JP2002020616A - 耐衝撃性が改良された芳香族ビニル樹脂とポリフェニレンエーテルとの混合物 - Google Patents
耐衝撃性が改良された芳香族ビニル樹脂とポリフェニレンエーテルとの混合物Info
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- C08L53/00—Compositions of block copolymers containing at least one sequence of a polymer obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds; Compositions of derivatives of such polymers
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- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
- C08L71/00—Compositions of polyethers obtained by reactions forming an ether link in the main chain; Compositions of derivatives of such polymers
- C08L71/08—Polyethers derived from hydroxy compounds or from their metallic derivatives
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 ９９〜２０重量％のＰＰＯと芳香族ビニル樹
脂との混合物からなる樹脂（Ａ）と、１〜８０重量％の
少なくとも１種のＳ−Ｂ−Ｍコポリマーからなる耐衝撃
性改良剤とで構成される、耐衝撃性が改良されたＰＰＯ
と芳香族ビニル樹脂とをベースとする硬質材料。 【解決手段】 耐衝撃性改良剤が下記（1）〜（5）を特
徴とする：（1）各ブロックが共有結合によって他のブ
ロックと結合している、（2）ＭブロックはＭＭＡモノ
マーからなり、その少なくとも５０重量％はからなり、
（3）Ｂブロックは樹脂（Ａ）と非相溶性で且つＭブロ
ックと非相溶性であり、そのガラス遷移温度Ｔｇは硬質
材料の使用温度より低く、（4）ＳブロックはＢブロッ
クおよびＭブロックと非相溶性であり、そのＴｇまたは
融点ｍｐはＢブロックのＴｇよりも高く、（5）Ｓブロ
ックは樹脂（Ａ）と相溶性である。
脂との混合物からなる樹脂（Ａ）と、１〜８０重量％の
少なくとも１種のＳ−Ｂ−Ｍコポリマーからなる耐衝撃
性改良剤とで構成される、耐衝撃性が改良されたＰＰＯ
と芳香族ビニル樹脂とをベースとする硬質材料。 【解決手段】 耐衝撃性改良剤が下記（1）〜（5）を特
徴とする：（1）各ブロックが共有結合によって他のブ
ロックと結合している、（2）ＭブロックはＭＭＡモノ
マーからなり、その少なくとも５０重量％はからなり、
（3）Ｂブロックは樹脂（Ａ）と非相溶性で且つＭブロ
ックと非相溶性であり、そのガラス遷移温度Ｔｇは硬質
材料の使用温度より低く、（4）ＳブロックはＢブロッ
クおよびＭブロックと非相溶性であり、そのＴｇまたは
融点ｍｐはＢブロックのＴｇよりも高く、（5）Ｓブロ
ックは樹脂（Ａ）と相溶性である。
Description
【０００１】
【発明が属する技術分野】本発明は耐衝撃性が改良され
た芳香族ビニル樹脂とポリフェニレンエーテルとの混合
物、特に耐衝撃性が改良されたポリスチレン（ＰＳ）と
ポリフェニレンエーテル（ＰＰＯ）との混合物に関する
ものである。ＰＰＯ／ＰＳ混合物はビカー温度が高いが
極めてが脆弱な硬質材料である。ポリスチレンは通常の
ポリスチレンでも、衝撃に対して補強されたグレードの
ポリスチレン（ＰＣｃｈｏｃまたはＨＩＰＳ「耐衝撃性
ポリスチレン」とよばれる）でもよい。本発明はＰＰＯ
／ＰＳ混合物にＳ−Ｂ−Ｍトリブロックコポリマーを添
加して耐衝撃性を改良したものである。このトリブロッ
クは例えばポリスチレンブロック（Ｓブロック）、ポリ
ブタジエンブロック（Ｂブロック）およびＰＭＭＡブロ
ック（Ｍブロック）からなる。
た芳香族ビニル樹脂とポリフェニレンエーテルとの混合
物、特に耐衝撃性が改良されたポリスチレン（ＰＳ）と
ポリフェニレンエーテル（ＰＰＯ）との混合物に関する
ものである。ＰＰＯ／ＰＳ混合物はビカー温度が高いが
極めてが脆弱な硬質材料である。ポリスチレンは通常の
ポリスチレンでも、衝撃に対して補強されたグレードの
ポリスチレン（ＰＣｃｈｏｃまたはＨＩＰＳ「耐衝撃性
ポリスチレン」とよばれる）でもよい。本発明はＰＰＯ
／ＰＳ混合物にＳ−Ｂ−Ｍトリブロックコポリマーを添
加して耐衝撃性を改良したものである。このトリブロッ
クは例えばポリスチレンブロック（Ｓブロック）、ポリ
ブタジエンブロック（Ｂブロック）およびＰＭＭＡブロ
ック（Ｍブロック）からなる。
【０００２】
【従来の技術】ＰＰＯ／ＰＳ混合物（下記実施例の対照
１）はビカー温度は極めて高いが脆弱な硬質材料（曲げ
弾性率２８２０ＭＰａ）である。ポリスチレンを耐衝撃
に優れたポリスチレンに代えることによってＰＰＯ／Ｐ
Ｓ混合物（下記実施例の対照２）の耐衝撃性を大幅に改
良することができることは知られている。この耐衝撃性
の改良によって曲げ弾性率がわずかに低下し、ビカー温
度もわずかに低下する。しかし、ＰＰＯ／ＰＳ混合物に
ＰＳｃｈｏｃを入れて強化しただけでは十分ではない用
途もある。
１）はビカー温度は極めて高いが脆弱な硬質材料（曲げ
弾性率２８２０ＭＰａ）である。ポリスチレンを耐衝撃
に優れたポリスチレンに代えることによってＰＰＯ／Ｐ
Ｓ混合物（下記実施例の対照２）の耐衝撃性を大幅に改
良することができることは知られている。この耐衝撃性
の改良によって曲げ弾性率がわずかに低下し、ビカー温
度もわずかに低下する。しかし、ＰＰＯ／ＰＳ混合物に
ＰＳｃｈｏｃを入れて強化しただけでは十分ではない用
途もある。
【０００３】この問題を解決するために多くの研究論文
および特許では、耐衝撃性を改良するために直鎖または
星形のＳ−Ｂ−Ｓ、Ｓ−ＥＢ−ＳおよびＳ−Ｂ−ポリカ
プロラクトンブロックコポリマーを用いることを提案し
ている。Ｓ−Ｂ−Ｓブロックコポリマーは例えばポリス
チレンブロック（Ｓブロック）と、ポリブタジエンブロ
ック（Ｂブロック）と、他のポリスチレンブロックとか
らなる。Ｓ−ＥＢ−ＳブロックコポリマーはＢブロック
が水素化されたＳ−Ｂ−Ｓブロックコポリマーである。
Ｓ−Ｂ−ポリカプロラクトンコポリマーはポリスチレン
ブロック（Ｓブロック）、ポリブタジエンブロック（Ｂ
ブロック）およびポリカプロラクトンブロックからな
る。
および特許では、耐衝撃性を改良するために直鎖または
星形のＳ−Ｂ−Ｓ、Ｓ−ＥＢ−ＳおよびＳ−Ｂ−ポリカ
プロラクトンブロックコポリマーを用いることを提案し
ている。Ｓ−Ｂ−Ｓブロックコポリマーは例えばポリス
チレンブロック（Ｓブロック）と、ポリブタジエンブロ
ック（Ｂブロック）と、他のポリスチレンブロックとか
らなる。Ｓ−ＥＢ−ＳブロックコポリマーはＢブロック
が水素化されたＳ−Ｂ−Ｓブロックコポリマーである。
Ｓ−Ｂ−ポリカプロラクトンコポリマーはポリスチレン
ブロック（Ｓブロック）、ポリブタジエンブロック（Ｂ
ブロック）およびポリカプロラクトンブロックからな
る。
【０００４】ＰＰＯ／ＰＳ混合物に２０％のＳ−ＥＢ−
Ｓトリブロックを添加してＳ−ＥＢ−Ｓブロックコポリ
マーで補強すると室温での耐衝撃性が大幅に改良する。
低温（−３０℃）での耐衝撃性も室温での耐衝撃性ほど
ではないが大幅に改良される。しかし、Ｓ−ＥＢ−Ｓト
リブロックを添加すると、材料の剛性が大幅に低下して
しまう。実際に曲げ弾性率は７００ＭＰａに低下する。
さらに、この弾性率の低下によってビカー温度が約１５
〜２０℃低下し、混合物が使用できなくなる。
Ｓトリブロックを添加してＳ−ＥＢ−Ｓブロックコポリ
マーで補強すると室温での耐衝撃性が大幅に改良する。
低温（−３０℃）での耐衝撃性も室温での耐衝撃性ほど
ではないが大幅に改良される。しかし、Ｓ−ＥＢ−Ｓト
リブロックを添加すると、材料の剛性が大幅に低下して
しまう。実際に曲げ弾性率は７００ＭＰａに低下する。
さらに、この弾性率の低下によってビカー温度が約１５
〜２０℃低下し、混合物が使用できなくなる。
【０００５】欧州特許第０，０８６，４４８号には、フ
ィリップス ペトロリアム社（Ｐｈｉｌｌｉｐｓ Ｐｅ
ｔｒｏｌｅｕｍ）から製品番号ソルプレン（Ｓｏｌｐｒ
ｅｎｅ）４１１の名称で市販の星形Ｓ−Ｂ−Ｓで得られ
る補強度はＳ−Ｂ−ポリカプロラクトントリブロックで
得られる補強度と同じであるということが示されてい
る。また、これらの２種のコポリマーから得られる材料
の熱変形温度（ＨＤＴ）もほぼ同じである。ポリカプロ
ラクトンブロックを含むブロックコポリマーを用いる唯
一の利点は得られる組成物の流動性がより高く、従っ
て、例えば金型への射出が容易な点にある。
ィリップス ペトロリアム社（Ｐｈｉｌｌｉｐｓ Ｐｅ
ｔｒｏｌｅｕｍ）から製品番号ソルプレン（Ｓｏｌｐｒ
ｅｎｅ）４１１の名称で市販の星形Ｓ−Ｂ−Ｓで得られ
る補強度はＳ−Ｂ−ポリカプロラクトントリブロックで
得られる補強度と同じであるということが示されてい
る。また、これらの２種のコポリマーから得られる材料
の熱変形温度（ＨＤＴ）もほぼ同じである。ポリカプロ
ラクトンブロックを含むブロックコポリマーを用いる唯
一の利点は得られる組成物の流動性がより高く、従っ
て、例えば金型への射出が容易な点にある。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】本出願人は、ＰＰＯ／
ＰＳおよびＰＰＯ／ＰＳｃｈｏｃ混合物にＳ−Ｂ−Ｍト
リブロック（例えばＰＳ−ＰＢ−ＰＭＭＡ）を添加する
ことはＳ−ＥＢ−Ｓトリブロックを添加する場合に比べ
て流動性を悪くしないということを見出した。その結果
得られる補強度は室温でわずかに小さくなるが十分に満
足のいくものであり、しかもＳ−Ｂ−Ｍトリブロックは
低温（−３０℃）で大きい補強度を得ることができる。
最も驚くべき結果はこのブロックの熱機械的挙動にあ
る。すなわち、Ｓ−ＥＢ−Ｓトリブロックを添加した場
合に比べて、曲げ弾性率がわずかに低下（４００ＭＰ
ａ）し、ビカー温度が極めてわずかに低下（約４〜５
℃）するという犠牲のみで、耐衝撃性が改良される。一
般には、Ｓ−Ｂ−ＭトリブロックはＰＰＯ／芳香族ビニ
ル樹脂材料の耐衝撃性を大幅に改良し、ビカー温度およ
び材料の剛性をわずかに低下させるといえる。
ＰＳおよびＰＰＯ／ＰＳｃｈｏｃ混合物にＳ−Ｂ−Ｍト
リブロック（例えばＰＳ−ＰＢ−ＰＭＭＡ）を添加する
ことはＳ−ＥＢ−Ｓトリブロックを添加する場合に比べ
て流動性を悪くしないということを見出した。その結果
得られる補強度は室温でわずかに小さくなるが十分に満
足のいくものであり、しかもＳ−Ｂ−Ｍトリブロックは
低温（−３０℃）で大きい補強度を得ることができる。
最も驚くべき結果はこのブロックの熱機械的挙動にあ
る。すなわち、Ｓ−ＥＢ−Ｓトリブロックを添加した場
合に比べて、曲げ弾性率がわずかに低下（４００ＭＰ
ａ）し、ビカー温度が極めてわずかに低下（約４〜５
℃）するという犠牲のみで、耐衝撃性が改良される。一
般には、Ｓ−Ｂ−ＭトリブロックはＰＰＯ／芳香族ビニ
ル樹脂材料の耐衝撃性を大幅に改良し、ビカー温度およ
び材料の剛性をわずかに低下させるといえる。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明の対象は、９９〜
２０重量％のＰＰＯと芳香族ビニル樹脂との混合物から
なる樹脂（Ａ）と、１〜８０重量％の少なくとも１種の
Ｓ−Ｂ−Ｍコポリマーからなる耐衝撃性改良剤とで構成
される、耐衝撃性が改良されたＰＰＯと芳香族ビニル樹
脂とをベースとする硬質材料において、耐衝撃性改良剤
が下記（1）〜（5）を特徴とする硬質材料にある： （1） 各ブロックが共有結合によって他のブロックと
結合しているか、一つのブロックに一つの共有結合で、
他のブロックに別の共有結合で結合した中間の分子を介
して結合しており、（2） Ｍブロックは必要に応じて
他のモノマーと共重合していてもよいＭＭＡモノマーか
らなり、その少なくとも５０重量％はメチルメタクリレ
ート（ＭＭＡ）からなり、（3） Ｂブロックは樹脂
（Ａ）と非相溶性で且つＭブロックと非相溶性であり、
そのガラス遷移温度Ｔｇは硬質材料の使用温度より低
く、（4） ＳブロックはＢブロックおよびＭブロック
と非相溶性であり、そのＴｇまたは融点ｍｐはＢブロッ
クのＴｇよりも高く、（5） Ｓブロックは樹脂（Ａ）
と相溶性である。
２０重量％のＰＰＯと芳香族ビニル樹脂との混合物から
なる樹脂（Ａ）と、１〜８０重量％の少なくとも１種の
Ｓ−Ｂ−Ｍコポリマーからなる耐衝撃性改良剤とで構成
される、耐衝撃性が改良されたＰＰＯと芳香族ビニル樹
脂とをベースとする硬質材料において、耐衝撃性改良剤
が下記（1）〜（5）を特徴とする硬質材料にある： （1） 各ブロックが共有結合によって他のブロックと
結合しているか、一つのブロックに一つの共有結合で、
他のブロックに別の共有結合で結合した中間の分子を介
して結合しており、（2） Ｍブロックは必要に応じて
他のモノマーと共重合していてもよいＭＭＡモノマーか
らなり、その少なくとも５０重量％はメチルメタクリレ
ート（ＭＭＡ）からなり、（3） Ｂブロックは樹脂
（Ａ）と非相溶性で且つＭブロックと非相溶性であり、
そのガラス遷移温度Ｔｇは硬質材料の使用温度より低
く、（4） ＳブロックはＢブロックおよびＭブロック
と非相溶性であり、そのＴｇまたは融点ｍｐはＢブロッ
クのＴｇよりも高く、（5） Ｓブロックは樹脂（Ａ）
と相溶性である。
【０００８】
【実施の形態】樹脂（Ａ）を構成するＰＰＯはポリフェ
ニレンオキシドを意味する（ポリフェニレンエーテルと
もよばれる）。これらのポリマーはウルマン（Ｕｌｍａ
ｎｎ）化学工業百科辞典、ＶＣＨ発行、Ａ２１巻、６０
５〜６１４頁、第５版、１９９２年に記載されている。
本発明で用いるＰＰＯは化学式（１）のＰＰＯであるの
が有利である：
ニレンオキシドを意味する（ポリフェニレンエーテルと
もよばれる）。これらのポリマーはウルマン（Ｕｌｍａ
ｎｎ）化学工業百科辞典、ＶＣＨ発行、Ａ２１巻、６０
５〜６１４頁、第５版、１９９２年に記載されている。
本発明で用いるＰＰＯは化学式（１）のＰＰＯであるの
が有利である：
【０００９】
【化１】
【００１０】（ここで、Ｑ、Ｑ'、Ｑ媒およびＱ能quote
は互いに独立して水素、アルキル基、ハロゲンとフェ
ノール環との間に少なくとも２個の炭素原子を含むハロ
ゲン化されたアルキル基、アルコキシ基、ハロゲンとフ
ェノール環との間に少なくとも２個の炭素原子を含むハ
ロゲン化されたアルコキシ基からなる群の中から選択さ
れ、Ｑ'、Ｑ媒およびＱ能quote はハロゲンでもよい
が、ＱおよびＱ'は第三級炭素原子を含まないのが好ま
しく、ｎは少なくとも５０の整数である）。ＰＰＯはポ
リ（２，６−ジメチル−１，４−フェニレン）エーテル
であるのが有利である。
は互いに独立して水素、アルキル基、ハロゲンとフェ
ノール環との間に少なくとも２個の炭素原子を含むハロ
ゲン化されたアルキル基、アルコキシ基、ハロゲンとフ
ェノール環との間に少なくとも２個の炭素原子を含むハ
ロゲン化されたアルコキシ基からなる群の中から選択さ
れ、Ｑ'、Ｑ媒およびＱ能quote はハロゲンでもよい
が、ＱおよびＱ'は第三級炭素原子を含まないのが好ま
しく、ｎは少なくとも５０の整数である）。ＰＰＯはポ
リ（２，６−ジメチル−１，４−フェニレン）エーテル
であるのが有利である。
【００１１】樹脂（Ａ）を構成する芳香族ビニル樹脂の
芳香族ビニルモノマーは不飽和エチレンを有する芳香族
モノマー、例えばスチレン、ビニルトルエン、αメチル
スチレン、４−メチルスチレン、３−メチルスチレン、
４−メトキシスチレン、２−ヒドロキシメチルスチレ
ン、４−エチルスチレン、４−エトキシスチレン、３，
４−ジメチルスチレン、２−クロロスチレン、３−クロ
ロスチレン、４−クロロ−３−メチルスチレン、３−te
rt-ブチルスチレン、２，４−ジクロロスチレン、２，
６−ジクロロスチレンおよび１−ビニルナフタレンを意
味する。
芳香族ビニルモノマーは不飽和エチレンを有する芳香族
モノマー、例えばスチレン、ビニルトルエン、αメチル
スチレン、４−メチルスチレン、３−メチルスチレン、
４−メトキシスチレン、２−ヒドロキシメチルスチレ
ン、４−エチルスチレン、４−エトキシスチレン、３，
４−ジメチルスチレン、２−クロロスチレン、３−クロ
ロスチレン、４−クロロ−３−メチルスチレン、３−te
rt-ブチルスチレン、２，４−ジクロロスチレン、２，
６−ジクロロスチレンおよび１−ビニルナフタレンを意
味する。
【００１２】スチレンポリマーの例としてはポリスチレ
ン、エラストマーで改質したポリスチレン、スチレン−
アクリロニトリルコポリマー（ＳＡＮ）、エラストマー
で改質したＳＡＮ、特にＡＢＳ、例えばスチレンおよび
アクリロニトリルをポリブタジエンまたはブタジエン−
アクリロニトリルコポリマー主鎖にグラフト（グラフト
重合）して得られるＡＢＳおよびＳＡＮとＡＢＳとの混
合物が挙げられる。上記のエラストマーは例えばＥＰＲ
（エチレン−プロピレンゴムまたはエチレン−プロピレ
ンエラストマー）、ＥＰＤＭ（エチレン−プロピレン−
ジエンゴムまたはエチレン−プロピレン−ジエンエラス
トマー）、ポリブタジエン、アクリロニトリル−ブタジ
エンコポリマー、ポリイソプレンまたはイソプレン−ア
クリロニトリルコポリマーにすることができる。
ン、エラストマーで改質したポリスチレン、スチレン−
アクリロニトリルコポリマー（ＳＡＮ）、エラストマー
で改質したＳＡＮ、特にＡＢＳ、例えばスチレンおよび
アクリロニトリルをポリブタジエンまたはブタジエン−
アクリロニトリルコポリマー主鎖にグラフト（グラフト
重合）して得られるＡＢＳおよびＳＡＮとＡＢＳとの混
合物が挙げられる。上記のエラストマーは例えばＥＰＲ
（エチレン−プロピレンゴムまたはエチレン−プロピレ
ンエラストマー）、ＥＰＤＭ（エチレン−プロピレン−
ジエンゴムまたはエチレン−プロピレン−ジエンエラス
トマー）、ポリブタジエン、アクリロニトリル−ブタジ
エンコポリマー、ポリイソプレンまたはイソプレン−ア
クリロニトリルコポリマーにすることができる。
【００１３】耐衝撃性ポリスチレンは（ｉ）ポリスチレ
ンを、エラストマー、例えばポリブタジエン、アクリロ
ニトリル−ブタジエンコポリマー、ポリイソプレンまた
はイソプレン−アクリロニトリルコポリマーと混合する
か、（ii）スチレンをポリブタジエンまたはブタジエン
−アクリロニトリルコポリマー主鎖にグラフト（グラフ
ト重合）して得ることができる。
ンを、エラストマー、例えばポリブタジエン、アクリロ
ニトリル−ブタジエンコポリマー、ポリイソプレンまた
はイソプレン−アクリロニトリルコポリマーと混合する
か、（ii）スチレンをポリブタジエンまたはブタジエン
−アクリロニトリルコポリマー主鎖にグラフト（グラフ
ト重合）して得ることができる。
【００１４】上記のスチレンポリマーでは、スチレンの
一部をスチレンと共重合可能な不飽和モノマー（例とし
てαメチルスチレンおよび（メタ）アクリルエステル）
で置換することができる。スチレンコポリマーの例とし
てはクロロポリスチレン、ポリαメチルスチレン、スチ
レン−クロロスチレンコポリマー、スチレン−プロピレ
ンコポリマー、スチレン−ブタジエンコポリマー、スチ
レン−イソプレンコポリマー、スチレン−塩化ビニルコ
ポリマー、スチレン−酢酸ビニルコポリマー、スチレン
−アルキルアクリレート（メチル、エチル、ブチル、オ
クチルまたはフェニルアクリレート）コポリマー、スチ
レン−アルキルメタクリレート（メチル、エチル、ブチ
ルまたはフェニルメタクリレート）コポリマー、スチレ
ン−メチルクロロアクリレートコポリマーおよびスチレ
ン−アクリロニトリル−アルキルアクリレートコポリマ
ーが挙げられる。これらのコポリマーのコモノマー含有
率は一般に２０重量％以下にする。本発明はさらに融点
の高いメタロセンポリスチレンに関するものである。樹
脂（Ａ）を構成する芳香族ビニル樹脂はポリスチレンお
よび耐衝撃性ポリスチレンから選択されるのが有利であ
る。
一部をスチレンと共重合可能な不飽和モノマー（例とし
てαメチルスチレンおよび（メタ）アクリルエステル）
で置換することができる。スチレンコポリマーの例とし
てはクロロポリスチレン、ポリαメチルスチレン、スチ
レン−クロロスチレンコポリマー、スチレン−プロピレ
ンコポリマー、スチレン−ブタジエンコポリマー、スチ
レン−イソプレンコポリマー、スチレン−塩化ビニルコ
ポリマー、スチレン−酢酸ビニルコポリマー、スチレン
−アルキルアクリレート（メチル、エチル、ブチル、オ
クチルまたはフェニルアクリレート）コポリマー、スチ
レン−アルキルメタクリレート（メチル、エチル、ブチ
ルまたはフェニルメタクリレート）コポリマー、スチレ
ン−メチルクロロアクリレートコポリマーおよびスチレ
ン−アクリロニトリル−アルキルアクリレートコポリマ
ーが挙げられる。これらのコポリマーのコモノマー含有
率は一般に２０重量％以下にする。本発明はさらに融点
の高いメタロセンポリスチレンに関するものである。樹
脂（Ａ）を構成する芳香族ビニル樹脂はポリスチレンお
よび耐衝撃性ポリスチレンから選択されるのが有利であ
る。
【００１５】樹脂（Ａ）を構成するＰＰＯと芳香族ビニ
ル樹脂（耐衝撃性改良剤を既に含んでいてもよい）とは
互いに相溶性があり、添加する耐衝撃性改良剤はＰＰＯ
および芳香族ビニル樹脂の相溶化剤ではないということ
は明らかである。樹脂（Ａ）を構成するＰＰＯと芳香族
ビニル樹脂との相溶性は樹脂（Ａ）のガラス遷移温度Ｔ
ｇが少なくともＰＰＯのガラス遷移温度とマトリックス
の芳香族ビニル樹脂のガラス遷移温度との間のあること
によって規定される。例えば、芳香族ビニル樹脂がＰＳ
ｃｈｏｃである場合は、マトリックスのＴｇはＰＳｃｈ
ｏｃのマトリックスを構成するポリスチレンのＴｇであ
る。ＰＰＯと芳香族ビニル樹脂との相溶性は通常の測定
方法によって当業者が容易に決定することができる。樹
脂（Ａ）中のＰＰＯと芳香族ビニル樹脂の比率は任意に
することができるが、ＰＰＯの芳香族ビニル樹脂に対す
る重量比が１／９〜９／１、好ましくは３／７〜７／３
になるようにするのが有利である。
ル樹脂（耐衝撃性改良剤を既に含んでいてもよい）とは
互いに相溶性があり、添加する耐衝撃性改良剤はＰＰＯ
および芳香族ビニル樹脂の相溶化剤ではないということ
は明らかである。樹脂（Ａ）を構成するＰＰＯと芳香族
ビニル樹脂との相溶性は樹脂（Ａ）のガラス遷移温度Ｔ
ｇが少なくともＰＰＯのガラス遷移温度とマトリックス
の芳香族ビニル樹脂のガラス遷移温度との間のあること
によって規定される。例えば、芳香族ビニル樹脂がＰＳ
ｃｈｏｃである場合は、マトリックスのＴｇはＰＳｃｈ
ｏｃのマトリックスを構成するポリスチレンのＴｇであ
る。ＰＰＯと芳香族ビニル樹脂との相溶性は通常の測定
方法によって当業者が容易に決定することができる。樹
脂（Ａ）中のＰＰＯと芳香族ビニル樹脂の比率は任意に
することができるが、ＰＰＯの芳香族ビニル樹脂に対す
る重量比が１／９〜９／１、好ましくは３／７〜７／３
になるようにするのが有利である。
【００１６】Ｓ−Ｂ−ＭトリブロックのＭブロックはメ
チルメタクリレートモノマーを含み、少なくとも５０重
量％のメチルメタクリレート、好ましくは少なくとも７
５重量％のメチルメタクリレートを含む。Ｍブロックを
構成する他のモノマーはアクリルモノマーであってもな
くてもよく、反応性であってもなくてもよい。反応性官
能基の非制限的な例としてはオキシラン官能基、アミン
官能基、カルボキシ官能基が挙げられる。反応性モノマ
ーは（メタ）アクリル酸またはこれらの酸を生じる加水
分解可能な任意の他のモノマーにすることができる。Ｍ
ブロックを構成することができる他のモノマーの非制限
的な例としてはグリシジルメタクリレートまたはtert-
ブチルメタクリレートが挙げられる。Ｍブロックは少な
くとも６０％のシンジオタクチックＰＭＭＡからなるの
が有利である。
チルメタクリレートモノマーを含み、少なくとも５０重
量％のメチルメタクリレート、好ましくは少なくとも７
５重量％のメチルメタクリレートを含む。Ｍブロックを
構成する他のモノマーはアクリルモノマーであってもな
くてもよく、反応性であってもなくてもよい。反応性官
能基の非制限的な例としてはオキシラン官能基、アミン
官能基、カルボキシ官能基が挙げられる。反応性モノマ
ーは（メタ）アクリル酸またはこれらの酸を生じる加水
分解可能な任意の他のモノマーにすることができる。Ｍ
ブロックを構成することができる他のモノマーの非制限
的な例としてはグリシジルメタクリレートまたはtert-
ブチルメタクリレートが挙げられる。Ｍブロックは少な
くとも６０％のシンジオタクチックＰＭＭＡからなるの
が有利である。
【００１７】ＢブロックのＴｇは０℃以下、好ましくは
−４０℃以下であるのが有利である。エラストマーＢブ
ロックの合成に用いるモノマーはブタジエン、イソプレ
ン、２，３−ジメチル−１，３−ブタジエン、１，３−
ペンタジエン、２−フェニルー１，３−ブタジエンから
選択されるジエンにすることができる。Ｂブロックはポ
リ（ジエン）、特にポリ（ブタジエン）、ポリ（イソプ
レン）およびそのランダムコポリマーまたは部分的また
は完全に水素化されたポリ（ジエン）から選択するのが
有利である。ポリブタジエンの中では、ガラス遷移温度
Ｔｇが最も低いポリブタジエン、例えば１，２−ポリブ
タジエンのＴｇ（約０℃）より低いＴｇ（約−９０℃）
の１，４−ポリブタジエンを用いるのが有利である。Ｂ
ブロックは水素化されていてもよい。この水素化は通常
の方法で行われる。
−４０℃以下であるのが有利である。エラストマーＢブ
ロックの合成に用いるモノマーはブタジエン、イソプレ
ン、２，３−ジメチル−１，３−ブタジエン、１，３−
ペンタジエン、２−フェニルー１，３−ブタジエンから
選択されるジエンにすることができる。Ｂブロックはポ
リ（ジエン）、特にポリ（ブタジエン）、ポリ（イソプ
レン）およびそのランダムコポリマーまたは部分的また
は完全に水素化されたポリ（ジエン）から選択するのが
有利である。ポリブタジエンの中では、ガラス遷移温度
Ｔｇが最も低いポリブタジエン、例えば１，２−ポリブ
タジエンのＴｇ（約０℃）より低いＴｇ（約−９０℃）
の１，４−ポリブタジエンを用いるのが有利である。Ｂ
ブロックは水素化されていてもよい。この水素化は通常
の方法で行われる。
【００１８】エラストマーＢブロックの合成に用いるモ
ノマーは下記のようなアルキル（メタ）アクリレートに
することもできる(アクリレート名の後の（ ）内にＴ
ｇ値を示す)。エチルアクリレート（−２４℃）、ブチ
ルアクリレート（−５４℃）、２−エチルヘキシルアク
リレート（−８５℃）、ヒドロキシエチルアクリレート
（−１５℃）および２−エチルヘキシルメタクリレート
（−１０℃）。エチルアクリレートを用いるのが有利で
ある。ＢブロックとＭブロックが相溶性であるという条
件に合うように、これらのアクリレートはＭブロックの
アクリレートとは異なっている。Ｂブロックの主成分は
１，４−ポリブタジエンであるのが好ましい。
ノマーは下記のようなアルキル（メタ）アクリレートに
することもできる(アクリレート名の後の（ ）内にＴ
ｇ値を示す)。エチルアクリレート（−２４℃）、ブチ
ルアクリレート（−５４℃）、２−エチルヘキシルアク
リレート（−８５℃）、ヒドロキシエチルアクリレート
（−１５℃）および２−エチルヘキシルメタクリレート
（−１０℃）。エチルアクリレートを用いるのが有利で
ある。ＢブロックとＭブロックが相溶性であるという条
件に合うように、これらのアクリレートはＭブロックの
アクリレートとは異なっている。Ｂブロックの主成分は
１，４−ポリブタジエンであるのが好ましい。
【００１９】ＳブロックのＴｇまたはｍｐは２３℃以
上、好ましくは５０℃以上であるのが有利である。Ｓブ
ロックの例としては芳香族ビニル化合物、例えばスチレ
ン、αメチルスチレン、ビニルトルエンに由来のブロッ
クが挙げられる。Ｓブロックは樹脂（Ａ）を構成する芳
香族ビニル樹脂と同じモノマーからなるのが有利であ
る。
上、好ましくは５０℃以上であるのが有利である。Ｓブ
ロックの例としては芳香族ビニル化合物、例えばスチレ
ン、αメチルスチレン、ビニルトルエンに由来のブロッ
クが挙げられる。Ｓブロックは樹脂（Ａ）を構成する芳
香族ビニル樹脂と同じモノマーからなるのが有利であ
る。
【００２０】Ｓ−Ｂ−Ｍブロックコポリマーの数平均分
子量は１０，０００〜５００，０００ｇ／ｍｏｌ、好ま
しくは２０，０００〜２００，０００ｇ／ｍｏｌにする
ことができる。Ｓ−Ｂ−Ｍトリブロックは下記の組成
（重量％表記、全体１００％）を有するのが有利であ
る： Ｍブロック：１０〜８０％、好ましくは１５〜７０％ Ｂブロック：２〜８０％、好ましくは５〜７０％、 Ｓブロック：１０〜８８％、好ましくは１５〜８５％。
子量は１０，０００〜５００，０００ｇ／ｍｏｌ、好ま
しくは２０，０００〜２００，０００ｇ／ｍｏｌにする
ことができる。Ｓ−Ｂ−Ｍトリブロックは下記の組成
（重量％表記、全体１００％）を有するのが有利であ
る： Ｍブロック：１０〜８０％、好ましくは１５〜７０％ Ｂブロック：２〜８０％、好ましくは５〜７０％、 Ｓブロック：１０〜８８％、好ましくは１５〜８５％。
【００２１】本発明材料に用いるブロックコポリマーは
例えば欧州特許第５２４，５０４号および欧州特許第７
４９，９８７号に記載の方法を用いるアニオン重合で製
造できる。また、制御されたフリーラジカル重合で製造
することもできる。耐衝撃性改良剤の比率は９９〜６５
重量％の樹脂（Ａ）に対して１〜３５重量％であるのが
有利である。耐衝撃性改良剤の比率は９６〜７５重量％
の樹脂（Ａ）に対して４〜２５重量％であるのが好まし
い。本発明の好ましい実施例では、耐衝撃性改良剤が少
なくとも１種のＳ−Ｂ−Ｍブロックコポリマーと、Ｓ−
Ｂジブロックコポリマーから選択される少なくとも１種
のポリマーとを含む。
例えば欧州特許第５２４，５０４号および欧州特許第７
４９，９８７号に記載の方法を用いるアニオン重合で製
造できる。また、制御されたフリーラジカル重合で製造
することもできる。耐衝撃性改良剤の比率は９９〜６５
重量％の樹脂（Ａ）に対して１〜３５重量％であるのが
有利である。耐衝撃性改良剤の比率は９６〜７５重量％
の樹脂（Ａ）に対して４〜２５重量％であるのが好まし
い。本発明の好ましい実施例では、耐衝撃性改良剤が少
なくとも１種のＳ−Ｂ−Ｍブロックコポリマーと、Ｓ−
Ｂジブロックコポリマーから選択される少なくとも１種
のポリマーとを含む。
【００２２】Ｓ−ＢジブロックのＳおよびＢブロックは
Ｓ−Ｂ−ＭトリブロックのＳおよびＢブロックと同じ特
性を有する。このＳとＢブロックは非相溶性で、Ｓ−Ｂ
−ＭトリブロックのＳおよびＢブロックと同じモノマー
（場合によってはコモノマー）からなる。すなわち、Ｓ
−ＢジブロックのＳブロックはＳ−Ｂ−Ｍトリブロック
のＳブロックで使用可能なモノマーの群と同じ群の中か
ら選択されるモノマーで構成される。同様に、Ｓ−Ｂジ
ブロックのＢブロックはＳ−Ｂ−ＭトリブロックのＢブ
ロックで使用可能なモノマーの群と同じ群の中から選択
されるモノマーで構成される。このＳおよびＢブロック
は、硬質材料中の耐衝撃性改良剤の他のブロックコポリ
マー中に存在する他のＳおよびＢブロックと同一でも異
なっていてもよい。
Ｓ−Ｂ−ＭトリブロックのＳおよびＢブロックと同じ特
性を有する。このＳとＢブロックは非相溶性で、Ｓ−Ｂ
−ＭトリブロックのＳおよびＢブロックと同じモノマー
（場合によってはコモノマー）からなる。すなわち、Ｓ
−ＢジブロックのＳブロックはＳ−Ｂ−Ｍトリブロック
のＳブロックで使用可能なモノマーの群と同じ群の中か
ら選択されるモノマーで構成される。同様に、Ｓ−Ｂジ
ブロックのＢブロックはＳ−Ｂ−ＭトリブロックのＢブ
ロックで使用可能なモノマーの群と同じ群の中から選択
されるモノマーで構成される。このＳおよびＢブロック
は、硬質材料中の耐衝撃性改良剤の他のブロックコポリ
マー中に存在する他のＳおよびＢブロックと同一でも異
なっていてもよい。
【００２３】Ｓ−Ｂジブロックの数平均分子量は１０，
０００〜５００，０００ｇ／ｍｏｌ、好ましくは２０，
０００〜２００，０００ｇ／ｍｏｌにすることができ
る。Ｓ−Ｂジブロックは５〜９５重量％、好ましくは１
５〜８５重量％のＢブロックからなるのが有利である。
０００〜５００，０００ｇ／ｍｏｌ、好ましくは２０，
０００〜２００，０００ｇ／ｍｏｌにすることができ
る。Ｓ−Ｂジブロックは５〜９５重量％、好ましくは１
５〜８５重量％のＢブロックからなるのが有利である。
【００２４】耐衝撃性改良剤は９５〜２０重量％のＳ−
Ｂ−Ｍトリブロックに対して５〜８０重量％のＳ−Ｂジ
ブロックを含むのが有利である。この組成の利点はＳ−
Ｂ−Ｍトリブロックを合成後に精製する必要がない点に
ある。すなわち、複数のＳ−Ｂ−Ｍトリブロックは一般
に複数のＳ−Ｂジブロックから作られ、この反応によっ
て大抵はＳ−ＢジブロックとＳ−Ｂ−Ｍトリブロックと
の混合物が得られ、この混合物を分離してＳ−Ｂ−Ｍト
リブロックを得る。本発明の材料は熱可塑性樹脂であ
る。
Ｂ−Ｍトリブロックに対して５〜８０重量％のＳ−Ｂジ
ブロックを含むのが有利である。この組成の利点はＳ−
Ｂ−Ｍトリブロックを合成後に精製する必要がない点に
ある。すなわち、複数のＳ−Ｂ−Ｍトリブロックは一般
に複数のＳ−Ｂジブロックから作られ、この反応によっ
て大抵はＳ−ＢジブロックとＳ−Ｂ−Ｍトリブロックと
の混合物が得られ、この混合物を分離してＳ−Ｂ−Ｍト
リブロックを得る。本発明の材料は熱可塑性樹脂であ
る。
【００２５】本発明の別の実施例では、耐衝撃性改良剤
は必要に応じて水素化された直鎖または星形Ｓ−Ｂ−Ｓ
ブロックコポリマーをさらに含むことができる。すなわ
ち、本発明の耐衝撃性改良剤は下記のいずれかのブロッ
クを含むことができる：少なくとも１種のＳ−Ｂ−Ｍト
リブロック、少なくとも１種のＳ−Ｂ−Ｍトリブロック
および少なくとも１種のＳ−Ｂジブロック、少なくとも
１種のＳ−Ｂ−Ｍトリブロック、少なくとも１種のＳ−
Ｂジブロックおよび少なくとも１種の直鎖または星形Ｓ
−Ｂ−Ｓトリブロック、少なくとも１種のＳ−Ｂ−Ｍト
リブロックおよび少なくとも１種の直鎖または星形Ｓ−
Ｂ−Ｓトリブロック。
は必要に応じて水素化された直鎖または星形Ｓ−Ｂ−Ｓ
ブロックコポリマーをさらに含むことができる。すなわ
ち、本発明の耐衝撃性改良剤は下記のいずれかのブロッ
クを含むことができる：少なくとも１種のＳ−Ｂ−Ｍト
リブロック、少なくとも１種のＳ−Ｂ−Ｍトリブロック
および少なくとも１種のＳ−Ｂジブロック、少なくとも
１種のＳ−Ｂ−Ｍトリブロック、少なくとも１種のＳ−
Ｂジブロックおよび少なくとも１種の直鎖または星形Ｓ
−Ｂ−Ｓトリブロック、少なくとも１種のＳ−Ｂ−Ｍト
リブロックおよび少なくとも１種の直鎖または星形Ｓ−
Ｂ−Ｓトリブロック。
【００２６】Ｓ−Ｂ−Ｓトリブロックは上記のウルマン
百科辞典のＡ２６巻、６５５〜６５９頁に記載されてい
る。Ｓ−Ｂ−Ｓトリブロックの例としては、各ブロック
が共有結合によって他方のブロックと結合しているか、
一つのブロックに一つの共有結合で、他のブロックに別
の共有結合で結合した中間分子を介して結合している直
鎖Ｓ−Ｂ−Ｓトリブロックが挙げられる。
百科辞典のＡ２６巻、６５５〜６５９頁に記載されてい
る。Ｓ−Ｂ−Ｓトリブロックの例としては、各ブロック
が共有結合によって他方のブロックと結合しているか、
一つのブロックに一つの共有結合で、他のブロックに別
の共有結合で結合した中間分子を介して結合している直
鎖Ｓ−Ｂ−Ｓトリブロックが挙げられる。
【００２７】Ｓ−Ｂ−ＳトリブロックのＳおよびＢブロ
ックはＳ−Ｂ−ＭトリブロックのＳおよびＢブロックと
同じ特性を有する。Ｓ−Ｂ−ＳトリブロックのＳおよび
Ｂブロックは相溶性であり、Ｓ−Ｂ−Ｍトリブロックの
ＳおよびＢブロックと同じモノマー、必要に応じてさら
にコモノマーからなる。すなわち、Ｓ−Ｂ−Ｓトリブロ
ックのＳブロックはＳ−Ｂ−ＭトリブロックのＳブロッ
クで使用可能なモノマーの群と同じ群の中から選択され
るモノマーで構成される。同様に、Ｓ−Ｂ−Ｓトリブロ
ックのＢブロックはＳ−Ｂ−ＭトリブロックのＢブロッ
クで使用可能なモノマーの群と同じ群の中から選択され
るモノマーで構成される。このＳおよびＢブロックは、
硬質材料中の耐衝撃性改良剤の他のブロックコポリマー
中に存在する他のＳおよびＢブロックと同一でも異なっ
ていてもよい。
ックはＳ−Ｂ−ＭトリブロックのＳおよびＢブロックと
同じ特性を有する。Ｓ−Ｂ−ＳトリブロックのＳおよび
Ｂブロックは相溶性であり、Ｓ−Ｂ−Ｍトリブロックの
ＳおよびＢブロックと同じモノマー、必要に応じてさら
にコモノマーからなる。すなわち、Ｓ−Ｂ−Ｓトリブロ
ックのＳブロックはＳ−Ｂ−ＭトリブロックのＳブロッ
クで使用可能なモノマーの群と同じ群の中から選択され
るモノマーで構成される。同様に、Ｓ−Ｂ−Ｓトリブロ
ックのＢブロックはＳ−Ｂ−ＭトリブロックのＢブロッ
クで使用可能なモノマーの群と同じ群の中から選択され
るモノマーで構成される。このＳおよびＢブロックは、
硬質材料中の耐衝撃性改良剤の他のブロックコポリマー
中に存在する他のＳおよびＢブロックと同一でも異なっ
ていてもよい。
【００２８】Ｓ−Ｂ−Ｓトリブロックの数平均分子量は
１０，０００〜５００，０００ｇ／ｍｏｌ、好ましくは
２０，０００〜２００，０００ｇ／ｍｏｌにすることが
できる。Ｓ−Ｂ−Ｓトリブロックは５〜９５重量％、好
ましくは１５〜８５重量％のＢブロックからなるのが有
利である。Ｓ−Ｂ−Ｓトリブロックの他の例としては星
形Ｓ−Ｂ−Ｓトリブロックが挙げられる。「トリブロッ
ク」という用語はブロックの数と一致していないが、
「星形Ｓ−Ｂ−Ｓトリブロック」という用語で当業者に
知られている。星形トリブロックの例としては下記化学
式の星形トリブロックが挙げられる：
１０，０００〜５００，０００ｇ／ｍｏｌ、好ましくは
２０，０００〜２００，０００ｇ／ｍｏｌにすることが
できる。Ｓ−Ｂ−Ｓトリブロックは５〜９５重量％、好
ましくは１５〜８５重量％のＢブロックからなるのが有
利である。Ｓ−Ｂ−Ｓトリブロックの他の例としては星
形Ｓ−Ｂ−Ｓトリブロックが挙げられる。「トリブロッ
ク」という用語はブロックの数と一致していないが、
「星形Ｓ−Ｂ−Ｓトリブロック」という用語で当業者に
知られている。星形トリブロックの例としては下記化学
式の星形トリブロックが挙げられる：
【００２９】
【化２】
【００３０】（ここで、ｎは１、２または３であり、Ｓ
1およびＢ1はブロックを表す）。Ｓ1ブロックは重合し
たスチレンを表し、Ｂ1ブロックは重合したブタジエ
ン、重合したイソプレンまたは重合したイソプレンと重
合したブタジエンとの混合物を表す。Ｂ1ブロックは水
素化されていてもよい（この場合、Ｂ1ブロックは例え
ばＳ−ＥＢ−Ｓブロックである）。Ｙは、例えば星形ブ
ロックコポリマーの製造で用いられる多官能性カップリ
ング剤に由来の多官能性単位である。このようなカップ
リング剤およびこれらのブロックコポリマーは米国特許
第３，６３９，５２１号に記載されている。好ましい星
形ブロックコポリマーは１５〜４５重量％、好ましくは
２５〜３５重量％のスチレン単位を含む。モル比は少な
くとも１４０，０００、好ましくは少なくとも１６０，
０００である。
1およびＢ1はブロックを表す）。Ｓ1ブロックは重合し
たスチレンを表し、Ｂ1ブロックは重合したブタジエ
ン、重合したイソプレンまたは重合したイソプレンと重
合したブタジエンとの混合物を表す。Ｂ1ブロックは水
素化されていてもよい（この場合、Ｂ1ブロックは例え
ばＳ−ＥＢ−Ｓブロックである）。Ｙは、例えば星形ブ
ロックコポリマーの製造で用いられる多官能性カップリ
ング剤に由来の多官能性単位である。このようなカップ
リング剤およびこれらのブロックコポリマーは米国特許
第３，６３９，５２１号に記載されている。好ましい星
形ブロックコポリマーは１５〜４５重量％、好ましくは
２５〜３５重量％のスチレン単位を含む。モル比は少な
くとも１４０，０００、好ましくは少なくとも１６０，
０００である。
【００３１】特に好ましい星形ブロックコポリマーは欧
州特許第４５１９２０号に記載されているものである。
これらのコポリマーはスチレンとイソプレンとをベース
にし、スチレンブロックのモル質量は少なくとも１２，
０００であり、スチレン含有率はブロックコポリマーの
全重量の３５重量％以下である。好ましい直鎖ブロック
コポリマーは分子量が７０，０００〜１４５，０００で
あり、１２〜３５重量％のポリスチレンを含む。特に好
ましいブロック直鎖ブロックコポリマーは欧州特許第４
５１９１９号に記載されているものである。これらのコ
ポリマーはモル質量が１４，０００〜１６，０００であ
り、ポリスチレン含有率がブロックコポリマーの２５〜
３５重量％であるポリスチレンブロックを有する。モル
質量は８０，０００〜１４５，０００、好ましくは１０
０，０００〜１４５，０００である。
州特許第４５１９２０号に記載されているものである。
これらのコポリマーはスチレンとイソプレンとをベース
にし、スチレンブロックのモル質量は少なくとも１２，
０００であり、スチレン含有率はブロックコポリマーの
全重量の３５重量％以下である。好ましい直鎖ブロック
コポリマーは分子量が７０，０００〜１４５，０００で
あり、１２〜３５重量％のポリスチレンを含む。特に好
ましいブロック直鎖ブロックコポリマーは欧州特許第４
５１９１９号に記載されているものである。これらのコ
ポリマーはモル質量が１４，０００〜１６，０００であ
り、ポリスチレン含有率がブロックコポリマーの２５〜
３５重量％であるポリスチレンブロックを有する。モル
質量は８０，０００〜１４５，０００、好ましくは１０
０，０００〜１４５，０００である。
【００３２】直鎖Ｓ−Ｂ−Ｓトリブロックと星形Ｓ−Ｂ
−Ｓトリブロックとの混合物を用いることもできる。こ
れらの直鎖または星形Ｓ−Ｂ−ＳトリブロックはＦｉｎ
ａｐｒｅｎｅ（登録商標）、Ｆｉｎａｃｌｅａｒ（登録
商標）、Ｋｒａｔｏｎ（登録商標）およびＳｔｙｒｏｌ
ｕｘ（登録商標）の商標名で市販されている。Ｓ−Ｂ−
Ｓトリブロックの比率は耐衝撃性改良剤の４０重量％以
下にすることができる。
−Ｓトリブロックとの混合物を用いることもできる。こ
れらの直鎖または星形Ｓ−Ｂ−ＳトリブロックはＦｉｎ
ａｐｒｅｎｅ（登録商標）、Ｆｉｎａｃｌｅａｒ（登録
商標）、Ｋｒａｔｏｎ（登録商標）およびＳｔｙｒｏｌ
ｕｘ（登録商標）の商標名で市販されている。Ｓ−Ｂ−
Ｓトリブロックの比率は耐衝撃性改良剤の４０重量％以
下にすることができる。
【００３３】Ｓ−Ｂ−Ｍトリブロックの全部または一部
をＭ−Ｂ−Ｓ−Ｂ−Ｍペンタブロックで置換しても本発
明の範囲を逸脱するものではない。Ｍ−Ｂ−Ｓ−Ｂ−Ｍ
ペンタブロックは上記のジブロックおよびトリブロック
と同様に制御されたフリーラジカルまたはアニオン重合
で作ることができるが、二官能性プライマーを用いる。
このペンタブロックの数平均分子量はＳ−Ｂ−Ｍトリブ
ロックの数平均分子量と同じ範囲にある。２つのＭブロ
ックを合わせた比率、２つのＢブロックと合わせた比率
はＳ−Ｂ−Ｍトリブロック中のＳ、ＢおよびＭの比率と
同じ範囲にある。
をＭ−Ｂ−Ｓ−Ｂ−Ｍペンタブロックで置換しても本発
明の範囲を逸脱するものではない。Ｍ−Ｂ−Ｓ−Ｂ−Ｍ
ペンタブロックは上記のジブロックおよびトリブロック
と同様に制御されたフリーラジカルまたはアニオン重合
で作ることができるが、二官能性プライマーを用いる。
このペンタブロックの数平均分子量はＳ−Ｂ−Ｍトリブ
ロックの数平均分子量と同じ範囲にある。２つのＭブロ
ックを合わせた比率、２つのＢブロックと合わせた比率
はＳ−Ｂ−Ｍトリブロック中のＳ、ＢおよびＭの比率と
同じ範囲にある。
【００３４】本発明の材料はＰＰＯおよび芳香族ビニル
樹脂の通常の添加物をさらに含むことができる。添加物
の例としては難燃剤、着色剤、顔料、紫外線防止剤、酸
化防止剤、ガラスまたは炭素繊維、可塑剤、静電防止
剤、加工助剤および無機充填剤、例えばシリカまたは炭
酸カルシウムが挙げられる。これらの添加物の比率は樹
脂（Ａ）と耐衝撃性改良剤と添加物との混合物の全重量
の５０％以下である。本発明の材料は通常の熱可塑性の
成形技術（単軸、二軸スクリュー押出機、バス等）で各
成分を溶融混合して製造できる。本発明組成物は顆粒化
する（使用時に単に再溶融するだけでよい）か、金型に
直接射出するか、押出機または共押出機でチューブまた
は異形断面材にするか、フィルム製造機でフィルムにす
ることができる。以下、本発明の実施例を説明する。
樹脂の通常の添加物をさらに含むことができる。添加物
の例としては難燃剤、着色剤、顔料、紫外線防止剤、酸
化防止剤、ガラスまたは炭素繊維、可塑剤、静電防止
剤、加工助剤および無機充填剤、例えばシリカまたは炭
酸カルシウムが挙げられる。これらの添加物の比率は樹
脂（Ａ）と耐衝撃性改良剤と添加物との混合物の全重量
の５０％以下である。本発明の材料は通常の熱可塑性の
成形技術（単軸、二軸スクリュー押出機、バス等）で各
成分を溶融混合して製造できる。本発明組成物は顆粒化
する（使用時に単に再溶融するだけでよい）か、金型に
直接射出するか、押出機または共押出機でチューブまた
は異形断面材にするか、フィルム製造機でフィルムにす
ることができる。以下、本発明の実施例を説明する。
【００３５】
【実施例】実施例で用いた化合物は下記の通り： （１）ＰＰＯ：製品番号ＶＥＳＴＯＲＡＮ１９００ｎｆ
（ＨＵＥＬＳ社）で市販のポリ（２，６−ジメチル−
１，４−フェニレン）エーテルをベースとする化合物。
２１．６ｋｇの荷重下、温度３００℃でのＭＶＲが２５
ｃｍ3／１０分である。 （２）ＰＳ：製品番号ＬＡＣＱＲＥＮＥ１５４０（エル
フ・アトケム社）で市販のポリスチレン。５ｋｇの荷重
下、温度２００℃でのＭＶＲが１２ｃｍ3／１０分であ
る。 （３）ＰＳｃｈｏｃ：製品番号ＬＡＣＱＲＥＮＥ６６３
１（エルフ・アトケム社）で市販の衝撃に対して補強さ
れたポリスチレン、耐衝撃性ＰＳ。５ｋｇの荷重下、温
度２００℃でのＭＶＲが１３ｃｍ3／１０分である。
（ＨＵＥＬＳ社）で市販のポリ（２，６−ジメチル−
１，４−フェニレン）エーテルをベースとする化合物。
２１．６ｋｇの荷重下、温度３００℃でのＭＶＲが２５
ｃｍ3／１０分である。 （２）ＰＳ：製品番号ＬＡＣＱＲＥＮＥ１５４０（エル
フ・アトケム社）で市販のポリスチレン。５ｋｇの荷重
下、温度２００℃でのＭＶＲが１２ｃｍ3／１０分であ
る。 （３）ＰＳｃｈｏｃ：製品番号ＬＡＣＱＲＥＮＥ６６３
１（エルフ・アトケム社）で市販の衝撃に対して補強さ
れたポリスチレン、耐衝撃性ＰＳ。５ｋｇの荷重下、温
度２００℃でのＭＶＲが１３ｃｍ3／１０分である。
【００３６】（４）Ｓ−ＥＢ−Ｓ：製品番号Ｋｒａｔｏ
ｎ Ｇ １６５０（Ｓｈｅｌｌ社）で市販のポリスチレン
−ｂ−ポリエチレンブテン−ｂ−ポリスチレントリブロ
ックコポリマー。 （５）Ｓ−Ｂ−Ｍ：ポリスチレン−ｂ−ポリブタジエン
−ｂ−ポリメチルメタクリレートトリブロックコポリマ
ーとポリスチレン−ｂ−ポリブタジエンジブロックコポ
リマーとの混合物。Ｓ−ＢジブロックはＳ−Ｂ−Ｍトリ
ブロックの製造で用いられる材料である。Ｓ−Ｂ−Ｍ／
Ｓ−Ｂ混合物は６５重量％のＳ−Ｂ−Ｍと３５重量％の
Ｓ−Ｂジブロックとを含む。これらのブロックコポリマ
ーは下記の特徴を有する：
ｎ Ｇ １６５０（Ｓｈｅｌｌ社）で市販のポリスチレン
−ｂ−ポリエチレンブテン−ｂ−ポリスチレントリブロ
ックコポリマー。 （５）Ｓ−Ｂ−Ｍ：ポリスチレン−ｂ−ポリブタジエン
−ｂ−ポリメチルメタクリレートトリブロックコポリマ
ーとポリスチレン−ｂ−ポリブタジエンジブロックコポ
リマーとの混合物。Ｓ−ＢジブロックはＳ−Ｂ−Ｍトリ
ブロックの製造で用いられる材料である。Ｓ−Ｂ−Ｍ／
Ｓ−Ｂ混合物は６５重量％のＳ−Ｂ−Ｍと３５重量％の
Ｓ−Ｂジブロックとを含む。これらのブロックコポリマ
ーは下記の特徴を有する：
【００３７】ＳＢＭ１：２７重量％のポリスチレンと、
２７％のポリブタジエンと、４６重量％のポリメチルメ
タクリレートとを含むＳ−Ｂ−Ｍトリブロックコポリマ
ー（Ｓがポリスチレン、Ｂがポリブタジエン、ＭがＰＭ
ＭＡ）。数平均分子量が２７，０００ｇ／ｍｏｌのブロ
ックポリスチレンと、数平均分子量が２７，０００ｇ／
ｍｏｌのブロックポリブタジエンと、数平均分子量が４
６，０００ｇ／ｍｏｌのブロックポリメチルメタクリレ
ートとを順次アニオン重合して得られる。欧州特許第５
２４，０５４号または欧州特許第７４９，９８７号に記
載の方法で製造できる。３つのガラス遷移温度、−９０
℃、９７℃、１３０℃を有する。
２７％のポリブタジエンと、４６重量％のポリメチルメ
タクリレートとを含むＳ−Ｂ−Ｍトリブロックコポリマ
ー（Ｓがポリスチレン、Ｂがポリブタジエン、ＭがＰＭ
ＭＡ）。数平均分子量が２７，０００ｇ／ｍｏｌのブロ
ックポリスチレンと、数平均分子量が２７，０００ｇ／
ｍｏｌのブロックポリブタジエンと、数平均分子量が４
６，０００ｇ／ｍｏｌのブロックポリメチルメタクリレ
ートとを順次アニオン重合して得られる。欧州特許第５
２４，０５４号または欧州特許第７４９，９８７号に記
載の方法で製造できる。３つのガラス遷移温度、−９０
℃、９７℃、１３０℃を有する。
【００３８】ＳＢ１：５０重量％のポリスチレンと５０
重量％のポリブタジエンとを含むＳ−Ｂジブロックコポ
リマー（Ｓがポリスチレン、Ｂがポリブタジエン）。数
平均分子量が２７，０００ｇ／ｍｏｌのブロックポリス
チレンと、数平均分子量が２７，０００ｇ／ｍｏｌのブ
ロックポリブタジエンとを順次アニオン重合して得られ
る。欧州特許第５２４，０５４号または欧州特許第７４
９，９８７号に記載の方法で製造できる。２つのガラス
遷移温度、−９０℃、９５℃を有する。
重量％のポリブタジエンとを含むＳ−Ｂジブロックコポ
リマー（Ｓがポリスチレン、Ｂがポリブタジエン）。数
平均分子量が２７，０００ｇ／ｍｏｌのブロックポリス
チレンと、数平均分子量が２７，０００ｇ／ｍｏｌのブ
ロックポリブタジエンとを順次アニオン重合して得られ
る。欧州特許第５２４，０５４号または欧州特許第７４
９，９８７号に記載の方法で製造できる。２つのガラス
遷移温度、−９０℃、９５℃を有する。
【００３９】材料の製造 ＰＰＯ、ＰＳまたはＰＳｃｈｏｃと、Ｓ−Ｂ−Ｍとの混
合物をスクリュー径が３０mmのＷｅｒｎｅｒ（商標）二
軸スクリュー押出機で製造した。用いる温度分布は２７
０℃／２８０℃である。この温度より低い温度ではＰＰ
Ｏは溶融しない。この温度分布で得られるロッドは滑ら
かで均質である。材料の組成（比率は重量で表す）およ
び特性は〔表１〕および〔表２〕に示してある。材料の
特性は下記の規格に従って測定する：
合物をスクリュー径が３０mmのＷｅｒｎｅｒ（商標）二
軸スクリュー押出機で製造した。用いる温度分布は２７
０℃／２８０℃である。この温度より低い温度ではＰＰ
Ｏは溶融しない。この温度分布で得られるロッドは滑ら
かで均質である。材料の組成（比率は重量で表す）およ
び特性は〔表１〕および〔表２〕に示してある。材料の
特性は下記の規格に従って測定する：
【００４０】ＭＶＲ：２８０℃、２．１６ｋｇの荷重下
で測定した化合物の流動性、弾性率 ：ＩＳＯ １７８：９３規格に従って測定した２
３℃での曲げ弾性率、ビカー温度 ：ＩＳＯ ３０６：９４規格に従って測定し
たビカー５０Ｎ、ＮＣＩ ：ＩＳＯ １７９：９３−１ｅＡ規格に従って２
３℃と−３０℃で測定したノッチ付きシャルピー衝撃強
度、
で測定した化合物の流動性、弾性率 ：ＩＳＯ １７８：９３規格に従って測定した２
３℃での曲げ弾性率、ビカー温度 ：ＩＳＯ ３０６：９４規格に従って測定し
たビカー５０Ｎ、ＮＣＩ ：ＩＳＯ １７９：９３−１ｅＡ規格に従って２
３℃と−３０℃で測定したノッチ付きシャルピー衝撃強
度、
【００４１】
【表１】
【００４２】
【表２】
【００４３】説明：ＰＰＯ／ＰＳ混合物（対照１）はビ
カー温度は高いが極めて脆弱な硬質材料（２８２０Ｍｐ
ａ）である。ポリスチレンの代わりに衝撃に対して補強
されたグレードのポリスチレンを用いることによってＰ
ＰＯ／ＰＳ混合物（対照２）の耐衝撃性を大幅に改良す
ることができることは知られている。この耐衝撃性の改
良によって曲げ弾性率がわずかに低下し、ビカー温度も
わずかに低下する。
カー温度は高いが極めて脆弱な硬質材料（２８２０Ｍｐ
ａ）である。ポリスチレンの代わりに衝撃に対して補強
されたグレードのポリスチレンを用いることによってＰ
ＰＯ／ＰＳ混合物（対照２）の耐衝撃性を大幅に改良す
ることができることは知られている。この耐衝撃性の改
良によって曲げ弾性率がわずかに低下し、ビカー温度も
わずかに低下する。
【００４４】対照試験３、４はＳ−ＥＢ−Ｓコポリマー
をＰＰＯ／ＰＳ混合物に添加することによって得られる
補強を示すために行った。２０％のＳ−ＥＢ−Ｓトリブ
ロックを添加することによって、室温での耐衝撃性を大
幅に改良することができる。低温（−３０℃）での耐衝
撃性は室温での耐衝撃性ほどではないが、大幅に改良さ
れる。一方、Ｓ−ＥＢ−Ｓトリブロックの添加によって
材料の剛性が大幅に低下する。実際には、対照１と対照
３（ＰＰＯ／ＰＳ）との間および対照２と対照４（ＰＰ
Ｏ／ＰＳｃｈｏｃ）との間に７００ＭＰａの曲げ弾性率
の低下がみられる。さらに、この弾性率の低下によって
ビカー温度が低下し、対照１と対照３（ＰＰＯ／ＰＳ）
との間では約１４℃、対照２と対照４との間では約２０
℃の低下がみられ、使用できないことがある。従って、
この解決策は十分なものではなく、対照４の優れた耐衝
撃性は弾性率の低下と高過ぎるビカー温度という犠牲を
払っている。
をＰＰＯ／ＰＳ混合物に添加することによって得られる
補強を示すために行った。２０％のＳ−ＥＢ−Ｓトリブ
ロックを添加することによって、室温での耐衝撃性を大
幅に改良することができる。低温（−３０℃）での耐衝
撃性は室温での耐衝撃性ほどではないが、大幅に改良さ
れる。一方、Ｓ−ＥＢ−Ｓトリブロックの添加によって
材料の剛性が大幅に低下する。実際には、対照１と対照
３（ＰＰＯ／ＰＳ）との間および対照２と対照４（ＰＰ
Ｏ／ＰＳｃｈｏｃ）との間に７００ＭＰａの曲げ弾性率
の低下がみられる。さらに、この弾性率の低下によって
ビカー温度が低下し、対照１と対照３（ＰＰＯ／ＰＳ）
との間では約１４℃、対照２と対照４との間では約２０
℃の低下がみられ、使用できないことがある。従って、
この解決策は十分なものではなく、対照４の優れた耐衝
撃性は弾性率の低下と高過ぎるビカー温度という犠牲を
払っている。
【００４５】実施例１、２は上記の全ての対照と同じ条
件下で行った。成形法はＳ−Ｂ−Ｍトリブロック、ＰＳ
−ＰＢ−ＰＭＭＡをベースとする化合物に破壊的な影響
を与えないことがわかった。成形後、混合物のクロロホ
ルム中の溶解度を試験した。化合物に架橋は生じていな
い。
件下で行った。成形法はＳ−Ｂ−Ｍトリブロック、ＰＳ
−ＰＢ−ＰＭＭＡをベースとする化合物に破壊的な影響
を与えないことがわかった。成形後、混合物のクロロホ
ルム中の溶解度を試験した。化合物に架橋は生じていな
い。
【００４６】２０％のＳ−Ｂ−Ｍトリブロック、ＰＳ−
ＰＢ−ＰＭＭＡをベースとする化合物をＰＰＯ／ＰＳ混
合物とＰＰＯ／ＰＳｃｈｏｃ混合物に添加することによ
って、Ｓ−ＥＢ−Ｓトリブロックの場合に比べて、流動
性に変化が生じることはない。従って、実施例１および
２はそれぞれ対照３、４と同じ粘度で比較することがで
きる。得られた補強度は室温でほぼ同じであるが、低温
（−３０℃）ではより大きい補強度を得ることができ
る。最も驚くべき結果はやはりこのブロックの熱機械的
挙動にある。すなわち、対照１、２の添加に比べて、曲
げ弾性率のわずかな低下（４００ＭＰａ）およびビカー
温度の極めてわずかな低下（それぞれ４℃、５℃）とい
う犠牲だけで耐衝撃性の改良が得られる。
ＰＢ−ＰＭＭＡをベースとする化合物をＰＰＯ／ＰＳ混
合物とＰＰＯ／ＰＳｃｈｏｃ混合物に添加することによ
って、Ｓ−ＥＢ−Ｓトリブロックの場合に比べて、流動
性に変化が生じることはない。従って、実施例１および
２はそれぞれ対照３、４と同じ粘度で比較することがで
きる。得られた補強度は室温でほぼ同じであるが、低温
（−３０℃）ではより大きい補強度を得ることができ
る。最も驚くべき結果はやはりこのブロックの熱機械的
挙動にある。すなわち、対照１、２の添加に比べて、曲
げ弾性率のわずかな低下（４００ＭＰａ）およびビカー
温度の極めてわずかな低下（それぞれ４℃、５℃）とい
う犠牲だけで耐衝撃性の改良が得られる。
【００４７】Ｓ−Ｂ−Ｍトリブロックはビカー温度と材
料の剛性とをわずかに低下させるが、ＰＰＯ／ＰＳ材料
の耐衝撃性を大幅に改良する。この妥協策はここで示さ
れるようにＳ−ＥＢ−Ｓトリブロックで得られる妥協策
とは極めて異なる独特な妥協策であり、本発明の利点を
構成するものである。実施例２と対照４のサンプルは図
１と図２の電子顕微鏡写真にそれぞれ示してある。観察
前に各切片を無水オスミン酸煙霧に３０分間曝した。こ
の処理の効果はこの場合はネガ上に最も暗い色で現れる
ＢまたはＥＢを構成する領域を選択的に標示することに
ある。図１にはＭブロックを構成するコアとＢブロック
を構成するクラストとを有する節の微細で規則的な分散
物がはっきり見え、ＳブロックはＰＰＯ／ＰＳマトリク
スと相溶性である。図２には粗い混合物が見え、大きな
節の白色部分は分離した複数のＳ−ＥＢ−Ｓトリブロッ
クのＳブロックからなる。
料の剛性とをわずかに低下させるが、ＰＰＯ／ＰＳ材料
の耐衝撃性を大幅に改良する。この妥協策はここで示さ
れるようにＳ−ＥＢ−Ｓトリブロックで得られる妥協策
とは極めて異なる独特な妥協策であり、本発明の利点を
構成するものである。実施例２と対照４のサンプルは図
１と図２の電子顕微鏡写真にそれぞれ示してある。観察
前に各切片を無水オスミン酸煙霧に３０分間曝した。こ
の処理の効果はこの場合はネガ上に最も暗い色で現れる
ＢまたはＥＢを構成する領域を選択的に標示することに
ある。図１にはＭブロックを構成するコアとＢブロック
を構成するクラストとを有する節の微細で規則的な分散
物がはっきり見え、ＳブロックはＰＰＯ／ＰＳマトリク
スと相溶性である。図２には粗い混合物が見え、大きな
節の白色部分は分離した複数のＳ−ＥＢ−Ｓトリブロッ
クのＳブロックからなる。
【図１】 実施例２のサンプルの電子顕微鏡写真。
【図２】 対照４のサンプルの電子顕微鏡写真。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｃ０８Ｌ 53/02 Ｃ０８Ｌ 53/02 (72)発明者 アントニー ボネ フランス国 27470 セルキニ リュ デ テリエ 26 (72)発明者 ドゥニ ベルタン フランス国 13380 プラン ドゥ キュ ク アヴニュ ドゥ ラ リベラシオン 126 レジダンス ラ バスティド マド レーヌ アパルトマン 26 Ｆターム(参考） 4J002 BC03X BC06X BC08X BC09X BC11X BD03X BN15X BP01Y BP03Y CH07W 4J026 HA11 HD06 HD11 HD14 HD15 HD16 HD22 HE01 HE02 HE05
Claims (22)
- 【請求項１】 ９９〜２０重量％のＰＰＯと芳香族ビニ
ル樹脂との混合物からなる樹脂（Ａ）と、１〜８０重量
％の少なくとも１種のＳ−Ｂ−Ｍコポリマーからなる耐
衝撃性改良剤とで構成される、耐衝撃性が改良されたＰ
ＰＯと芳香族ビニル樹脂とをベースとする硬質材料にお
いて、 耐衝撃性改良剤が下記（1）〜（5）を特徴とする硬質材
料： （1） 各ブロックが共有結合によって他のブロックと
結合しているか、一つのブロックに一つの共有結合で、
他のブロックに別の共有結合で結合した中間の分子を介
して結合しており、（2） Ｍブロックは必要に応じて
他のモノマーと共重合していてもよいＭＭＡモノマーか
らなり、その少なくとも５０重量％はメチルメタクリレ
ート（ＭＭＡ）からなり、（3） Ｂブロックは樹脂
（Ａ）と非相溶性で且つＭブロックと非相溶性であり、
そのガラス遷移温度Ｔｇは硬質材料の使用温度より低
く、（4） ＳブロックはＢブロックおよびＭブロック
と非相溶性であり、そのＴｇまたは融点ｍｐはＢブロッ
クのＴｇよりも高く、（5） Ｓブロックは樹脂（Ａ）
と相溶性である。 - 【請求項２】 Ｍブロックが少なくとも６０重量のシン
ジオタクチックＰＭＭＡからなる請求項１に記載の材
料。 - 【請求項３】 Ｍブロックが反応性モノマー、特にグリ
シジルメタクリレートまたはtert-ブチルメタクリレー
トを含む請求項１または２に記載の材料。 - 【請求項４】 ＢブロックのＴｇが０℃以下である請求
項１〜３のいずれか一項に記載の材料。 - 【請求項５】 ＢブロックのＴｇが−４０℃以下である
請求項４に記載の材料。 - 【請求項６】 Ｂブロックの主成分が１，４−ポリブタ
ジエンである請求項５に記載の材料。 - 【請求項７】 Ｂブロックのジエンが水素化されている
請求項４〜６のいずれか一項に記載の材料。 - 【請求項８】 Ｂブロックがポリ（ブチルアクリレー
ト）からなる請求項４に記載の材料。 - 【請求項９】 ＳブロックのＴｇまたはｍｐが２３℃以
上である請求項１〜８のいずれか一項に記載の材料。 - 【請求項１０】 ＳブロックのＴｇまたはｍｐが５０℃
以上である請求項９に記載の材料。 - 【請求項１１】 Ｓブロックがポリスチレンである請求
項１０に記載の材料。 - 【請求項１２】 Ｓ−Ｂ−Ｍブロックコポリマーの数平
均分子量が１０，０００〜５００，０００ｇ／ｍｏｌで
ある請求項１〜１１のいずれか一項に記載の材料。 - 【請求項１３】 Ｓ−Ｂ−Ｍブロックコポリマーの数平
均分子量が２０，０００〜２００，０００ｇ／ｍｏｌで
ある請求項１２に記載の材料。 - 【請求項１４】 耐衝撃性改良剤の比率が９９〜６５重
量％の樹脂（Ａ）に対して１〜３５重量％である請求項
１〜１３のいずれか一項に記載の材料。 - 【請求項１５】 耐衝撃性改良剤の比率が９６〜７５重
量％の樹脂（Ａ）に対して４〜２５重量％である請求項
１４に記載の材料。 - 【請求項１６】 耐衝撃性改良剤が少なくとも１種のＳ
−Ｂ−Ｍブロックコポリマーと、Ｓ−Ｂジブロックコポ
リマーから選択される少なくとも１種のポリマーとを含
む請求項１〜１５のいずれか一項に記載の材料。 - 【請求項１７】 Ｓ−ＢジブロックのＳおよびＢブロッ
クが請求項１および４〜１１に記載のＳおよびＢブロッ
クである請求項１６に記載の材料。 - 【請求項１８】 Ｓ−Ｂジブロックの数平均分子量が１
０，０００〜５００，０００ｇ／ｍｏｌである請求項１
７に記載の材料。 - 【請求項１９】 耐衝撃性改良剤が直鎖Ｓ−Ｂ−Ｓトリ
ブロックまたは星形Ｓ−Ｂ−Ｓトリブロックから選択さ
れる少なくとも１種のＳ−Ｂ−Ｓトリブロックをさらに
含む請求項１〜１８のいずれか一項に記載の材料。 - 【請求項２０】 Ｓ−Ｂ−Ｍトリブロックの全部または
一部をＭ−Ｂ−Ｓ−Ｂ−Ｍペンタブロックで置換した請
求項１〜１９のいずれか一項に記載の材料。 - 【請求項２１】 樹脂（Ａ）を構成する芳香族ビニル樹
脂がポリスチレンおよび耐衝撃性ポリスチレンから選択
する請求項１〜２０のいずれか一項に記載の材料。 - 【請求項２２】 芳香族ビニル樹脂に対するＰＰＯの重
量比が１／９〜９／１、好ましくは３／７〜７／３であ
る請求項１〜２１のいずれか一項に記載の材料。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| FR0007848 | 2000-06-20 | ||
| FR0007848 | 2000-06-20 |
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|---|---|
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008214431A (ja) * | 2007-03-01 | 2008-09-18 | Teijin Chem Ltd | 熱可塑性樹脂組成物 |
| US20120164435A1 (en) * | 2010-12-25 | 2012-06-28 | Hon Hai Precision Industry Co., Ltd. | Coated article and method of making the same |
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|---|---|---|---|---|
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| US20050058845A1 (en) * | 2003-08-05 | 2005-03-17 | Gaelle Bellet | Multilayer structure that includes an impact-modified EVOH layer |
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| WO2006019410A2 (en) * | 2004-02-25 | 2006-02-23 | Polyone Corporation | Impact-modified blends |
| DE602005025656D1 (de) * | 2004-09-23 | 2011-02-10 | Polyone Corp | Schlagzähmodifizierte polyamidverbindungen |
| WO2007132901A1 (ja) * | 2006-05-16 | 2007-11-22 | Nippon Soda Co., Ltd. | ブロックコポリマー |
| US8163844B2 (en) | 2006-09-15 | 2012-04-24 | Kuraray Co., Ltd. | Methacrylic resin composition, resin modifier, and molded article |
| US8092722B2 (en) * | 2008-09-30 | 2012-01-10 | Sabic Innovative Plastics Ip B.V. | Varnish compositions for electrical insulation and method of using the same |
| EP3068834B1 (en) * | 2013-11-12 | 2017-07-19 | INEOS Styrolution Group GmbH | Polymer compositions based on smma |
| CN112745592B (zh) * | 2020-12-29 | 2023-12-12 | 成都金发科技新材料有限公司 | 一种苯乙烯组合物及其应用和制备方法 |
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|---|---|---|---|---|
| JP3255243B2 (ja) * | 1992-09-10 | 2002-02-12 | 出光興産株式会社 | ポリスチレン系樹脂組成物 |
| DE4240445A1 (de) * | 1992-12-02 | 1994-06-09 | Basf Ag | Mehrphasige Polymermischungen |
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- 2001-06-20 CN CN01124812A patent/CN1330103A/zh active Pending
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|---|---|---|---|---|
| JP2008214431A (ja) * | 2007-03-01 | 2008-09-18 | Teijin Chem Ltd | 熱可塑性樹脂組成物 |
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