JP2002001593A

JP2002001593A - 打錠用杵および臼

Info

Publication number: JP2002001593A
Application number: JP2000182039A
Authority: JP
Inventors: Koji Fukada; 公司深田; Hiroshi Matoba; 博的場; Etsuji Nakamura; 悦治中村
Original assignee: Takeda Chemical Industries Ltd
Current assignee: Takeda Pharmaceutical Co Ltd
Priority date: 2000-06-16
Filing date: 2000-06-16
Publication date: 2002-01-08
Also published as: US20020024166A1; EP1164002A3; CA2349993A1; EP1164002A2

Abstract

(57)【要約】（修正有）【課題】特に腐食性物質や付着性物質を含有する錠
剤を成形するための打錠機に好適な、優れた耐食性およ
び離型性を有する打錠用杵または臼を提供する。【解決手段】高ケイ素鋼を母材としてなる打錠用杵
４，６または臼３。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、酸性物質などの腐
食性物質、または付着性を有する薬理活性物質、低融点
物質もしくは賦形剤などの付着性物質を含有する錠剤の
製造に用いられ、優れた耐食性および離型性を有する打
錠用杵または臼に関する。さらに本発明は、かかる打錠
用杵または臼を具用した打錠機、該打錠機を使用する錠
剤の製造方法、および該製造方法を用いて製造した錠剤
に関する。

【０００２】

【従来の技術】打錠用の杵および臼は、頻繁に繰り返さ
れる上記圧縮操作で容易に変形してはならないことから
高い機械的強度が要求され、従来は超鋼合金や合金工具
鋼を用いて形成されており、さらに腐食や付着対策とし
て杵表面にクロムメッキ等を施したものも使用されてい
る。

【０００３】上記合金工具鋼などを用いた従来の杵およ
び臼は、その金属材料が本質的に腐食しやすい性質を有
しており、特に打錠末が酸性物質などの腐食性物質を含
有している場合、その金属材料の腐食がより一層進行し
やすくなり、錠剤の製造中に腐食が発生することもあ
り、杵および臼としての寿命が大幅に低下するという問
題が生じる。これらの腐食が杵および臼に発生すると、
杵および臼の表面の滑り性や打錠末との離型性が低下
し、錠剤を臼孔から取り出しにくくなるうえ、杵および
臼の表面に打錠末が付着して打錠された錠剤の表面が粗
面になったり、錠剤の表面に明瞭な刻印を形成できなく
なり、また、上記腐食により生じた異物が錠剤に混入す
ることもある。

【０００４】また、打錠末に付着性のある薬理活性物
資、低融点物質または賦形剤などの付着性物質を含有す
る場合、杵および臼の表面と打錠末との離型性が低下
し、錠剤を臼孔から取り出しにくくなるうえ、スティッ
キングを起こして杵の表面に打錠末が付着して打錠され
た錠剤の表面が粗面になったり、錠剤の表面に明瞭な刻
印を形成できなくなるなどの問題が生じる。また錠剤を
臼孔から取り出す時にバインディングを起こして錠剤が
取り出しにくくなる。バインディングとは打錠された錠
剤と臼内の壁面の滑りが潤滑でない場合に生じる錠剤側
面のキズのことである。

【０００５】さらに、上記合金工具鋼などからなる杵お
よび臼の表面に、耐食性や離型性を向上させるため、ク
ロムメッキなどのコーティングを施すこともあるが、コ
ーティング層が不均一であったり、本質的にコーティン
グ層の剥離が避けられないことから十分な効果が得られ
ないことがある。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、特に
腐食性物質や付着性物質を含有する錠剤を成形するため
の打錠機に好適な、優れた耐食性および離型性を有する
打錠用杵または臼を提供することにある。

【０００７】

【課題を解決する手段】本発明者らは、上記目的を達成
すべく鋭意検討した結果、打錠用杵または臼の母材とし
て高ケイ素鋼を用いれば、耐食性が向上するという知見
を得た。さらに、かかる高ケイ素鋼を母材として用いた
打錠用杵または臼は、付着性物質を含有する打錠末であ
っても、該打錠末と杵または臼の表面との離型性が非常
に優れているという思いがけない知見を得た。特に、臼
についてはバインディングが非常に生じにくい。また、
上記高ケイ素鋼を母材として用いた打錠用杵または臼の
表面を浸炭処理することにより、耐食性および離型性が
さらに向上するという知見を得た。さらに、かかる浸炭
処理により、クロムメッキなどのコーティング処理にお
けるコーティング層の剥離等の問題が解消でき、打錠用
杵または臼の耐久性の向上という産業上の有利な効果を
発揮できるようになることも知見した。本発明者らは、
さらに検討を重ね、本発明を完成した。

【０００８】すなわち、本発明は、（１）高ケイ素鋼を
母材としてなる打錠用杵または臼、（２）母材の表面が
浸炭処理されている前記（１）に記載の打錠用杵または
臼、（３）腐食性物質または付着性物質を含有する錠剤
を成形するための打錠機に用いる杵（１、２）または臼
（３）に適用した前記（１）また（２）に記載の打錠用
杵または臼、（４）腐食性物質が酸性物質である前記
（３）に記載の打錠用杵または臼、（５）付着性物質が
付着性のある薬理活性物質、付着性のある低融点物質お
よび付着性のある賦形剤からなる群から選ばれる１以上
の物質である前記（３）に記載の打錠用杵または臼、
（６）付着性のある低融点物質が融点降下により生じる
ことを特徴とする前記（５）に記載の打錠用杵および
臼、（７）前記（１）または（２）に記載の杵または臼
を具用することを特徴とする打錠機、（８）前記（７）
に記載の打錠機を使用することを特徴とする錠剤の製造
方法、（９）錠剤が腐食性物質または付着性物質を含有
する前記（８）に記載の製造方法、（１０）腐食性物質
が酸性物質である前記（９）に記載の製造方法、（１
１）付着性物質が付着性のある薬理活性物質、付着性の
ある低融点物質および付着性のある賦形剤からなる群か
ら選ばれる１以上の物質である前記（９）に記載の製造
方法、（１２）付着性のある低融点物質が融点降下によ
り生じることを特徴とする前記（１１）に記載の製造方
法、および（１３）前記（８）〜（１２）に記載の製造
方法により製造された錠剤、に関する。

【０００９】本発明の打錠用杵または臼に用いられる高
ケイ素鋼としては、ケイ素を約２〜１０重量％程度、好
ましくは２〜５重量％含有するＦｅ−Ｓｉ合金が挙げら
れる。Ｓｉを含有させることにより打錠用杵または臼の
耐食性および離型性を向上させることができる。くわえ
て、硬度または耐磨耗性に優れていることから、打錠機
の耐久性を向上させることができる。高ケイ素鋼は、従
来の強靭鋼が主として炭素の働きにより強靭性を持たせ
ていたところ、炭素のかわりにケイ素で高強度化を図る
ものである。したがって、本発明の高ケイ素鋼には、さ
らに炭素が約０．１重量％程度以下、好ましくは約０．
０８重量％程度以下含まれていてもよい。

【００１０】本発明の高ケイ素鋼は、さらにＮｉ、Ｍｎ
またはＣｒを含有していてもよい。Ｎｉを含有させるに
よりケイ素を多量に使用したときに生じる脆化のおそれ
を軽減することができ、また、Ｃｒを含有させることに
よりＳｉとともに耐食性や耐磨耗性を向上させることが
できる。Ｎｉの含有量は、約１〜２０重量％程度、好ま
しくは約４〜１６重量％程度、さらに好ましくは約４〜
１０重量％程度である。Ｍｎの含有量は、約０〜６重量
％程度、好ましくは約０．０５〜３重量％程度である。
Ｃｒの含有量は、約５〜２５重量％程度、好ましくは約
６〜１６重量％程度、さらに好ましくは約６〜１２重量
％程度である。ここで、ＮｉとＭｎの含有量の和が、Ｓ
ｉの含有量の約１．５〜２．５倍程度、好ましくは約２
倍程度となることが本発明における好ましい態様であ
る。また、Ｃｒの含有量がＳｉの含有量の約２．５〜
３．５倍程度、好ましくは約３倍程度となることもまた
本発明における好ましい態様である。

【００１１】本発明の高ケイ素鋼は、さらに、例えばＭ
ｏ、Ｃｏ、Ｗ、Ｖ、Ｔｉ、Ｔａ、Ａｌ、ＣｕまたはＮｂ
などを含有していてもよい。Ｍｏの含有量は、約０〜６
重量％程度、好ましくは約０．２〜５重量％程度であ
る。Ｃｏの含有量は、約０〜２５重量％程度、好ましく
は約０．５〜２０重量％程度である。Ｗの含有量は、約
０〜４重量％程度、好ましくは約０〜２重量％程度であ
る。Ｖの含有量は、約０〜４重量％程度である。Ｔｉの
含有量は、約０〜３重量％程度、好ましくは約０．１〜
２重量％程度である。Ｔａの含有量は、約０〜１０重量
％程度、好ましくは約０〜８重量％程度である。Ａｌの
含有量は、約０〜１重量％程度が好ましい。Ｃｕの含有
量は、約０〜６重量％程度である。Ｎｂの含有量は、約
０〜５重量％程度が好ましい。

【００１２】本発明の高ケイ素鋼の好ましい態様として
は、例えば以下の５つの態様が挙げられる。（１）Ｃが約０〜０．０８重量％程度、Ｓｉが約３．５
〜６重量％程度、Ｍｎが約０〜５重量％程度、Ｎｉが約
３〜９重量％程度、Ｃｒが約６〜１５重量％程度および
残部Ｆｅから成り、ＮｉとＭｎの含有量の和がＳｉの含
有量の約２倍程度、Ｃｒの含有量がＳｉの含有量の約
２．５倍程度となっており、Ａ_３変態点が約７５０℃以
下である高ケイ素鋼が挙げられる。（２）Ｃが約０〜０．０５重量％程度、Ｓｉが約３．５
〜６重量％程度、Ｍｎが約２〜６重量％程度、Ｎｉが約
１〜４重量％程度、Ｃｒが約８〜１６重量％程度、Ｍｏ
が約０．３〜３重量％程度、Ｃｕが約１〜４重量％程度
および残部Ｆｅから成り、Ｎｉ、ＭｎおよびＣｕの含有
量の和がＳｉの含有量の約２．５倍程度、Ｃｒの含有量
がＳｉの含有量の約３倍程度となっており、Ａ_３変態点
が約７５０℃以下である高ケイ素鋼が挙げられる。（３）Ｃを約０〜０．１重量％程度、Ｓｉを約４〜９重
量％程度、Ｍｎを約０〜３重量％程度、Ｎｉを約６〜１
８重量％程度、Ｃｒを約１６〜２５重量％程度含有し、
さらに、Ｍｏを約０〜３重量％程度およびＣｏを約０〜
３重量％程度、または／およびＣｕを約０〜２重量％程
度含有して、残部Ｆｅから成り、ＮｉおよびＭｎの含有
量の和がＳｉの含有量の約２倍程度、Ｃｒの含有量がＳ
ｉの含有量の約３．５倍程度となっており、Ａ_３変態点
が約７５０℃以下である高ケイ素鋼が挙げられる。（４）Ｃを約０〜０．０５重量％程度、Ｓｉを約４〜７
重量％程度、Ｍｎを約０〜３重量％程度、Ｎｉを約６〜
１６重量％程度、Ｃｒを約１２〜２０重量％程度および
Ｖを約０〜４重量％程度含有し、さらに、Ｍｏを約０〜
４重量％程度、Ｗを約０〜４重量％程度、Ｔｉを約０〜
１重量％程度およびＡｌを約０〜１重量％程度、または
／およびＣｏを約０〜１重量％程度およびＣｕを約０〜
１重量％程度含有して、残部Ｆｅから成り、Ｎｉおよび
Ｍｎの含有量の和がＳｉの含有量の約２倍程度、Ｃｒの
含有量がＳｉの含有量の３．５倍程度となっており、Ａ
_３変態点が約７５０℃以下である高ケイ素鋼が挙げられ
る。（５）Ｃを約０〜０．０５重量％程度、Ｓｉを約２〜４
重量％程度、Ｍｎを約０〜２重量％程度、Ｎｉを約５〜
１０重量％程度、Ｃｒを約８〜１３重量％程度、Ｍｏを
約０．２〜１重量％程度、Ｃｕを約０．５〜３重量％程
度含有して、残部Ｆｅから成り、Ｃｒの含有量の２倍と
Ｓｉの含有量の和が全体の約２０〜３０重量％程度とな
っている高ケイ素鋼が挙げられる。

【００１３】さらに、本発明の高ケイ素鋼のより好まし
い態様としては、Ｃが約０〜０．０８重量％程度、Ｓｉ
が約２〜５重量％程度、Ｍｎが約０．０５〜３重量％程
度、Ｎｉが約４〜１０重量％程度、Ｃｒが約６〜１２重
量％程度未満、Ｍｏが約０．２〜５重量％程度、Ｃｕが
約０〜６重量％程度、Ｔｉが約０．１〜２重量％程度以
下、Ｃｏが約０．５〜２０重量％程度以下、Ｔａが約０
〜８重量％程度、Ｎｂが約０〜５重量％程度、残部がＦ
ｅからなる高ケイ素鋼が挙げられる。なかでも、析出硬
化型の上記高ケイ素鋼が好ましい。

【００１４】本発明の高ケイ素鋼は、公知又はそれに準
ずる方法により製造することができる。

【００１５】さて、ステンレス鋼には、鋼材の微視的組
織としてオーステナイト型、フェライト型、オーステナ
イト・フェライト型、マルテンサイト型および析出硬化
型が挙げられる。本発明の高ケイ素鋼はいずれの型のも
のであってもよいが、オーステナイト型のもの、または
析出硬化型が好ましい。

【００１６】本発明で用いられる打錠用杵または臼は、
その表面に浸炭処理を行ってもよい。本発明において行
う浸炭処理は、母材の格子原子の間に炭素原子が侵入固
溶することにより、母材の表面に炭素濃化層を形成する
処理が特に好ましい。母材表面を浸炭処理した打錠用杵
または臼は、表面層に形成された炭素濃化層が硬質であ
り、しかも高ケイ素鋼を用いた母材の有する耐食性がほ
とんど損なわれないばかりか、場合によっては母材以上
の高度の耐食性を発揮するという効果を奏す。

【００１７】母材表面の炭素濃化層は、表面から約５〜
１００μｍ程度、好ましくは約５０〜１００μｍ程度の
深さになるように処理するのが好適である。また、該炭
素濃化層中の表面炭素濃度を、約１．２〜２．６重量％
程度とするのが好ましい。炭素濃化層は、炭素原子の侵
入固溶により、母材の格子が等方に歪み膨張し、この歪
みによって硬化するが、表面炭素濃度が上述のような値
の場合には、上記歪みがより大きくなり表面硬度が一層
向上するので好ましい。

【００１８】該浸炭処理は、好ましくは、ＣＯを含む浸
炭用ガスと接触させることにより行う。この浸炭処理に
より、下記の式（１）に示すいわゆるブードアー反応に
より、炭素が母材表面に析出し、母材の格子原子の間に
侵入固溶し、表面に炭素濃化層が形成される。〔化１〕２ＣＯ→Ｃ＋ＣＯ₂（１）浸炭処理に用いる浸炭用ガスとしては、ＣＯ＋Ｈ₂混合
ガスからなるガスや、ＲＸガス等に代表される変成ガス
（ＲＸガスの成分は、ＣＯ２３体積％＋ＣＯ₂１体積％
＋Ｈ₂３１体積％＋Ｈ₂Ｏ１体積％＋残部Ｎ₂）等が挙
げられる。浸炭用ガスの混合比率を変えることにより、
表面炭素濃度を調整することができる。また、一般に、
炭素原子の母材金属中への侵入は拡散則に従うため、炭
素濃化層の深さは処理温度と処理時間とに依存するか
ら、必要な炭素濃化層深さを得られるような処理時間を
設定して浸炭処理を行えばよいが、処理時間としては約
１０時間〜３０時間程度、好ましくは約１５時間〜２５
時間程度である。

【００１９】浸炭処理の際の温度は、約４００℃〜７０
０℃程度、好ましくは約４００℃〜５００℃程度であ
る。浸炭処理を母材の芯部の軟化・溶体化を起こさせな
い低温で行うのが好ましく、また耐食性は処理温度に依
存する（低い方が耐食性は良好になる）からである。す
なわち、炭素鋼のＡ₁変態温度以下である約４００℃〜
７００℃程度で行うのが好ましい。さらに、表面剛性と
ともに、母材と同等以上の耐食性を得ようとする場合に
は、浸炭処理温度をさらに低くし、４００〜５００℃に
設定するのが好ましい。

【００２０】本発明において、浸炭処理の前に前処理を
行ってもよい。前処理としては、例えば、塩化物処理ま
たはフッ化処理等が挙げられる。塩化物処理としては、
本発明に係る打錠用杵または臼を塩素系ガス雰囲気下で
加熱状態とし、次いで浸炭処理を行う方法が挙げられ
る。塩化物処理をすることにより、母材表面の金属が塩
化物膜を形成すると同時に母材表面に形成されている不
働態皮膜が破壊され、約７００℃以下、さらには約５０
０℃以下の低温領域での浸炭が可能となる。

【００２１】該塩化物処理で用いられる塩素系ガスとし
ては、ガス状のＨＣｌ；液状のＣＨ ₂Ｃｌ_２またはＣＨ
₃Ｃｌ等をガス状にしたもの；固体状のＮＨ₄Ｃｌまた
はＦｅＣｌ₂等をガス状にしたもの等が使用できる。ま
た、これら以外にも、分子内にＣｌを含む他の塩素化合
物をガス状にしたもの（以下、塩素化合物ガス）も用い
ることができる。さらに、これらを２種以上混合したも
のを用いてもよい。また、このような塩素化合物ガスを
熱分解装置で熱分解させて生成させた塩素ガスや、予め
つくられた塩素ガスも上記塩素系ガスとして用いること
ができる。特に、これらのなかでも、操作性や取扱い性
の良さという観点から、常温でガス状のＨＣｌが最も優
れている。そして、上記塩素系ガスは、それのみで用い
ることもできるが、通常は、Ｎ₂ガス等の不活性ガスで
希釈されて使用される。このときの、ＨＣｌガスのＮ₂
ガス等に対する希釈度（濃度）は、処理効率と炉材の消
耗の防止との兼ね合いから、約１〜２０体積％程度が好
ましく、約３〜１０体積％程度がより好ましい。

【００２２】該塩化物処理の際、塩素系ガスは約１〜５
ｇ／ｍ³程度導入するのが好ましい。過剰の塩素系ガス
を導入することは、炉材の消耗を早め、また排ガス処理
装置の負荷も増大するからである。また、同様に、炉材
の消耗を防止するため、塩素系ガスでの処理温度を約２
００〜４００℃程度、好ましくは約２５０〜３５０℃程
度に設定するのが好ましい。上記加熱保持時間は、約５
分〜２０分程度に設定されるのが好ましい。この塩化物
処理時に形成されたＦｅＣｌ₂，ＦｅＣｌ₃，ＣｒＣｌ
₂，ＣｒＣｌ₃等の塩化物皮膜は、浸炭処理時に浸炭用
雰囲気ガス中のＨ₂と反応してＨＣｌとなる。したがっ
て、このＨＣｌは排ガスパイプに導入され、そこに設置
された乾式の排ガス処理装置において、ＣａＣｌ₂等に
変換されて捕捉されることにより、無害化するのが好ま
しい。

【００２３】フッ化処理としては、本発明に係る打錠用
杵または臼をフッ素系ガス雰囲気下で加熱状態とし、次
いで浸炭処理を行う方法が挙げられる。なお、上記フッ
化処理は、浸炭処理と同時に行ってもよい。フッ化処理
することにより、母材表面に形成されたＣｒ₂Ｏ₃等を
含む不働態皮膜がフッ化膜に変化する。このフッ化膜
は、上記不働態皮膜に比べ、浸炭に用いる炭素原子の浸
透を容易にすると予想され、母材表面は、上記フッ化処
理によって炭素原子の浸透の容易な表面状態になるもの
と推測される。

【００２４】該フッ化処理に用いられるフッ素系ガスと
しては、例えばＮＦ₃、ＢＦ₃、ＣＦ₄、ＨＦ、Ｓ
Ｆ₆、Ｃ₂Ｆ₆、ＷＦ₆、ＣＨＦ₃、ＳｉＦ₄またはＣｌ
Ｆ₃等のフッ素化合物ガスがあげられ、これらは、単独
でもしくは２種以上併せて使用される。また、これらの
ガス以外に、分子内にフッ素を含む他のフッ素系化合物
をガス状にしたものも上記フッ素化合物ガスとして用い
ることができる。また、このようなフッ素化合物ガスを
熱分解装置で熱分解させて生成させたフッ素ガスや、あ
らかじめ作られたフッ素ガスもフッ素系ガスとして用い
ることができる。このようなフッ素化合物ガスとフッ素
ガスとは、場合によって混合使用される。このフッ素系
ガスとしてはＮＦ₃が好ましい。ＮＦ₃は、常温でガス
状であり、化学的安定性が高く取扱いが容易であるだか
らである。

【００２５】そして、上記フッ素化合物ガスまたはフッ
素ガス等のフッ素系ガスは、それのみで用いることもで
きるが、通常はＮ₂ガス等の不活性ガスで希釈されて使
用される。このような希釈されたガスにおけるフッ素系
ガス自身の濃度は、容量基準で、例えば、約１００００
〜１０００００ｐｐｍ程度であり、好ましくは約２００
００〜７００００ｐｐｍ程度、より好ましくは約３００
００〜５００００ｐｐｍ程度である。

【００２６】上記フッ化処理のより好ましい態様として
は、例えば、まず、炉内に未処理の打錠用杵または臼を
入れ、上記濃度のフッ素系ガス雰囲気下に加熱状態で保
持する。この場合、加熱保持は、打錠用杵または臼自体
を、例えば、約２５０〜６００℃程度、好ましくは約２
５０〜５００℃程度の温度に保持することによって行わ
れる。上記フッ素系ガス雰囲気中での加熱保持時間は、
約１０分〜８０分程度に設定するのが好ましい。

【００２７】本発明における浸炭処理についてさらに具
体的に好ましい態様を説明する。本発明の浸炭処理方法
は、例えば、図２示すような炉で実施することができ
る。図において、２１は炉本体、２２はヒータ、２３は
ファン、２４は本発明に係る打錠用杵または臼が詰めら
れた治具である。そして、２５はＣＯガスタンクであ
る。また、２６はＮ₂ガスおよびＨ₂ガスを導入するＮ
₂，Ｈ₂ガス導入路であり、上記ＣＯガス、Ｎ₂ガスま
たはＨ₂ガスは、所定の混合比率に混合されて浸炭用ガ
ス導入パイプ２７から炉内に導入されるようになってい
る。また、２８は真空ポンプ（図示せず）により炉内を
真空引きする排気パイプであり、２９は炉内の排ガスを
排出する排ガスパイプである。上記炉において、炉本体
２１の内壁、ヒータ２２、ファン２３、治具２４等の浸
炭用ガスと接触する表面は、ニッケルから形成されてい
る。

【００２８】所望により、塩化物処理またはフッ化処理
等を行った場合は、Ｎ₂ガスで炉内のパージを行いなが
ら昇温し、浸炭用ガス、例えば、〔ＣＯ：１１体積％＋
Ｈ₂：１５体積％＋Ｎ₂：７２体積％＋ＣＯ₂：２体積
％〕混合ガス等を導入し、所定時間保持して浸炭処理を
行うことにより、表面に炭素濃化層を形成させたのち取
り出す。このときの浸炭処理条件としては、例えば、２
５μｍ以上の炭素濃化層を形成し、しかも、上記炭素濃
化層が母材以上の耐食性を有するものになるようにする
場合には、約４００〜５００℃程度で約１０時間〜３０
時間程度の浸炭処理を行うのが好ましい。

【００２９】ここで、浸炭処理後の本発明に係る打錠用
杵または臼の表面は、すすの付着と最表層部の酸化によ
って黒色化する。したがって、本発明において、本来の
金属光沢を得るために、エメリーペーパー、バフ研磨も
しくはバレル研磨等の機械研磨を行うか、または、約６
０〜７０℃程度に加温したＨＦ−ＨＮＯ₃溶液等の酸に
浸漬して表面洗浄を行うことにより上記黒色層を除去す
ることができる。この酸による洗浄は、浸炭処理後の本
発明に係る打錠用杵または臼の表面に不働態皮膜を再生
させ、耐食性を強化するのに有効である。

【００３０】本発明における打錠用の杵または臼は、例
えば、腐食性を有する酸性物質、付着性を有する薬理活
性物質、賦形剤もしくは低融点物質、または２種以上の
含有成分による融点降下を起こす物質等を含有する錠剤
の製造に対しても、好適に用いることができる。該物質
は、特に限定されず、どのようなものでもよい。すなわ
ち、薬理活性物質を含む医薬品に限らず、農薬、肥料、
食品、プラスチック、セラミックまたは金属などに対し
ても、本発明における打錠用の杵または臼を用いること
ができる。

【００３１】腐食性を有する酸性物質としては、例えば
塩酸ピオグリタゾン、塩酸マニジピン、塩酸デラプリ
ル、塩酸フルスルチアミン、塩酸セフォチアムヘキセチ
ル、塩酸チアミン、塩酸ヒドロキシジンまたは塩酸ピリ
ドキシンなどが挙げられる。また、本発明における酸性
物質は特にこれらに限定されるものではなく、酸性を示
す固形物質であればどのようなものでもよい。

【００３２】付着性を有する薬理活性物質としては、例
えばイブプロフェン、３−〔１−（フェニルメチル）ピ
ペリジン−４−イル〕−１−（２，３，４，５−テトラ
ヒドロ−１Ｈ−１−ベンズアゼピン−８−イル）−１−
プロパノンフマレート、リセドロネート、塩酸ピオグ
リタゾンまたはトコフェロール類などが挙げられる。ま
た、本発明における付着性を有する薬理活性物質は特に
これらに限定されるものではなく、付着性を示す薬理活
性物質であればどのようなものでもよい。

【００３３】またさらに打錠末に付着性のある賦形剤が
含まれるとき、薬理活性物質は付着性が無くともよい。
付着性が無くとも本発明に使用されてよい薬理活性物質
としては、例えばランソプラゾール、カンデサルタンシ
レキセチル、ビンポセチン、セラトロダスト、塩酸フェ
ニルプロパノールアミン、臭化水素酸デキストロメトル
ファン、無水カフェイン、ｄ−マレイン酸クロルフェニ
ラミン、アセトアミノフェン、トラネキサム酸、リン酸
ジヒドロコデイン、塩酸メチルエフェドリンまたはノス
カピン等が挙げられる。また、付着性が無くとも本発明
に使用されてよい薬理活性物質は特にこれらに限定され
るものではなく、薬理活性物質であればどのようなもの
でもよい。

【００３４】付着性を有する賦形剤としては、特に糖ア
ルコールがあり、例えばエリスリトール、Ｄ−マンニト
ール、Ｄ−ソルビトール、キシリトール、マルチトー
ル、無水マルトース、含水マルトース、無水ラクチトー
ル、含水ラクチトールまたは粉末還元麦芽糖水飴などが
挙げられる。また、本発明における付着性を有する賦形
剤は特にこれらに限定されるものではなく、付着性を示
す賦形剤であればどのようなものでもよい。付着性を有
する低融点物質としては、例えば、トコフェロール類、
ケトプロフェン、イブプロフェンなどが挙げられる。ま
た、本発明における付着性を有する低融点物質は特にこ
れらに限定されるものではなく、付着性を示す低融点物
質であればどのようなものでもよい。

【００３５】また２種以上の含有成分により融点降下を
起こす物質としては、マレイン酸クロルフェニラミン
（例えば、ｄ−マレイン酸クロルフェニラミン、ｄｌ−
マレイン酸クロルフェニラミン等）と臭化水素酸デキス
トロメトルファンとの組み合わせ、アセトアミノフェン
と臭化水素酸デキストロメトルファンとの組み合わせ、
ニコチン酸アミドとコハク酸ｄ−α−トコフェロールと
の組み合わせ、ニコチン酸アミドとフルスルチアミン塩
酸塩との組み合わせ、グアイフェネシンと臭化水素酸デ
キストロメトルファンとの組み合わせ、またはグアイフ
ェネシンとｄ−マレイン酸クロルフェニラミンとの組み
合わせからなる医薬成分などが挙げられる。また、本発
明における２種以上の含有成分により融点降下を起こす
物質は特にこれらに限定されるものではなく、２種以上
の含有成分により融点降下を起こす物質であればどのよ
うなものでもよい。

【００３６】錠剤はいわゆる錠剤の形状を有する物なら
どのようなものでもよく、薬物を含有する細粒またはペ
レット等を含有する錠剤、さらに薬物間の接触を避け、
放出制御もしくは服用性改善を目的とした積層錠もしく
は有核錠であってよいことは言うまでもない。また、錠
剤を常法に従ってさらに表面コーティングして製品とし
てもよい。

【００３７】上記薬理活性物質については、通常、例え
ば賦形剤、滑沢剤または崩壊剤などと混合して打錠末と
なし、これを本発明に係る打錠用杵と臼で圧縮させて錠
剤を製造する。また錠剤には所望により、防腐剤、抗酸
化剤、着色剤または矯味剤などの製剤添加物を打錠末に
配合することもできる。

【００３８】賦形剤としては、例えば、乳糖、デンプン
（コーンスターチ、バレイショデンプンもしくは小麦デ
ンプンなど）、α化デンプン、部分α化デンプン、結晶
セルロース（例えば、アビセルＰＨ１０１もしくはアビ
セルＰＨＦ２０（いずれも商品名、旭化成工業株式会社
製）など）、グラニュウ糖、軽質無水ケイ酸（例え
ば、サイリシア３２０（商品名、ワイ・ケー・エフ社
製）など）、炭酸マグネシウム、炭酸カルシウム、低置
換度ヒドロキシプロピルセルロース、カルボキシメチル
セルロースカルシウム、メタケイ酸アルミン酸マグネシ
ウム、合成ケイ酸アルミニウム、精製白糖、ブドウ糖、
デキストリン、アラビアゴムまたは含水ブドウ糖などが
挙げられる。

【００３９】滑沢剤としては、例えば、ポリエチレング
リコール、タルク、ステアリン酸またはショ糖脂肪酸エ
ステルなどが挙げられる。該ショ糖脂肪酸エステルとし
ては、例えば、分子量約４００〜１３００程度のショ糖
脂肪酸エステル（例えば、ショ糖ラウリン酸エステル、
ショ糖ミリスチン酸エステル、ショ糖パルミチン酸エス
テルまたはショ糖ステアリン酸エステル等）が挙げられ
る。ショ糖ラウリン酸エステルとしては、例えばショ糖
モノラウレート、ショ糖ジラウレートまたはショ糖トリ
ラウレート等が挙げられる。ショ糖ミリスチン酸エステ
ルとしては、例えば、ショ糖モノミリステート、ショ糖
ジミリステートまたはショ糖トリミリステート等が挙げ
られる。ショ糖パルミチン酸エステルとしては、例え
ば、ショ糖モノパルミテート，ショ糖ジパルミテート、
ショ糖トリパルミテート等が挙げられる。ショ糖ステア
リン酸エステルとしては、例えば、ショ糖モノステアレ
ート、ショ糖ジステアレートまたはショ糖トリステアレ
ート等が挙げられる。

【００４０】結合剤としては、例えば、ショ糖、ゼラチ
ン、アラビアゴム末、メチルセルロース、ヒドロキシプ
ロピルセルロース（例えば、ＨＰＣ−Ｌなど）、ヒドロ
キシプロピルメチルセルロース、カルボキシメチルセル
ロース、カルボキシメチルセルロースナトリウム、ポリ
ビニルピロリドン、プルラン、デキストリン、α化デン
プンまたはトレハロースなどが挙げられる。

【００４１】崩壊剤としては、例えば、カルボキシメチ
ルセルロースカルシウム、クロスカルメロースナトリウ
ム（例えば、アクジゾル（商品名、旭化成工業株式会社
製）など）、クロスリンクドインソルブルポリビニルピ
ロリドン（例えば、コリドンＣＬ（商品名、ＢＡＳＦ社
製）など）、低置換度ヒドロキシプロピルセルロース、
部分アルファ化デンプン、クロスポビドン（ＩＳＰ In
c., ＢＡＳＦ）、カルメロースカルシウム（五徳薬品
株式会社製）、カルボキシメチルスターチナトリウム
（松谷化学株式会社製）またはコーンスターチなどが挙
げられる。

【００４２】コーティング剤としては、例えば、ヒドロ
キシプロピルメチルセルロース、ヒドロキシメチルセル
ロース、ヒドロキシプロピルセルロース、エチルセルロ
ース、カルボキシメチルエチルセルロース、ポリオキシ
エチレングリコール、プルロニックＦ６８、ツイーン８
０、ヒマシ油、セルロースアセテートフタレート、ヒド
ロキシメチルセルロースアセテートサクシネート、アミ
ノアルキルメタアクリレートコポリマー（例えば、オイ
ドラギッドＥもしくはオイドラギッドＲＳなど）、メタ
クリル酸コポリマー（例えば、オイドラギッドＬ３０−
５５など）、ワックス類およびタルク、酸化チタンまた
はベンガラ等の色素などが挙げられる。

【００４３】着色剤としては、例えば、タール色素、カ
ラメル、ベンガラ、酸化チタン、リボフラビン類、緑茶
抽出物、銅クロロフィンナトリウム、食用黄色５号、食
用赤色２号もしくは食用青色２号などの食用色素または
食用レーキ色素などが挙げられる。

【００４４】矯味剤としては、例えば、甘味剤（例え
ば、サッカリンナトリウム、グリチルリチン酸二カリウ
ム、アスパルテーム、ステビアもしくはソーマチンなど
の人工甘味料など）、香料（例えば、レモン，レモンラ
イム、オレンジ、１−メントール、ハッカ油、ペパーミ
ントミクロンＸ−８２７７−Ｔもしくはドライコート抹
茶＃４２１など）、酸味料（例えば、クエン酸、酒石酸
もしくはリンゴ酸など）または緑茶末などが挙げられ
る。

【００４５】打錠末中の腐食性を有する酸性物質、また
は付着性を有する薬理活性物質もしくは低融点物質の割
合は、一概には言えず広範囲に渉る。具体的には約０．
００１〜９９．５％程度、より好ましくは約０．０１〜
７０％程度、さらに好ましくは約０．１〜５０％程度で
ある。また、打錠末中の付着性を有する賦形剤の割合も
一概には言えず広範囲に渉る。具体的には約０．００１
〜９９．５％程度、より好ましくは約０．０１〜９０％
程度、さらに好ましくは約０．１〜９０％程度である。

【００４６】本発明に係る打錠用杵または臼を具用する
打錠機を用いて打錠末を圧縮成形することにより、錠剤
を製造することができる。本発明に係る打錠用杵または
臼を具用する打錠機および該打錠機を用いた錠剤の製造
方法の好ましい態様を、図１を用いて説明する。回転盤
に付設された臼内（３）に臼孔（３ａ）を形成し、臼孔
の下方に配置した下杵（６）の位置を調整して臼孔（３
ａ）内の空間を所定容積に設定し、この臼孔（３ａ）内
に粉末薬剤等の打錠末（１０）を収納したのち上杵
（４）で圧縮して錠剤を成形し、その後、下杵（６）で
押し上げて上記錠剤を臼孔内から取り出して、錠剤を製
造する。

【００４７】打錠圧は通常約１〜３０kＮ／杵程度、好
ましくは約５〜３０kＮ／杵程度であり、さらに好まし
くは約８〜２５kＮ／杵程度である。臼の内径は通常約
３〜２０ｍｍ程度、好ましくは約３〜１３ｍｍ程度、さ
らに好ましくは４〜１０ｍｍ程度である。臼の形状は円
形でもよいし、オーバルまたはオブロングなどの異形の
場合でもよい。

【００４８】

【実施例】［実施例１−１］表１に示す処方により、イ
ブプロフェン２７０ｇ、リン酸ジヒドロコデイン１４．
４ｇ、乳糖５５７．４ｇ、コーンスターチ８９．１ｇ、
クロスカルメロースナトリウム３６ｇ、ヒドロキシプロ
ピルメチルセルロース１４．４ｇのI群の各成分を流動
層造粒機（パウレック社製・ＦＤ−３ＳＮ）に入れて混
合後、給気温度６０℃で送気しながらヒドロキシプロピ
ルセルロース６重量％水溶液を１２ｇ／分の速度で計５
２０ｇ噴霧して顆粒を製造した。そして、パワーミル
（昭和化学機械株式会社製）にて粉砕（スクリーンサイ
ズ１．５ｍｍ、）して整粒末を得た。また、Ｐ群は表
１の処方に従い、塩酸フェニルプロパノールアミン１５
０ｇ、マレイン酸クロルフェニラミン１５ｇ、無水カフ
ェイン１５０ｇ、乳糖５ｇ、コーンスターチ３６３ｇを
流動層造粒機（給気温度８０℃）に入れ、ヒドロキシプ
ロピルセルロース６重量％水溶液を８ｇ／分の速度で計
３６７ｇ噴霧して同様に顆粒を製造後、粉砕して整粒末
を得た。そして、Ｉ群整粒末８４３．７５ｇ、Ｐ群整粒
末１７６．２５ｇに結晶セルロース１２７ｇ、クロスカ
ルメロースナトリウム４８ｇおよびステアリン酸マグネ
シウム５ｇを加え、３分間タンブラー混合機（昭和化学
機械株式会社製・ＴＭ−１５型）にて混合して打錠用顆
粒を得た後、ロータリー式打錠機（菊水製作所製・コレ
クト１９ｋ）にて打錠圧１５ｋＮ／杵で素錠を製した。
その際、１３．５ｍｍ×６．５ｍｍのオブロングの杵
（上下に刻印の入ったもの）および臼を用い、杵は高ケ
イ素鋼（シリコロイＳＬ−Ｘ２タイプ（日本シリコロイ
工業株式会社製））を母材として用い表面に浸炭処理
（上記〔００２７〕〜〔００２８〕欄に記載の処理）を
施したものを使用し、臼はＳＫＳ−２を母材として用い
表面は未処理のものを使用した。

【００４９】［比較例１−１］実施例１−１で得た打錠
用顆粒を、ロータリー式打錠機（菊水製作所製・コレク
ト１９ｋ）にて打錠圧１５ｋＮ／杵で素錠を製した。そ
の際、１３．５ｍｍ×６．５ｍｍのオブロングの杵（上
下に刻印の入ったもの）および臼を用い、杵および臼は
母材としてＳＫＳ−２を用いたもので、杵は表面にクロ
ムメッキを施したものを使用し、臼は表面が未処理のも
のを使用した。

【００５０】

【表１】

【００５１】［実施例１−２］表２に示す処方により、
アセトアミノフェン９００ｇ、ｄｌ−塩酸メチルエフェ
ドリン６０ｇ、ヘスペリジン３７．２ｇ、コーンスター
チ２５４．１ｇ、のＡ群の各成分を流動層造粒機（パウ
レック社製・ＦＤ−３ＳＮ）に入れて混合後、給気温度
８０℃で送気しながらヒドロキシプロピルセルロース６
重量％水溶液を１５ｇ／分の速度で計６４５ｇ噴霧して
顆粒を製造した。そして、パワーミル（昭和化学機械株
式会社製）にて粉砕（スクリーンサイズ１．５ｍｍ）
して整粒末を得た。また、Ｂ群は表２の処方に従い、ｄ
−マレイン酸クロルフェニラミン３．５ｇ、臭化水素酸
デキストロメトルファン４８ｇ、無水カフェイン７５
ｇ、ヘスペリジン２２．８ｇ、トラネキサム酸４２０
ｇ、軽質無水ケイ酸７．７ｇ、コーンスターチ１７３．
８ｇ、を流動層造粒機（給気温度８０℃）に入れ、ヒド
ロキシプロピルセルロース６重量％水溶液を９ｇ／分の
速度で計３８７ｇ噴霧して同様に顆粒を製造後、粉砕し
て整粒末を得た。そして、Ａ群整粒末６４５ｇ、Ｂ群整
粒末３８７ｇに結晶セルロース１４３．４ｇ、クロスカ
ルメロースナトリウム３６ｇおよびステアリン酸マグネ
シウム３．６ｇを加え、３分間タンブラー混合機（昭和
化学機械株式会社製・ＴＭ−１５型）にて混合して打錠
用顆粒を得た後、ロータリー式打錠機（菊水製作所製・
コレクト１９Ｋ）にて打錠圧１５ｋＮ／杵で素錠を製し
た。その際、８．５ｍｍの円形の杵（上下に刻印の入っ
たもの）および臼を用い、杵はＳＫＳ−２を母材として
用いた杵で表面にクロムドッペ処理を施したものを使用
し、臼は高ケイ素鋼（実施例１−１と同様）を母材とし
て用いた臼で表面に浸炭処理（実施例１−１と同様）を
施したものを使用した。

【００５２】［比較例１−２］実施例１−２で得た打錠
用顆粒を、ロータリー式打錠機（菊水製作所製・コレク
ト１９ｋ）にて打錠圧１５ｋＮ／杵で素錠を製した。そ
の際、８．５ｍｍの円形の杵（上下に刻印の入ったも
の）および臼を用い、杵および臼は母材としてＳＫＳ−
２を用いたもので、杵は表面にクロムドッペを施したも
のを使用し、臼は表面が未処理のものを使用した。

【００５３】

【表２】

【００５４】［試験例１］実施例１−１もしくは１−
２、または比較例１−１もしくは１−２の打錠工程にお
ける杵付着状態およびバインディングについて観察し、
その結果を表３、４に示す。比較例１−１ではイブプロ
フェンによる、比較例１−２では融点降下による低融点
物質の生成による付着が見られたが、これより各実施例
では比較例と比べて良好な打錠性が得られていることが
分かった。

【００５５】

【表３】

【００５６】

【表４】

【００５７】［実施例２−１］自体公知の製法に従っ
て、高ケイ素鋼（実施例１−１と同様）を母材とし、そ
の表面に浸炭処理（実施例１−１と同様）を施した打錠
用杵（以下、実施例杵という）を作製した。上記実施例
杵の離型性を確認するため、塩酸ピオグリタゾン３３．
０６重量部、乳糖７６．３４重量部、ヒドロキシプロピ
ルセルロース３．０重量部、カルボキシメチルセルロー
スカルシウム７．２重量部およびステアリン酸マグネシ
ウム０．４重量部からなる打錠末を、流動層造粒乾燥機
（パウレック製、ＦＤ−Ｓ２）およびタンブラー混合機
（昭和化学機械製、ＴＭ−１５）を用いて常法により製
し、この打錠末を用いて実施例杵を組み付けたロータリ
ー式打錠機（菊水製作所製、コレクト１９ｋ）において
打錠圧力７〜９ｋＮで３０分間打錠し、杵への打錠末の
付着の有無を目視観察した。その結果を表５に示す。

【００５８】［比較例２−１］離型性の比較例として、
実施例２−１で得た打錠末を用いて、下記の打錠用杵を
組み付けたロータリー式打錠機（菊水製作所製、コレク
ト１９ｋ）において、実施例２−１と同じ条件で打錠
し、各杵への打錠末の付着の有無を目視観察した。その
結果を表５に示す。（１）ＳＫＳ２杵：母材として、鉄を９５重量％、クロ
ムを１重量％、タングステンを１．５重量％、炭素を１
重量％、ケイ素を０．３５重量％、マンガンを０．８重
量％、リンを０．０３重量％、硫黄を０．０３重量％含
む合金工具鋼（ＳＫＳ２）を用いて作製した打錠用杵。（２）アロイ杵：母材として焼結合金（特願平０９−３
２３１２３号）を用いて作製した打錠用杵。（３）クロムメッキ杵：ＳＫＳ２に杵の表面に、自体公
知の製法に従って硬質クロムメッキを施した打錠用杵。（４）ＴｉＮ杵：ＳＫＳ２杵の表面に、自体公知の製法
に従って窒化チタン（ＴｉＮ）のコーティングを施した
打錠用杵。（５）ＤＬＣ杵：ＳＫＳ２杵の表面に、自体公知の製法
に従ってダイヤモンド・ライク・カーボン（ＤＬＣ）の
コーティングを施した打錠用杵。

【００５９】〔試験例２〕酸性物質を含有する打錠末を
用いて打錠した結果、クロムメッキ杵、ＴｉＮ杵および
ＤＬＣ杵は打錠末の杵への付着が認められ、安定した製
造が困難となったのに対し、実施例杵、ＳＫＳ２杵およ
びアロイ杵は打錠末の杵への付着は認められなかった。

【００６０】

【表５】

【００６１】［実施例２−２］実施例杵の耐食性を確認
するため、実施例２−１と同様に製した打錠末を実施例
杵に接触させ、室内（温度２０〜２５℃、湿度４０〜６
５％）で７日間放置し、杵表面の腐食の有無を目視観察
した。その結果を表６に示す。

【００６２】［比較例２−２］耐食性の比較例として、
ＳＫＳ２杵およびアロイ杵を用いて、実施例２−２と同
じ条件下で放置した後、杵表面の腐食の有無を目視観察
した。その結果を表６に示す。

【００６３】〔試験例３〕杵に酸性物質を含有する打錠
末を接触させ、室内で放置した結果、ＳＫＳ２杵には著
しい腐食が認められたのに対し、実施例杵およびアロイ
杵には腐食は認められなかった。

【００６４】

【表６】

【００６５】［実施例２−３］実施例杵の強度を確認す
るため、オートグラフ（島津製作所製、ＡＧ−１００Ｋ
ＭＤ）において実施例杵を図３に示すように設置して上
方から加圧し、杵先端部（打錠面）の径および全長につ
いて加圧前後の寸法変化を測定した。その結果を表７に
示す。

【００６６】［比較例２−３］強度の比較例として、Ｓ
ＫＳ２杵およびアロイ杵を用いて、実施例２−３と同じ
条件で加圧した後、杵先端部（打錠面）の径および全長
について加圧前後の寸法変化を測定した。その結果を表
７に示す。

【００６７】〔試験例４〕杵を圧縮加圧して寸法の変化
を確認した結果、実施例杵はＳＫＳ２杵およびアロイ杵
と同等以上の強度を示した。ただし、アロイ杵について
は、ロータリー式打錠機において５時間打錠した際に杵
先端部の破損が認められたため、工業的生産への適用は
困難と判断された。

【００６８】

【表７】

【００６９】

【発明の効果】本発明の母材として高ケイ素鋼を用い、
所望によりその表面に浸炭処理を施した打錠用杵および
臼は、腐食性物質または付着性物質を含有する錠剤の製
造において優れた耐食性および離型性を示し、安定した
工業的生産に適した打錠機を提供することができるとい
う効果を奏す。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明に係る打錠用杵または臼を用いた回転
式打錠機の概略断面図である。

【図２】本発明における浸炭処理を行う装置の一態様
を示す。

【図３】実施例で用いられる打錠用杵および臼を示
す。

【符号の説明】

１回転式打錠機２回転盤３臼３ａ臼孔４上杵５上杵保持盤６下杵７下杵保持盤８上杵ガイドレール９下杵ガイドレール１０打錠末２１炉本体２２ヒータ２３ファン２４本発明に係る打錠用杵または臼が詰められた治
具２５ＣＯガスタンク２６Ｎ₂，Ｈ₂ガス導入路２７浸炭用ガス導入パイプ２８排気パイプ２９排ガスパイプ３１上杵３２下杵３３臼３４打錠末３５ａ、３５ｂ杵・臼ホルダー３６加圧部３７台座

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号ＦＩテーマコート゛(参考）Ｃ２２Ｃ 38/00 ３０２Ｃ２２Ｃ 38/00 ３０２Ｚ 38/40 38/40 38/52 38/52 38/58 38/58

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】高ケイ素鋼を母材としてなる打錠用杵ま
たは臼。
【請求項２】母材の表面が浸炭処理されている請求項
１に記載の打錠用杵または臼。
【請求項３】腐食性物質または付着性物質を含有する
錠剤を成形するための打錠機に用いる杵（１、２）また
は臼（３）に適用した請求項１または２に記載の打錠用
杵または臼。
【請求項４】腐食性物質が酸性物質である請求項３に
記載の打錠用杵または臼。
【請求項５】付着性物質が付着性のある薬理活性物
質、付着性のある低融点物質および付着性のある賦形剤
からなる群から選ばれる１以上の物質である請求項３に
記載の打錠用杵または臼。
【請求項６】付着性のある低融点物質が融点降下によ
り生じることを特徴とする請求項５に記載の打錠用杵お
よび臼。
【請求項７】請求項１または２に記載の杵または臼を
具用することを特徴とする打錠機。
【請求項８】請求項７に記載の打錠機を使用すること
を特徴とする錠剤の製造方法。
【請求項９】錠剤が腐食性物質または付着性物質を含
有する請求項８に記載の製造方法。
【請求項１０】腐食性物質が酸性物質である請求項９
に記載の製造方法。
【請求項１１】付着性物質が付着性のある薬理活性物
質、付着性のある低融点物質および付着性のある賦形剤
からなる群から選ばれる１以上の物質である請求項９に
記載の製造方法。
【請求項１２】付着性のある低融点物質が融点降下によ
り生じることを特徴とする請求項１１に記載の製造方
法。
【請求項１３】請求項８〜１２に記載の製造方法により
製造された錠剤。