JP2002009000A - 半導体製造装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 処理済みボートの未処理ボート上のウエハへ
の熱影響を防止する。 【解決手段】 ボート２１に搭載された複数枚のウエハ
Ｗに対して処理室１２で熱処理を施す熱処理ステージ４
と複数枚のウエハＷが搭載されたボート２１を待機させ
る待機ステージ５との間には、遮蔽板６６を回動させる
遮蔽板回動装置６０が設置されており、処理室１２から
処理済みのボート２１Ｂを搬出するときに、処理済みボ
ート２１Ｂと待機ステージ５上の未処理ボート２１Ａと
の間に遮蔽板６６を配置させて、処理済みボート２１Ｂ
からの輻射熱が未処理ボート２１ＡのウエハＷに悪影響
を及ぼすのを防止する。 【効果】 未処理ウエハへの熱影響の防止で、処理精度
を向上できる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体製造装置に
関し、特に、処理が施される基板の酸化や汚染防止技術
に係り、例えば、半導体装置の製造工程において半導体
ウエハにアニール処理や酸化膜形成処理、拡散処理およ
び成膜処理等の熱処理を施すのに利用して有効なものに
関する。

【０００２】一般に、半導体装置の製造工程において半
導体ウエハ（以下、ウエハという。）にアニール処理や
酸化膜形成処理、拡散処理および成膜処理等の熱処理を
施すのにバッチ式縦形ホットウオール形熱処理装置 (fu
rnace 。以下、熱処理装置という。）が、広く使用され
ている。

【０００３】従来のこの種の熱処理装置として、特許第
２６８１０５５号公報に記載されているものがある。こ
の熱処理装置においては、ウエハ移載装置とプロセスチ
ューブの真下空間との間にボート交換装置が配置されて
おり、ボート交換装置の回転テーブルの上に一対（二
台）のボートが載置され、回転テーブルを中心として一
対のボートが１８０度ずつ回転することにより、未処理
のボートと処理済みのボートとが交換されるようになっ
ている。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】熱処理装置における熱
処理条件によっても異なるが、プロセスチューブの処理
室から搬出されて来る処理済みボートおよびこれに保持
されたウエハ群（以下、処理済みボートという。）の温
度は、３００℃〜５００℃になっているのが一般的であ
る。このような高温状態のままでボートからウエハをウ
エハ移載装置によってディスチャージすることは困難で
ある。そこで、この高温になった処理済みボートにクリ
ーンエアを吹き付けて強制的に冷却させた後に、ボート
からウエハをウエハ移載装置によってディスチャージす
ることが、考えられる。

【０００５】前記した熱処理装置において、高温となっ
た処理済みのボートと未処理のボートとを交換する場
合、高温となった処理済みのボートと未処理のボートが
回転テーブル上に並ぶことになるので、処理済みのボー
トの未処理ボート内のウエハに対しての熱的な影響（自
然酸化膜増加等）が及んでしまう。なお、未処理ボート
が、待機台にある状態で処理済のボートが下降して来る
ときが最も近い位置で並ぶ。この影響を回避するため、
熱的な影響が及ばない程度まで処理済みのボートに対し
て処理室内での充分な冷却時間を確保することが余儀な
くされ、冷却時間が長くなってしまう。

【０００６】本発明の目的は、処理済みボートの未処理
ボート上の基板への熱的影響を防止することができる半
導体製造装置を提供することにある。

【０００７】

【課題を解決するための手段】本発明に係る半導体製造
装置は、処理室を形成したプロセスチューブと、前記処
理室に出入りして複数枚の基板を搬入搬出するボート
と、前記複数枚の基板を前記ボートに対して前記処理室
の外部において授受する基板移載装置とを備えており、
前記ボートが複数台使用される半導体製造装置におい
て、前記処理室に搬入される前記ボートを仮置きするス
テージと前記処理室との間に前記処理室から搬出された
前記ボートからの輻射熱を遮蔽する遮蔽板が移動可能に
配置されていることを特徴とする。

【０００８】前記した手段によれば、処理室から搬出さ
れたボートと仮置きステージに配置された未処理のボー
トとの間には輻射熱を遮蔽する遮蔽板が配置されるた
め、処理室から搬出された処理済みのボートから発生す
る輻射熱による熱的影響が未処理のボート上の基板に及
ぶのを防止することができる。

【０００９】

【発明の実施の形態】以下、本発明の一実施の形態を図
面に即して説明する。

【００１０】本実施の形態において、本発明に係る半導
体製造装置は、バッチ式縦形ホットウオール形拡散ＣＶ
Ｄ装置（以下、拡散ＣＶＤ装置という。）として構成さ
れており、基板としてのウエハにアニール処理や酸化膜
形成処理、拡散処理および成膜処理等の熱処理を施すの
に使用される。

【００１１】図１に示されているように、拡散ＣＶＤ装
置１は平面視が長方形の直方体の箱形状に形成された筐
体２を備えている。筐体２の左側側壁の後部（左右前後
は図１を基準とする。）にはクリーンユニット３が設置
されており、クリーンユニット３は筐体２の内部にクリ
ーンエアを供給するようになっている。筐体２の内部に
おける後部の略中央には熱処理ステージ４が設定され、
熱処理ステージ４の左脇の前後には空のボートまたは未
処理基板としてのウエハを装填したボートを仮置きして
待機させる待機ステージ（以下、待機ステージとい
う。）５および処理済みボートを仮置きして冷却するス
テージ（以下、冷却ステージという。）６が設定されて
いる。筐体２の内部における前部の略中央にはウエハロ
ーディングステージ７が設定されており、その手前には
ポッドステージ８が設定されている。ウエハローディン
グステージ７の左脇にはノッチ合わせ装置９が設置され
ている。以下、各ステージの構成を順に説明する。

【００１２】図５および図６に示されているように、熱
処理ステージ４の上部には石英ガラスが使用されて下端
が開口した円筒形状に一体成形されたプロセスチューブ
１１が、中心線が垂直になるように縦に配されている。
プロセスチューブ１１の筒中空部はボートによって同心
的に整列した状態に保持された複数枚のウエハが搬入さ
れる処理室１２を形成しており、プロセスチューブ１１
の下端開口は被処理基板としてのウエハを出し入れする
ための炉口１３を構成している。したがって、プロセス
チューブ１１の内径は取り扱うウエハの最大外径よりも
大きくなるように設定されている。

【００１３】プロセスチューブ１１の下端面はマニホー
ルド１４の上端面にシールリング１５を挟んで当接され
ており、マニホールド１４が筐体２に支持されることに
より、プロセスチューブ１１は垂直に支持された状態に
なっている。マニホールド１４の側壁の一部には排気管
１６が処理室１２に連通するように接続されており、排
気管１６の他端は処理室１２を所定の真空度に真空排気
するための真空排気装置（図示せず）に接続されてい
る。マニホールド１４の側壁の他の部分にはガス導入管
１７が処理室１２に連通するように接続されており、ガ
ス導入管１７の他端は原料ガスや窒素ガス等のガスを供
給するためのガス供給装置（図示せず）に接続されてい
る。

【００１４】プロセスチューブ１１の外部にはヒータユ
ニット１８がプロセスチューブ１１を包囲するように同
心円に設備されており、ヒータユニット１８は筐体２に
支持されることにより垂直に据え付けられた状態になっ
ている。ヒータユニット１８は処理室１２内を全体にわ
たって均一にまたは所定の温度勾配を形成するように加
熱すべく構成されている。

【００１５】熱処理ステージ４におけるプロセスチュー
ブ１１の真下にはプロセスチューブ１１の外径と略等し
い円盤形状に形成されたキャップ１９が同心的に配置さ
れており、キャップ１９は送りねじ機構によって構成さ
れたエレベータ２０によって垂直方向に昇降されるよう
になっている。キャップ１９は中心線上にボート２１を
垂直に立脚して支持するようになっている。本実施の形
態において、ボート２１は二台が使用される。

【００１６】図５および図６に示されているように、二
台のボート２１、２１はいずれも、上下で一対の端板２
２、２３と、両端板２２、２３間に架設されて垂直に配
設された複数本（本実施の形態では三本）の保持部材２
４とを備えており、各保持部材２４に長手方向に等間隔
に配されて互いに同一平面内において開口するようにそ
れぞれ刻設された複数条の保持溝２５間にウエハＷを挿
入されることにより、複数枚のウエハＷを水平にかつ互
いに中心を揃えた状態に整列させて保持するように構成
されている。

【００１７】ボート２１の下側端板２３の下には断熱キ
ャップ部２６が形成されており、断熱キャップ部２６の
下面には断熱キャップ部２６の外径よりも小径の円柱形
状に形成された支柱２７が垂直方向下向きに突設されて
いる。断熱キャップ部２６の下面における支柱２７の下
面には後記するボート移送装置のアームが挿入されるス
ペースが形成されており、支柱２７の下面における外周
辺部によってアームを係合するための係合部２８が構成
されている。支柱２７の下面にはベース２９が水平に設
けられている。

【００１８】図１に示されているように、待機ステージ
５と冷却ステージ６との間にはボート２１を熱処理ステ
ージ４と待機ステージ５および冷却ステージ６との間で
移送するボート移送装置３０が設備されている。図７に
示されているように、ボート移送装置３０は水平面内で
回動する一対の第一アーム３１および第二アーム３２を
備えている。第一アーム３１および第二アーム３２はい
ずれも円弧形状に形成されており、ボート２１の支柱２
７の外側に挿入された状態で断熱キャップ部２６の係合
部２８に下から係合することにより、ボート２１全体を
垂直に支持するようになっている。なお、第１アーム３
１は９０度、第２アーム３２は１８０度それぞれ回動す
るようになっている。

【００１９】図１および図７に示されているように、待
機ステージ５にはボート２１を垂直に支持する待機台３
３が設置されており、第一アーム３１はボート２１を待
機台３３と熱処理ステージ４のキャップ１９との間で移
送するように構成されている。冷却ステージ６には冷却
台３４が設置されており、第二アーム３２はボート２１
を冷却台３４と熱処理ステージ４のキャップ１９と待機
台３３との間で移送するように構成されている。

【００２０】図１に示されているように、筐体２内にク
リーンエア３５を供給するクリーンユニット３はクリー
ンエア３５を待機ステージ５および冷却ステージ６に向
けて吹き出すように構成されている。すなわち、図８に
示されているように、クリーンユニット３はクリーンエ
ア３５を吸い込む吸込ダクト３６を備えており、吸込ダ
クト３６の下端部には吸込ファン３７が設置されてい
る。吸込ファン３７の吐出口側には吹出ダクト３８が前
後方向に延在するように長く敷設されており、吹出ダク
ト３８の筐体２の内側面における吸込ダクト３６の前後
の両脇にはクリーンエア３５を待機ステージ５および冷
却ステージ６にそれぞれ向けて吹き出す吹出口３９、３
９が大きく開設されている。

【００２１】他方、図１に示されているように、筐体２
の内部における後側の右隅には排気用ファン４０が設置
されており、排気用ファン４０はクリーンユニット３の
吹出口３９、３９から吹き出されたクリーンエア３５を
吸い込んで筐体２内の外部に排出するようになってい
る。

【００２２】図１〜図４に示されているように、ウエハ
ローディングステージ７にはウエハ移載装置４１が設置
されており、ウエハ移載装置４１はウエハＷをポッドス
テージ８と待機ステージ５との間でノッチ合せ装置９を
介して移送してポッドとボート２１との間で移載するよ
うに構成されている。

【００２３】すなわち、図９に示されているように、ウ
エハ移載装置４１はベース４２を備えており、ベース４
２の上面にはベース４２に対して旋回するターンテーブ
ル４３が設置されている。ターンテーブル４３の上には
リニアガイド４４が設置されており、リニアガイド４４
はその上に設置された取付台４６を水平移動させるよう
に構成されている。取付台４６にはウエハＷを下から支
持するツィーザ４７が複数枚（本実施の形態においては
五枚）、等間隔に配置されて水平に取り付けられてい
る。図１〜図４に示されているように、ウエハ移載装置
４１は送りねじ機構によって構成されたエレベータ４８
によって昇降されるようになっている。

【００２４】ポッドステージ８にはウエハＷを搬送する
ためのキャリア（収納容器）としてのＦＯＵＰ（front
opning unified pod。以下、ポッドという。）５０が一
台ずつ載置されるようになっている。ポッド５０は一つ
の面が開口した略立方体の箱形状に形成されており、開
口部にはドア５１が着脱自在に装着されている。ウエハ
のキャリアとしてポッドが使用される場合には、ウエハ
が密閉された状態で搬送されることになるため、周囲の
雰囲気にパーティクル等が存在していたとしてもウエハ
の清浄度は維持することができる。したがって、拡散Ｃ
ＶＤ装置が設置されるクリーンルーム内の清浄度をあま
り高く設定する必要がなくなるため、クリーンルームに
要するコストを低減することができる。そこで、本実施
の形態に係る拡散ＣＶＤ装置においては、ウエハのキャ
リアとしてポッド５０が使用されている。なお、ポッド
ステージ８にはポッド５０のドア５１を開閉するための
ドア開閉装置（図示せず）が設置されている。

【００２５】他方、図１、図４および図１０に示されて
いるように、待機ステージ５の待機台３３には遮蔽板回
動装置６０が設置されている。遮蔽板回動装置６０はモ
ータ６１、小ギヤ６２および大ギヤ６３を備えており、
モータ６１がベース６４の上に据え付けられ、モータ６
１の回転軸に小ギヤ６２が水平に連結されている。小ギ
ヤ６２と大ギヤ６３とは水平に配されて互いに噛合され
ており、モータ６１の回転力が小ギヤ６２を介して大ギ
ヤ６３に伝達されるようになっている。大ギヤ６３はベ
ース６４の上に固定されて待機台３３を支持する支柱６
５の外周面に回転自在に支承されており、大ギヤ６３の
上面には遮蔽板６６の端部が固定されている。

【００２６】遮蔽板６６は輻射熱を遮蔽するために、例
えば、ボート２１の高さよりも長い金属板を用いて略半
円弧形状に形成されて、ボート２１の軸と略同心円に立
脚されており、遮蔽板６６にはクリーンエア３５を通す
ための貫通孔６７が複数個鉛直方向に分散して形成され
ている。そして、図１と図１０（ａ）に示されるよう
に、遮蔽板６６はモータ６１の正回転時にモータ６１の
回転力を受けて回動して待機ステージ５と熱処理ステー
ジ４との間の領域に配置されるようになっている。一
方、図４と図１０（ｂ）に示されているように、モータ
６１の逆回転時には遮蔽板６６はモータ６１の回転力を
受けて逆方向に回動して待機ステージ５とノッチ合せ装
置９との間の領域に配置されるようになっている。

【００２７】次に、前記構成に係る拡散ＣＶＤ装置の作
用を説明する。

【００２８】図１に示されているように、複数枚のウエ
ハＷが収納されたポッド５０はポッドステージ８に供給
される。図２に示されているように、ポッドステージ８
に供給されたポッド５０はドア５１をドア開閉装置によ
って開放される。

【００２９】ポッド５０に収納されたウエハＷは、図１
および図２に示されているように待機ステージ５の待機
台３３に置かれた空のボート（以下、第一ボート２１Ａ
という。）にウエハ移載装置４１によって移載される。

【００３０】すなわち、図９において、（ａ）に示され
た状態から（ｂ）に示されているように、取付台４６が
ポッド５０の方向に移動されてツィーザ４７がポッド５
０内に挿入され、ツィーザ４７によってポッド５０内の
ウエハＷを受け取った後に、（ａ）に示された位置に後
退する。この状態で、ターンテーブル４３が反転し、続
いて、取付台４６が待機ステージ５の方向に移動され
て、ツィーザ４７が保持したウエハＷを第一ボート２１
Ａの保持溝２５に受け渡す。ウエハＷを第一ボート２１
Ａに移載したウエハ移載装置４１は取付台４６を一度後
退させた後に再び反転して、ツィーザ４７をポッド５０
側に向けた図９（ａ）の状態になる。

【００３１】この際、ウエハ移載装置４１は五枚のツィ
ーザ４７を備えているため、一回の移載作動で五枚のウ
エハＷをポッド５０の五段の保持溝から第一ボート２１
Ａの五段の保持溝２５に移載することができる。ここ
で、第一ボート２１Ａがバッチ処理するウエハＷの枚数
は一台のポッド５０に収納されたウエハＷの枚数よりも
多いため、ウエハ移載装置４１は複数台のポッド５０か
ら所定枚数のウエハＷを第一ボート２１Ａにエレベータ
４８によって昇降されて移載することになる。

【００３２】他方、図２に示されているように、熱処理
ステージ４においては、所定枚数のウエハＷを保持した
第二のボート２１がキャップ１９に垂直に支持された状
態でエレベータ２０によってプロセスチューブ１１の処
理室１２に搬入されて所定の処理を施されている。

【００３３】すなわち、図５に示されているように、キ
ャップ１９に垂直に支持されたボート２１はエレベータ
２０によって上昇されてプロセスチューブ１１の処理室
１２に搬入（ローディング）される。ボート２１が上限
に達すると、キャップ１９の上面の外周辺部がマニホー
ルド１４の下面にシールリング１５を挟んで着座した状
態になって、マニホールド１４の下端開口をシール状態
に閉塞するため、処理室１２は気密に閉じられた状態に
なる。

【００３４】処理室１２がキャップ１９によって気密に
閉じられた状態で、処理室１２が所定の真空度に排気管
１６によって真空排気され、ヒータユニット１８によっ
て所定の処理温度（例えば、８００〜１０００℃）をも
って全体にわたって均一にまたは所定の温度勾配を形成
するように加熱され、処理ガスが処理室１２にガス導入
管１７によって所定の流量供給される。これにより、所
定の熱処理が施される。

【００３５】この熱処理の間に、待機ステージ５におい
ては第一ボート２１ＡにウエハＷがウエハ移載装置４１
によって移載（ローディング）されていることになる。

【００３６】予め設定された処理時間が経過すると、キ
ャップ１９がエレベータ２０によって下降されるに先立
って、図１および図１０（ａ）に示されるように、遮蔽
板６６がモータ６１の正回転によって回動されて待機ス
テージ５と熱処理ステージ４との間の領域に配置され
る。この後、図６に示されているように、ボート２１を
支持したキャップ１９がエレベータ２０によって下降さ
れることにより、ボート２１がプロセスチューブ１１の
処理室１２から搬出（アンローディング）される。ボー
ト２１が搬出されたプロセスチューブ１１の処理室１２
の炉口１３はシャッタ（図示せず）によって閉鎖され、
処理室１２の高温雰囲気が逃げるのを防止される。

【００３７】処理室１２から搬出されたボート２１およ
びこれに保持されたウエハＷ群（以下、処理済みボート
２１Ｂという。）は高温の状態になっている。しかし、
本実施の形態においては、処理済みボート２１Ｂから発
生する輻射熱は遮蔽板６６によって遮蔽されるので、処
理済みボート２１Ｂから発生する輻射熱が待機ステージ
５の第一ボート２１Ａに移載されたウエハＷに悪影響を
及ぼすことはなく、ボート２１の下降速度を速めること
ができ、成膜処理のスループットの向上を図ることがで
きる。

【００３８】図３に示されているように、処理室１２か
ら搬出された高温状態の処理済みボート２１Ｂはプロセ
スチューブ１１の軸線上の熱処理ステージ４から冷却ス
テージ６へ、ボート移送装置３０の第二アーム３２によ
って直ちに移送されて仮置きされる。すなわち、第二ア
ーム３２は処理済みボート２１Ｂの支柱２７の外側に挿
入して断熱キャップ部２６の係合部２８に下から係合す
ることによって処理済みボート２１Ｂを垂直に支持した
状態で、約９０度回動することにより、処理済みボート
２１Ｂを熱処理ステージ４のキャップ１９の上から冷却
ステージ６の冷却台３４の上へ移送し載置する。

【００３９】この後、図４および図１０（ｂ）に示され
ているように、モータ６１は逆回転駆動され、遮蔽板６
６がモータ６１の逆方向の回転によって待機ステージ５
とノッチ合せ装置９との間の領域に移動される。

【００４０】次いで、待機ステージ５において指定の枚
数のウエハＷを移載された第一ボート２１Ａは、図４に
示されているように、待機ステージ５から熱処理ステー
ジ４へボート移送装置３０の第一アーム３１によって移
送され、キャップ１９の上に移載される。すなわち、第
一アーム３１は第一ボート２１Ａの支柱２７の外側に挿
入して断熱キャップ部２６の係合部２８に下から係合す
ることによって第一ボート２１Ａを垂直に支持した状態
で、約９０度回動することによって、第一ボート２１Ａ
を待機ステージ５から熱処理ステージ４へ移送し、キャ
ップ１９の上に受け渡す。

【００４１】ここで、図４に示されているように、冷却
ステージ６はクリーンユニット３のクリーンエア３５の
吹出口３９に近傍に設定されているため、冷却ステージ
６の冷却台３４に移載された高温状態の処理済みボート
２１Ｂはクリーンユニット３の吹出口３９から吹き出す
クリーンエア３５によってきわめて効果的に冷却される
状態になる。

【００４２】この際、図４に示されているように、クリ
ーンユニット３の吹出口３９から吹き出したクリーンエ
ア３５の流れは、吹出口３９から見ると待機ステージ５
とは反対方向である筐体２の後部右隅に配置された排気
用ファン４０に向かうため、熱処理ステージ４および待
機ステージ５の方向には向かわない。したがって、処理
済みボート２１Ｂに接触したクリーンエア３５が熱処理
ステージ４および待機ステージ５に流れることにより、
熱処理ステージ４および待機ステージ５の第一ボート２
１Ａに保持されたウエハＷ群を汚染することは未然に防
止することができる。

【００４３】待機ステージ５から熱処理ステージ４に移
送されてキャップ１９に移載された第一ボート２１Ａは
エレベータ２０によって上昇され、プロセスチューブ１
１の処理室１２に搬入されて所定の処理を施される。

【００４４】この第一ボート２１Ａに対する熱処理の間
に、熱処理ステージ４におけるプロセスチューブ１１の
下方空間においては、先に熱処理されて冷却ステージ６
の冷却台３４に置かれた処理済みボート２１Ｂが、ボー
ト移送装置３０によって冷却ステージ６から待機ステー
ジ５に移送されて待機台３３に載置される。すなわち、
ボート移送装置３０の第二アーム３２は処理済みボート
２１Ｂの支柱２７の外側に挿入して断熱キャップ部２６
の係合部２８に下から係合することによって処理済みボ
ート２１Ｂを垂直に支持した状態で、約１８０度回動す
ることにより、処理済みボート２１Ｂを冷却ステージ６
から待機ステージ５に移送して、待機台３３に移載す
る。この際、処理済みボート２１Ｂは充分に冷却されて
いるため、例えば、１５０℃以下になっている。また、
待機台３３に移載された状態において、処理済みボート
２１Ｂの三本の保持部材２４はウエハ移載装置４１側が
開放した状態になっている。

【００４５】処理済みボート２１Ｂがボート移送装置３
０の第一アーム３１によって待機ステージ５の待機台３
３に移載されると、ウエハ移載装置４１は図７について
前述した作動に準じて、待機ステージ５の処理済みボー
ト２１ＢからウエハＷを受け取ってポッドステージ８の
ポッド５０に移載して行く。この際、処理済みボート２
１Ｂがバッチ処理したウエハＷの枚数は一台のポッド５
０に収納されるウエハＷの枚数よりも多いため、ウエハ
移載装置４１はエレベータ４８によって昇降されなが
ら、ポッドステージ８に入れ換えられる複数台のポッド
５０にウエハＷを所定枚数（例えば、二十五枚）ずつ収
納して行くことになる。

【００４６】全てのウエハＷがポッド５０に戻される
と、図９について前述した作動により、待機台３３上の
ボート２１には次に処理すべき新規のウエハＷがウエハ
移載装置４１によって移載されて行く。そして、指定さ
れた枚数のウエハＷが移載されると、ボート２１は待機
ステージ５の待機台３３の上で次の作動に待機する状態
になる。

【００４７】以降、前述した作用が繰り返されてウエハ
Ｗが拡散ＣＶＤ装置１によってバッチ処理されて行く。

【００４８】前記実施の形態によれば、次の効果が得ら
れる。

【００４９】1) 処理室１２から搬出された処理済みボ
ート２１Ｂと待機ステージ５に配置された未処理の第一
ボート２１Ａとの間に輻射熱を遮蔽する遮蔽板６６を配
置することにより、処理室１２から搬出された処理済み
ボート２１Ｂから発生する輻射熱による熱的影響が未処
理の第一ボート２１Ａに及ぶのを防止することができ、
その結果、処理済みボート２１Ｂの下降速度を早く設定
することができるため、スループットを向上させること
ができる。

【００５０】2) ウエハＷに熱影響が及ぶのを回避する
ことにより、拡散ＣＶＤ装置の熱処理の精度を高めるこ
とができるとともに、ウエハによって製造される半導体
装置の品質および信頼性を高めることができる。

【００５１】3) これから処理される新規のウエハＷに
おける処理済みボート２１Ｂの熱影響を回避することに
より、待機中の処理室１２の温度を低下させなくて済む
ため、待機中の処理室１２の温度を低下させることによ
ってスループットが低下するのを未然に回避することが
できる。

【００５２】4) 待機ステージ５で先の処理済みボート
２１ＢのウエハＷのウエハ移載装置４１による排出（ア
ンローディング）作業およびそのボートへのウエハ移載
作業を処理室１２における熱処理中に実施することによ
り、ウエハアンローディング作業およびローディング作
業と熱処理とを同時進行させることができるため、スル
ープットを向上させることができる。

【００５３】なお、本発明は前記実施の形態に限定され
るものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々に変
更が可能であることはいうまでもない。

【００５４】例えば、拡散ＣＶＤ装置はアニール処理や
酸化膜形成処理、拡散処理および成膜処理等の熱処理全
般に使用することができる。

【００５５】本実施の形態ではバッチ式縦形ホットウオ
ール形拡散ＣＶＤ装置の場合について説明したが、本発
明はこれに限らず、バッチ式横形ホットウオール形拡散
ＣＶＤ装置等の半導体製造装置全般に適用することがで
きる。

【００５６】前記実施の形態ではウエハに熱処理が施さ
れる場合について説明したが、被処理基板はホトマスク
やプリント配線基板、液晶パネル、コンパクトディスク
および磁気ディスク等であってもよい。

【００５７】

【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
処理済みボートの未処理ボート上のウエハの熱影響を防
止することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の一実施の形態である拡散ＣＶＤ装置を
示す平面断面図である。

【図２】その斜視図である。

【図３】処理済みボートの冷却中を示す斜視図である。

【図４】同じく平面断面図である。

【図５】熱処理ステージの処理中を示す縦断面図であ
る。

【図６】同じくボート搬出後を示す縦断面図である。

【図７】ボート移送装置を示す斜視図である。

【図８】クリーンユニットを示す斜視図である。

【図９】ウエハ移載装置を示す各側面図であり、（ａ）
は短縮時を示し、（ｂ）は伸長時を示している。

【図１０】（ａ）は図１のａ−ａ線に沿う断面図、
（ｂ）は図４のｂ−ｂ線に沿う断面図である。

【符号の説明】

Ｗ…ウエハ（基板）、１…拡散ＣＶＤ装置（半導体製造
装置）、２…筐体、３…クリーンユニット、４…熱処理
ステージ、５…待機ステージ、６…冷却ステージ、７…
ウエハローディングステージ、８…ポッドステージ、９
…ノッチ合わせ装置、１１…プロセスチューブ、１２…
処理室、１３…炉口、１４…マニホールド、１５…シー
ルリング、１６…排気管、１７…ガス導入管、１８…ヒ
ータユニット、１９…キャップ、２０…エレベータ、２
１…ボート、２１Ａ…第一ボート、２１Ｂ…第二ボート
（処理済みボート）、２２…上側端板、２３…下側端
板、２４…保持部材、２５…保持溝、２６…断熱キャッ
プ部、２７…支柱、２８…係合部、２９…ベース、３０
…ボート移送装置、３１…第一アーム、３２…第二アー
ム、３３…待機台、３４…冷却台、３５…クリーンエ
ア、３６…吸込ダクト、３７…吸込ファン、３８…吹出
ダクト、３９…吹出口、４０…排気用ファン、４１…ウ
エハ移載装置、４２…ベース、４３…ターンテーブル、
４４…リニアガイド、４５…移動台、４６…取付台、４
７…ツィーザ、４８…エレベータ、５０…ポッド、５１
…ドア、６０…遮蔽板回動装置、６１…モータ、６２…
小ギヤ、６３…大ギヤ、６４…ベース、６５…支柱、６
６…遮蔽板、６７…貫通孔。

フロントページの続き (72)発明者 松永 建久 東京都中野区東中野三丁目14番20号 国際 電気株式会社内 Ｆターム(参考） 4K030 CA04 CA12 GA13 KA12 5F045 BB08 BB14 DP19 DQ05 EB02 EJ02 EJ10 EK06 EN05

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 処理室を形成したプロセスチューブと、
   前記処理室に出入りして複数枚の基板を搬入搬出するボ
   ートと、前記複数枚の基板を前記ボートに対して前記処
   理室の外部において授受する基板移載装置とを備えてお
   り、前記ボートが複数台使用される半導体製造装置にお
   いて、前記処理室に搬入される前記ボートを仮置きする
   ステージと前記処理室との間に前記処理室から搬出され
   た前記ボートからの輻射熱を遮蔽する遮蔽板が移動可能
   に配置されていることを特徴とする半導体製造装置。