JP2002003683A - 低吸湿低複屈折樹脂組成物、これから得られる成形材、シート又はフィルムおよび光学用部品 - Google Patents

低吸湿低複屈折樹脂組成物、これから得られる成形材、シート又はフィルムおよび光学用部品

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JP2002003683A
JP2002003683A JP2000191631A JP2000191631A JP2002003683A JP 2002003683 A JP2002003683 A JP 2002003683A JP 2000191631 A JP2000191631 A JP 2000191631A JP 2000191631 A JP2000191631 A JP 2000191631A JP 2002003683 A JP2002003683 A JP 2002003683A
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Japan
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polymer
resin composition
group
styrene
acenaphthylene
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Pending
Application number
JP2000191631A
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English (en)
Inventor
Yukihiko Yamashita
幸彦 山下
Shuichi Iwata
修一 岩田
Akihiro Yoshida
明弘 吉田
Tetsuo Yamanaka
哲郎 山中
Keiko Ushikubo
恵子 牛窪
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Showa Denko Materials Co Ltd
Original Assignee
Hitachi Chemical Co Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 低吸湿性、低複屈折性、低誘電率性であり、
流動性に優れる樹脂組成物を提供すること。 【解決手段】 下記の重合体(A)、(B)及び/又は
(C)を含む樹脂組成物。 (A)下記一般式(I)で示されるアセナフチレン又は
アセナフチレン誘導体を1種またはそれ以上含む重合体 (B)ポリスチレン又はポリスチレン誘導体と、一般式
(I)で示されるアセナフチレン又はアセナフチレン誘
導体とからなる星型の高次構造を有する共重合体 (C)スチレン又はスチレン誘導体と共重合可能な単量
体からなる重合体 【化1】 (式中、R1、R2、R3、R4、R5、R6は同一であって
も異なっていても良く、水素原子;窒素原子、酸素原子
又はケイ素原子を含有する1価の炭化水素基;炭素数1
〜6のアルキル基;1価の芳香族系炭化水素基;ハロゲ
ン原子;アシル基;アルコキシ基;ニトリル基を示
す。)

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、低吸湿性、低複屈
折性、低誘電率性であり、流動性に優れる樹脂組成物、
この樹脂組成物を成形して得られる成形材、シート、フ
ィルム及び光学用部品に関する。
【0002】
【従来の技術】反応活性のある不飽和結合を有する単量
体の多くは、不飽和結合を開裂し連鎖反応を生起できる
触媒と適切な反応条件を選択することにより多量体を製
造することができる。一般に不飽和結合を有する単量体
の種類は極めて多岐にわたることから、得られる樹脂の
種類の豊富さも著しい。しかし、一般に高分子化合物と
称する分子量1万以上の高分子量体を得ることができる
単量体の種類は比較的少ない。例えば、エチレン、置換
エチレン、プロピレン、置換プロピレン、スチレン、ア
ルキルスチレン、アルコキシスチレン、ノルボルネン、
各種アクリルエステル、ブタジエン、シクロペンタジエ
ン、ジシクロペンタジエン、イソプレン、マレイン酸無
水物、マレイミド、フマル酸エステル、アリル化合物等
を代表的な単量体として挙げることができる。これらの
単量体又は種々の組み合わせから多種多様な樹脂が合成
されている。
【0003】これらの樹脂の用途は主に、比較的安価な
民生機器の分野に限られており、半導体関連材料等のハ
イテク分野への適用は殆どない。その理由には、耐熱
性、低吸湿性、誘電率の並立が達成できていないことが
挙げられる。
【0004】例えば、半導体関連材料の分野では、近年
の集積度の高密度化により従来の耐熱性、低吸湿性に加
えて、低誘電率化が望まれている。低誘電率化を達成す
るためには樹脂中の極性基量を低減することが原理的に
不可欠である。現在、半導体用樹脂にはポリイミドが多
く用いられているが、樹脂骨格中に多くのカルボニル基
を含有するため低誘電率化に苦慮しているのが現状であ
る。対策として、フッ素を含有したモノマーを用いた研
究が盛んに行われているが、充分な低誘電率化が達成で
きたとは言えない。また、樹脂価格が上がる、又は合成
が煩雑である等の問題点がある。
【0005】他の方法としては、極性基を全く含まない
炭化水素からなる重合体の合成が試みられている。例え
ば、環状ポリオレフィンと呼ばれる一群の高分子を挙げ
ることができる。具体的にはポリノルボルネンを水添し
た高分子、又はポリジシクロペンテン及びその誘導体か
らなる高分子を挙げることができる。これらの高分子
を、極めて低い誘電率を実現できることが可能である
が、耐熱性が低いことと、吸水率は極めて低いものの水
の透過率が非常に高いという問題点がある。特に水の透
過率の高さはポリオレフィンに共通した特徴であり、こ
れを解決することは極めて困難と考えられる。
【0006】その他の方法には、チーグラーナッタ触媒
又はカミンスキー触媒を用いて合成したシンジオタクチ
ックポリスチレンを挙げることができる。この高分子は
ベンゼン環の主鎖に対する立体位置が交互に反対方向に
位置している構造を有しており、非常に高い耐熱性を実
現していると同時に、極めて低い吸水率と水の透過性並
びに誘電率も非常に低いレベルを達成することができ
る。しかし、この高分子は結晶性が非常に高いために基
材への密着性が著しく悪い欠点があり、あらゆる溶媒に
対して溶解しないため、加工方法が著しく限定されてし
まうという問題点がある。すなわち、現在、上記の課題
を解決できる高分子は未だ開発されていない。
【0007】一方、光学用途として光学レンズ、光導波
路材等に用いられるポリマーには、アクリル系樹脂、ポ
リオレフィン系樹脂が挙げられる。アクリル系樹脂は優
れた透明性と加工性及び極めて低い複屈折性を有する特
徴を挙げることができる。しかし、吸湿性が高く、耐熱
性が比較的低い、靱性が低いという欠点がある。それに
対して、ポリオレフィン系樹脂は優れた耐熱性と極めて
低い吸湿性を有しているが、透明性と低複屈折性はアク
リル系樹脂に及ばない。すなわち、アクリル樹脂にもポ
リオレフィン系樹脂にも一長一短があり、アクリル系樹
脂とポリオレフィン系樹脂の欠点を相補う樹脂の開発が
強く望まれている。
【0008】そこで、アクリル樹脂を改良するため、す
なわち欠点である吸湿性の高さと耐熱性の低さを解決す
るために多くの検討がなされている。例えば、嵩高い置
換基を有するモノマーを用いることによって吸湿性と耐
熱性を改善する方法(特願平8−199901号公報、
特許第2678029号公報)がある。この発明では確
かにある程度の効果はあるものの、ポリオレフィン系樹
脂の吸湿率の低さには及ばない。更に生じる欠点とし
て、嵩高い置換基が側鎖に存在するが故に靱性及び強度
の低下が著しく、特に成形加工時に破損しやすくなるこ
とが挙げられる。これを改善する目的で、柔軟性を付与
するモノマーを共重合することによって靱性を付与しよ
うとする方法があるが、耐熱性の低下は避けることがで
きず、せっかくの嵩高い置換基を導入した効果が薄れて
しまう。
【0009】ポリオレフィン系樹脂は、吸湿性の低さと
耐熱性の高さは光学用樹脂として極めて大きな利点であ
るが、近年の光学機器の高度化に伴い、複屈折性の高さ
が大きな欠点となっており、ポリオレフィン系樹脂の複
屈折性を低減する試みは最近特に活発に行われている。
【0010】例えば、特開平8−110402号公報を
挙げることができる。この発明は、ポリオレフィン系樹
脂の複屈折性と反対の符号の複屈折を有する樹脂又は低
分子化合物を混合することによってその樹脂固有の複屈
折を相殺し、樹脂混合物の複屈折を0にしようとするも
のである。この方法では、混合する樹脂とポリオレフィ
ン系樹脂が完全に相溶化していることが必要である。と
ころが、上記発明ではポリオレフィン系樹脂と請求され
ている樹脂の相溶性が不十分であり、充分な効果が発現
しない。現時点では、ポリオレフィン系樹脂と複屈折の
符号が逆で且つ完全相溶化できる樹脂及び添加物は見出
されていない。
【0011】そこで、できる限り完全相溶化することを
目的として、相溶化剤を第3成分として添加する方法が
ポリマーのアロイ化技術として行われており、具体的に
は米国特許4373065号に記載されている。両者を
高い均一度で混合させるためには溶融状態又は溶液状態
にしなければならないが、如何なる物理的方法を用いて
も高い均一度で全体的に複屈折のない実用的な高分子材
料を得ることは極めて困難である。更に、第3成分を用
いることにより、完全相溶化することが試みられている
が、未だこの目的を達成しうる材料は見出されていな
い。
【0012】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、低吸湿性、
低複屈折性、低誘電率性であり、流動性に優れる樹脂組
成物、この樹脂組成物を成形して得られる成形材、シー
ト又はフィルム及び光学用部品を提供するものである。
【0013】
【課題を解決するための手段】本発明は、下記の重合体
(A)、(B)及び/又は(C)を含む樹脂組成物、こ
れを成形して得られる成形材、シート、フィルム及び光
学用部品に関する。 (A)下記一般式(I)で示されるアセナフチレン又は
アセナフチレン誘導体を1種またはそれ以上含む重合体 (B)スチレン又はスチレン誘導体と、一般式(I)で
示されるアセナフチレン又はアセナフチレン誘導体とか
らなる星型の高次構造を有する共重合体 (C)スチレン又はスチレン誘導体と共重合可能な単量
体からなる重合体
【0014】
【化2】
【0015】(式中、R1、R2、R3、R4、R5、R6
同一であっても異なっていても良く、水素原子;窒素原
子、酸素原子又はケイ素原子を含有する1価の炭化水素
基;炭素数1〜6のアルキル基;1価の芳香族系炭化水
素基;ハロゲン原子;アシル基;アルコキシ基;ニトリ
ル基を示す。) 本発明において、重合体(A)、(B)及び/又は
(C)を含む樹脂組成物における飽和吸水率は0.4%
以下であり、200%延伸時の複屈折率は−2×10-6
〜2×10-6の範囲にあることが好ましい。
【0016】本発明において、上記重合体(A)の重量
平均分子量は80000未満であることが好ましい。さ
らに、上記重合体(B)の重量平均分子量は20000
以上であることが好ましい。また、上記重合体(C)の
重量平均分子量は50000以上であることが好まし
い。
【0017】本発明において、上記重合体(A)は、重
合体(A)、(B)及び/又は(C)の総量に対して3
0〜90重量%であることが好ましい。
【0018】
【発明の実施の形態】次に、本発明の低吸湿、低複屈折
樹脂組成物及びこれを成形して得られる成形材、シート
又はフィルムについて詳しく説明する。
【0019】本発明において、上記重合体(A)は、上
記一般式(I)で示されるアセナフチレン又はアセナフ
チレン誘導体を1種またはそれ以上含む重合体であれば
特に制限はなく、いかなるものを用いてもよい。
【0020】上記式中、R1、R2、R3、R4、R5、R6
は同一であっても異なっていても良く、水素原子;窒素
原子、酸素原子又はケイ素原子を含有する1価の炭化水
素基;炭素数1〜6のアルキル基;1価の芳香族系炭化
水素基;ハロゲン原子;アシル基;アルコキシ基;ニト
リル基を示す。
【0021】窒素原子、酸素原子又はケイ素原子を含有
する1価の炭化水素基としては、例えば、ジメチルアミ
ノエチル基、ジエチルアミノエチル基、メトキシ基、エ
トキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基、ペントキシ基、
ヘキソキシ基、ジメチルシリル基、ジエチルシリル基等
が挙げられる。
【0022】炭素数1〜6のアルキル基としては、例え
ば、メチル基、エチル基、プロピル基、n-ブチル基、イ
ソブチル基、t-ブチル基、n-ペンチル基、2-メチルブチ
ル基、3-メチルブチル基、t-ペンチル基、n-ヘキシル
基、2-メチルペンチル基、3-メチルペンチル基、4-メチ
ルペンチル基、1-メチルペンチル基、2,2-ジメチルブチ
ル基、2,3-ジメチルブチル基、2,4-ジメチルブチル基、
3,3-ジメチルブチル基、3,4-ジメチルブチル基、4,4-ジ
メチルブチル基、2-エチルブチル基、1-エチルブチル
基、シクロヘキシル基等が挙げられる。
【0023】1価の芳香族系炭化水素基としては、フェ
ニル基、ナフチル基、ベンジル基等が挙げられる。
【0024】ハロゲン原子としては、フッ素、塩素、臭
素、ヨウ素が挙げられる。
【0025】アシル基としては、ホルミル基、アセチル
基、プロピオニル基、ブチリル基、イソブチリル基等が
挙げられる。
【0026】アルコキシ基としては、メトキシ基、エト
キシ基、プロポキシ基、ブトキシ基、ペントキシ基、ヘ
キソキシ基等が挙げられる。
【0027】ここに示したものは一例であり、これらに
限定されるものではない。
【0028】重合体(A)に用いる単量体としては、上
記アセナフチレン又はアセナフチレン誘導体単独で又は
2種以上で用いることができる。
【0029】上記置換基を有するアセナフチレン誘導体
として、具体的には、メチルアセチレンが好ましく用い
られる。
【0030】上記重合体(B)は、スチレン又はスチレ
ン誘導体と、一般式(I)で示されるアセナフチレン又
はアセナフチレン誘導体とからなる星型の高次構造を有
する共重合体である。即ち、星型の高次構造とは、具体
的には、スチレン又はスチレン誘導体と、アセナフチレ
ン又はアセナフチレン誘導体とを含む共重合体を主鎖部
として有し、その合成の際、活性分子末端が失活する前
に多官能の反応停止剤を加えることによって分岐部が形
成された構造のことである。
【0031】本発明において、星型の高次構造を有する
共重合体(B)の製造に用いる単量体として、アセナフ
チレン又はアセナフチレン誘導体としては、上記重合体
(A)で用いられるものと同様のものが挙げられる。こ
れらは、単独で又は2種以上で用いることができる。
【0032】また、星型の高次構造を有する共重合体
(B)に用いられるスチレン誘導体としては、例えば、
核置換アルキルスチレン、核置換芳香族スチレン、α-
置換アルキルスチレン、β-置換アルキルスチレン、核
置換アルコキシスチレン等を挙げることができる。
【0033】核置換アルキルスチレンとしては例えば、
o-メチルスチレン、m-メチルスチレン、p-メチルスチレ
ン、o-エチルスチレン、m-エチルスチレン、p-エチルス
チレン、o-プロピルスチレン、m-プロピルスチレン、p-
プロピルスチレン、o-n-ブチルスチレン、m-n-ブチルス
チレン、p-n-ブチルスチレン、o-イソブチルスチレン、
m-イソブチルスチレン、p-イソブチルスチレン、o-t-ブ
チルスチレン、m-t-ブチルスチレン、p-t-ブチルスチレ
ン、o-n-ペンチルスチレン、m-n-ペンチルスチレン、p-
n-ペンチルスチレン、o-2-メチルブチルスチレン、m-2-
メチルブチルスチレン、p-2-メチルブチルスチレン、o-
3-メチルブチルスチレン、m-3-メチルブチルスチレン、
p-3-メチルブチルスチレン、o-t-ペンチルスチレン、m-
t-ペンチルスチレン、p-t-ペンチルスチレン、o-n-ヘキ
シルスチレン、m-n-ヘキシルスチレン、p-n-ヘキシルス
チレン、o-2-メチルペンチルスチレン、m-2-メチルペン
チルスチレン、p-2-メチルペンチルスチレン、o-3-メチ
ルペンチルスチレン、m-3-メチルペンチルスチレン、p-
3-メチルペンチルスチレン、o-1-メチルペンチルスチレ
ン、m-1-メチルペンチルスチレン、p-1-メチルペンチル
スチレン、o-2,2-ジメチルブチルスチレン、m-2,2-ジメ
チルブチルスチレン、p-2,2-ジメチルブチルスチレン、
o-2,3-ジメチルブチルスチレン、m-2,3-ジメチルブチル
スチレン、p-2,3-ジメチルブチルスチレン、o-2,4-ジメ
チルブチルスチレン、m-2,4-ジメチルブチルスチレン、
p-2,4-ジメチルブチルスチレン、o-3,3-ジメチルブチル
スチレン、m-3,3-ジメチルブチルスチレン、p-3,3-ジメ
チルブチルスチレン、o-3,4-ジメチルブチルスチレン、
m-3,4-ジメチルブチルスチレン、p-3,4-ジメチルブチル
スチレン、o-4,4-ジメチルブチルスチレン、m-4,4-ジメ
チルブチルスチレン、p-4,4-ジメチルブチルスチレン、
o-2-エチルブチルスチレン、m-2-エチルブチルスチレ
ン、p-2-エチルブチルスチレン、o-1-エチルブチルスチ
レン、m-1-エチルブチルスチレン、p-1-エチルブチルス
チレン、o-シクロヘキシルスチレン、m-シクロヘキシル
スチレン、p-シクロヘキシルスチレン等を用いることが
できる。ここに示したものは一例であり、これらに限定
されるものではい。これらの単独又は2種以上を用いる
ことができる。
【0034】核置換芳香族スチレンとしては例えば、o-
フェニルスチレン、m-フェニルスチレン、p-フェニルス
チレン等を用いることができる。ここに示したものは一
例であり、これらに限定されるものではい。
【0035】α-置換アルキルスチレンとしては例え
ば、α-メチルスチレン、α-エチルスチレン、α-プロ
ピルスチレン、α-n-ブチルスチレン、α-イソブチルス
チレン、α-t-ブチルスチレン、α-n-ペンチルスチレ
ン、α-2-メチルブチルスチレン、α-3-メチルブチルス
チレン、α-t-ブチルスチレン、α- t-ペンチルスチレ
ン、α- n-ヘキシルスチレン、α- 2-メチルペンチルス
チレン、α-3-メチルペンチルスチレン、α-1-メチルペ
ンチルスチレン、α-2,2-ジメチルブチルスチレン、α-
2,3-ジメチルブチルスチレン、α-2,4-ジメチルブチル
スチレン、α-3,3-ジメチルブチルスチレン、α-3,4-ジ
メチルブチルスチレン、α-4,4-ジメチルブチルスチレ
ン、α-2-エチルブチルスチレン、α-1-エチルブチルス
チレン、α-シクロヘキシルスチレン等を用いることが
できる。ここに示したものは一例であり、これらに限定
されるものではい。これらの単独又は2種以上を用いる
ことができる。
【0036】β-置換アルキルスチレンとしては例え
ば、β-メチルスチレン、β-エチルスチレン、β-プロ
ピルスチレン、β-n-ブチルスチレン、β-イソブチルス
チレン、β-t-ブチルスチレン、β-n-ペンチルスチレ
ン、β-2-メチルブチルスチレン、β-3-メチルブチルス
チレン、β-t-ペンチルスチレン、β-n-ヘキシルスチレ
ン、β-2-メチルペンチルスチレン、β-3-メチルペンチ
ルスチレン、β-1-メチルペンチルスチレン、β-2,2-ジ
メチルブチルスチレン、β-2,3-ジメチルブチルスチレ
ン、β-2,4-ジメチルブチルスチレン、β-3,3-ジメチル
ブチルスチレン、β-3,4-ジメチルブチルスチレン、β-
4,4-ジメチルブチルスチレン、β-2-エチルブチルスチ
レン、β-1-エチルブチルスチレン、β-シクロヘキシル
スチレン等を用いることができる。ここに示したものは
一例であり、これらに限定されるものではい。これらの
単独又は2種以上を用いることができる。
【0037】核置換アルコキシスチレンとしては例え
ば、o-メトキシスチレン、m-メトキシスチレン、p-メト
キシスチレン、o-エトキシスチレン、m-エトキシスチレ
ン、p-エトキシスチレン、o-プロポキシスチレン、m-プ
ロポキシスチレン、p-プロポキシスチレン、o-n-ブトキ
シスチレン、m-n-ブトキシスチレン、p-n-ブトキシスチ
レン、o-イソブトキシスチレン、m-イソブトキシスチレ
ン、p-イソブトキシスチレン、o-t-ブトキシスチレン、
m-t-ブトキシスチレン、p-t-ブトキシスチレン、o-n-ペ
ントキシスチレン、m-n-ペントキシスチレン、p-n-ペン
トキシスチレン、o-2-メチルブトキシスチレン、m-2-メ
チルブトキシスチレン、p-2-メチルブトキシスチレン、
o-3-メチルブトキシスチレン、m-3-メチルブトキシスチ
レン、p-3-メチルブトキシスチレン、o-t-ペントキシス
チレン、m-t-ペントキシスチレン、p-t-ペントキシスチ
レン、o-n-ヘキソキシスチレン、m-n-ヘキソキシスチレ
ン、p-n-ヘキソキシスチレン、o-2-メチルペントキシス
チレン、m-2-メチルペントキシスチレン、p-2-メチルペ
ントキシスチレン、o-3-メチルペントキシスチレン、m-
3-メチルペントキシスチレン、p-3-メチルペントキシス
チレン、o-1-メチルペントキシスチレン、m-1-メチルペ
ントキシスチレン、p-1-メチルペントキシスチレン、o-
2,2-ジメチルブトキシスチレン、m-2,2-ジメチルブトキ
シスチレン、p-2,2-ジメチルブトキシスチレン、o-2,3-
ジメチルブトキシスチレン、m-2,3-ジメチルブトキシス
チレン、p-2,3-ジメチルブトキシスチレン、o-2,4-ジメ
チルブトキシスチレン、m-2,4-ジメチルブトキシスチレ
ン、p-2,4-ジメチルブトキシスチレン、o-3,3-ジメチル
ブトキシスチレン、m-3,3-ジメチルブトキシスチレン、
p-3,3-ジメチルブトキシスチレン、o-3,4-ジメチルブト
キシスチレン、m-3,4-ジメチルブトキシスチレン、p-3,
4-ジメチルブトキシスチレン、o-4,4-ジメチルブトキシ
スチレン、m-4,4-ジメチルブトキシスチレン、p-4,4-ジ
メチルブトキシスチレン、o-2-エチルブトキシスチレ
ン、m-2-エチルブトキシスチレン、p-2-エチルブトキシ
スチレン、o-1-エチルブトキシスチレン、m-1-エチルブ
トキシスチレン、p-1-エチルブトキシスチレン、o-シク
ロヘキソキシスチレン、m-シクロヘキソキシスチレン、
p-シクロヘキソキシスチレン、o-フェノキシスチレン、
m-フェノキシスチレン、p-フェノキシスチレン等を用い
ることができる。ここに示したものは一例であり、これ
らに限定されるものではい。これらの単独又は2種以上
を用いることができる。
【0038】上記重合体(C)に用いられるスチレン又
はスチレン誘導体と共重合可能な単量体としては、例え
ば、スチレン、核置換アルキルスチレン、核置換芳香族
スチレン、α-置換アルキルスチレン、β-置換アルキル
スチレン、核置換アルコキシスチレン、アルキルビニル
エーテル、芳香族ビニルエーテル、イソブテン、ジイソ
ブチレン、C1〜C8の(メタ)アクリルエステル等を
挙げることができる。これらの単独又は2種以上を用い
ることができる。
【0039】核置換アルキルスチレン、核置換芳香族ス
チレン、α-置換アルキルスチレン、β-置換アルキルス
チレンおよび核置換アルコキシスチレンは、重合体
(B)で用いられる単量体と同様のものが挙げられる。
【0040】アルキルビニルエーテルのアルキルには特
に制限はなく、いかなるものを用いてもよい。例えば、
メチル、エチル、プロピル、n-ブチル、イソブチル、t-
ブチル、n-ペンチル、2-メチルブチル、3-メチルブチ
ル、t-ペンチル、n-ヘキシル、2-メチルペンチル、3-メ
チルペンチル、4-メチルペンチル、1-メチルペンチル、
2,2-ジメチルブチル、2,3-ジメチルブチル、2,4-ジメチ
ルブチル、3,3-ジメチルブチル、3,4-ジメチルブチル、
4,4-ジメチルブチル、2-エチルブチル、1-エチルブチ
ル、シクロヘキシル等のアルキルを有するアルキルビニ
ルエーテルを挙げることができる。ここに示したものは
一例であり、これらに限定されるものではない。これら
の単独又は2種以上を用いることもできる。
【0041】芳香族ビニルエーテルとしては例えば、フ
ェニルビニルエーテル等を挙げることができる。ここに
示したものは一例であり、これらに限定されるものでは
ない。
【0042】C1〜C8の(メタ)アクリルエステルと
しては、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)
アクリレート、プロピル(メタ)アクリレート、n-ブチ
ル(メタ)アクリレート、i-ブチル(メタ)アクリレー
ト、n-ペンチル(メタ)アクリレート、n-ヘキシル(メ
タ)アクリレート、n-へプチル(メタ)アクリレート、
n-オクチル(メタ)アクリレート、2-エチルヘキシル
(メタ)アクリレート等を挙げることができる。ここに
示したものは一例であり、これらに限定されるものでは
ない。これらの単独又は2種以上を用いることもでき
る。
【0043】本発明において上記(A)、(C)の重合
体の製造方法には特に制限はなく、通常の方法により製
造することが出来る。例えば、カチオン重合、アニオン
重合、ラジカル重合、リビングラジカル重合等によって
製造することができる。上記重合方法は用いる触媒によ
って選択可能である。
【0044】カチオン重合に用いる触媒には特に制限は
なく、公知の触媒を用いることができる。例えば、塩化
アルミニウム、塩化鉄、塩化錫、塩化亜鉛、塩化ストロ
ンチウム、塩化スカンジウム等のルイス酸、硫酸、パラ
トルエンスルホン酸、塩酸、硝酸等のプロトン酸、塩化
アルキルアルミニウム等を用いることができる。ここに
示したものは一例であり、これらに限定されるものでは
ない。これらの単独又は2種以上を用いることもでき
る。
【0045】アニオン重合に用いる触媒には特に制限は
なく、公知の触媒を用いることができる。例えば、ブチ
ルリチウム等を用いることができる。ここに示したもの
は一例であり、これらに限定されるものではない。
【0046】ラジカル重合に用いる触媒には特に制限は
なく、公知の触媒を用いることができる。例えば、ベン
ゾイルパーオキサイド、ラウリルパーオキサイド、メチ
ルエチルケトンパーオキサイド等の過酸化物を用いるこ
とができる。ここに示したものは一例であり、これらに
限定されるものではない。これらの単独又は2種以上を
用いることもできる。
【0047】リビングラジカル重合に用いる触媒には特
に制限はなく、公知の触媒を用いることができる。例え
ば、ベンゾイルパーオキシドとニトロキシド化合物の併
用系、Ru錯体/アルコキシアルミニウム併用系等を挙
げることができる。ここに示したものは一例であり、こ
れらに限定されるものではない。これらの単独又は2種
以上を用いることもできる。
【0048】重合方法は、通常の溶液重合、懸濁重合、
塊状重合等の方法で合成することができる。特に、溶液
重合方法が最も好ましい。
【0049】用いる溶媒には特に制限はなく、公知の溶
媒を用いることができる。例えば、クロロメタン、ジク
ロロメタン、トリクロロメタン、テトラクロロメタン、
クロロエタン、ジクロロエタン、トリクロロエタン、テ
トラクロロエタン、クロロエチレン、ジクロロエチレ
ン、ニトロベンゼン、ジニトロベンゼン、トリニトロベ
ンゼン、メチルベンゼン、ジメチルベンゼン、トリメチ
ルベンゼン、エチルベンゼン、ジエチルベンゼン、トリ
エチルベンゼン等のアルキルベンゼン類、アセトン、メ
チルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン
類、MMA、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類を
挙げることができる。ここに示したものは一例であり、
これらに限定されるものではない。これらの単独又は2
種以上を用いることもできる。
【0050】重合温度は、−100℃〜150℃間での
範囲で行うことが好ましい。−100℃未満で重合反応
を行うと反応性が低下し、充分な高分子量体を得ること
が難しい。150℃を超える温度では、成長末端の反応
性が高すぎるため、連鎖移動反応が著しく多量に生起す
るために高分子量体が得られにくくなることがある。
【0051】本発明において上記(B)の星型の高次構
造を有する共重合体の製造方法に特に制限はなく、如何
なる方法を用いても良い。
【0052】本発明においては、例えば、上記スチレン
又はスチレン誘導体と、一般式(I)で示される上記ア
セナフチレン又はアセナフチレン誘導体を用いて、公知
のリビング重合を行い、活性分子末端が失活する前に多
官能の反応停止剤を添加することによって製造すること
ができる。用いることのできる多官能停止剤としては、
特に制限はなく通常のアルコール類、アミン類を用いる
ことができる。例えば、トリメチロールプロパン、トリ
メチロールベンゼン、トリヒドロキシベンゼン、トリメ
チロールメタン、トリヒドロキシメタン、トリアミノベ
ンゼン、トリアミノメタン等を挙げることができる。こ
こに示したものは一例であり、これらに限定されるもの
ではない。
【0053】また、星型の高次構造を有する共重合体の
分岐数は、3以上が好ましい。3未満であると、直鎖状
分子と変わらないからである。
【0054】星型構造の分岐は、ランダム共重合体であ
ることが好ましい。星型構造の分岐がランダム共重合体
であることによって、星型構造ポリマーの結晶性が低下
し、それによって透明性が増大することから好ましい。
前述のようにスチレン系モノマーとアセナフチレン系モ
ノマーのリビング重合を行い、成長末端が失活する前に
3官能以上の反応停止剤を添加することにより製造でき
る。
【0055】本発明においては、重合体(A)の重量平
均分子量は80000未満であることが好ましく、40
000未満であることがより好ましい。重合体(A)の
重量平均分子量が80000未満であると樹脂の流動
性、樹脂の透明性が低下する傾向がある。
【0056】重合体(A)の重量平均分子量を上記範囲
とするには、重合の際に用いる触媒の種類や量を選択し
たり、重合禁止剤を用いたり、連鎖移動剤を用いたり、
重合温度を調節したりするなどにより調製できる。
【0057】また、上記重合体(B)の重量平均分子量
は20000以上であることが好ましく、より好ましく
は、50000以上である。重合体(B)の重量平均分
子量が20000未満であると、成形材の強度が低下す
る傾向があることから好ましくない。
【0058】さらに、上記重合体(C)の重量平均分子
量は50000以上であることが好ましく、より好まし
くは、100000以上である。重合体(C)の重量平
均分子量が50000未満であると、成形材の強度が低
下する傾向があることから好ましくない。
【0059】重合体(B)の重量平均分子量を上記範囲
とするには、重合の際に用いる触媒の種類や量を選択し
たり、重合禁止剤を用いたり、連鎖移動剤を用いたり、
重合温度を調節したりするなどにより調製できる。
【0060】重合体(C)の重量平均分子量を上記範囲
とするには、重合の際に用いる触媒の種類や量を選択し
たり、重合禁止剤を用いたり、連鎖移動剤を用いたり、
重合温度を調節したりするなどにより調製できる。
【0061】重量平均分子量は、テトラヒドロフラン溶
液にてGPC測定により求めることができる。
【0062】上記方法で得られた重合体(A)、
(B)、(C)は、通常の方法で単離して樹脂組成物に
用いることが出来る。
【0063】本発明における重合体(A)、(B)及び
/又は(C)の混合方法には特に制限はなく、各重合体
を固体状で所定量秤取し、これらを溶融混練することに
よって製造することができるし、各々の重合体をトルエ
ン、THF、NMP等の溶媒に溶解した後、溶媒を除去
することによっても製造することができる。
【0064】本発明においては、重合体(A)が、重合
体(A)、(B)及び/又は(C)の総量に対して、3
0〜90重量%であることが好ましく、50〜85重量
%であることがより好ましい。重合体(A)が、重合体
(A)、(B)及び/又は(C)の総量に対して30重
量%未満、又は90重量%を越えると複屈折率の絶対値
が増大する傾向がある。
【0065】また、重合体(B)は総量に対して10〜
40重量%が好ましく、重合体(C)は総量に対して0
〜30重量%が好ましい。
【0066】上記のようにして得られる本発明の樹脂組
成物は、飽和吸水率が0.4%以下であり、200%延
伸時の複屈折率が−2×10-6〜2×10-6の範囲であ
ることが好ましい。より好ましい飽和吸水率は20%以
下であり、より好ましい200%延伸時の複屈折率は−
1×10-6〜1×10-6である。
【0067】飽和吸水率が0.4%を超えると吸水時の
屈折率の変化が大きくなり好ましくない。また、200
%延伸時の複屈折率が−2×10-6〜2×10-6の範囲
をはずれると直線偏光がだ円偏光に大きく変化すること
があるため好ましくない。
【0068】飽和吸水率を上記範囲とするためには、重
合体(A)が、樹脂組成物全体に対する割合を30〜9
0重量%とすればよい。
【0069】200%延伸時の複屈折率を上記範囲とす
るためには、重合体(A)の樹脂組成物全体に対する割
合を30〜90重量%にすればよい。
【0070】本発明における飽和吸水率(%)は、70
℃の温水中に試験片を浸漬し、吸水率が飽和に達した時
点の吸水率を測定することにより算出することができ
る。「吸水が飽和に達したとき」とは70℃温水中にそ
れ以上の時間放置しても吸水率が変化しなくなった状態
のときである。
【0071】また、複屈折率は、得られた成形材をその
ガラス転移温度より5℃低い温度で200%延伸したも
のの複屈折率を、例えば、エリプソメータAEP−10
0型(島津製作所製)を用いて測定できる。測定条件
は、温度:25℃、レーザ光波長:632.8nmであ
る。なお、成形材のガラス転移温度の測定は以下のよう
に求めることが出来る。ガラス転移温度の測定は、DS
C(示差走査熱量測定)によって、測定することができ
る。DSCの測定は、昇温速度10℃/minの条件で
行う。
【0072】本発明になる樹脂組成物は、成形材、シー
ト又はフィルムに加工することができる。本発明におい
て、樹脂組成物を成形材、シート又はフィルムとする際
に、必要に応じて任意の成分を加えることができる。そ
れらは、低誘電率、低吸湿率、高耐熱性等の特性を満足
できる半導体関連材料、または光学用材料、更には、塗
料、感光性材料、接着剤、汚水処理剤、重金属捕集剤、
イオン交換樹脂、帯電防止剤、酸化防止剤、防曇剤、防
錆剤、防染剤、殺菌剤、防虫剤、医用材料、凝集剤、界
面活性剤、潤滑剤、個体燃料用バインダー、導電処理剤
等への適用も可能である。
【0073】本発明の成形材を用いた光学用部品として
は、CD用ピックアップレンズ、DVD用ピックアップ
レンズ、FAX用レンズ、LBP用レンズ、オリゴンミ
ラー、プリズム等が挙げられる。
【0074】
【実施例】以下に、本発明を実施例により具体的に説明
するが、本発明は下記実施例に限定されるものではな
い。
【0075】なお、実施例中にて用いた評価方法は以下
の通りである。 (1)重量平均分子量 合成した重合体の分子量は、テトラヒドロフラン溶液に
てGPC測定により求めた。 (2)飽和吸水率(%) サンプルの吸水率は、70℃の温水中にサンプルを浸積
し、吸水率が飽和に達した時点の吸水率を測定した。 (3)耐熱性(Tg) 耐熱性の測定は、DSC(示差走査熱量測定)によっ
て、ガラス転移温度を測定することで評価した。DSC
の測定は、昇温速度10℃/minの条件で行った。 (4)誘電率 ヒューレッドパッカード社製 プレジションLCRメー
タ 4284A型を用いて、20KV、1KHz、25
℃の条件で測定した。 (5)曲げ強度 試験片の曲げ強度は、島津製作所(株)製 AGS−10
00Gを用いて行った。試験は室温にて、テストスピー
ド0.5mm/min、スパン20mm、試験片幅10
mmの条件で行った。 (6)透過率 作成サンプルの透過率は、日本分光製V−570を用い
て、25℃にて測定した。測定波長は400〜800n
mの範囲にて測定した透過率を全光線透過率とした。 (7)複屈折率 得られた成形材をそのガラス転移温度の5℃低い温度で
150%延伸したものの複屈折を測定した。測定機器
は、島津製作所製エリプソメータAEP−100型を用
いて、25℃にて測定した。レーザ光波長は632.8
nmにて行った。 (8)流動性(MI) 樹脂組成物の流動性は、220℃、荷重5kgfでのメ
ルトフローレートを測定することにより求めた。
【0076】
【実施例1】アセナフチレン10.0g及びトルエン3
0.0gを100mlのフラスコ内に投入し、60℃
で、ラウロイルパーオキサイド0.05gを添加し、攪
拌しながら12時間反応させた。その後、この反応混合
物を100gノメタノール中に徐々に添加し、白色沈殿
9.8gを得た。この白色沈殿を減圧下にで乾燥し、重
合体(A)を得た。この重合体の重量平均分子量は35
000であった。
【0077】次に、アセナフチレン1.0gとスチレン
9.0g及びジクロロエタン30.0gを100mlの
フラスコ内に投入し、約−40℃にて0.05gのFe
Cl 3を添加し、12時間反応させた。所定時間反応さ
せた反応混合液にトリヒドロキシベンゼン2.0gを添
加した後、12時間撹拌し均一溶液を得た。得られた均
一溶液を100gのメタノール中に徐々に添加し、白色
沈殿9.8gを得た。この白色沈殿を減圧下に乾燥し目
的の重合体(B)を得た。この重合体の重量平均分子量
は35000であった。
【0078】重合体(A)4.0gと重合体(B)6.
0gをトルエン20gに溶解させ、約300gのメタノ
ールに添加して固体を析出させた。この固体を40℃で
6時間乾燥させ、目的の樹脂組成物の白色沈殿を得た。
この樹脂組成物を溶融プレスすることによって厚さ2m
mの成形材を作製し、試験片とした。この試験片を用い
て上記評価を行った。評価結果を表1に示す。
【0079】
【実施例2】アセナフチレン8.0g、スチレン2.0
g及びトルエン30.0gを100mlのフラスコ内に
投入し、60℃で、ラウロイルパーオキサイド0.05
gを添加し、攪拌しながら12時間反応させた。その
後、この反応混合物を100gノメタノール中に徐々に
添加し、白色沈殿9.8gを得た。この白色沈殿を減圧
下にで乾燥し、重合体(A)を得た。この重合体の重量
平均分子量は34000であった。
【0080】次に、アセナフチレン1.0gとスチレン
9.0g及びジクロロエタン30.0gを100mlの
フラスコ内に投入し、約−40℃にて0.05gのFe
Cl 3を添加し、12時間反応させた。所定時間反応さ
せた反応混合液にトリヒドロキシベンゼン2.0gを添
加した後、12時間撹拌し均一溶液を得た。得られた均
一溶液を100gのメタノール中に徐々に添加し、白色
沈殿9.8gを得た。この白色沈殿を減圧下に乾燥し目
的の重合体(B)を得た。この重合体の重量平均分子量
は35000であった。
【0081】次に、スチレン14.0g、4−メチルス
チレン5.0g、アクリル酸ブチル1.0g、ベンゾイ
ルパーオキサイド0.1gを100mlフラスコ内に投
入し、攪拌して溶解させた後、蒸留水60g、燐酸カル
シウムを単量体混合物に対して、0.01g添加し、7
0℃で、攪拌しながら、12時間反応させた。得られた
粒子状の重合体を単離して塩酸で洗浄した後、50℃で
約2時間乾燥させて、重合体(C)を得た。得られた重
合体の重量平均分子量は240000であった。
【0082】重合体(A)3.5gと重合体(B)3.
5g、及び重合体(C)3.0gをトルエン20gに溶
解させ、約300gのメタノールに添加して固体を析出
させた。この固体を40℃で6時間乾燥させ、目的の樹
脂組成物の白色沈殿を得た。この樹脂組成物を溶融プレ
スすることによって厚さ2mmの成形材を作製し、試験
片とした。この試験片を用いて上記評価を行った。評価
結果を表1に示す。
【0083】
【比較例1】アセナフチレン10.0g及びトルエン3
0.0gを100mlのフラスコ内に投入し、60℃
で、ラウロイルパーオキサイド0.05gを添加し、攪
拌しながら12時間反応させた。その後、この反応混合
物を100gノメタノール中に徐々に添加し、白色沈殿
9.8gを得た。この白色沈殿を減圧下にで乾燥し、重
合体(A)を得た。この重合体の重量平均分子量は35
000であった。
【0084】次に、アセナフチレン1.0gとスチレン
9.0g及びジクロロエタン30.0gを100mlの
フラスコ内に投入し、約−40℃にて0.05gのFe
Cl 3を添加し、12時間反応させた。得られた均一溶
液を100gのメタノール中に徐々に添加し、白色沈殿
9.8gを得た。この白色沈殿を減圧下に乾燥し目的の
重合体(B)を得た。この重合体の重量平均分子量は1
5000であった。
【0085】重合体(A)4.0gと重合体(B)6.
0gをトルエン20gに溶解させ、約300gのメタノ
ールに添加して固体を析出させた。この固体を40℃で
6時間乾燥させ、目的の樹脂組成物の白色沈殿を得た。
この樹脂組成物を溶融プレスすることによって厚さ2m
mの成形材を作製し、試験片とした。この試験片を用い
て上記評価を行った。評価結果を表1に示す。
【0086】
【比較例2】アセナフチレン20.0g及びトルエン6
0.0gを200mlのフラスコ内に投入し、60℃
で、ラウロイルパーオキサイド0.1gを添加し、攪拌
しながら12時間反応させた。その後、この反応混合物
を100gノメタノール中に徐々に添加し、白色沈殿1
9.8gを得た。この白色沈殿を減圧下にで乾燥し、重
合体(A)を得た。この重合体の重量平均分子量は35
000であった。
【0087】重合体(A)10.0gトルエン20gに
溶解させ、約300gのメタノールに添加して固体を析
出させた。この固体を40℃で6時間乾燥させ、目的の
樹脂組成物の白色沈殿を得た。この樹脂組成物を溶融プ
レスすることによって厚さ2mmの成形材を作製し、試
験片とした。この試験片を用いて上記評価を行った。評
価結果を表1に示す。
【0088】
【表1】
【0089】
【発明の効果】本発明により、低吸湿性、低複屈折性、
低誘電率性であり、流動性に優れる樹脂組成物を提供す
ることができる。またこの樹脂組成物を成形して得られ
る成形材、シートまたはフィルムを用いて、低吸湿性、
低複屈折性、低誘電率性の光学用部品を提供することが
できる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) G02B 1/04 G02B 1/04 (72)発明者 吉田 明弘 千葉県市原市五井南海岸14番地 日立化成 工業株式会社五井事業所内 (72)発明者 山中 哲郎 千葉県市原市五井南海岸14番地 日立化成 工業株式会社五井事業所内 (72)発明者 牛窪 恵子 千葉県市原市五井南海岸14番地 日立化成 工業株式会社五井事業所内 Fターム(参考) 4F071 AA22X AA39 AA39X AA69 AA81 AA88 AF10 AF30 AF31 AF40 AF45 AH19 BB03 BC01 4J002 BC03X BC04X BC07X BC08X BC09X BC12X BK00W CE00W GP00

Claims (10)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 下記の重合体(A)、(B)及び/又は
    (C)を含む樹脂組成物。 (A)下記一般式(I)で示されるアセナフチレン又は
    アセナフチレン誘導体を1種またはそれ以上含む重合体 (B)スチレン又はスチレン誘導体と、一般式(I)で
    示されるアセナフチレン又はアセナフチレン誘導体とか
    らなる星型の高次構造を有する共重合体 (C)スチレン又はスチレン誘導体と共重合可能な単量
    体からなる重合体 【化1】 (式中、R1、R2、R3、R4、R5、R6は同一であって
    も異なっていても良く、水素原子;窒素原子、酸素原子
    又はケイ素原子を含有する1価の炭化水素基;炭素数1
    〜6のアルキル基;1価の芳香族系炭化水素基;ハロゲ
    ン原子;アシル基;アルコキシ基;ニトリル基を示
    す。)
  2. 【請求項2】 飽和吸水率は0.4%以下であり、20
    0%延伸時の複屈折率は−2×10-6〜2×10-6の範
    囲にある請求項1記載の樹脂組成物。
  3. 【請求項3】 上記重合体(A)の重量平均分子量は、
    80000未満である請求項1又は2記載の樹脂組成
    物。
  4. 【請求項4】 上記重合体(B)の重量平均分子量は、
    20000以上である請求項1〜3のいずれか一項に記
    載の樹脂組成物。
  5. 【請求項5】 上記重合体(C)の重量平均分子量は、
    50000以上である請求項1〜4のいずれか一項に記
    載の樹脂組成物。
  6. 【請求項6】 上記重合体(A)は、重合体(A)、
    (B)及び/又は(C)の総量に対して30〜90重量
    %である請求項1〜5のいずれか一項に記載の樹脂組成
    物。
  7. 【請求項7】 請求項1〜6のいずれか一項に記載の樹
    脂組成物を成形して得られる成形材。
  8. 【請求項8】 請求項1〜6のいずれか一項に記載の樹
    脂組成物から得られるシート。
  9. 【請求項9】 請求項1〜6のいずれか一項に記載の樹
    脂組成物から得られるフィルム。
  10. 【請求項10】 請求項7〜9に記載の成形材、シート
    又はフィルムを用いた光学用部品。
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