JP2002028592A - 洗浄装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】洗浄液によって基板が再汚染される恐れを低減
して、短時間で基板の洗浄を行うことができるようにす
る。 【解決手段】保持手段に保持された被洗浄物を洗浄液中
に浸漬して洗浄を行う洗浄装置において、上部に開口部
を有するとともに底部が閉塞された外槽と、上記外槽の
内部において上記外槽と所定の間隙を有して配設され、
上部に上方開口部を有するとともに、上記外槽の底部側
に上記外槽の内部と連通する下方開口部を有する内槽
と、上記内槽の内部において、上記内槽の上記下方開口
部近傍に配設されるとともに、上記内槽の内面に沿って
下方から上方へ向かう方向で洗浄液を供給する洗浄液供
給手段とを有する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、洗浄装置に関し、
さらに詳細には、例えば、半導体製造分野での半導体ウ
エハや液晶製造分野でのガラス基板など扁平な円盤形状
をした丸形電子部品基板や角形の基板などのような各種
の基板（以下、本明細書においては、上記したような各
種の基板を総称して、単に、「基板」と称する。）など
を洗浄するための洗浄装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来より、半導体製造分野や液晶製造分
野においては、所定の工程により形成された基板を処理
槽の内部に充填された所定の処理を行うための処理液
（液体）中に浸漬し、この処理液により基板に対して所
定の処理を施した後に、当該所定の処理が施された基板
を移載装置によって処理槽から搬出し、さらに当該基板
を移載装置によって洗浄装置の洗浄液（液体）中に搬入
し、洗浄液により基板を洗浄することが行われている。

【０００３】こうした被洗浄物たる基板の洗浄を行う洗
浄装置として、例えば、図１に示すような洗浄装置が従
来から知られている。

【０００４】この洗浄装置１００は、基板２００を洗浄
するための洗浄液が充填される槽１４６と、槽１４６内
に配設されるとともに基板２００を垂直方向（図１に示
す洗浄装置の上下方向と一致する方向）に複数枚整列さ
せて保持する保持部材１４０−１、１４０−２と、槽１
４６の底部１４６ａ近傍に配設された洗浄液供給ノズル
１４２、１４４とを有して構成されている。

【０００５】ここで、洗浄装置１００を構成する槽１４
６の内部に配設された洗浄液供給ノズル１４２、１４４
には、所定の洗浄に応じた洗浄液を充填したタンク（図
示せず）からパイプ１４５を介して洗浄液が供給される
ものであり、供給された洗浄液が当該洗浄液供給ノズル
１４２、１４４から槽１４６の内部に噴射されるもので
ある。

【０００６】なお、洗浄液供給ノズル１４２、１４４の
洗浄液噴射口は、図１において真上方向に向けられてい
る。

【０００７】そして、上記した従来の洗浄装置１００を
用いて基板２００を洗浄するには、まず、洗浄液供給ノ
ズル１４２、１４４から槽１４６の内部へ洗浄液を噴射
して、槽１４６の内部に洗浄液を供給する。

【０００８】こうして、槽１４６の内部へ洗浄液供給ノ
ズル１４２、１４４から洗浄液が供給されると、洗浄液
は槽１４６の内部から槽１４６の外部へオーバーフロー
するようになる（図１における一点鎖線矢印参照）とと
もに、槽１４６の内部に貯留する洗浄液中には洗浄装置
１００の下方から上方へ向かう方向で上昇する噴流（図
１における破線矢印参照）が生じることとなる。

【０００９】一方、処理槽において所定の処理が施され
た基板２００は、移載装置（図示せず）によって処理槽
の処理液中から引き上げられ、この処理槽の処理液中か
ら引き上げられた状態のまま、つまり、処理槽の処理液
中から引き上げられたときの基板２００の上下方向（こ
の上下方向は、重力方向と一致する。）と洗浄装置１０
０の上下方向とが一致するようにして、洗浄装置１００
の洗浄液中に搬入される。

【００１０】こうして移載装置（図示せず）によって洗
浄装置１００の洗浄液中に搬入され、保持部材１４０−
１、１４０−２によって垂直方向に保持された基板２０
０は、洗浄液供給ノズル１４２、１４４からの洗浄液の
噴射によって洗浄液中に生起された噴流、即ち、洗浄装
置１００に貯留する洗浄液中における下方から上方へ向
かう方向の上昇する噴流（図１における破線矢印参照）
によって、その表面２００ａに残留している処理液やパ
ーティクルなどの汚染物質などを除去されて洗浄される
ものである。

【００１１】ところで、処理槽において所定の処理が施
された基板２００が移載装置（図示せず）によって処理
槽の処理液中から引き上げられた際には、図２に示すよ
うに、基板２００の表面２００ａに残留している処理液
やパーティクルなどの汚染物質などが重力に従って処理
液中から搬出されたときの基板２００の表面２００ａの
下方部位２００ｂ側に移動し、そのまま基板２００の表
面２００ａの下方部位２００ｂ側に主に付着することと
なる（図２斜線領域参照）。

【００１２】ここで、上記したように、従来の洗浄装置
１００においては、基板２００は処理槽の処理液中から
引き上げられた状態のまま、つまり、基板２００が処理
槽の処理液中から引き上げられたときの基板２００の上
下方向と洗浄装置１００の上下方向とが一致するように
して洗浄装置１００の洗浄液中に搬入されるので、基板
２００の表面２００ａの下方部位２００ｂ側に主に付着
している処理液やパーティクルなどの汚染物質などを除
去した後の汚染された洗浄液が、洗浄液供給ノズル１４
２、１４４からの洗浄液の噴射による洗浄液中の槽１４
６の下方から上方へ向かう方向で上昇する噴流（図１に
おける破線矢印参照）の流れにのって、基板２００の表
面２００ａを下方から上方へ向かう方向で移動すること
になる。

【００１３】その結果、基板２００の表面２００ａの下
方部位２００ｂ側に主に付着している処理液やパーティ
クルなどの汚染物質などを除去した後の汚染された洗浄
液によって、基板２００の表面２００ａが再汚染される
恐れがあり、汚染物質などを基板２００の表面２００ａ
から確実に除去するためには、長時間の洗浄を行う必要
があるという問題点があった。

【００１４】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記したよ
うな従来の技術の有する問題点に鑑みてなされたもので
あり、その目的とするところは、洗浄液によって基板が
再汚染される恐れを低減して、短時間で基板の洗浄を行
うことができるようにした洗浄装置を提供しようとする
ものである。

【００１５】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明のうち請求項１に記載の発明は、保持手段に
保持された被洗浄物を洗浄液中に浸漬して洗浄を行う洗
浄装置において、上部に開口部を有するとともに底部が
閉塞された外槽と、上記外槽の内部において上記外槽と
所定の間隙を有して配設され、上部に上方開口部を有す
るとともに、上記外槽の底部側に上記外槽の内部と連通
する下方開口部を有する内槽と、上記内槽の内部におい
て、上記内槽の上記下方開口部近傍に配設されるととも
に、上記内槽の内面に沿って下方から上方へ向かう方向
で洗浄液を供給する洗浄液供給手段とを有するようにし
たものである。

【００１６】従って、本発明のうち請求項１に記載の発
明によれば、洗浄液供給手段によって供給されて内槽の
内部に貯留する洗浄液中に生ずる噴流が制御され、保持
部材によって内槽の内部において保持される被洗浄物
を、洗浄液中の上方から下方へ向かう方向で下降する噴
流によって、当該被洗浄物の表面に残留している処理液
やパーティクルなどの汚染物質などを除去して洗浄を行
うことができる。

【００１７】また、本発明のうち請求項２に記載の発明
は、保持手段に保持された被洗浄物を洗浄液中に浸漬し
て洗浄を行う洗浄装置において、底部と上記底部の周部
から立設された側壁部材とを有し、上記側壁部材の上端
部によって形成される開口部を備えた外槽と、上記外槽
の上記側壁部材と所定の間隙を有して対向するようにし
て上記外槽の内部に位置し、上方端部が上記外槽の上記
開口部の高さ以上の位置に位置して上方開口部を形成す
るとともに、下方端部が上記外槽の上記底部と所定の間
隙を有して上記外槽の内部と連通する下方開口部を形成
する内槽と、上記内槽と所定の間隙を有して上記内槽の
内部に配設された保持手段と、上記内槽の内部において
上記内槽の上記下方開口部近傍に配設されるとともに、
上記内槽の内面に沿って下方から上方へ向かう方向で上
記保持手段と上記内槽との間の間隙に洗浄液を供給する
洗浄液供給手段とを有するようにしたものである。

【００１８】従って、本発明のうち請求項２に記載の発
明によれば、洗浄液供給手段によって内槽の内面に沿っ
て下方から上方へ向かう方向で保持手段と内槽との間の
間隙に供給された内槽の内部に貯留する洗浄液中に生ず
る噴流が制御され、保持部材によって内槽の内部におい
て保持される被洗浄物を、洗浄液中の上方から下方へ向
かう方向で下降する噴流によって、被洗浄物の表面に残
留している処理液やパーティクルなどの汚染物質などを
除去して洗浄を行うことができる。

【００１９】また、本発明のうち請求項３に記載の発明
にように、請求項１または請求項２のいずれか１項に記
載の発明において、さらに、上記内槽の上方端部におけ
る洗浄液の液面近傍に配設されるととに、洗浄液を上記
内槽の内部側に誘導する制御部材とを有するようにして
もよい。

【００２０】このようにすると、制御部材によって洗浄
液の液面付近において洗浄液が内槽の内部側に誘導さ
れ、なお一層効率よく、内槽の内部において洗浄液中に
生ずる噴流を制御することができ、洗浄液中の上方から
下方へ向かう方向で下降する噴流を一層効率よく生起す
ることができる。

【００２１】

【発明の実施の形態】以下、添付の図面に基づいて、本
発明による洗浄装置の実施の形態の一例を詳細に説明す
るものとする。

【００２２】図３には、本発明による洗浄装置の実施の
形態の一部を破断して示した概略構成説明図が示されて
いる。

【００２３】なお、図３において、図１乃至図２と同一
あるいは相当する構成に関しては、図１乃至図２におい
て用いた符号と同一の符号を用いて示すことにより、そ
の詳細な構成および作用の説明は省略する。

【００２４】また、本発明による洗浄装置の実施の形態
において用いられる被洗浄物たる基板は、上記した「従
来の技術」の項において説明した基板２００と同一のも
のでよい。

【００２５】ここで、本発明の実施の形態の一例による
洗浄装置１０と「従来の技術」の項で説明した従来の洗
浄装置１００とを比較すると、本発明の実施の形態の一
例による洗浄装置１０が、外槽１２の内部に内槽２０を
有している点において、従来の洗浄装置１００と大きく
異なっている。

【００２６】即ち、洗浄装置１０は、上部に開口部１２
ａを有するとともに底部１２ｂが閉塞された外槽１２
と、外槽１２の内部に所定の間隙を有して配設され、上
部に上方開口部２０ａを備えるとともに下部、即ち、外
槽１２の底部１２ｂ側に下方開口部２０ｂを備えた内槽
２０と、内槽２０の上方に配設された制御部材３０、３
２とを有して構成されている。

【００２７】より詳細に説明すると、外槽１２は、矩形
の底部１２ｂと、当該底部１２ｂの周部から立設された
側壁部１２ｃとからなり、側壁部１２ｃの端部１２ｄに
よって開口部１２ａが形成されているものである。

【００２８】一方、内槽２０は、両端が外槽１２の側壁
部１２ｃに連結されて支持されている一対の板状体であ
る側壁部２２、２４からなり、当該一対の側壁部２２、
２４の上方端部２２ａ、２４ａによって形成される上方
開口部２０ａと、当該一対の側壁部２２、２４の外槽１
２の底部１２ｂ側の下方端部２２ｂ、２４ｂによって形
成される下方開口部２０ｂとにおいて開口するものであ
る。

【００２９】この内槽２０の一対の側壁部２２、２４は
それぞれ、外槽１２の側壁部１２ｃと側壁部２２、２４
の平面部２２ｃ、２４ｃとが対向するようにして、外槽
１２の側壁部１２ｃと所定の間隙を有して配設されてい
るものである。

【００３０】そして、内槽２０の側壁部２２、２４の下
方端部２２ｂ、２４ｂは、外槽１２の底部１２ｂと所定
の間隙を有し、内槽２０の側壁部２２、２４の上方端部
２２ａ、２４ａは、外槽１２の側壁部１２ｃの端部１２
ｄによって形成される開口部１２ａの位置に比べて洗浄
装置１０の上方側に、即ち、開口部１２ａの位置より高
い位置に位置している。

【００３１】また、内槽２０の側壁部２２の下方端部２
２ｂ近傍は、内槽２０の側壁部２４側に折り曲げ形成さ
れており、一方、内槽２０の側壁部２４の下方端部２４
ｂ近傍は、内槽２０の側壁部２２側に折り曲げ形成され
ていて、内槽２０の内側に傾斜する斜面部２２ｄ、２４
ｄを形成している。従って、内槽２０の下方開口部２０
ｂは、上方開口部２０ａよりも小さな開口部となされて
いる。なお、内槽２０の下方開口部２０ｂは、外槽１２
の内部と連通しているものである。

【００３２】さらに、内槽２０の側壁部２２、２４それ
ぞれの上方端部２２ａ、２４ａ近傍の内側には、制御部
材３０、３２がそれぞれ配設されている。

【００３３】ここで、制御部材３０、３２は、略直角三
角柱状体であり、制御部材３０、３２の直角三角形の直
角を形成する一辺たる上面３０ａ、３２ａが、内槽２０
の側壁部２２、２４との間（図３におけるＲ１参照）で
直角をなすとともに、制御部材３０、３２の直角三角形
の斜辺を形成する辺たる下面３０ｂ、３２ｂが、内槽２
０の側壁部２２、２４との間（図３におけるＲ２参照）
で鈍角をなすようにして、一対の側壁部２２、２４それ
ぞれの上方端部２２ａ、２４ａ近傍に配設されている。

【００３４】この際、側壁部２２、２４に配設された制
御部材３０、３２の上面３０ａ、３２ａの位置は、外槽
１２の側壁部１２ｃの端部１２ｄによって形成される開
口部１２ａの位置と略等しい高さとなるように設定され
ている。

【００３５】また、内槽２０の内部２０ｃには、基板２
００を垂直方向に複数枚整列させて保持する保持部材４
０−１、４０−２が、内槽２０の一対の側壁部２２、２
４の平面部２２ｃ、２４ｃと所定の間隙を有して配設さ
れている。

【００３６】さらに、内槽２０の内部２０ｃにおいて
は、２つの洗浄液供給ノズル４２、４４が、内槽２０の
下方開口部２０ｂ近傍における側壁部２２、２４の斜面
部２２ｄ、２４ｄに近接してそれぞれ配設されている。

【００３７】ここで、２つの洗浄液供給ノズル４２、４
４はそれぞれ、所定の洗浄に応じた洗浄液を充填したタ
ンク（図示せず）からパイプ４５を介して供給される洗
浄液を、内槽２０の側壁部２２、２４の平面部２２ｃ、
２４ｃの内面に沿って噴射するような向きで配設されて
いる。即ち、２つの洗浄液供給ノズル４２、４４はそれ
ぞれ、パイプ４５を介して供給される洗浄液を平面部２
２ｃ、２４ｃと保持部材４０−１、４０−２との間隙に
噴射するような向きで配設されている。

【００３８】即ち、洗浄液供給ノズル４２の洗浄液噴射
口は、内槽２０の側壁部２２の平面部２２ｃと保持部材
４０−１との間に向けられており、一方、洗浄液供給ノ
ズル４４の洗浄液噴射口は、内槽２０の側壁部２４の平
面部２４ｃと保持部材４０−２との間に向けられてい
る。つまり、洗浄液供給ノズル４２、４４の洗浄液噴射
口は、それぞれ図３において真上方向ではなく上方斜め
に向けられている。

【００３９】以上の構成において、本発明による洗浄装
置１０を用いて基板２００を洗浄するには、まず、洗浄
液供給ノズル４２、４４から内槽２０の側壁部２２、２
４の平面部２２ｃ、２４ｃに沿って、即ち、平面部２２
ｃ、２４ｃと保持部材４０−１、４０−２との間隙に向
かって洗浄液を噴射して、洗浄装置１０へ洗浄液を供給
する。

【００４０】こうして、洗浄装置１０へ洗浄液供給ノズ
ル４２、４４から洗浄液が供給されると、洗浄液が外槽
１２の開口部１２ａから外槽１２の外部へオーバーフロ
ーするようになる（図３の一点鎖線矢印参照）ととも
に、内槽２０の内部２０ｃにおける洗浄液の液面の高さ
は、外槽１２の開口部１２ａの位置と等しい高さに位置
する側壁部２２、２４に配設された制御部材３０、３２
の上面３０ａ、３２ａの高さと一致するようになる。

【００４１】さらに、洗浄液供給ノズル４２、４４から
の洗浄液の供給により、内槽２０の内部２０ｃに貯留す
る洗浄液中には、洗浄装置１０の上方から下方へ向かう
方向で下降する噴流（図３における破線矢印参照）が生
起されることになる。

【００４２】より詳細には、洗浄液供給ノズル４２、４
４から内槽２０の側壁部２２、２４の平面部２２ｃ、２
４ｃに沿って、即ち、平面部２２ｃ、２４ｃと保持部材
４０−１、４０−２との間隙に向かって洗浄液が噴射さ
れて生じる噴流（図３における破線矢印参照）は、内槽
２０の側壁部２２、２４の平面部２２ｃ、２４ｃと保持
部材４０−１、４０−２との間隙を洗浄装置１０の下方
から上方へ向かう方向で上昇し、制御部材３０、３２の
下面３０ｂ、３２ｂに沿って洗浄液が内槽２０の内部２
０ｃ側に誘導されるようにして保持部材４０−１、４０
−２側に流れの方向を変化して、保持部材４０−１、４
０−２間を内槽２０の上方開口部２０ａから下方開口部
２０ｂに向かう方向、即ち、洗浄装置１０の上方から下
方へ向かう方向で下降する。

【００４３】そして、保持部材４０−１、４０−２間を
洗浄装置１０の上方から下方へ向かう方向で下降した噴
流（図３における破線矢印参照）は、内槽２０の下方端
部２２ｂ、２４ｂへと進み、さらに内槽２０と下方開口
部２０ｂを介して連通している外槽１２の内部へと進ん
で、内槽２０の側壁部２２、２４の斜面部２２ｄ、２４
ｄに沿って外槽１２の側壁部１２ｃ側に流れの方向を変
化して、内槽２０の側壁部２２、２４の平面部２２ｃ、
２４ｃと外槽１２の側壁部１２ｃとの間隙を洗浄装置１
０の下方から上方へ向かう方向で上昇して、外槽１２の
開口部１２ａから外槽１２の外部へオーバーフローする
（図３における一点鎖線矢印参照）こととなる。

【００４４】こうして、洗浄装置１０の内部へ洗浄液供
給ノズル４２、４４から洗浄液が供給されると、洗浄液
は外槽１２の開口部１２ａから外槽１２の外部へオーバ
ーフローするようになる（図３における一点鎖線矢印参
照）とともに、内槽２０の内部２０ｃに貯留する洗浄液
中には洗浄装置１０の上方から下方へ向かう方向で下降
する噴流（図３における破線矢印参照）が生じることと
なる。

【００４５】一方、処理槽において所定の処理が施され
た基板２００は、移載装置（図示せず）によって処理槽
の処理液中から引き上げられ、この処理槽の処理液中か
ら引き上げられた状態のまま、つまり、処理槽の処理液
中から引き上げられたときの基板２００の上下方向（こ
の上下方向は、重力方向と一致する。）と洗浄装置１０
の上下方向とが一致するようにして、洗浄装置１０にお
ける内槽２０の内部２０ｃに貯留する洗浄液中に搬入さ
れ、保持部材４０−１、４０−２によって垂直方向に保
持される。

【００４６】上記したようにして、移載装置（図示せ
ず）によって洗浄装置１０における内槽２０の内部２０
ｃに貯留する洗浄液中に搬入され、保持部材４０−１、
４０−２によって垂直方向に保持された基板２００は、
洗浄液供給ノズル４２、４４からの洗浄液の噴射によっ
て洗浄液中に生起された噴流、即ち、内槽２０の内部２
０ｃに貯留する洗浄液中における上方から下方へ向かう
方向の下降する噴流（図３における破線矢印参照）によ
って、その表面２００ａに残留している処理液やパーテ
ィクルなどの汚染物質などを除去されて洗浄されるもの
である。

【００４７】より詳細には、洗浄装置１０内において保
持部材４０−１、４０−２によって垂直方向に保持され
る基板２００に対しては、洗浄装置１０の内部において
生じている洗浄液中の噴流のうち、洗浄装置１０の内槽
２０の内部２０ｃにおいて生じている保持部材４０−
１、４０−２間を洗浄装置１０の上方から下方へ向かう
方向、即ち、洗浄液の液面付近から内槽２０の下方開口
部２０ｂに向かう方向で下降する噴流が流れるようにな
り、これにより基板２００の表面２００ａに残留してい
る汚染物質などが除去されて洗浄が行われるものであ
る。

【００４８】一方、洗浄装置１０の内部において生じて
いる洗浄液中の噴流のうち、内槽２０の側壁部２２、２
４の平面部２２ｃ、２４ｃと保持部材４０−１、４０−
２との間隙を洗浄装置１０の下方から上方へ向かう方向
で上昇する噴流は、基板２００の外周側を流れることに
なる。

【００４９】即ち、洗浄装置１０内において保持部材４
０−１、４０−２によって垂直方向に保持される基板２
００の表面２００ａには、常に洗浄装置１０の上方から
下方へ向かう方向、即ち、洗浄液の液面付近から内槽２
０の下方開口部２０ｂに向かう方向で下降する噴流が流
れることになるものであるので、基板２００の表面２０
０ａの下方部位２００ｂ側に主に付着している処理液や
パーティクルなどの汚染物質などを除去した後の汚染さ
れた洗浄液によって、基板２００の表面２００ａが再汚
染される恐れが低減され、短時間で基板２００の洗浄が
行なわれる。

【００５０】以上において説明したように、上記した洗
浄装置１０は、外槽１２の内部に所定の間隙を有して内
槽２０を配設し、洗浄液供給ノズル４２、４４から内槽
２０に沿って洗浄装置１０の上方から下方へ洗浄液を噴
出するようにしたので、内槽２０の内部２０ｃにおいて
洗浄液中に生ずる噴流（図３における破線矢印参照）を
制御することができ、保持部材４０−１、４０−２によ
って内槽２０の内部２０ｃにおいて垂直方向に保持され
る基板２００を、洗浄液中の保持部材４０−１、４０−
２間を洗浄液の液面付近から内槽２０の下方開口部２０
ｂに向かう方向、洗浄装置１０の上方から下方へ向かう
方向で下降する噴流によって、基板２００の表面２００
ａに残留している処理液やパーティクルなどの汚染物質
などを、洗浄装置１０の上方から下方へ向かう方向で移
動させ除去して洗浄を行うことができる。

【００５１】しかも、内槽２０の上方に制御部材３０、
３２を配設するようにしたので、洗浄液の液面付近にお
いて洗浄液が内槽２０の内部２０ｃ側に誘導され、なお
一層効率よく、内槽２０の内部２０ｃにおいて洗浄液中
に生ずる噴流（図３における破線矢印参照）を制御する
ことができ、洗浄液中の保持部材４０−１、４０−２間
を洗浄液の液面付近から内槽２０の下方開口部２０ｂに
向かう方向、即ち、洗浄装置１０の上方から下方へ向か
う方向で下降する噴流を一層効率よく生起することがで
きる。

【００５２】また、洗浄装置１０においては、洗浄液中
の洗浄装置１０の下方から上方へ向かう方向で上昇する
噴流、即ち、内槽２０の側壁部２２、２４の平面部２２
ｃ、２４ｃと保持部材４０−１、４０−２との間隙のお
ける噴流は、基板１００の外周側を流れるので、基板２
００の下方部位２００ｂ側に主に付着する処理液やパー
ティクルなどの汚染物質（図２斜線領域参照）などを除
去した後の汚染された洗浄液が、基板２００の表面２０
０ａ上を移動することがなくなるので、基板２００の下
方部位２００ｂ側に主に付着している処理液やパーティ
クルなどの汚染物質などが基板２００の表面２００ａ全
体に再付着することが抑止され、短時間で洗浄を行うこ
とができるようになる。

【００５３】なお、上記した実施の形態は、以下の
（１）乃至（８）に説明するように適宜に変形してもよ
い。

【００５４】（１）上記した実施の形態においては、内
槽２０の上方に制御部材３０、３２を配設するようにし
たので、一層効率よく内槽２０の内部２０ｃにおいて洗
浄液中に生ずる噴流（図３における破線矢印参照）を制
御して、洗浄液中の保持部材４０−１、４０−２間を洗
浄液の液面付近から内槽２０の下方開口部２０ｂに向か
う方向、即ち、洗浄装置１０の上方から下方へ向かう方
向で下降する噴流を効率よく生起することができるもの
であるが、内槽２０の上方に制御部材３０、３２を配設
しない場合においても、内槽２０によりその内部２０ｃ
において洗浄液中に生ずる噴流（図３における破線矢印
参照）が制御されて、洗浄液中の保持部材４０−１、４
０−２間を洗浄液の液面付近から内槽２０の下方開口部
２０ｂに向かう方向、即ち、洗浄装置１０の上方から下
方へ向かう方向で下降する噴流を生起することができ
る。

【００５５】即ち、本発明による洗浄装置は、内槽２０
の上方に制御部材３０、３２を配設しなくてもよいもの
であり、その場合にはコスト低減を図ることができる。

【００５６】（２）上記した実施の形態においては、保
持部材４０−１、４０−２は基板２００を垂直方向（図
３に示す洗浄装置の上下方向と一致する方向）に複数枚
整列させて保持するようにしたが、これに限られるもの
ではないことは勿論であり、保持部材４０−１、４０−
２がキャリッジなどに収容された基板２００を保持する
ようにしてもよく、要は、保持部材４０−１、４０−２
が基板２００を垂直方向（図３に示す洗浄装置の上下方
向と一致する方向）に複数枚整列させて保持すればよ
い。

【００５７】（３）上記した実施の形態においては、洗
浄装置１０内に保持部材４０−１、４０−２を配設する
ようにしたが、これら保持部材４０−１、４０−２は洗
浄装置１０内に固定的に配設してもよいし、また、取り
外し自在に配設してもよい。

【００５８】さらには、保持部材４０−１、４０−２を
別途設けることなしに、処理槽から洗浄装置１０に移載
装置（図示せず）により基板２００を移動する際に、基
板２００を把持する移載装置（図示せず）の把持部（図
示せず）ごと洗浄装置１０内に貯留する洗浄液内に浸漬
してもよい。この場合には、移載装置（図示せず）の把
持部（図示せず）が、保持部材４０−１、４０−２とし
て機能することになる。

【００５９】（４）上記した実施の形態においては、制
御部材３０、３２として略直角三角柱状体のものを用い
たが、これに限られるものではないことは勿論であり、
制御部材３０、３２における下面３０ｂ、３２ｂのみを
構成するような板状体を用いてもよい。

【００６０】（５）上記した実施の形態においては、内
槽２０の上方に制御部材３０、３２を配設するようにし
たが、これに限られるものではないことは勿論であり、
制御部材３０、３２を内槽２０と一体化するようにして
もよく、内槽２０の側壁部２２、２４の平面部２２ｃ、
２４ｃの内面に制御部材３０、３２のような形状で突設
する部分を形成すればよい。

【００６１】（６）上記した実施の形態においては、外
槽１２として矩形の底部１２ｂと、当該底部１２ｂの周
部から立設された側壁部１２ｃとを有するものを用いた
が、これに限られるものではないことは勿論であり、例
えば、円形の底部と当該底部の周部から立設された側壁
部とを有する外槽を用いてもよく、要は、上部に開口部
を有し底部が閉塞されている外槽を用いればよい。

【００６２】（７）上記した実施の形態においては、内
槽２０を構成する側壁部２２、２４の両端が外槽１２の
側壁部１２ｃに連結されて支持されるようにしたが、こ
れに限られるものではないことは勿論であり、内槽２０
を構成する側壁部２２、２４の両端が外槽１２の底部１
２ｂから立設する支持部材に連結されるようにしてよ
く、この際、内槽は側壁部２２、２４と当該支持部材と
によって構成されることとなる。

【００６３】さらに、内槽を、当該内槽の下方側の一部
分のみが外槽１２の底部１２ｂから立設するとともに下
方開口部２０ｂを形成する下方端部２２ｂ、２４ｂを有
するようにして一体成形するようにしてよい。

【００６４】（８）上記した実施の形態ならびに上記
（１）乃至（７）に示す変形例は、適宜に組み合わせる
ようにしてもよい。

【００６５】

【発明の効果】本発明は、以上説明したように構成され
ているので、洗浄液によって基板が再汚染される恐れを
低減され、短時間で基板の洗浄を行うことができるよう
になるという優れた効果を奏する。

【図面の簡単な説明】

【図１】（ａ）は、処理槽の概略構成断面図であり、
（ｂ）は、従来の洗浄装置の一部を破断して示した概略
構成説明図である。

【図２】処理槽の処理液中から引き上げられたときの基
板を示す説明図である。

【図３】本発明による洗浄装置の実施の形態の一部を破
断して示した概略構成説明図である。

【符号の説明】

１０、１００ 洗浄装置 １２ 外槽 １２ａ 開口部 １２ｂ 底部 １２ｃ 側壁部 １２ｄ 端部 ２０ 内槽 ２０ａ 上方開口部 ２０ｂ 下方開口部 ２２、２４ 側壁部 ２２ａ、２４ａ 上方端部 ２２ｂ、２４ｂ 下方端部 ２２ｃ、２４ｃ 平面部 ２２ｄ、２４ｄ 傾斜部 ３０、３２ 制御部材 ３０ａ、３２ａ 上面 ３０ｂ、３２ｂ 下面 ４０−１、４０−２、１４０−１、１４０−２
保持部材 ４２、４４、１４２、１４４ 洗浄液供給ノズル ４５、１４５ パイプ １４６ 槽 １４６ａ 底部 ２００ 基板 ２００ａ 表面 ２００ｂ 下方部位

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 北川 賢一 東京都調布市柴崎２丁目１番地３ 島田理 化工業株式会社内 (72)発明者 森戸 泰臣 東京都調布市柴崎２丁目１番地３ 島田理 化工業株式会社内 Ｆターム(参考） 3B201 AA03 AB44 BB02 BB04 BB05 BB87 BB92 CB12

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 保持手段に保持された被洗浄物を洗浄液
   中に浸漬して洗浄を行う洗浄装置において、 上部に開口部を有するとともに底部が閉塞された外槽
   と、 前記外槽の内部において前記外槽と所定の間隙を有して
   配設され、上部に上方開口部を有するとともに、前記外
   槽の底部側に前記外槽の内部と連通する下方開口部を有
   する内槽と、 前記内槽の内部において、前記内槽の前記下方開口部近
   傍に配設されるとともに、前記内槽の内面に沿って下方
   から上方へ向かう方向で洗浄液を供給する洗浄液供給手
   段とを有する洗浄装置。
2. 【請求項２】 保持手段に保持された被洗浄物を洗浄液
   中に浸漬して洗浄を行う洗浄装置において、 底部と前記底部の周部から立設された側壁部材とを有
   し、前記側壁部材の上端部によって形成される開口部を
   備えた外槽と、 前記外槽の前記側壁部材と所定の間隙を有して対向する
   ようにして前記外槽の内部に位置し、上方端部が前記外
   槽の前記開口部の高さ以上の位置に位置して上方開口部
   を形成するとともに、下方端部が前記外槽の前記底部と
   所定の間隙を有して前記外槽の内部と連通する下方開口
   部を形成する内槽と、 前記内槽と所定の間隙を有して前記内槽の内部に配設さ
   れた保持手段と、 前記内槽の内部において前記内槽の前記下方開口部近傍
   に配設されるとともに、前記内槽の内面に沿って下方か
   ら上方へ向かう方向で前記保持手段と前記内槽との間の
   間隙に洗浄液を供給する洗浄液供給手段とを有する洗浄
   装置。
3. 【請求項３】 請求項１または請求項２のいずれか１項
   に記載の洗浄装置において、さらに、 前記内槽の上方端部における洗浄液の液面近傍に配設さ
   れるととに、洗浄液を前記内槽の内部側に誘導する制御
   部材とを有する洗浄装置。