KR100321546B1 - 이송 로봇의 척 세정 방법 및 장치 - Google Patents

이송 로봇의 척 세정 방법 및 장치 Download PDF

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Abstract

본 발명은 반도체 웨이퍼의 습식 식각 설비에서 사용되는 웨이퍼 이송 로봇의 척을 세정하기 위한 방법 및 장치에 관한 것으로, 그 장치는 용기, 배수 라인, 드라이 노즐로 이루어진다. 용기에는 세정액이 오버 플로워 되도록 채워진다. 배수 라인은 용기의 바닥 부분에 설치된다. 그리고 드라이 노즐은 용기 상단 부분에 설치된다. 상기 세정 장치를 이용한 세정 방법은 척을 세정액이 채워진 용기에 담그어 세정 한 다음 척을 수면위로 천천히 들어올림으로서 척 표면에 묻어 나오는 세정액을 세정액의 표면 장력을 이용하여 최대한 제거하고, 마지막으로 척의 표면에 잔존하는 세정액을 드라이 노즐에서 분사되는 질소 가스를 이용하여 증발시킨다.

Description

이송 로봇의 척 세정 방법 및 장치{APPARATUS AND METHOD FOR CHUCK CLEANING OF TRANSFER ROBOT}
본 발명은 반도체 제조장치에 관한 것으로, 좀 더 구체적으로는 습식 식각 설비에서 반도체 웨이퍼를 이송시키기 위한 이송 로봇의 척 세정장치 및 그 방법에 관한 것이다.
현재 사용되고 있는 습식 식각 장비에는 웨이퍼와 웨이퍼에 형성된 막질 및 감광액 등을 크리닝, 식각, 스트립 하기 위한 여러 종류의 화학 용액과 초순수가사용된다.
이러한 습식 식각 장비의 공정조(처리조)로는 웨이퍼를 에칭 또는 크리닝 하기 위한 약액 배스(chemical bath)및 초순수 린스 배스(DIW rinse bath)가 있으며, 습식 식각 설비에서는 웨이퍼를 이들 공정조에 담그기 위하여 이송 로봇이 사용된다. 이러한 용도로 사용되는 이송 로봇(40)은 주기적으로 로봇 척(42)에 묻어 있는 약액(불순물)을 제거하는 세정 공정을 거치게 된다. 도 1에는 습식 식각 설비의 이송 로봇을 세정하기 위한 장치(200)가 도시되어 있다. 도 1에서 보여주는 바와 같이, 로봇 척(42)이 용기(210)상에서 상하 이동할 때, 용기에 설치된 제 1 노즐(220)에서는 로봇 척을 향해 초순수를 분사하여 세정하고, 용기 상부에 설치된 제 2 노즐(230)에서는 질소가스를 분사하여 로봇 척(42)에 묻은 초순수를 제거하게 된다.
그러나, 이러한 종래 이송 로봇의 척 세정 장치(200)에서는 로봇 척(42)에 묻은 세정액(특히, 척(42) 표면에 물방울처럼 맺힌 세정액)을 완벽하게 제거하지 못하고 있다. 따라서, 세정액이 남아 있는 상태에서, 이송 로봇(40)의 척(42)이 웨이퍼를 척킹하여 웨이퍼를 반송하게 되면, 로봇 척(42)에 남아 있는 세정액(30)이 웨이퍼와 그 주변을 오염시키고, 캐리어(carrier)에 떨어져서 후속공정의 웨이퍼 및 설비를 오염시키는 악영향을 끼치게 된다. 그리고 종래 세정 장치(200)는 세정액을 분사하기 위한 노즐들(220)을 용기 내부에 설치해야 하고, 각각의 노즐들에 배관을 연결해야 하기 때문에 설비가 매우 복잡할 뿐만 아니라 그에 따른 유지 보수에 많은 비용이 들어가는 문제점을 갖고 있다.
본 발명은 이와 같은 종래의 문제점을 해결하기 위한 것으로, 그 목적은 로봇 척에 묻은 세정액을 완전히 제거할 수 있는 새로운 형태의 이송 로봇의 척 세정방법 및 장치를 제공하는데 있다.
도 1은 종래 이송 로봇의 척 세정장치를 보여주는 도면;
도 2는 본 발명에 따른 이송 로봇의 척 세정장치를 보여주는 도면;
도 3은 도 2에서 이송 로봇의 척 세정 과정을 설명하기 위한 도면이다.
*도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명
10 : 용기 12 : 배수 라인
14 : 드라이 노즐 30 : 세정액
40 : 이송 로봇 42 : 척
상술한 목적을 달성하기 위한 본 발명의 특징에 의하면, 반도체 웨이퍼의 습식 식각 설비에서 사용되는 웨이퍼 이송 로봇의 척을 세정하기 위한 방법은 세정액이 채워진 용기에 로봇 척을 담그는 단계와; 용기에 담겨진 로봇 척을 들어올리는 단계와; 상기 로봇 척을 들어올림과 동시에 용기에 담겨진 세정액을 배수하는 단계 및; 상기 용기로부터 들어올려지는 로봇 척에 퍼지 가스를 분사하여 로봇 척에 잔존하는 세정액을 제거하는 단계를 포함한다.
이와 같은 본 발명에서 상기 용기에는 세정액이 오버 플로워될 수 있다.
본 발명의 다른 특징에 의하면, 반도체 웨이퍼의 습식 식각 설비에서 사용되는 웨이퍼 이송 로봇의 척을 세정하기 위한 장치는 이송 로봇의 척을 담가 세정을 하기 위한 세정액이 오버 플로워되는 용기와; 상기 용기 바닥면에 설치된 배수 라인 및; 상기 용기 상단에 설치되고 상기 용기로부터 들어올려지는 이송 로봇의 척에 퍼지 가스를 분사하여 척에 묻은 세정액을 제거하기 노즐을 구비한다.
이하 본 발명의 실시예를 첨부도면 도 2 내지 도 3에 의거하여 상세히 설명한다. 동일한 구성요소에 대해서는 동일한 참조번호를 병기한다.
도 2는 본 발명의 실시예에 의한 이송 로봇의 척 세정장치를 개략적으로 보여주는 도면이다. 도 3은 도 2에서 이송 로봇의 척 세정을 보여주는 도면이다.
도 2 내지 도 3을 참조하면, 본 발명에 의한 이송 로봇의 척 세정장치(100)는 화학 용액에 의해 오염된 이송 로봇의 척을 세정하기 위한 것으로, 용기(10), 배수 라인(12), 드라이 노즐(14)로 이루어진다.
상기 용기(10)에는 세정액(30)이 오버 플로워 되도록 채워진다. 세정액(30)이 오버 플로워되는 상기 용기(10)에는 세정하고자 하는 이송 로봇(40)의 척(42)이 담기어진다. 상기 배수 라인(12)은 상기 용기(10)의 바닥 부분에 설치된다. 추후, 상기 용기(10)에 채워진 세정액(30)은 용기 바닥에 설치된 상기 배수 라인(12)을 통해 배수된다. 그리고 상기 드라이 노즐(14)은 상기 용기 상단에 설치된다. 상기 드라이 노즐(14)에서는 상기 용기(10)로부터 들어올려지는 이송 로봇(40)의 척(42)에 퍼지 가스(질소 가스)를 분사하여 상기 척(42)에 남아 있는 물기를 완전히 제거하게 된다.
상술한 바와 같은 구성으로 이루어진 세정장치(100)에서의 로봇 척 세정 작업은 다음과 같이 이루어진다. 먼저, 세정액(30)을 상기 용기(10)에 채운다. 이때, 상기 용기(10)에는 세정액(30)이 오버 플로워될 정도로 채워진다. 상기 용기(10)에 세정액(30)이 완전히 채워지면, 이송 로봇의 척(42)을 상기 용기(10)에 담가 약액으로 오염된 척(42) 표면을 세정한다. 그리고 상기 배수 라인(14)을 열어 상기 용기(10)에 채워진 세정액(30)을 천천히 배수함과 동시에 상기 이송 로봇(40)의 척(42)을 천천히 들어올린다. 이때, 세정액(30)의 수면위로 들어올려지는 척(42) 표면에는 세정액(30)의 표면 장력에 의해 세정액이 물방울 형상으로 묻어나지 않고 물기가 극히 얇은 막처럼 묻어 날 수 있다. 이 단계에서 주의해야 할 것은, 상기 척(42)을 상기 용기(10)의 수면위로 들어올릴 때, 세정액(30)의 표면장력을 이용하여 상기 척(42) 표면에 세정액이 최대한 묻어나지 않도록 상기 척(42)을 천천히 들어올리는 것이 매우 중요하다. 그래야만, 추후 척(42) 표면을 보다 용이하게 완전히 건조시킬 수 있는 것이다. 상기 척(42)이 세정액(30)의 수면으로부터 완전히 들어올려지면 척(42)의 말단에 소량이나마 세정액이 잔존하게 된다. 상기 드라이 노즐(14)에서는 상기 용기의 수면으로부터 들어올려지는 상기 척(42) 표면으로 질소 가스를 분사하여 척 표면에 잔존하는 세정액을 건조시킨다.
본 발명에 따른 이송 로봇의 척 세정 장치(100)는 척(42)을 세정액에 담그어 세정 한 다음 척(42)을 세정액의 수면위로 천천히 들어올림으로서 척(42) 표면에 묻어 나오는 세정액(30)을 세정액(30)의 표면 장력을 이용하여 최대한 제거하고, 마지막으로 척(30)의 표면에 잔존하는 세정액을 상기 드라이 노즐(14)에서 분사되는 질소 가스를 이용하여 증발시킨다. 이와 같이 본 세정 장치는 종래의 세정 장치에 비해 노즐의 수가 적고 그에 따라 배관이 적기 때문에, 추후 유지 보수에 따른 비용을 줄일 수 있다.
이상에서, 본 발명에 따른 장치의 구성 및 작용을 상기한 설명 및 도면에 따라 도시하였지만 이는 예를 들어 설명한 것에 불과하며 본 발명의 기술적 사상을 벗어나지 않는 범위 내에서 다양한 변화 및 변경이 가능함은 물론이다.
이와 같은 본 발명을 적용하면, 로봇 척에 잔존하는 세정액을 완전히 제거함으로써 척에 묻어 있는 세정액에 의한 파티클 발생을 방지할 수 있다. 뿐만 아니라, 척에 세정액을 분사하기 위한 노즐을 생략함으로써 그에 따른 배관의 단순성과 유지 보수에 따른 비용을 줄일 수 있다.

Claims (3)

  1. 반도체 웨이퍼의 습식 식각 설비에서 사용되는 웨이퍼 이송 로봇의 척을 세정하기 위한 장치에 있어서:
    이송 로봇의 척을 담가 세정을 하기 위한 세정액이 오버 플로워되는 용기와;
    상기 용기 바닥면에 설치된 배수 라인 및;
    상기 용기 상단에 설치되고 상기 용기로부터 들어올려지는 이송 로봇의 척에 퍼지 가스를 분사하여 척에 묻은 세정액을 제거하기 노즐을 포함하는 것을 특징으로 하는 이송 로봇의 척 세정장치.
  2. 반도체 웨이퍼의 습식 식각 설비에서 사용되는 웨이퍼 이송 로봇의 척을 세정하기 위한 방법에 있어서:
    세정액이 채워진 용기에 로봇 척을 담그는 단계와;
    용기에 담겨진 로봇 척을 들어올리는 단계와;
    상기 로봇 척을 들어올림과 동시에 용기에 담겨진 세정액을 배수하는 단계및;
    상기 용기로부터 들어올려지는 로봇 척에 퍼지 가스를 분사하여 로봇 척에 잔존하는 세정액을 제거하는 단계를 포함하는 습식 식각 설비에서 웨이퍼 이송 로봇의 척 세정 방법.
  3. 제 2 항에 있어서,
    상기 용기에는 세정액이 오버 플로워되는 것을 특징으로 하는 습식 식각 설비에서 웨이퍼 이송 로봇의 척 세정 방법.
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