JP2002023353A5 - - Google Patents
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【特許請求の範囲】
【請求項１】 （Ａ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、
（Ｂ）単環又は多環の脂環炭化水素構造を有し、酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度が増大する樹脂
を含有することを特徴とするポジ型感光性組成物において、
該（Ａ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物が少なくとも１つのフッ素原子及び／又は少なくとも１つのフッ素原子を有する基で置換されたベンゼンスルホン酸、ナフタレンスルホン酸、アントラセンスルホン酸を発生する化合物であることを特徴とするポジ型感光性組成物。
【請求項２】 （Ｃ）酸により分解しうる基を有し、アルカリ現像液中での溶解速度が酸の作用により増大する、分子量３０００以下の低分子溶解阻止化合物をさらに含有することを特徴とする請求項１に記載のポジ型感光性組成物。
【請求項３】 （Ｂ）樹脂がラクトン構造を有する樹脂であることを特徴とする請求項１又は２に記載のポジ型感光性組成物。
【請求項４】 （Ａ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、
（Ｃ）酸により分解しうる基を有し、アルカリ現像液中での溶解速度が酸の作用により増大する、分子量３０００以下の低分子溶解阻止化合物、及び
（Ｄ）単環又は多環の脂環炭化水素構造を有し、水に不溶でアルカリ現像液に可溶な樹脂
を含有することを特徴とするポジ型感光性組成物において、
該（Ａ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物が少なくとも１つのフッ素原子及び／又は少なくとも１つのフッ素原子を有する基で置換されたベンゼンスルホン酸、ナフタレンスルホン酸、アントラセンスルホン酸を発生する化合物であることを特徴とするポジ型感光性組成物。
【請求項５】 （Ｅ）含窒素塩基性化合物をさらに含有する請求項１〜４のいずれかに記載のポジ型感光性組成物。
【請求項６】 （Ｆ）フッ素系及び／又はシリコン系界面活性剤をさらに含有する請求項１〜５のいずれかに記載のポジ型感光性組成物。
【請求項７】 ２２０ｎｍ以下の波長の遠紫外光による露光用組成物であることを特徴とする請求項１〜６のいずれかに記載のポジ型感光性組成物。
【請求項８】 請求項１〜７のいずれかに記載のポジ型感光性組成物により膜を形成し、当該膜を露光、現像することを特徴とするパターン形成方法。
【請求項１】 （Ａ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、
（Ｂ）単環又は多環の脂環炭化水素構造を有し、酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度が増大する樹脂
を含有することを特徴とするポジ型感光性組成物において、
該（Ａ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物が少なくとも１つのフッ素原子及び／又は少なくとも１つのフッ素原子を有する基で置換されたベンゼンスルホン酸、ナフタレンスルホン酸、アントラセンスルホン酸を発生する化合物であることを特徴とするポジ型感光性組成物。
【請求項２】 （Ｃ）酸により分解しうる基を有し、アルカリ現像液中での溶解速度が酸の作用により増大する、分子量３０００以下の低分子溶解阻止化合物をさらに含有することを特徴とする請求項１に記載のポジ型感光性組成物。
【請求項３】 （Ｂ）樹脂がラクトン構造を有する樹脂であることを特徴とする請求項１又は２に記載のポジ型感光性組成物。
【請求項４】 （Ａ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、
（Ｃ）酸により分解しうる基を有し、アルカリ現像液中での溶解速度が酸の作用により増大する、分子量３０００以下の低分子溶解阻止化合物、及び
（Ｄ）単環又は多環の脂環炭化水素構造を有し、水に不溶でアルカリ現像液に可溶な樹脂
を含有することを特徴とするポジ型感光性組成物において、
該（Ａ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物が少なくとも１つのフッ素原子及び／又は少なくとも１つのフッ素原子を有する基で置換されたベンゼンスルホン酸、ナフタレンスルホン酸、アントラセンスルホン酸を発生する化合物であることを特徴とするポジ型感光性組成物。
【請求項５】 （Ｅ）含窒素塩基性化合物をさらに含有する請求項１〜４のいずれかに記載のポジ型感光性組成物。
【請求項６】 （Ｆ）フッ素系及び／又はシリコン系界面活性剤をさらに含有する請求項１〜５のいずれかに記載のポジ型感光性組成物。
【請求項７】 ２２０ｎｍ以下の波長の遠紫外光による露光用組成物であることを特徴とする請求項１〜６のいずれかに記載のポジ型感光性組成物。
【請求項８】 請求項１〜７のいずれかに記載のポジ型感光性組成物により膜を形成し、当該膜を露光、現像することを特徴とするパターン形成方法。
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| JP2000212946A JP4150491B2 (ja) | 2000-07-13 | 2000-07-13 | ポジ型感光性組成物 |
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- 2001-06-20 TW TW090114950A patent/TWI288858B/zh not_active IP Right Cessation
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