、また反応速度
も上昇するので、従来技術の方法と比べて効率およびコ
スト面から格段の向上が可能である。
【００２２】また、本発明の製造方法によれば、安価な
トルエンなど非エーテル系芳香族溶剤を使用しており、
低温引火性のエーテルを用いる場合と比較するとより安
全性および取り扱いやすさに優れている。特に大量の溶
剤を使用する工業的規模でフェニルボロン酸類およびト
リフェニルボロキシン類の生産を行う場合には、エーテ
ルから非エーテル系溶剤のトルエンなどへの変更を行う
ことは決定的に有利に作用する。
トルエンなど非エーテル系芳香族溶剤を使用しており、
低温引火性のエーテルを用いる場合と比較するとより安
全性および取り扱いやすさに優れている。特に大量の溶
剤を使用する工業的規模でフェニルボロン酸類およびト
リフェニルボロキシン類の生産を行う場合には、エーテ
ルから非エーテル系溶剤のトルエンなどへの変更を行う
ことは決定的に有利に作用する。
【００２３】さらに、本発明の製造方法によれば、有用
なフェニルボロン酸類およびトリフェニルボロキシン類
の工業的生産の採算性を画期的に改善する。
なフェニルボロン酸類およびトリフェニルボロキシン類
の工業的生産の採算性を画期的に改善する。
【００２４】
【実施例】以下、本発明によるフェニルボロン酸類およ
びトリフェニルボロキシンの製造方法について実施例に
よりさらに具体的に説明するが、本発明はこれら実施例
に何ら限定されるものではない。
びトリフェニルボロキシンの製造方法について実施例に
よりさらに具体的に説明するが、本発明はこれら実施例
に何ら限定されるものではない。
【００２５】
【実施例１】フェニルボロン酸の合成 窒素置換した４つ口フラスコにマグネシウム７．３ｇを
入れ、ＴＨＦ／トルエン（１／１）の混合溶剤１２５ｍ
ｌで希釈したブロモベンゼン３９．３ｇを５０〜６０℃
で４時間かけて滴下し、更に同温度で１時間熟成してフ
ェニルマグネシウムブロミドを調製した。
入れ、ＴＨＦ／トルエン（１／１）の混合溶剤１２５ｍ
ｌで希釈したブロモベンゼン３９．３ｇを５０〜６０℃
で４時間かけて滴下し、更に同温度で１時間熟成してフ
ェニルマグネシウムブロミドを調製した。
【００２６】窒素置換した別の４つ口フラスコにトリメ
チルボレート２６．０ｇとトルエン５０ｍｌを入れて混
合し、予め０〜５℃に冷却しておいた。そこへ、先に調
製したフェニルマグネシウムブロミドを０〜５℃で２時
間かけて滴下し、更に同温度で１時間熟成した。熟成
後、１０％硫酸水溶液１２８ｇを２０℃以下で滴下して
注水分解を行なった。注水分解後１時間攪拌した。これ
を水層と有機層とに分液し、水層をトルエン５０ｍｌで
抽出し、先に分液しておいた有機層に合わせた。この有
機層を水２５ｇで２回水洗した。
チルボレート２６．０ｇとトルエン５０ｍｌを入れて混
合し、予め０〜５℃に冷却しておいた。そこへ、先に調
製したフェニルマグネシウムブロミドを０〜５℃で２時
間かけて滴下し、更に同温度で１時間熟成した。熟成
後、１０％硫酸水溶液１２８ｇを２０℃以下で滴下して
注水分解を行なった。注水分解後１時間攪拌した。これ
を水層と有機層とに分液し、水層をトルエン５０ｍｌで
抽出し、先に分液しておいた有機層に合わせた。この有
機層を水２５ｇで２回水洗した。
【００２７】得られた有機層に水２００ｍｌを加え減圧
下に溶剤を半分程度留去し、更にヘプタン２００ｍｌを
加えて氷水冷却下に攪拌し、結晶を十分に析出させた。
これをろ過し、結晶をヘプタン１５０ｍｌで洗浄し、３
０℃で乾燥させてフェニルボロン酸２１．９ｇを得た。
上記ろ液の溶剤を減圧下に半分程度留去し、ヘプタン５
０ｍｌを加えて氷水冷却下攪拌し、結晶を十分に析出さ
せた。これをろ過し、結晶をヘプタン５０ｍｌで洗浄
し、３０℃で乾燥させてフェニルボロン酸３．９ｇを得
た。合計２５．８ｇ 収率８４．６％ 融点２１７．０〜２２０．０℃
下に溶剤を半分程度留去し、更にヘプタン２００ｍｌを
加えて氷水冷却下に攪拌し、結晶を十分に析出させた。
これをろ過し、結晶をヘプタン１５０ｍｌで洗浄し、３
０℃で乾燥させてフェニルボロン酸２１．９ｇを得た。
上記ろ液の溶剤を減圧下に半分程度留去し、ヘプタン５
０ｍｌを加えて氷水冷却下攪拌し、結晶を十分に析出さ
せた。これをろ過し、結晶をヘプタン５０ｍｌで洗浄
し、３０℃で乾燥させてフェニルボロン酸３．９ｇを得
た。合計２５．８ｇ 収率８４．６％ 融点２１７．０〜２２０．０℃
【００２８】
【実施例２】４−メチルフェニルボロン酸の合成 実施例１において、ブロモベンゼンのかわりに４−ブロ
モトルエンを用いた以外は実施例１と同様の操作を行
い、４−メチルフェニルボロン酸を得た。 収率８３．９％ 融点２４８〜２５０℃
モトルエンを用いた以外は実施例１と同様の操作を行
い、４−メチルフェニルボロン酸を得た。 収率８３．９％ 融点２４８〜２５０℃
【００２９】
【実施例３】４−メトキシフェニルボロン酸の合成 実施例１においてブロモベンゼンのかわりに４−メトキ
シブロモベンゼンを用いた以外は実施例１と同様の操作
を行い、４−メトキシフェニルボロン酸を得た。 収率８２．８％ 融点２０４〜２０６℃
シブロモベンゼンを用いた以外は実施例１と同様の操作
を行い、４−メトキシフェニルボロン酸を得た。 収率８２．８％ 融点２０４〜２０６℃
【００３０】
【実施例４】４−クロロフェニルボロン酸の合成 実施例１においてブロモベンゼンのかわりに４−クロロ
ブロモベンゼンを用いた以外は実施例１と同様の操作を
行い４−クロロフェニルボロン酸を得た。 収率８２．１％ 融点２８４〜２８９℃
ブロモベンゼンを用いた以外は実施例１と同様の操作を
行い４−クロロフェニルボロン酸を得た。 収率８２．１％ 融点２８４〜２８９℃
【００３１】
【実施例５】トリフェニルボロキシンの合成 窒素置換した４つ口フラスコにマグネシウム７．３ｇを
入れ、ＴＨＦ／トルエン（１／１）の混合溶剤１２５ｍ
ｌで希釈したブロモベンゼン３９．３ｇを５０〜６０℃
で４時間かけて滴下し、更に同温度で１時間熟成してフ
ェニルマグネシウムブロミドを調製した。
入れ、ＴＨＦ／トルエン（１／１）の混合溶剤１２５ｍ
ｌで希釈したブロモベンゼン３９．３ｇを５０〜６０℃
で４時間かけて滴下し、更に同温度で１時間熟成してフ
ェニルマグネシウムブロミドを調製した。
【００３２】窒素置換した別の４つ口フラスコにトリメ
チルボレート２６．０ｇとトルエン５０ｍｌ入れて混合
し、予め０〜５℃に冷却しておいた。そこへ、先に調製
したフェニルマグネシウムブロミドを０〜５℃で２時間
かけて滴下し、更に同温度で１時間熟成した。熟成後、
１０％硫酸水溶液１２８ｇを２０℃以下の温度にて滴下
して注水分解を行なった。注水分解後１時間攪拌した。
これを水層と有機層とに分液し、水層をトルエン５０ｍ
ｌで抽出し、先に分液しておいた有機層に合わせた。こ
の有機層を水２５ｇで２回水洗した。
チルボレート２６．０ｇとトルエン５０ｍｌ入れて混合
し、予め０〜５℃に冷却しておいた。そこへ、先に調製
したフェニルマグネシウムブロミドを０〜５℃で２時間
かけて滴下し、更に同温度で１時間熟成した。熟成後、
１０％硫酸水溶液１２８ｇを２０℃以下の温度にて滴下
して注水分解を行なった。注水分解後１時間攪拌した。
これを水層と有機層とに分液し、水層をトルエン５０ｍ
ｌで抽出し、先に分液しておいた有機層に合わせた。こ
の有機層を水２５ｇで２回水洗した。
【００３３】得られた有機層の溶剤を減圧下に留去し、
粗トリフェニルボロキシン４９．８ｇを得た。そこへト
ルエン１５０ｍｌを加え５０℃の湯浴で結晶を溶解さ
せ、更にヘプタン１５０ｍｌを加えて氷水冷却下に攪拌
し、結晶を十分に析出させた。これをろ過し、結晶をヘ
プタン１５０ｍｌで洗浄し、８０℃で乾燥させてトリフ
ェニルボロキシン１８．８ｇを得た。
粗トリフェニルボロキシン４９．８ｇを得た。そこへト
ルエン１５０ｍｌを加え５０℃の湯浴で結晶を溶解さ
せ、更にヘプタン１５０ｍｌを加えて氷水冷却下に攪拌
し、結晶を十分に析出させた。これをろ過し、結晶をヘ
プタン１５０ｍｌで洗浄し、８０℃で乾燥させてトリフ
ェニルボロキシン１８．８ｇを得た。
【００３４】上記ろ液の溶媒を減圧下に留去し、粗トリ
フェニルボロキシンを得た。そこへトルエン５０ｍｌを
加え、加熱して結晶を溶解させた後、ヘプタン５０ｍｌ
を加えて氷水冷却下攪拌し、結晶を十分に析出させた。
これをろ過し、結晶をヘプタン５０ｍｌで洗浄し８０℃
で乾燥させてトリフェニルボロキシン３．０ｇを得た。
合計２１．８ｇ 収率８３．９％ 融点２１４．５〜２１６．０℃
フェニルボロキシンを得た。そこへトルエン５０ｍｌを
加え、加熱して結晶を溶解させた後、ヘプタン５０ｍｌ
を加えて氷水冷却下攪拌し、結晶を十分に析出させた。
これをろ過し、結晶をヘプタン５０ｍｌで洗浄し８０℃
で乾燥させてトリフェニルボロキシン３．０ｇを得た。
合計２１．８ｇ 収率８３．９％ 融点２１４．５〜２１６．０℃
【００３５】
【実施例６〜８】実施例１において、表１に示すように
反応温度を変えて反応させた以外は実施例１と同様の操
作により、フェニルボロン酸を合成してその収率を求め
た。
反応温度を変えて反応させた以外は実施例１と同様の操
作により、フェニルボロン酸を合成してその収率を求め
た。
【００３６】
【実施例９】２−メチルフェニルボロン酸の合成 実施例１において、ブロモベンゼンのかわりに２−ブロ
モトルエンを用いた以外は実施例1と同様の操作を行
い、２−メチルフェニルボロン酸を得た。 収率 82.2% 融点 162〜164℃
モトルエンを用いた以外は実施例1と同様の操作を行
い、２−メチルフェニルボロン酸を得た。 収率 82.2% 融点 162〜164℃
【００３７】
【実施例10】３−メチルフェニルボロン酸の合成 実施例１において、ブロモベンゼンのかわりに３−ブロ
モトルエンを用いた以外は実施例1と同様の操作を行
い、３−メチルフェニルボロン酸を得た。 収率 83.1% 融点 160〜162℃
モトルエンを用いた以外は実施例1と同様の操作を行
い、３−メチルフェニルボロン酸を得た。 収率 83.1% 融点 160〜162℃
【００３８】
【実施例11】２−メトキシフェニルボロン酸の合成 実施例１において、ブロモベンゼンのかわりに２−メト
キシブロモベンゼンを用いた以外は実施例1と同様の操
作を行い、２−メトキシフェニルボロン酸を得た。 収率 82.5% 融点 105〜110℃
キシブロモベンゼンを用いた以外は実施例1と同様の操
作を行い、２−メトキシフェニルボロン酸を得た。 収率 82.5% 融点 105〜110℃
【００３９】
【実施例12】3−メトキシフェニルボロン酸の合成 実施例１において、ブロモベンゼンのかわりに３−メト
キシブロモベンゼンを用いた以外は実施例1と同様の操
作を行い、３−メトキシフェニルボロン酸を得た。 収率 83.4% 融点 160〜163℃
キシブロモベンゼンを用いた以外は実施例1と同様の操
作を行い、３−メトキシフェニルボロン酸を得た。 収率 83.4% 融点 160〜163℃
【００４０】
【比較例１】フェニルボロン酸の合成 窒素置換した４つ口フラスコにマグネシウム７．３ｇを
入れ、これにＴＨＦ１２５ｍｌで希釈したブロモベンゼ
ン３７．３ｇを５０〜６０℃で４時間かけて滴下し、更
に同温度で１時間熟成してフェニルマグネシウムブロミ
ドを調製した。
入れ、これにＴＨＦ１２５ｍｌで希釈したブロモベンゼ
ン３７．３ｇを５０〜６０℃で４時間かけて滴下し、更
に同温度で１時間熟成してフェニルマグネシウムブロミ
ドを調製した。
【００４１】窒素置換した別の４つ口フラスコにトリメ
チルボレート２６．０ｇとＴＨＦを５０ｍｌ秤取って入
れ混合して、予め０〜５℃に冷却しておいた。そこへ、
先に調製したフェニルマグネシウムブロミドを０〜５℃
で２時間かけて滴下し、更に同温度で１時間熟成した。
熟成後、１０％硫酸水溶液１２８ｇを２０℃以下で滴下
して注水分解を行なった。注水分解後１時間攪拌した。
これにトルエン１５０ｍｌを入れ攪拌後分液し、この有
機層を水５０ｇで２回水洗した。
チルボレート２６．０ｇとＴＨＦを５０ｍｌ秤取って入
れ混合して、予め０〜５℃に冷却しておいた。そこへ、
先に調製したフェニルマグネシウムブロミドを０〜５℃
で２時間かけて滴下し、更に同温度で１時間熟成した。
熟成後、１０％硫酸水溶液１２８ｇを２０℃以下で滴下
して注水分解を行なった。注水分解後１時間攪拌した。
これにトルエン１５０ｍｌを入れ攪拌後分液し、この有
機層を水５０ｇで２回水洗した。
【００４２】得られた有機層に水２００ｍｌを加え減圧
下に溶媒を半分程度留去し、更にヘプタン２００ｍｌを
加えて氷水冷却下に攪拌し、結晶を十分に析出させた。
これをろ過し、結晶をヘプタン１００ｍｌで洗浄し、３
０℃で乾燥させてフェニルボロン酸１３．４ｇを得た。
上記ろ液の溶媒を減圧下に半分程度留去し、ヘプタン５
０ｍｌを加えて氷水冷却下攪拌し、結晶を十分に析出さ
せた。これをろ過し、結晶をヘプタン５０ｍｌで洗浄
し、３０℃で乾燥させてフェニルボロン酸１．５ｇを得
た。合計１４．９ｇ 収率４８．９％
下に溶媒を半分程度留去し、更にヘプタン２００ｍｌを
加えて氷水冷却下に攪拌し、結晶を十分に析出させた。
これをろ過し、結晶をヘプタン１００ｍｌで洗浄し、３
０℃で乾燥させてフェニルボロン酸１３．４ｇを得た。
上記ろ液の溶媒を減圧下に半分程度留去し、ヘプタン５
０ｍｌを加えて氷水冷却下攪拌し、結晶を十分に析出さ
せた。これをろ過し、結晶をヘプタン５０ｍｌで洗浄
し、３０℃で乾燥させてフェニルボロン酸１．５ｇを得
た。合計１４．９ｇ 収率４８．９％
【００４３】
【比較例２】フェニルボロン酸の合成 窒素置換した４つ口フラスコにマグネシウム７．３ｇを
秤取って入れ、これにエーテル１２５ｍｌで希釈したブ
ロモベンゼン３９．３ｇを３０〜４０℃で４時間かけて
滴下し、更に同温度で１時間熟成してフェニルマグネシ
ウムブロミドを調製した。
秤取って入れ、これにエーテル１２５ｍｌで希釈したブ
ロモベンゼン３９．３ｇを３０〜４０℃で４時間かけて
滴下し、更に同温度で１時間熟成してフェニルマグネシ
ウムブロミドを調製した。
【００４４】窒素置換した別の４つ口フラスコにトリメ
チルボレート２６．０ｇとエーテル５０ｍｌを秤取って
入れ混合して、予め０〜５℃に冷却しておいた。そこ
へ、先に調製したフェニルマグネシウムブロミドを０〜
５℃で２時間かけて滴下し、更に同温度で１時間熟成し
た。熟成後、１０％硫酸水溶液１２８ｇを２０℃以下で
滴下して注水分解を行なった。注水分解後１時間攪拌し
た。これを水層と有機層に分液し、水層をエーテル５０
ｍｌで抽出し、先に分液しておいた有機層に合わせた。
この有機層を水２５ｇで２回水洗した。
チルボレート２６．０ｇとエーテル５０ｍｌを秤取って
入れ混合して、予め０〜５℃に冷却しておいた。そこ
へ、先に調製したフェニルマグネシウムブロミドを０〜
５℃で２時間かけて滴下し、更に同温度で１時間熟成し
た。熟成後、１０％硫酸水溶液１２８ｇを２０℃以下で
滴下して注水分解を行なった。注水分解後１時間攪拌し
た。これを水層と有機層に分液し、水層をエーテル５０
ｍｌで抽出し、先に分液しておいた有機層に合わせた。
この有機層を水２５ｇで２回水洗した。
【００４５】得られた有機層に水２００ｍｌ加え減圧下
に溶媒を半分程度留去し、更にヘプタン２００ｍｌを加
えて氷水冷却下に攪拌し、結晶を十分に析出させた。こ
れをろ過し、結晶をヘプタン１００ｍｌで洗浄し、３０
℃で乾燥させてフェニルボロン酸１４．６ｇを得た。上
記ろ液の溶媒を減圧下に半分程度留去し、ヘプタン５０
ｍｌを加えて氷水冷却下に攪拌し、結晶を十分に析出さ
せた。これをろ過し、結晶をヘプタン５０ｍｌで洗浄
し、３０℃で乾燥させてフェニルボロン酸１．６ｇを得
た。合計１６．２ｇ 収率５３．１％
に溶媒を半分程度留去し、更にヘプタン２００ｍｌを加
えて氷水冷却下に攪拌し、結晶を十分に析出させた。こ
れをろ過し、結晶をヘプタン１００ｍｌで洗浄し、３０
℃で乾燥させてフェニルボロン酸１４．６ｇを得た。上
記ろ液の溶媒を減圧下に半分程度留去し、ヘプタン５０
ｍｌを加えて氷水冷却下に攪拌し、結晶を十分に析出さ
せた。これをろ過し、結晶をヘプタン５０ｍｌで洗浄
し、３０℃で乾燥させてフェニルボロン酸１．６ｇを得
た。合計１６．２ｇ 収率５３．１％
【００４６】
【比較例３】４−メチルフェニルボロン酸の合成 比較例１において、ブロモベンゼンのかわりに４−ブロ
モトルエンを用いた以外は比較例１と同様の操作を行
い、４−メチルフェニルボロン酸を得た。 収率４７．３％ 実施例１〜４、６〜８および比較例１〜３の結果を表１
に示す。なお、表１には、併せて文献、Organic Synthe
ses，Coll. Vol.IV, p68, John Wiley & Sons (196
3)における記載例および国際公開公報特許WO9964428号
の記載例も参考のために示した。
モトルエンを用いた以外は比較例１と同様の操作を行
い、４−メチルフェニルボロン酸を得た。 収率４７．３％ 実施例１〜４、６〜８および比較例１〜３の結果を表１
に示す。なお、表１には、併せて文献、Organic Synthe
ses，Coll. Vol.IV, p68, John Wiley & Sons (196
3)における記載例および国際公開公報特許WO9964428号
の記載例も参考のために示した。
【００４７】表１からわかるように本発明の製造方法に
基づくと、ホウ酸エステルをトルエンなどの非エーテル
系芳香族溶剤で溶解または希釈することにより、−１０
〜＋１５℃の温度でフェニルボロン酸を７８％以上の収
率で効率よく製造することができることがわかる。従来
の方法では、これに匹敵する収率を得るためには、上記
温度範囲よりも低い温度を必要とする。
基づくと、ホウ酸エステルをトルエンなどの非エーテル
系芳香族溶剤で溶解または希釈することにより、−１０
〜＋１５℃の温度でフェニルボロン酸を７８％以上の収
率で効率よく製造することができることがわかる。従来
の方法では、これに匹敵する収率を得るためには、上記
温度範囲よりも低い温度を必要とする。
【００４８】
【表１】
Claims (3)
- 【請求項１】下記式１で示されるフェニルグリニャール
試薬と、非エーテル系芳香族溶剤に溶解された下記式２
で示されるホウ酸エステルとを、−１０〜＋１５℃で反
応させることを特徴とする、下記式３で示されるフェニ
ルボロン酸類の製造方法。 【化１】 （式中、R1は２位、３位、４位、5位または６位の置換
基であり、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アル
コキシ基、ハロゲン原子を示す。nは1または2であり、
ｎ＝2の場合、各R1は同一でもあるいは異なってもよ
い。R2は、アルキル基、フェニル基を示す。Xは、塩
素、臭素原子を示す。） - 【請求項２】下記式１で示されるフェニルグリニャール
試薬と、非エーテル系芳香族溶剤に溶解された下記式２
で示されるホウ酸エステルとを、−１０〜＋１５℃で反
応させて、下記式３で示されるフェニルボロン酸類を生
成させ、次いでこのフェニルボロン酸類を脱水すること
を特徴とする、下記式４で示されるトリフェニルボロキ
シン類の製造方法。 【化２】 （式中、R1は２位、３位、４位、5位または６位の置換
基であり、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アル
コキシ基、ハロゲン原子を示す。ｎは１または２であ
り、n=2の場合、各R1は同一でもあるいは異なってもよ
い。R2は、アルキル基、フェニル基を示す。Xは、塩
素、臭素原子を示す。） - 【請求項３】前記非エーテル系芳香族溶剤が、トルエン
またはベンゼン、あるいはこれらの混合物である請求項
１または２に記載の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000227107A JP4350281B2 (ja) | 2000-07-27 | 2000-07-27 | フェニルボロン酸類およびトリフェニルボロキシン類の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000227107A JP4350281B2 (ja) | 2000-07-27 | 2000-07-27 | フェニルボロン酸類およびトリフェニルボロキシン類の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002047292A true JP2002047292A (ja) | 2002-02-12 |
| JP4350281B2 JP4350281B2 (ja) | 2009-10-21 |
Family
ID=18720607
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000227107A Expired - Lifetime JP4350281B2 (ja) | 2000-07-27 | 2000-07-27 | フェニルボロン酸類およびトリフェニルボロキシン類の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP4350281B2 (ja) |
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003104990A (ja) * | 2001-09-28 | 2003-04-09 | Sumitomo Chem Co Ltd | グリニャール試薬の保存方法 |
| US7094771B2 (en) * | 2002-07-15 | 2006-08-22 | National Tsing Hua University | Pharmaceutical composition for boron neutron capture therapy containing triphenylboroxin |
| WO2013016185A1 (en) * | 2011-07-22 | 2013-01-31 | The Regents Of The University Of California | Synthesis of boronic esters and boronic acids using grignard reagents |
| JP2014024778A (ja) * | 2012-07-25 | 2014-02-06 | Asahi Kasei Corp | 芳香族ホウ素化合物の製造方法 |
| WO2014030600A1 (ja) | 2012-08-20 | 2014-02-27 | マナック株式会社 | ボリン酸誘導体の製造方法及び新規ボリン酸誘導体 |
| JP2015523375A (ja) * | 2012-08-06 | 2015-08-13 | エッフェ・イ・エッセ − ファッブリカ・イタリアーナ・シンテテイチ・ソチエタ・ペル・アツィオーニＦ．Ｉ．Ｓ． − Ｆａｂｂｒｉｃａ Ｉｔａｌｉａｎａ Ｓｉｎｔｅｔｉｃｉ Ｓ．ｐ．Ａ． | ２−シアノフェニルボロン酸およびそのエステルの製造プロセス |
| JP2016222661A (ja) * | 2015-05-29 | 2016-12-28 | 北興化学工業株式会社 | 新規なヒドロキシフェニルボロン酸エステルとその製造方法、およびヒドロキシビフェニル化合物の製造法 |
| WO2019151264A1 (ja) | 2018-01-31 | 2019-08-08 | 帝人株式会社 | フルオレン骨格を有する化合物およびその製造方法 |
| WO2020204112A1 (ja) | 2019-04-01 | 2020-10-08 | 日産化学株式会社 | ピリダジノン化合物及び除草剤 |
-
2000
- 2000-07-27 JP JP2000227107A patent/JP4350281B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003104990A (ja) * | 2001-09-28 | 2003-04-09 | Sumitomo Chem Co Ltd | グリニャール試薬の保存方法 |
| US7094771B2 (en) * | 2002-07-15 | 2006-08-22 | National Tsing Hua University | Pharmaceutical composition for boron neutron capture therapy containing triphenylboroxin |
| WO2013016185A1 (en) * | 2011-07-22 | 2013-01-31 | The Regents Of The University Of California | Synthesis of boronic esters and boronic acids using grignard reagents |
| US9243004B2 (en) | 2011-07-22 | 2016-01-26 | The Regents Of The University Of California | Synthesis of boronic esters and boronic acids using grignard reagents |
| JP2014024778A (ja) * | 2012-07-25 | 2014-02-06 | Asahi Kasei Corp | 芳香族ホウ素化合物の製造方法 |
| JP2015523375A (ja) * | 2012-08-06 | 2015-08-13 | エッフェ・イ・エッセ − ファッブリカ・イタリアーナ・シンテテイチ・ソチエタ・ペル・アツィオーニＦ．Ｉ．Ｓ． − Ｆａｂｂｒｉｃａ Ｉｔａｌｉａｎａ Ｓｉｎｔｅｔｉｃｉ Ｓ．ｐ．Ａ． | ２−シアノフェニルボロン酸およびそのエステルの製造プロセス |
| WO2014030600A1 (ja) | 2012-08-20 | 2014-02-27 | マナック株式会社 | ボリン酸誘導体の製造方法及び新規ボリン酸誘導体 |
| JP2016222661A (ja) * | 2015-05-29 | 2016-12-28 | 北興化学工業株式会社 | 新規なヒドロキシフェニルボロン酸エステルとその製造方法、およびヒドロキシビフェニル化合物の製造法 |
| WO2019151264A1 (ja) | 2018-01-31 | 2019-08-08 | 帝人株式会社 | フルオレン骨格を有する化合物およびその製造方法 |
| WO2020204112A1 (ja) | 2019-04-01 | 2020-10-08 | 日産化学株式会社 | ピリダジノン化合物及び除草剤 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP4350281B2 (ja) | 2009-10-21 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US8076505B2 (en) | Process of preparing derivatives of 1-(2-halobiphenyl-4-yl)-cyclopropanecarboxylic acid | |
| CN105001028A (zh) | 一种不对称共轭二炔烃类化合物的合成方法 | |
| JP4350281B2 (ja) | フェニルボロン酸類およびトリフェニルボロキシン類の製造方法 | |
| JPH06234690A (ja) | ビフェニル誘導体の製法 | |
| JP3833698B2 (ja) | 硼酸とハロゲン化合物とのクロスカップリングの方法 | |
| JP5209183B2 (ja) | 不純物の低減された２−シアノフェニルボロン酸又はそのエステル体の製造方法 | |
| JPH10195017A (ja) | 安息香酸の合成方法 | |
| JP4165858B2 (ja) | ｔｅｒｔ−アミロキシハロゲノベンゼン化合物とその製法およびｔｅｒｔ−アミロキシシアノビフェニル化合物とその製法、並びにシアノヒドロキシビフェニル化合物の製法 | |
| JP3632702B2 (ja) | １，７，８−トリフルオロ−２−ナフトール及びこれを用いた液晶化合物の製造方法 | |
| JP2002537369A (ja) | ［１，１’：４’，１”］−テルフェニル化合物の製造法 | |
| JP4667593B2 (ja) | ２−アルキル−２−アダマンチル（メタ）アクリレート類の製造法 | |
| CN107021883B (zh) | 一种多取代基联苯卤代物液晶中间体的合成方法及应用 | |
| JPH0316959B2 (ja) | ||
| CN105102411A (zh) | 1,1,1,5,5,5-六氟乙酰丙酮的制造方法 | |
| JP4203192B2 (ja) | ニトロフェニルフェノール化合物の製造法 | |
| JP4406530B2 (ja) | ３，３’−置換−２，２’−ビスアルコキシカルボニル−１，１’−ビナフチルとこれを原料とするｎ−スピロ４級アンモニウム塩の製造方法 | |
| JP4157361B2 (ja) | ９−スピロフルオレン化合物の製造方法 | |
| JP4662649B2 (ja) | 新規なホスフィン化合物 | |
| JP4435447B2 (ja) | メトキシメチルトリアリールホスホニウムクロライドの製造法 | |
| JPH0316958B2 (ja) | ||
| Bartoli et al. | Stereochemistry of halogenation of nitronate adducts from 4-methoxy-1-nitro-naphthalene and RMgX to 1-halogeno-2-alkyl-4-methoxy-1-nitro-1, 2-dihydronaphthalenes and of subsequent elimination to alkylhalogenonaphthalenes. Crystal structure of a tetrahydronaphthalenone derivative | |
| CN106278811B (zh) | 一种对溴直链烷基苯的合成方法 | |
| JPS59101437A (ja) | フルオレン−９−カルボン酸の製法 | |
| CN111606850A (zh) | 贝达喹啉及其中间体的制备方法 | |
| CN115894146A (zh) | 一种3-溴-1-苯基萘的合成方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20060808 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20090707 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20090714 |
|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20090722 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120731 Year of fee payment: 3 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 4350281 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130731 Year of fee payment: 4 |
|
| S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
| R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |