JP2002040341A - 光走査装置及び画像形成装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 部品点数の減少によるコストの低減及び装置
の小型化を達成することが可能な光走査装置及び画像形
成装置を提供することにある。 【解決手段】 ケース７０に設けられる防塵部材６８
に、ビーム光をケース７０外部に設けてある感光体４へ
透過させる透過部６８ａ（例えばガラス等）と、ビーム
光をケース７０内部または外部に設けてある走査タイミ
ング検出用の受光素子６９へ反射させる反射部６８ｂ
（例えば、ガラスにアルミを蒸着させたもの等）とを設
ける。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、画像情報に応じた
ビーム光を感光体へ走査照射し、感光体表面に静電潜像
を形成する光走査装置及び画像形成装置に関し、特にビ
ーム光源を内蔵するケースに設けられる防塵部材を備え
る光走査装置及び画像形成装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】レーザプリンタまたはディジタル複写機
等の画像形成装置にあっては、光走査装置で画像情報に
応じた露光を感光体へ行うことにより、感光体の表面に
静電潜像を形成する。そして、この静電潜像はトナーに
より現像され、トナー像が記録用紙に転写される。この
静電潜像の形成にあっては、画像形成開始のタイミング
を定める同期信号が必要である。この場合、予め定めら
れた位置に設けられる受光素子へビーム光を照射するこ
とにより、ビーム光を光電変換し、その電気信号を同期
信号として得ている。

【０００３】従来、受光素子へ照射するビーム光は、例
えば特開平１１−４２８１４号公報に開示されているよ
うにビーム光源から出射されるビーム光を、受光素子へ
反射させる反射ミラーを設け、この反射ミラーにより反
射されたビーム光を受光素子へ入力することにより行わ
れていた。

【０００４】図９は従来の光走査装置の構造を模式的に
示した模式的斜視図である。また図１０（ａ）及び
（ｂ）は従来の光走査装置の模式的平面図及び模式的立
面図である。図において、１０１はビーム光照射装置で
あり、ビーム光照射装置１０１に取り付けられた半導体
レーザダイオード等のビーム光源１０２から照射された
ビーム光はコリメートレンズ１０３により平行光にされ
る。平行化されたビーム光はシリンダレンズ１０４によ
り、感光体（感光体ドラム）１０９の表面上で所定の大
きさとなるよう集光され、ポリゴンモータ１０５ｂによ
り回転（図の矢印方向）されるポリゴンミラー１０５ａ
により主走査方向（感光体１０９の軸方向）に走査され
る。

【０００５】そして、ｆ−θレンズ１０６により等角運
動を等速運動へ変換し、さらに像面湾曲を補正する。続
いてビーム光は折り返しミラー１０７により角度を変え
る。また、上述したビーム光照射装置１０１、ビーム光
源１０２、ポリゴンミラー１０５ａ及びｆ−θレンズ１
０６等を浮遊トナーまたは埃等で汚染されるのを防止す
るため、これらを覆うように遮光性材料からなるケース
１１２（図１０（ａ）では図示せず）が設けられてお
り、このケース１１２の走査光路に光路孔１１２ｈを設
け、該光路孔１１２ｈにガラス板等を用いてなる防塵部
材１１１を封じてある。折り返しミラー１０７により反
射されたビーム光は防塵部材１１１を透過し副走査方向
（感光体１０９の回転方向）へ照射され静電潜像を形成
する。

【０００６】また、ビーム光の走査範囲内にありかつ画
像形成領域外に反射ミラー１１０が設けられ、これによ
り反射されたビーム光は、主走査方向の露光タイミング
を制御するための受光素子１０８に入射され、その入射
ビーム光の検出により各走査ラインの画像を書き込むた
めの同期信号を得ている。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】しかし、特開平１１−
４２８１４号公報に開示された画像形成装置では受光素
子用の反射ミラーを設ける必要があったため、部品点数
の面からコストの上昇を招き、また光走査装置の大形化
ひいては画像形成装置の大型化を招くという問題があっ
た。

【０００８】また、従来の光走査装置にあっては装置内
部に受光素子及び受光素子用の反射ミラーを配置してい
たため必然的に光走査装置が大型化し、装置の設置に自
由度を持たせることが困難であるという問題があった。

【０００９】本発明は斯かる事情に鑑みてなされたもの
であり、その目的とするところは部品点数の減少による
コストの低減及び装置の小型化を達成することが可能な
光走査装置及び画像形成装置を提供することにある。

【００１０】また、本発明の他の目的は光走査装置の外
部に受光素子を設けることにより、光走査装置の小型化
及び小型化による装置設置の自由度を高めることが可能
な光走査装置及び画像形成装置を提供することにある。

【００１１】さらに、本発明の他の目的はビーム光の画
像書込の同期精度を向上させることのできる画像形成装
置を提供することにある。

【００１２】

【課題を解決するための手段】第１発明に係る光走査装
置は、ケース内部に設けられるビーム光源から出射され
るビーム光を、ケース外部に設けられる感光体へ走査照
射する光走査装置において、前記ケースに設けられ、前
記感光体へビーム光を透過させる透過部、及び該透過部
に連接され、前記感光体へのビーム光走査タイミングを
検出する、前記ケース内部に設けられた受光素子へビー
ム光を反射させる反射部を有する防塵部材を備えること
を特徴とする。

【００１３】第１発明にあっては、ケース光路孔に設け
られる防塵部材に、ビーム光をケース外部に設けてある
感光体へ透過させる透過部（例えばガラス板等）と、ビ
ーム光をケース内部に設けてある走査タイミング検出用
の受光素子へ反射させる反射部（例えば、ガラス板にア
ルミニウムを蒸着させたもの等）とを設ける。このよう
にひとつの防塵部材に透過及び反射の２つの機能を持た
せるようにしたので、従来のように受光素子へビーム光
を反射させる反射ミラーを別途設ける必要がなくなり、
部品点数の低減によるコストダウン及び光走査装置の小
型化を図ることが可能となる。

【００１４】第２発明に係る光走査装置は、ケース内部
に設けられるビーム光源から出射されるビーム光を、ケ
ース外部に設けられる感光体へ走査照射する光走査装置
において、前記ケースに設けられ、前記感光体へビーム
光を透過させる透過部、及び該透過部に連接されビーム
光を反射させる反射部を有する第１防塵部材と、前記ケ
ースに設けられ、前記防塵部材の前記反射部により反射
されたビーム光を、前記感光体へのビーム光走査タイミ
ングを検出する、前記ケース外部に設けられる受光素子
へ透過させる第２防塵部材とを備えることを特徴とす
る。

【００１５】第２発明にあっては、第１防塵部材の反射
部により反射されたビーム光を、ケースの光路孔に設け
られるガラス板等で形成される第２防塵部材へ導き、ケ
ース外部に設けられる受光素子へ入射させるようにす
る。すなわち反射部による反射ビーム光を、第２防塵部
材を設けることによって外部に導くようにしたので、受
光素子をケース外部に設置することが可能となることか
ら、ケース内部の部品点数を低減することができ、光走
査装置の小型化を図ることが可能となる。

【００１６】第３発明に係る光走査装置は、ケース内部
に設けられるビーム光源から出射されるビーム光を、ケ
ース外部に設けられる感光体へ走査照射する光走査装置
において、前記ケースに設けられ、ビーム光を前記感光
体へ透過させる透過部を有する防塵部材を備え、該防塵
部材の表面の一部に、前記感光体へのビーム光走査タイ
ミングを検出する、前記ケース外部に設けられる受光素
子へビーム光を反射させる反射部を形成してあることを
特徴とする。

【００１７】第３発明にあっては、防塵部材の表面に設
けられる反射部により、反射ビーム光をケース外部へ導
き、ケース外部に設けられる受光素子へ入射させるよう
にしたので、上述した第２防塵部材を設ける必要もなく
なることから、さらに部品点数を低減できコストダウン
を図ることが可能となる。

【００１８】第４発明に係る光走査装置は、前記防塵部
材の前記反射部から前記受光素子までの光路長と、前記
防塵部材の前記透過部から前記感光体までの光路長とが
略同一となるよう構成されていることを特徴とする。

【００１９】第４発明にあっては、防塵部材の反射部か
ら受光素子までの光路長と、防塵部材の透過部から感光
体までの光路長とが同一となるように防塵部材を設け
て、画像書込タイミングの精度を向上させたので、より
高品質の画像形成が可能となる。

【００２０】第５発明に係る光走査装置は、前記防塵部
材の設置角度を調整する角度調整機構を更に備えること
を特徴とする。

【００２１】第５発明にあっては、防塵部材に、弾性体
及び調整ねじ等から構成される角度調整機構を設けて角
度の調整を可能にしたので、単純な構造で画像書込の精
度を高めることができ、より高品質の画像形成が可能と
なると共に、組立時の調整が容易となる。

【００２２】第６発明に係る画像形成装置は、上記請求
項１乃至５のいずれかに記載の光走査装置を備えること
を特徴とする。

【００２３】第６発明にあっては、画像形成装置に上述
の光走査装置を設けたので、部品点数の低減によるコス
トダウン、及び画像形成装置の小型化を図ることが可能
となり、さらに画像書込精度の向上により、さらに高品
質の画像形成が可能となる。

【００２４】

【発明の実施の形態】以下本発明を電子複写機に適用し
た場合の実施の形態を示す図面に基づいて詳述する。 実施の形態１ 図１は本発明に係る画像形成装置１の構造を示す模式図
である。画像形成装置１の上面には透明なガラス体の原
稿台２が配置されており、その下方にはスキャナ部３が
配置されている。スキャナ部３は、露光ランプ３１，第
１反射ミラー３２ａ、第２反射ミラー３２ｂ、第３反射
ミラー３２ｃ、レンズ３３及びＣＣＤを用いてなる光電
変換素子３４を含み、露光ランプ３１及び第１反射ミラ
ー３２ａを原稿台２の下面において水平方向に往復運動
させて原稿台２上面に載置された原稿の画像を露光ラン
プ３１から照射された光によって露光走査する。

【００２５】露光ランプ３１による反射光は第１反射ミ
ラー３２ａ乃至第３反射ミラー３２ｃ及びレンズ３３を
介して光電変換素子３４の受光面に結像し、光電変換素
子３４は受光面における受光量に応じた信号を出力す
る。光電変換素子３４から出力された信号は、図示しな
いＡ／Ｄ変換器によりディジタル化された後、図示しな
い画像処理部において所定の処理が行われ画像データと
して出力される。

【００２６】画像形成装置１の中央部には感光体４が矢
印方向に回転自在に支持されており、この感光体４に
は、例えば、所定電圧に印可された導電性ブラシ等の帯
電器５が接触可能に設けられており、帯電器５により感
光体４の表面は所定電圧に帯電される。そして、感光体
４に、前記画像処理部から出力される画像情報に基づい
て変調された画像光を、例えば遮光性のケース７０に覆
われた光走査装置６から照射し、感光体４上に静電潜像
を形成する。現像槽７は感光体４の表面に現像剤を供給
し、静電潜像を現像剤画像に顕像化する。また感光体４
に付着したトナーはクリーナ９により除去される。

【００２７】感光体４の回転に先立って給紙ローラ１２
の回転によって給紙カセット１０内の記録紙Ｐが一枚ず
つ用紙搬送路内に給紙される。給紙された記録紙Ｐは、
給紙ローラ１２によりレジストローラ１３へ搬送され
る。記録紙Ｐは前端部をレジストローラ１３に当接した
状態で停止しており、所定のタイミングで回転し記録紙
Ｐを感光体４方向へ導く。そして記録紙Ｐの表面に、感
光体４に担持された現像剤画像を転写器８により転写
し、転写された記録紙Ｐは定着ローラ１４を通過する間
に加熱及び加圧される。これにより現像剤画像が溶融し
て記録紙Ｐの下面に固着する。現像剤画像が固着された
記録紙Ｐは排紙ローラ１５により搬送され、そして排紙
トレイ１１に排出される。

【００２８】図２は本発明に係る光走査装置６を示した
模式的斜視図である。また図３（ａ）及び（ｂ）は本発
明に係る光走査装置６の模式的平面図及び模式的立面図
である。図において、６１はビーム光照射装置であり、
その先端部に取り付けられた半導体レーザダイオード等
のビーム光源６２から照射されたビーム光はコリメート
レンズ６３により平行光にされる。平行化されたビーム
光はシリンダレンズ６４により、感光体４の表面上で所
定の大きさとなるよう集光され、ポリゴンモータ６５ｂ
により図の矢印方向へ回転されるポリゴンミラー６５ａ
により主走査方向（感光体４の軸方向）に走査される。

【００２９】そして、ｆ−θレンズ６６により等角運動
を等速運動へ変換し、さらに像面湾曲を補正する。続い
てビーム光はガラス板６７ｂの表面にアルミニウム蒸着
層６７ａ（反射層）を付与した折り返しミラー６７によ
り角度を変える（図３（ａ）参照）。また、上述したビ
ーム光照射装置６１、ビーム光源６２、ポリゴンミラー
６５ａ、ｆ−θレンズ６６及び折り返しミラー６７等を
浮遊トナーまたは埃等で汚染されるのを防止するため、
これらを覆うようにケース７０（図３（ａ）では図示せ
ず）が設けられている。

【００３０】ケース７０は直方体の箱状をなし遮光材か
ら形成されている。このケース７０下面の略中央部に
は、走査光路である矩形の光路孔７０ｈが設けられてお
り、該光路孔７０ｈに透明のガラス板等を用いてなる矩
形の防塵部材６８が前記ケース７０と面一となるよう
に、接着剤等により嵌着されている。この防塵部材６８
は、ガラス板等からなる透過部６８ａ、及びガラス板の
適長部分をアルミニウム等で蒸着してなる反射部６８ｂ
から構成される。なお、本実施の形態では透過部６８ａ
と反射部６８ｂとを隣接させているが、その間に吸収材
等の別部材を介装させても良い。

【００３１】透過部６８ａは、感光体４への有効画像形
成領域に対応するようにその長さが定められており、反
射部６８ｂはビーム光の走査範囲内にありかつ画像形成
領域外に位置するように設けられている。なお本実施の
形態では防塵部材６８にアルミニウムを蒸着することに
より反射部６８ｂを形成しているが、必ずしもこれに限
らず防塵部材６８の表面にアルミニウム、クロムチタン
等を含む酸化膜等で構成される金属シートを接着するこ
とにより反射部６８ｂを形成しても良いし、反射部６８
ｂをアルミニウム等の金属からなる別部材により構成
し、透過部６８ａに前記反射部６８ｂを接着剤等により
固着して防塵部材６８を形成するようにしても良い。

【００３２】折り返しミラー６７により反射されたビー
ム光は、防塵部材６８の反射部６８ｂにより反射され、
ポリゴンモータ６５ｂのハウジング部に付設されてお
り、前記反射光を受光することが可能な位置に設けてあ
る受光素子６９へ入射される。受光素子６９は、ビーム
光を光電変換しその電気信号を同期信号として得る。こ
の同期信号により感光体４への画像形成が開始され、ビ
ーム光は透過部６８ａを透過して、ケース７０の下方向
に設けられる感光体４の表面上を図３の矢印方向に走査
して静電潜像を形成する。なお、本実施の形態では受光
素子６９をポリゴンモータ６５ｂのハウジングに付設す
ることとしたが、必ずしもこれに限らず、ビーム光照射
装置６１に付設しても良い。また受光素子６９の位置は
同期精度の向上による画像形成の高品質化及び制御タイ
ミングの容易化のため、防塵部材６８の反射部６８ｂか
ら受光素子６９までの光路長と、防塵部材６８の透過部
６８ａから感光体４の表面までの光路長とがほぼ同一と
なるよう設置する。

【００３３】実施の形態２ 図４（ａ）は実施の形態２に係る防塵部材６８を示した
斜視図であり及び図４（ｂ）は角度調整機構７１の構造
を示す模式的立面図である。ケース７０の下面には、走
査光路である矩形の光路孔７０ｈが設けられており、そ
の長手方向長さよりもやや長く形成された矩形の防塵部
材６８が、光路孔７０ｈ上部を塞ぐように載置されてい
る。ケース７０の光路孔７０ｈ周囲の四角部には、ネジ
孔７１ｄ、７１ｄ、７１ｄ、７１ｄが設けられており、
また該ネジ孔７１ｄ、７１ｄ、７１ｄ、７１ｄと対向す
る位置に略同径の貫通孔７１ｃが防塵部材６８に設けら
れている。

【００３４】ケース７０と防塵部材６８との間には、光
路孔７０ｈよりもやや大きい開口部を有する横長ロの字
型のゴムパッキン７１ｅが介装され、さらに貫通孔７１
ｃ上側にはスプリングワッシャ７１ｂを装着し、この状
態でビス７１ａを防塵部材６８側からケース７０方向
へ、螺入する。

【００３５】以上のように構成される角度調整機構７１
はビス７１ａを適宜緩めることによりゴムパッキン７１
ｅの弾性により、防塵部材６８がケース７０から離反す
る方向に載置される。このように防塵部材６８の４隅に
設けられる角度調整機構７１のビス７１ａを適宜締緩す
ることにより、防塵部材６８を任意の角度に調整するこ
とができる。これにより防塵部材６８の反射部６８ｂに
より反射されたビーム光を、精度良く受光素子６９へ導
くことが可能となる。さらに受光素子６９の取付位置に
自由度を持たせることが可能となる。

【００３６】本実施の形態２は以上の如き構成としてあ
り、その他の構成及び作用は実施の形態１と同様である
ので、対応する部分には同一の参照番号を付してその詳
細な説明を省略する。

【００３７】実施の形態３ 図５は防塵部材を２箇所に設けた本発明に係る光走査装
置６の要部を示す模式的斜視図であり、図６は防塵部材
を２箇所に設けた本発明に係る光走査装置６を示す模式
的立面図である。ケース７０下面の端部には、走査光路
である矩形の光路孔７０ｈが設けられており、実施の形
態１と同じく該光路孔７０ｈに透明のガラス板等を用い
てなる透過部６８ａ及び反射部６８ｂを備える矩形の第
１防塵部材６８が前記ケース７０と面一となるように、
接着剤等により嵌着されている。反射部６８ｂの反射光
路にあたるケース７０の側壁部分には適大の光路孔７０
ｈ１が開設されており、透明のガラス板等からなる第２
防塵部材６８ｃがはめ込まれている。第２防塵部材６８
ｃを透過したビーム光の延長光路上には受光素子６９が
設けられている。なお、本実施の形態では第１防塵部材
６８と第２防塵部材６８ｃとを別部材として構成してあ
るが、第１防塵部材６８と第２防塵部材６８ｃとを、例
えば逆Ｌ字型のガラス板等に形成する等、同一部材によ
り構成しても良い。

【００３８】このように、ビーム光を第１防塵部材６８
の反射部６８ｂ及び第２防塵部材６８ｃにより、ケース
７０外部へ導くようにしたので受光素子６９をケース７
０外部に設けることができ、ケース内部の部品点数を低
減することが可能となる。また、受光素子６９をケース
７０の外部に配置することにより、ケース内のビーム光
路長を確保する必要がなくなりさらに小型化を図ること
ができる。

【００３９】本実施の形態３は以上の如き構成としてあ
り、その他の構成及び作用は実施の形態１及び２と同様
であるので、対応する部分には同一の参照番号を付して
その詳細な説明を省略する。

【００４０】実施の形態４ 図７は実施の形態４に係る本発明の光走査装置６の要部
を示す模式的斜視図であり、図８は実施の形態４に係る
本発明の光走査装置６の要部を示す模式的立面図であ
る。ケース７０下面の一側面よりの位置には角部まで走
査光路である矩形の光路孔７０ｈが設けられており、該
光路孔７０ｈに透明のガラス板等を用いてなる矩形の防
塵部材６８が前記ケース７０の下面及び側壁面と面一と
なるように、接着剤等により嵌着されている。防塵部材
６８はガラス板等からなる透過部６８ａから構成され、
さらに、防塵部材６８の感光体４に対向する外表面一端
の適長部分には、アルミニウム等で蒸着してなる反射部
６８ｂが形成されている。また、ケース７０の外部に
は、反射部６８ｂにより反射され、その上層の防塵部材
６８を透過するビーム光を受けることが可能な位置に受
光素子６９が設けられている。すなわちビーム光は防塵
部材６８の反射部６８ｂで反射された後、その上層部に
ある透過部６８ａを透過し、防塵部材６８の側面部から
ケース７０外部へ導かれ、そして受光素子６９へ入射さ
れる。

【００４１】このように構成することで実施の形態３で
述べた画像形成装置１と比較して、第２防塵部材６８ｃ
の分だけ部品点数を低減することができ、コストの低減
を図ることが可能となる。また、ビーム光が防塵部材６
８からケース７０外部の受光素子６９へ出射する角度
は、防塵部材６８の屈折率に依存する。従って、この防
塵部材６８の屈折率を適当なものに選択することで、受
光素子６９をさらにケース７０寄りに配置することが可
能となることから、受光素子６９の設置個所の自由度が
高まると共に、画像形成装置１をさらに小型化すること
が可能となる。

【００４２】本実施の形態４は以上の如き構成としてあ
り、その他の構成及び作用は実施の形態１乃至３と同様
であるので、対応する部分には同一の参照番号を付して
その詳細な説明を省略する。

【００４３】

【発明の効果】以上詳述した如く第１発明にあっては、
ケース光路孔に設けられる防塵部材に、ビーム光をケー
ス外部に設けてある感光体へ透過させる透過部（例えば
ガラス板等）と、ビーム光をケース内部に設けてある走
査タイミング検出用の受光素子へ反射させる反射部（例
えば、ガラス板にアルミニウムを蒸着させたもの等）と
を設ける。このようにひとつの防塵部材に透過及び反射
の２つの機能を持たせるようにしたので、従来のように
受光素子へビーム光を反射させる反射ミラーを別途設け
る必要がなくなり、部品点数の低減によるコストダウン
及び光走査装置の小型化を図ることが可能となる。

【００４４】第２発明にあっては、第１防塵部材の反射
部により反射されたビーム光を、ケースの光路孔に設け
られるガラス板等で形成される第２防塵部材へ導き、ケ
ース外部に設けられる受光素子へ入射させるようにす
る。すなわち反射部による反射ビーム光を、第２防塵部
材を設けることによって外部に導くようにしたので、受
光素子をケース外部に設置することが可能となることか
ら、ケース内部の部品点数を低減することができ、光走
査装置の小型化を図ることが可能となる。

【００４５】第３発明にあっては、防塵部材の表面に設
けられる反射部により、反射ビーム光をケース外部へ導
き、ケース外部に設けられる受光素子へ入射させるよう
にしたので、上述した第２防塵部材を設ける必要もなく
なることから、さらに部品点数を低減できコストダウン
を図ることが可能となる。

【００４６】第４発明にあっては、防塵部材の反射部か
ら受光素子までの光路長と、防塵部材の透過部から感光
体までの光路長とが同一となるように防塵部材を設け
て、画像書込タイミングの精度を向上させたので、より
高品質の画像形成が可能となる。

【００４７】第５発明にあっては、防塵部材に、弾性体
及び調整ねじ等から構成される角度調整機構を設けて角
度の調整を可能にしたので、単純な構造で画像書込の精
度を高めることができ、より高品質の画像形成が可能と
なると共に、組立時の調整が容易となる。

【００４８】第６発明にあっては、画像形成装置に上述
の光走査装置を設けたので、部品点数の低減によるコス
トダウン、及び画像形成装置の小型化を図ることが可能
となり、さらに画像書込精度の向上により、さらに高品
質の画像形成が可能となる等、本発明は優れた効果を奏
し得る。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明に係る画像形成装置の構造を示す模式図
である。

【図２】本発明に係る光走査装置を示した模式的斜視図
である。

【図３】本発明に係る光走査装置の模式的平面図及び模
式的立面図である。

【図４】実施の形態２に係る防塵部材を示した斜視図及
び角度調整機構の構造を示す模式的立面図である。

【図５】防塵部材を２箇所に設けた本発明に係る光走査
装置の要部を示す模式的斜視図である。

【図６】防塵部材を２箇所に設けた本発明に係る光走査
装置を示す模式的立面図である。

【図７】実施の形態４に係る本発明の光走査装置の要部
を示す模式的斜視図である。

【図８】実施の形態４に係る本発明の光走査装置の要部
を示す模式的立面図である。

【図９】従来の光走査装置の構造を模式的に示した模式
的斜視図である。

【図１０】従来の光走査装置の模式的平面図及び模式的
立面図である。

【符号の説明】

１ 画像形成装置 ４ 感光体 ６ 光走査装置 ６８ 防塵部材（第１防塵部材） ６８ａ 透過部 ６８ｂ 反射部 ６８ｃ 第２防塵部材 ６９ 受光素子 ７０ ケース ７１ 角度調整機構

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 2C362 BA87 BA89 DA03 DA06 DA09 DA12 DA14 2H045 AA01 CA89 DA02 DA04 DA41 5C051 AA02 CA07 DB02 DB22 DB24 DB30 DC02 DC04 DC07 DE21 EA00 FA01 5C072 AA03 BA01 HA02 HA09 HA13 HA20 HB13 XA01 XA05

Claims (6)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 ケース内部に設けられるビーム光源から
   出射されるビーム光を、ケース外部に設けられる感光体
   へ走査照射する光走査装置において、 前記ケースに設けられ、前記感光体へビーム光を透過さ
   せる透過部、及び該透過部に連接され、前記感光体への
   ビーム光走査タイミングを検出する、前記ケース内部に
   設けられた受光素子へビーム光を反射させる反射部を有
   する防塵部材を備えることを特徴とする光走査装置。
2. 【請求項２】 ケース内部に設けられるビーム光源から
   出射されるビーム光を、ケース外部に設けられる感光体
   へ走査照射する光走査装置において、 前記ケースに設けられ、前記感光体へビーム光を透過さ
   せる透過部、及び該透過部に連接されビーム光を反射さ
   せる反射部を有する第１防塵部材と、 前記ケースに設けられ、前記防塵部材の前記反射部によ
   り反射されたビーム光を、前記感光体へのビーム光走査
   タイミングを検出する、前記ケース外部に設けられる受
   光素子へ透過させる第２防塵部材とを備えることを特徴
   とする光走査装置。
3. 【請求項３】 ケース内部に設けられるビーム光源から
   出射されるビーム光を、ケース外部に設けられる感光体
   へ走査照射する光走査装置において、 前記ケースに設けられ、ビーム光を前記感光体へ透過さ
   せる透過部を有する防塵部材を備え、 該防塵部材の表面の一部に、前記感光体へのビーム光走
   査タイミングを検出する、前記ケース外部に設けられる
   受光素子へビーム光を反射させる反射部を形成してある
   ことを特徴とする光走査装置。
4. 【請求項４】 前記防塵部材の前記反射部から前記受光
   素子までの光路長と、前記防塵部材の前記透過部から前
   記感光体までの光路長とが略同一となるよう構成されて
   いることを特徴とする１乃至３のいずれかに記載の光走
   査装置。
5. 【請求項５】 前記防塵部材の設置角度を調整する角度
   調整機構を更に備えることを特徴とする請求項１乃至４
   のいずれかに記載の光走査装置。
6. 【請求項６】 請求項１乃至５のいずれかに記載の光走
   査装置を備えることを特徴とする画像形成装置。