JP2001522399A - 置換インデニル含有金属錯体を用いて生じさせたオレフィンポリマー類 - Google Patents

置換インデニル含有金属錯体を用いて生じさせたオレフィンポリマー類

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Abstract

(57)【要約】 本主題発明は、2位または3位がヒドロカルビル、パーフルオロ置換ヒドロカルビル、シリル、ゲルミルおよびそれらの混合物から選択される少なくとも1つの基で置換されていて更に二価の配位子基(この二価の配位子は窒素または燐を含んでいて上記窒素または燐は脂肪族または脂環式ヒドロカルビル基に第一または第二炭素を通して共有結合している)で金属に共有結合しているインデニル基を含んで成る4族金属錯体の存在下で少なくとも1種のα−オレフィンを重合させることで生じさせたオレフィンポリマーに向けたものである。本発明の好適なオレフィンポリマー類は、高い分子量を有し、狭い分子量分布を示し、高いビニル含有量を有し、かつ二頂DSC溶融曲線を示すか或はデコンボリュートしたATREFまたはGPC曲線が少なくとも2つの明瞭な狭いピークを示すとして特徴づけられる。このオレフィンポリマーは多様な用途で使用可能であり、そのような用途には、これらに限定するものでないが、フィルム、繊維、フォーム、成形部品、そして配合物、例えば接着剤、シーラント、コーティング、コーキングおよびアスファルトなどの成分としての使用が含まれる。

Description

【発明の詳細な説明】 置換インデニル含有金属錯体を用いて生じさせたオレフィンポリマー類 本発明は、ある種の4族金属錯体、そしてそれから誘導されて特にα−オレフ ィン類の重合およびα−オレフィン混合物の重合でポリマー類を製造する場合の 重合方法で用いるに適したオレフィン重合用触媒、そしてその結果として得られ るα−オレフィン類およびα−オレフィン類の混合物に関する。 拘束幾何(Constrained geometry)金属錯体およびそれ の製造方法がヨーロッパ特許出願公開第416,815;ヨーロッパ特許出願公 開第468,651;ヨーロッパ特許出願公開第514,828:ヨーロッパ特許 出願公開第520,732およびWO93/19104に加えて米国特許第5,0 55,438、米国特許第5,057,475、米国特許第5,096,867、米 国特許第5,064,802、米国特許第5,132,380、米国特許第5,47 0,993、WO95/00526および暫定的米国出願60−005913に 開示されている。いろいろに置換されているインデニルを含有する金属錯体が1 996年1月26日付けで提出した米国連続番号592,756号に加えてWO 95/14024に教示されている。 拘束幾何触媒および他のシングルサイト(single site)またはメ タロセン(metallocene)触媒は均一オレフィンポリマー類(hom ogeneous olefin polymers)の製造で用いるに有用で ある。この用語「均一オレフィンポリマー類」は、1種以上のα−オレフィン類 から作られていて狭い多分散性、即ち 1.5から3.0のMw/Mnを示すとして特徴づけられるホモポリマー類または インターポリマー類を指し、インターポリマー類の場合には、均一短鎖分枝分布 (homogeneous short chain branching d istribution)を示す、即ち各分子が実質的に同じ数の短鎖分枝を有 するとして特徴づけられる。均一オレフィンポリマー類は低分子量のテール画分 (tail fraction)を含まない(このことは強度およびじん性が向 上すると解釈される)点でチーグラー・ナッタ(Ziegler Natta) が製造したポリマー類よりも有利である。均一オレフィンポリマー類は、更に、 このようなポリマー類の製造で用いるに有用な触媒、特に拘束幾何触媒がコモノ マーを容易かつ効率良く組み込むことで密度が0.910g/cm3未満(これ は弾性重合体の特性が良好であることに一致する)のポリマー類を費用効果的に 製造することを可能にする点で、チーグラー・ナッタが製造したポリマー類より も有利である。 均一ポリマー類はそのような有利な特徴を有するにも拘らず、それらの加工は 典型的にチーグラー・ナッタ対照物よりも困難であり、このことは、ある程度で あるが、低分子量画分が存在しないことと、ある程度であるが、溶融領域が狭い ことによるものである。 1つの好適な種類の均一オレフィンポリマー類は、狭い多分散性を示し、均一 短鎖分枝分布を示しかつ長鎖分枝が流動特性および耐メルトフラクチャー性(r esistance to melt fracture)の向上に充分な量で 存在しているとして特徴づけられる種類の実質的に線状である(substan tially linear)ポリマー類である。実質的に線状であるポリマー 類は米国特許第5,272, 236;5,278,272;5,380,810、そしてヨーロッパ特許第659 ,773号、ヨーロッパ特許676,421号およびWO 94/07930に 開示および請求されている。 この好適な実質的に線状であるオレフィンポリマー類を用いる代替アプローチ は、均一オレフィンポリマーをフィルムまたは製品に加工する前にそれにポリマ ー加工助剤(polymer processing aids)を有効量で添 加することであった。これは追加的加工段階を必要としかつ完成品に費用が加わ る点で不利である。 オレフィンを基とする均一エラストマー類(elastomers)および特 に実質的に線状であるオレフィンポリマー類は大いに商業的に有用ではあるが、 このようなエラストマー類は密度が低いことに加えて短鎖分枝を持っていなくて 結晶度がより高い画分が存在しないことから、そのようなポリマー類は上方の使 用温度(upper service temperature)の点で比較的 劣っていて、加熱下(例えば布乾燥器内)で変形を受け易い。 エラストマーである均一オレフィンポリマー類が示す上方の使用温度を向上さ せる目的で、例えば1995年8月2日付けで提出した米国連続番号510,5 27(WO 94/171112)および1994年3月8日付けで提出した米 国連続番号208,068(EP 619827)に開示されているように、物 理的ブレンドでか或は反応槽を2基用いた系で反応槽内(in−reactor )混合物を生じさせることを通して、そのようなポリマー類を結晶度がより高い 均一もしくは不均一オレフィンポリマー類とブレンドすることも可能である。 しかしながら、弾性重合体特性(elastomeric prop erties)を有していて加熱下の変形に対する耐性が全体としての密度が同 じ物理的もしくは反応槽内ブレンド物のそれよりも高いポリマーが得られたなら ば、これは本産業にとって多大な利点になるであろう。そのようなポリマー類が 全体として示す多分散性が1.5から3.0であってもメルトフラクチャーに対 して耐性がありそして/またはI10/I2が少なくとも10であることで立証さ れるようにそれに優れた加工性を持たせることができれば、本産業にとって特に 有利であろう。特に、高温劣化に対して耐性を示して高い効率を示す触媒を単一 の反応槽内で用いてそのようなポリマー類を製造することが可能になれば、本産 業にとって特に有利になるであろう。 Exxon Chemical Patents,Inc.の米国特許第5, 621,126号にモノ(シクロペンタジエニル)IVB族金属化合物を用いて エチレン/α−オレフィンコポリマー類を製造することが開示されていることを 特記する。米国特許第5,621,126号には、第一または第二炭素を通して 窒素原子に結合している脂肪族または脂環式であるヒドロカルビル配位子R’を 有するアミド基を含有する触媒を用いた時にもたらされるコポリマー類のα−オ レフィンの組み込み度はヒドロカルビル配位子R’が第三炭素原子を通して窒素 原子に結合している触媒を用いた時よりもまたR’が芳香族炭素原子を有する触 媒を用いた時よりも大きいと主張されている。米国特許第5,621,126号 には、R’が脂環式の時にR’配位子が第二炭素原子を通して窒素に結合してい る時の触媒が示す活性の方がR’が炭素数が同じ脂肪族基の第一炭素原子を通し て窒素に結合している時の触媒が示すそれよりも高いと主張されている。米国特 許第5,621,126号には、触 媒系に含まれるR’の炭素原子数が多くなるにつれて該触媒系が示す生産性およ びエチレン/α−オレフィンコポリマーの分子量が高くなる一方で組み込まれる α−オレフィンコモノマーの量はほぼ同じか或は高くなると主張されている。米 国特許第5,621.126号には、より好適なR’配位子はシクロドデシルで あると主張されている。 米国特許第5,621,126号の組成物は、それらには長鎖分枝が存在して いないことからメルトフラクチャーを受け易く、従って商業的にあまり望ましく ないと考えられる点で、不都合である。 更に、モノ(シクロペンタジエニル)IVB族金属化合物は実際にエチレン/ α−オレフィンインターポリマー類の重合に多大な商業的利点を与え得るが、本 産業では継続して改良が求められており、特に、モノ(シクロペンタジエニル) 触媒に特徴的な反応温度よりも高い反応温度に耐える触媒が得られたならば、こ れは有利である。そのように反応温度を高くすることができることは、高い度合 のビニル不飽和を示すポリマーがもたらされると解釈され、そのようなポリマー 類は、官能化(functionalized)ポリマー類の前駆体として用い るに特に有用であり、かつ、適切な重合条件を用いた時には長鎖分枝の組み込み 度合が高い。 本発明に従い、オレフィンモノマー類からポリマー類を製造する方法でもたら された生成物を提供し、ここでは、この方法に、 1)式: [式中、 Mは、形式的酸化状態(formal oxidation stat e)が+2、+3または+4のチタン、ジルコニウムまたはハフニウムであり、 A’は、少なくとも2または3位がヒドロカルビル、フルオロ置換ヒドロカルビ ル、ヒドロカルビルオキシ置換ヒドロカルビル、ジアルキルアミノ置換ヒドロカ ルビル、シリル(silyl)、ゲルミル(germyl)およびそれらの混合 物から選択される基(この基が含有する非水素原子の数は40以下である)で置 換されている置換インデニル基であり、そして上記A’は、更に、二価のZ基で Mに共有結合しており、 Zは、A’およびMの両方にσ結合で結合している二価部分であり、ここで、上 記Zは、ホウ素または元素周期律表の14族の一員を含みかつまた窒素、燐、硫 黄または酸素も含んでいて、Zは、好適には、脂肪族もしくは環状脂肪族ヒドロ カルビルもしくは置換ヒドロカルビル基と共有結合しており、その結果として、 上記ヒドロカルビル基は第一または第二炭素でZに共有結合しており、 Xは、原子数が60以下のアニオン性もしくはジアニオン性配位子基であり[但 し、環状の非局在化したπ結合を有する配位子基(cyclic,deloca lized,π−bound ligand groups)である種類の配位 子を除く]、 X’は、各場合とも独立して、原子数が20以下の中性の連結用化合物(lig ating compound)であり、 pは、0、1または2で、Mの形式的酸化状態よりも2小さいが、但しXがジア ニオン性配位子基の時にはpが1であることを条件とし、そして qは、0、1または2である] に相当する金属錯体と 2)活性化用共触媒(activatin cocatalyst)を1)と2 )のモル比が1:10,000から100:1であるように含んで成る触媒にか 或は活性化技術を用いて1)を活性触媒に変化させることで生じさせた反応生成 物に1種以上の上記モノマー類を接触させることを含める。 また、1)金属錯体と2)活性化用共触媒を1)と2)のモル比が1:10, 000から100:1であるように含んでいて該金属錯体が式:[式中、 Mは、形式的酸化状態が+2、+3または+4のチタン、ジルコニウムまたはハ フニウムであり、 R’およびR”は、各場合とも独立して、ハイドライド、ヒドロカルビル、シリ ル、ゲルミル、ハライド、ヒドロカルビルオキシ、ヒドロカルビルシロキシ、ヒ ドロカルビルシリルアミノ、ジ(ヒドロカルビル)アミノ、ヒドロカルビレンア ミノ、ジ(ヒドロカルビル)ホスフィノ、ヒドロカルピルン−ホスフィノ、ヒド ロカルビルスルフィド、ハロ置換ヒドロカルビル、ヒドロカルビルオキシ置換ヒ ドロカルビル、シリル置換ヒドロカルビル、ヒドロカルビルシロキシ置換ヒドロ カルビル、ヒドロカルビルシリルアミノ置換ヒドロカルビル、ジ(ヒドロカルビ ル)アミノ置換ヒドロカルビル、ヒドロカルビレンアミノ置換ヒドロカルビル、 ジ(ヒドロカルビル)ホスフィノ置換ヒドロカルビル、ヒドロカルビレンホスフ ィノ置換ヒドロカルビルまたはヒドロカルビルスルフィド置換ヒドロカルビルで あり、ここで、上記R’またはR”基の非水素原子数は40以下であり、そして 場合により、上記基の2つ以上が一緒になって二価誘導体を形成していてもよく 、 R”’は、該金属錯体の残りと一緒に縮合系を形成している二価のヒドロカルビ レン基または置換ヒドロカルビレン基であり、ここで、上記R”’が含有する非 水素原子の数は1から30であり、 Zは、二価部分であるか、或はMと配位一共有結合を形成し得る中性の2電子対 と1つのσ結合を含んで成る部分であり、ここで、上記Zは、ホウ素または元素 周期律表の14族の一員を含みかつまた窒素、燐、硫黄または酸素も含み、 Xは、環状の非局在化したπ結合を有する配位子基である種類の配位子を除く、 原子数が60以下の一価のアニオン性配位子基であり、 X’は、各場合とも独立して、原子数が20以下の中性の連結用化合物であり、 X”は、原子数が60以下の二価のアニオン性配位子基であり、 pは、ゼロ、1、2または3であり、 qは、ゼロ、1または2であり、そして rは、ゼロまたは1である] に相当する触媒の存在下でか或は活性化技術を用いて1)を活性触媒に変化させ ることで生じさせた反応生成物の存在下で1種以上のα−オレフィンを反応させ ることを包含する方法で生じさせた生成物も開示する。 本触媒および方法を本発明のポリマー類の重合、好適には溶液重合工 程による重合で用いると、結果として、高い分子量を有するオレフィンポリマー 類、特にエチレン/α−オレフィンインターポリマー類、エチレン/プロピレン /ジエンインターポリマー類(EPDM)(ここで、上記ジエンはエチリデンノ ルボルネン、1,4−ヘキサジエンまたは同様な非共役ジエンであるか、或はピ ペリレンである)が幅広い範囲の重合条件、特に高温において高い効率でもたら される。このような高温を用いると、温度が高いとポリマーの溶解度が高くなる ことで重合装置の溶液粘度限界を越えることなく向上した変換率を用いること( ポリマー生成物の濃度をより高くすること)が可能になることに加えて反応生成 物から揮発物を除去する(devolatilize)時に要するエネルギー費 用が低くなることから、上記工程の生産性が劇的に高くなる。 本主題発明は、更に、下記の基準: a)I2≦100g/10分、 b)1.5から3.0のMw/Mn、 c)FTIRで測定して炭素1000個当たり少なくとも0.03個のビニル、 および d)少なくとも2つの明瞭なATREFピークを示して上記ピークの各々が下記 の不等式: ATREF形状係数(Shape Factor)≦0.90−0.00626 [平均溶出温度(Average Elution Temperature) ] を満足させること、 の少なくとも4つ、特に上記基準の5つ全部を満足させるとして特徴づけられる オレフィンインターポリマー、好適にはエチレンと少なくとも 1種のC3−C20α−オレフィンから作られたインターポリマーを提供する。 本明細書に開示する如きインデニル触媒およびインデセニル触媒を用いるとビ ニル末端を高い度合で有するポリマー類の生成がもたらされる。その結果として 炭素1000個当たりに存在するビニルのレベルが高くなることから本発明のポ リマー類は特にポリマー類に後で官能化を受けさせる用途で用いるに有用である 。そのように結果として炭素1000個当たりに存在するビニルのレベルが高い ことから、更に、適切な重合条件を用いるならば上記ポリマー類はより高いレベ ルの長鎖分枝を達成し得る。 本発明のポリマー類は、好適には、I10/I2が少なくとも10、好適には少な くとも12、最も好適には少なくとも15であるとして特徴づけられる。 長鎖分枝の存在を定性的に示すさらなる指示として、本発明のポリマー類は、 好適には、更に、これが示す表面メルトフラクチャーが起こり始める時の臨界せ ん断速度が線状インターポリマーの場合の表面メルトフラクチャーが起こり始め る時の臨界せん断速度より少なくとも50パーセント大きいとして特徴づけられ 、ここで、そのような実質的に線状であるインターポリマーと上記線状インター ポリマーは同じコモノマーもしくはコモノマー類を含んで成り、上記線状インタ ーポリマーが示すI2、Mw/Mnおよび密度は上記実質的に線状であるインター ポリマーのそれの10パーセント以内であり、そしてここで、上記実質的に線状 であるインターポリマーと上記線状インターポリマーの個々の臨界せん断速度は 気体押出しレオメーター(gas extrusion rh eometer)を用いて同じ溶融温度で測定された臨界せん断速度である。 本発明のオレフィンインターポリマー類は、示差走査熱量測定およびATRE F曲線ばかりでなくデコンボリュートした(deconvoluted)ゲル浸 透クロマトグラフで立証されるように、短鎖分枝分布および分子量に関して二頂 性(bimodal)を示すとしてユニークに特徴づけられる。この効果は特に 密度が0.910g/cm3以内のインターポリマー類に当てはまる。 密度が0.890g/cm3未満、特に密度が0.880g/cm3以内、より 特に密度が0.870g/cm3未満の本発明のインターポリマー類が特に優れ ていて高度にユニークな特性均衡を示すことを見い出した。特に、そのようなポ リマー類は向上した弾性重合体特性を示し、例えば圧縮永久歪みが90パーセン ト未満、好適には85パーセント未満、より好適には80パーセント未満である ことに加えて、それが示す上方の使用温度は、代表的なゲル浸透クロマトグラフ のデコンボリューション(deconvolutiion)で認められるように 、本発明のインターポリマー類の成分に相当するインターポリマー類の物理的ブ レンド物が示すそれを越えている。本発明のインターポリマー類が示すユニーク さは透過電子顕微鏡で得られる顕微鏡写真に明白に示されており、その顕微鏡写 真はインターポリマーにラメラ(lamella)が存在していることを明らか に示していて、それの密度は、それは完全に非晶質であるにちがいないことを示 唆している。 本発明のオレフィンインターポリマー類は多様な用途で多大な有用性を示すと 期待され、そのような用途には、これらに限定するものでない が、フィルム、繊維、フォーム、射出成形部品、回転成形部品(rotatio nal molded parts)、そして配合物、例えば接着剤、シーラン ト、コーティング、コーキング(caulks)およびアスファルトなどの成分 としての使用が含まれる。 上記および他の態様を以下の詳細な説明により詳細に記述し、ここで、 図1は、本明細書に挙げる実施例で実施した触媒、共触媒および捕捉用化合物 (scavenging compounds)の説明である。 図2は、触媒3を用いて調製した比較実施例C−3aのエチレン/オクテンイ ンターポリマーが示すDSCエンドグラム(endogram)である。 図3は、触媒1を用いて調製した実施例1aのエチレン/オクテンインターポ リマーが示すDSCエンドグラムである。 図4は、触媒2を用いて調製した実施例2aのエチレン/オクテンインターポ リマーが示すDSCエンドグラムである。 図5は、触媒2を用いて調製した実施例2aのエチレン/オクテンインターポ リマーを撮った透過電子顕微鏡写真である。 図6は、触媒3を用いて調製した比較実施例C−3aのエチレン/オクテンイ ンターポリマーを撮った透過電子顕微鏡写真である。 図7aは、触媒1(実施例1b)および触媒2(実施例2a)を用いて調製し た本発明の2種類のエチレン/オクテンインターポリマー類のそれぞれが示すA TREF曲線および触媒3を用いて調製した比較実施例C−3aのエチレン/オ クテンインターポリマーが示すATREF曲線である。 図7bは、触媒2を用いて調製したエチレン/オクテンインターポリ マーが示すATREF曲線および触媒3を用いて調製した密度が0.895g/ cm3でメルトインデックス(I2)が1.6g/10分の比較エチレン/オクテ ンインターポリマーが示すATREF曲線である。 図7cは、触媒2を用いて調製した実施例45(e)のエチレン/オクテンイ ンターポリマーが示すATREF曲線および示差粘度(differentia l viscosity)曲線である。 図7dは、ATREF形状係数を平均ATREF溶出温度に対してプロットし たプロットである。 図8aおよび8bに、触媒1(実施例1a)および触媒2(実施例2a)を用 いて調製したエチレン/オクテンインターポリマー類それぞれの動的機械的デー タ(dynamic mechanical data)および触媒3を用いて 調製したエチレン/オクテンインターポリマー(比較実施例C−3a)の動的機 械的データを示す。 図9aは、触媒2を用いて調製したエチレン/オクテンインターポリマー類が 示す上方の使用温度(UST)のプロットおよび触媒3を用いて調製した比較エ チレン/オクテンインターポリマー類が示す上方の使用温度のプロットおよび触 媒3を用いて調製した2種類のエチレン/オクテンインターポリマー類のブレン ド物が示す上方の使用温度のプロットである。 図9bは、図9aに挙げた本発明のインターポリマー類が示すUSTと触媒3 を用いて調製したエチレン/オクテンインターポリマー類のいろいろなブレンド 物が示すUSTの間の差をプロットしたプロットである。 図10は、触媒1を用いて調製した実施例1bのエチレン/オクテン インターポリマーのデコンボリュートしたゲル浸透クロマトグラムである。 図11は、触媒2を用いて調製した実施例2bのエチレン/オクテンインター ポリマーのデコンボリュートしたゲル浸透クロマトグラムである。 図12は、触媒2を用いかつバッチ重合方法を用いて調製した比較実施例C− 2aのエチレン/オクテンインターポリマーのデコンボリュートしたゲル浸透ク ロマトグラムである。 図13は、連続溶液重合方法で触媒2を用いて調製した実施例2aのエチレン /オクテンインターポリマー類の場合の粘度曲線および溶液バッチ重合方法で触 媒3を用いて調製した比較実施例C−2aの場合の粘度曲線である。 図14は、触媒1および触媒2のそれぞれを用いて調製したエチレン/オクテ ンインターポリマー類が示す圧縮永久歪みおよび触媒3を用いて調製したエチレ ン/オクテンインターポリマー類が示す圧縮永久歪みの図である。 図15および16は本発明のEPDMの場合のDSC曲線である。 本明細書における元素周期律表の言及は全部CRC Press,Inc.が 出版しそして著作権を有する元素周期律表(1989)を指す。また、族または 族類に対する如何なる言及も、族の番号付けにIUPACシステムが利用されて いる上記元素周期律表に示されている如き族または族類を指すものとする。 特に明記しない限り以下の手順を用いる: 密度をASTM D−792に従って測定する。測定を行う前24時 間に渡ってサンプルに周囲条件下でアニーリングを受けさせる(anneale d)。 メルトインデックス(I2)をASTM D−1238、条件190℃/2. 16kg[以前は「条件(E)」として知られていた]に従って測定する。 I10をASTM D−1238、条件190℃/10kg[以前は「条件N」 として知られていた]に従って測定する。 分子量の測定を、混合多孔度カラム(Polymer Laboratori es 103、104、105および106)が3本備わっているWaters 150℃高温クロマトグラフィー装置を140℃の装置温度で操作するゲル浸 透クロマトグラフィー(GPC)で行う。溶媒は1,2,4−トリクロロベンゼ ンであり、これを用いてサンプルが0.3重量パーセント入っている溶液を注入 用として調製する。流量を1.0mL/分にし、そして注入量を100ミクロリ ットルにする。 狭い分子量分布のポリスチレン標準(Polymer Laboratori es製)を溶出体積と協力させて用いることで分子量測定値を引き出す。下記の 式: Mポリエチレン=a*(Mポリスチレン)b を引き出すに適切な、ポリエチレンとポリスチレンのMark−Houwink 係数[WilliamsおよびWardが「Journal of Polym er Science」、Polymer Letters、6巻、(621) 、1968(引用することによって本明細書に組み入れられる)の中で記述して いる如き]を用いて、ポリエチレンの相当する分子量を測定する。上記式中、a =0.4316およびb= 1.0である。下記の式: Mw=Σwi*Mi [式中、wiおよびMiは、GPCカラムから溶出して来るi番目の画分それぞれ の重量分率および分子量である] に従う通常様式で重量平均分子量Mwを計算する。 結晶度パーセントを式: %C=(A/292 J/g)x100 [式中、%Cは、結晶度パーセントを表し、そしてAは、エチレンポリマーを示 差走査熱量測定(DSC)で測定した時の融解熱[1グラム当たりのジュール( J/g)]を表す] を用いて計算する。 示差走査熱量測定(DSC)データを、各サンプル(5mg)をアルミニウム 製鍋に入れ、このサンプルを160℃に加熱し、10℃/分で冷却しそしてPe rkin Elmer DSC 7を用いて−30℃から140℃に及んで10 ℃/分で走査して吸熱を記録することを通して得た。また、走査を140から− 30に及んで10℃/分で行うことでDSC発熱(冷却曲線)も記録した。 コポリマー類の形態を透過電子顕微鏡(TEM)で調べた。サンプルをルテニ ウムの塩化物−次亜塩素酸塩で染色した後、ミクロトームに付いているガラス製 ナイフを用いて薄いスライスを室温で調製した。JEOL 2000FX顕微鏡 を用いて顕微鏡写真を150000倍の倍率で記録した。 Polyolefins Research内の標準的な装置を用いて分析昇 温溶出分離(analytical temperature rising elution fractionation)(ATREF )データを得た。ポリマーのサンプル(熱トリクロロベンゼンに溶解)を不活性 な支持体(鋼製ショット(shot))が入っているカラムに入れ、温度をゆっ くり下げることで、それを結晶化させた。次に、この結晶化させたサンプルを溶 出用溶媒であるトリクロロベンゼンの温度をゆっくり高めることで上記カラムか ら溶出させることを通して、ATREFクロマトグラムを得た。このATREF の曲線は樹脂の鍵となるいくつかの構造的特徴を示していた。例えば、屈折率検 出器の応答は短鎖分枝分布を与える一方で、示差粘度検出器の応答は粘度平均分 子量の推定値を与える。 直径が25mmの平行板(隙間が2mm)が用いられているRMS−800動 的機械的分光測定装置を振動せん断(oscillatory shear)モ ードで用いて動的機械的分光測定を行った。窒素雰囲気下190℃で0.1から 100rad/秒のせん断速度範囲に渡って15パーセントの歪みでフレクエン シー(frequency)走査を実施した。また、RDAII動的分析装置を 用いて温度走査も実施した。この場合、直径が12.5mmの平行板(隙間が1 .5mm)を窒素雰囲気下約−100℃から200℃の温度範囲に渡って1ra d/秒のフレクエンシーで用いた。サンプルを室温で充填し、このサンプルと上 記板との間の良好な接触を確保する目的で60℃に加熱した後、温度走査実験の 開始に先立って−100℃にまで冷却した。 気体押出しレオメーター(gas extrusion rheometer )(GER)を用いて加工性を評価した。樹脂を直径が0.0296インチでL /Dが20の円柱形ダイスが備わっているキャピラリ ーレオメーターに充填して操作を190℃で行った。窒素ガスを用いて上記レオ メーターを加圧し、圧力を5500から1000psi(38から6.9MPa )に25Opsi(1.7MPa)のステップで低下させながら押出された物の サンプルを集め、一般的には、コポリマーのサンプルを19サンプル集めた。押 出された物が各々固化した後、それの表面を表面流れ欠陥(surface f low defects)に関して目で検査して、例えば各樹脂が表面の光沢を 失う時点(LSG)および各樹脂がグロスメルトフラクチャーを起こし始める時 点(OGMF)などを決定した。 本明細書で用いる如きオレフィン類は、ビニル不飽和を含むC2-20脂肪族もし くは芳香族化合物ばかりでなく環状化合物、例えばシクロブテン、シクロペンテ ンおよびノルボルネン(5位および6位がC1-20ヒドロカルビル基で置換されて いるノルボルネンを包含)である。また、上記オレフィン類の混合物ばかりでな く上記オレフィン類とC4-40ジオレフィン化合物の混合物も包含させる。後者の 化合物の例にはエチリデンノルボルネン、1,4−ヘキサジエン、ノルボルナジ エンなどが含まれる。本明細書における触媒および方法は特にエチレン/プロピ レン、エチレン/1−ブテン、エチレン/1−ペンテン、エチレン/4−メチル −1−ペンテン、エチレン/1−ヘキセン、エチレン/1−オクテンおよびエチ レン/スチレンから作られたインターポリマー類ばかりでなくエチレンとプロピ レンと非共役ジエンから作られたターポリマー類、即ちEPDMターポリマー類 の製造で用いるに適切であり、エチレンとC3−C20α−オレフィン、好適には C4−C20α−オレフィン、より好適にはC6−C10α−オレフィンから作られた インターポリマー類が好適で あり、特にエチレン/1−オクテンから作られたポリマー類が好適である。 本発明のインターポリマー類の調製を、好適には、式: [式中、 Mは、形式的酸化状態が+2、+3または+4のチタン、ジルコニウムまたはハ フニウムであり、 A’は、少なくとも2または3位がヒドロカルビル、フルオロ置換ヒドロカルビ ル、ヒドロカルビルオキシ置換ヒドロカルビル、ジアルキルアミノ置換ヒドロカ ルビル、シリル、ゲルミルおよびそれらの混合物から選択される基で置換されて いる置換インデニル基であり、ここで、上記基が含有する非水素原子の数は40 以下であり、そして上記A’は、更に、二価のZ基でMに共有結合しており、 Zは、A’およびMの両方にσ結合で結合している二価部分であり、ここで、上 記Zは、ホウ素または元素周期律表の14族の一員を含みかつまた窒素または燐 も含んでいて、この窒素または燐に脂肪族または脂環式ヒドロカルビル基が第一 もしくは第二炭素で共有結合しており Xは、環状の非局在化したπ結合を有する配位子基である種類の配位子を除く、 原子数が60以下のアニオン性もしくはジアニオン性配位子基であり、 X’は、各場合とも独立して、原子数が20以下の中性の連結用化合物であり、 pは、0、1または2で、Mの形式的酸化状態よりも2小さいが、但しXがジア ニオン性配位子基の時にはpが1であることを条件とし、そし て qは、0、1または2である] に相当する金属錯体から生じさせた触媒系を用いて行う。 好適なX’基は、一酸化炭素;ホスフィン類、特にトリメチルホスフィン、ト リエチルホスフィン、トリフェニルホスフィンおよびビス(1,2−ジメチルホ スフィノ)エタン;P(OR)3(ここで、Rはこの上で定義した通りである) ;エーテル類、特にテトラヒドロフラン;アミン類、特にピリジン、ビピリジン 、テトラメチルエチレンジアミン(TMEDA)およびトリエチルアミン;オレ フィン類;そして炭素原子数が4から40の共役ジエン類である。後者のX’基 を含有する錯体には、金属が+2の形式的酸化状態にある錯体が含まれる。 上記金属錯体の場合ばかりでなく本明細書に開示する他の金属錯体の場合のM は好適にはジルコニウムまたはチタン、より好適にはチタンである。 本発明に従って用いる好適な置換インデニル配位錯体は、式: [式中、 R1およびR2は、R1またはR2の少なくとも1つが水素でないことを条件として 、独立して、水素、ヒドロカルビル、パーフルオロ置換ヒドロカルビル、シリル 、ゲルミルおよびそれらの混合物から選択される基であり、ここで、上記基が含 有する非水素原子の数は20以下であり、 R3、R4、R5およびR6は、独立して、水素、ヒドロカルビル、パーフルオロ置 換ヒドロカルビル、シリル、ゲルミルおよびそれらの混合物から選択される基で あり、ここで、上記基が含有する非水素原子の数は20以下であり、 Mは、チタン、ジルコニウムまたはハフニウムであり、 Zは、ホウ素または元素周期律表の14族の一員を含みかつまた窒素または燐も 含んで成る二価部分であり、ここで、上記部分が含有する非水素原子の数は60 以下であり、そしてここで、上記窒素または燐に脂肪族または脂環式ヒドロカル ビル基が第一もしくは第二炭素で共有結合しており pは、0、1または2であり、 qは、ゼロまたは1であるが、但し pが2でqがゼロの時にはMが+4の形式的酸化状態にあってXがハライド、ヒ ドロカルビル、ヒドロカルビルオキシ、ジ(ヒドロカルビル)アミド、ジ(ヒド ロカルビル)ホスフィド、ヒドロカルビルスルフィドおよびシリル基に加えてそ れらのハロ置換誘導体、ジ(ヒドロカルビル)アミノ置換誘導体、ヒドロカルビ ルオキシ置換誘導体およびジ(ヒドロカルビル)ホスフィノ置換誘導体から成る 群から選択されるアニオン性配位子であり、ここで、上記X基の非水素原子数は 20以下であり、 pが1でqがゼロの時にはMが+3の形式的酸化状態にあってXがアリル、2− (N,N−ジメチルアミノメチル)フェニルおよび2−(N,N−ジメチル)ア ミノベンジルから成る群から選択される安定化用アニオン性配位子基であるか或 はMが+4の形式的酸化状態にあってXが共役ジエンの二価誘導体でMとXが一 緒になってメタロシクロペンテン (metallocyclopentene)基を形成しており、そしてpがゼ ロでqが1の時にはMが+2の形式的酸化状態にあってX’が場合により1つ以 上のヒドロカルビル基で置換されていてもよい中性の共役もしくは非共役ジエン で上記X’が炭素原子を40個以下の数で有していてMと一緒にπ錯体を形成し ていることを条件とする] に相当する錯体である。 本発明に従って用いるより好適な配位錯体は式: [式中、 R1およびR2は、水素またはC1-6アルキルであるが、但しR1またはR2の少な くとも1つが水素でないことを条件とし、 R3、R4、R5およびR6は、独立して、水素またはC1-6アルキルであり、 Mは、チタンであり、 Yは、−NR**−、−PR**−であり、 Z*は、SiR* 2、CR* 2、SiR* 2SiR* 2、CR* 2CR* 2、CR*=CR*、 CR* 2SiR* 2またはGeR* 2であり、 R*は、各場合とも独立して、水素であるか、或はヒドロカルビル、ヒドロカル ビルオキシ、シリル、ハロゲン置換アルキル、ハロゲン置換アリールおよびそれ らの組み合わせから選択される一員であり、ここで、上記R*の非水素原子数は 20以下であり、場合により、Zに由来する 2つのR*基(R*が水素でない時)か或はZに由来する1つのR*基とYに由 来する1つのR*基が環系を形成していてもよく、 R**は、Yの窒素または燐に第一または第二炭素で共有結合している脂肪族も しくは脂環式ヒドロカルビル基であり、 pは、0、1または2であり、 qは、ゼロまたは1であるが、但し pが2でqがゼロの時にはMが+4の形式的酸化状態にあってXが各場合とも独 立してメチルまたはベンジルであり、 pが1でqがゼロの時にはMが+3の形式的酸化状態にあってXが2−(N,N −ジメチル)アミノベンジルであるか或はMが+4の形式的酸化状態にあってX が1,4−ブタジエニルであり、そして pが0でqが1の時にはMが+2の形式的酸化状態にあってX’が1,4−ジフ ェニル−1,3−ブタジエンまたは1,3−ペンタジエンであることを条件とす る] に相当する錯体である。後者のジエンが、実際に個々の幾何学的異性体の混合物 である金属錯体の生成をもたらす不斉ジエン基の例である。 好適な置換インデセニル金属錯体は、下記の式:[式中、 R’は、ヒドロカルビル、ジ(ヒドロカルビルアミノ)またはヒドロカルビレン アミノ基であり、ここで、上記R’の炭素原子数は20以下で あり、 R”は、C1-20ヒドロカルビルまたは水素であり、 Mは、チタンであり、 Yは、−O−、−S−、−NR*−、−PR*−、−NR2 *または−PR2 *であり 、 Z*は、SiR* 2、CR* 2、SiR* 2SiR* 2、CR* 2CR* 2、CR*=CR*、 CR* 2SiR* 2またはGeR* 2であり、 R*は、各場合とも独立して、水素であるか、或はヒドロカルビル、ヒドロカル ビルオキシ、シリル、ハロゲン置換アルキル、ハロゲン置換アリールおよびそれ らの組み合わせから選択される一員であり、ここで、上記R*の非水素原子数は 20以下であり、場合により、Zに由来する2つのR*基(R*が水素でない時 )か或はZに由来する1つのR*基とYに由来する1つのR*基が環系を形成し ていてもよく、 X、X’およびX”は、この上で定義した通りであり、 pは、0、1または2であり、 qは、ゼロまたは1であり、そして rは、ゼロまたは1であるが、但し pが2でqおよびrがゼロの時にはMが+4の形式的酸化状態(またはYが−N R*2または−PR*2の場合にはMが+3の形式的酸化状態)にあってXがハラ イド、ヒドロカルビル、ヒドロカルビルオキシ、ジ(ヒドロカルビル)アミド、 ジ(ヒドロカルビル)ホスフィド、ヒドロカルビルスルフィドおよびシリル基に 加えてそれらのハロ置換誘導体、ジ(ヒドロカルビル)アミノ置換誘導体、ヒド ロカルビルオキシ置換誘導体およびジ(ヒドロカルビル)ホスフィノ置換誘導体 から成る群から選択さ れるアニオン性配位子であり、ここで、上記X基の非水素原子数は30以下であ り、 rが1でpおよびqがゼロの時にはMが+4の形式的酸化状態にあってX”がヒ ドロカルバジイル、オキシヒドロカルビルおよびヒドロカルビレンジオキシ基か ら成る群から選択されるジアニオン性配位子であり、ここで、上記X基の非水素 原子数は30以下であり、 pが1でqおよびrがゼロの時にはMが+3の形式的酸化状態にあってXがアリ ル、2−(N,N−ジメチルアミノ)フェニルおよび2−(N,N−ジメチルア ミノメチル)フェニルおよび2−(N,N−ジメチルアミノ)ベンジルから成る 群から選択される安定化用アニオン性配位子基であり、そして pおよびrがゼロでqが1の時にはMが+2の形式的酸化状態にあってX’が場 合により1つ以上のヒドロカルビル基で置換されていてもよい中性の共役もしく は非共役ジエンで上記X’が炭素原子を40個以下の数で有していてMと一緒に π錯体を形成していることを条件とする] に相当する。 最も好適な金属錯体は、 M、X、X’、X”、R’、R”、Z*、Y、p、qおよびrがこの上で定義し た通りであるが、但し pが2でqおよびrがゼロの時にはMが+4の形式的酸化状態にあってXが各場 合とも独立してメチル、ベンジルまたはハライドであり、 pおよびqがゼロでrが1の時にはMが+4の形式的酸化状態にあってX”がM と一緒にメタロシクロペンテンを形成する1,4−ブタジエニル基であり、 pが1でqおよびrがゼロの時にはMが+3の形式的酸化状態にあってXが2− (N,N−ジメチルアミノ)ベンジルであり、そして pおよびrが0でqが1の時にはMが+2の形式的酸化状態にあってX’が1, 4−ジフェニル−1,3−ブタジエンまたは1,3−ペンタジエンであることを 条件とする、 前記式(II)または(III)に従う錯体である。 前記式(II)および(III)に相当する特に好適な配位錯体はそれらの個 々の最終使用に応じてユニークに置換されている。特に、エチレンと1種以上の モノビニル芳香族モノマー類と任意にα−オレフィンまたはジオレフィンの共重 合を行う場合の触媒組成物で用いるに非常に有用な金属錯体には、R’がC6-20 アリール、特にフェニル、ビフェニルまたはナフチルでR”が水素またはメチル 、特に水素である前記錯体(II)または(III)が含まれる。 エチレンのホモ重合またはエチレンと1種以上のα−オレフィン類、特に1− ブテン、1−ヘキセンまたは1−オクテンの共重合を行う場合の触媒組成物で用 いるに高度に有用な金属錯体には、R’がC1-4アルキル、N,N−ジメチルア ミノまたは1−ピロリジニルでR”が水素またはC1-4アルキルである前記錯体 (II)または(III)が含まれる。更に、上記錯体において、好適には、Y はシクロヘキシルアミド基であり、Xはメチルであり、pは2であり、そしてq およびrは両方ともゼロである。上記錯体は、最も好適には、式: に相当する2,3−ジメチル置換s−インデセニル錯体である。 最後に、エチレンとα−オレフィンとジエンの共重合、特にエチレンとプロピ レンと非共役ジエン、例えばエチリデンノルボルネンもしくは1,4−ヘキサジ エンなどまたは共役ジエンであるピペリレンの共重合を行う場合の触媒組成物で 用いるに高度に有用な金属錯体には、R’が水素でR”がC1-4アルキル、特に メチルである前記錯体(II)または(III)が含まれる。 高度に好適な金属錯体は下記である:2−メチルインデニル錯体 : (n−ブチルアミド)ジメチル(η5−2−メチルインデニル)シランチタン( II)1,4−ジフェニル−1,3−ブタジエン、 (n−ブチルアミド)ジメチル(η5−2−メチルインデニル)シランチタン( II)1,3−ペンタジエン、 (n−ブチルアミド)ジメチル(η5−2−メチルインデニル)シランチタン( III)2−(N,N−ジメチルアミノ)ベンジル、 (n−ブチルアミド)ジメチル(η5−2−メチルインデニル)シランチタン( IV)ジメチル、 (n−ブチルアミド)ジメチル(η5−2−メチルインデニル)シランチ タン(IV)ジベンジル、 (シクロヘキシルアミド)ジメチル(η5−2−メチルインデニル)シランチタ ン(II)1,4−ジフェニル−1,3−ブタジエン、 (シクロヘキシルアミド)ジメチル(η5−2−メチルインデニル)シランチタ ン(II)1,3−ペンタジエン、 (シクロヘキシルアミド)ジメチル(η5−2−メチルインデニル)シランチタ ン(III)2−(N,N−ジメチルアミノ)ベンジル、 (シクロヘキシルアミド)ジメチル(η5−2−メチルインデニル)シランチタ ン(IV)ジメチル、 (シクロヘキシルアミド)ジメチル(η5−2−メチルインデニル)シランチタ ン(IV)ジベンジル、 (イソプロピルアミド)ジメチル(η5−2−メチルインデニル)シランチタン (II)1,4−ジフェニル−1,3−ブタジエン、 (イソプロピルアミド)ジメチル(η5−2−メチルインデニル)シランチタン (II)1,3−ペンタジエン、 (イソプロピルアミド)ジメチル(η5−2−メチルインデニル)シランチタン (III)2−(N,N−ジメチルアミノ)ベンジル、 (イソプロピルアミド)ジメチル(η5−2−メチルインデニル)シランチタン (IV)ジメチル、 (イソプロピルアミド)ジメチル(η5−2−メチルインデニル)シランチタン (IV)ジベンジル、 (シクロペンチルアミド)ジメチル(η5−2−メチルインデニル)シランチタ ン(II)1,4−ジフェニル−1,3−ブタジエン、 (シクロペンチルアミド)ジメチル(η5−2−メチルインデニル)シラ ンチタン(II)1,3−ペンタジエン、 (シクロペンチルアミド)ジメチル(η5−2−メチルインデニル)シランチタ ン(III)2−(N,N−ジメチルアミノ)ベンジル、 (シクロペンチルアミド)ジメチル(η5−2−メチルインデニル)シランチタ ン(IV)ジメチル、 (シクロペンチルアミド)ジメチル(η5−2−メチルインデニル)シランチタ ン(IV)ジベンジル、 (シクロドデシルアミド)ジメチル(η5−2−メチルインデニル)シランチタ ン(II)1,4−ジフェニル−1,3−ブタジエン、 (シクロドデシルアミド)ジメチル(η5−2−メチルインデニル)シランチタ ン(II)1,3−ペンタジエン、 (シクロドデシルアミド)ジメチル(η5−2−メチルインデニル)シランチタ ン(III)2−(N,N−ジメチルアミノ)ベンジル、 (シクロドデシルアミド)ジメチル(η5−2−メチルインデニル)シランチタ ン(IV)ジメチル、 (シクロドデシルアミド)ジメチル(η5−2−メチルインデニル)シランチタ ン(IV)ジベンジル、 (イソブチルアミド)ジメチル(η5−2−メチルインデニル)シランチタン( II)1,4−ジフェニル−1,3−ブタジエン、 (イソブチルアミド)ジメチル(η5−2−メチルインデニル)シランチタン( II)1,3−ペンタジエン、 (イソブチルアミド)ジメチル(η5−2−メチルインデニル)シランチタン( III)2−(N,N−ジメチルアミノ)ベンジル、 (イソブチルアミド)ジメチル(η5−2−メチルインデニル)シランチ タン(IV)ジメチル、 (イソブチルアミド)ジメチル(η5−2−メチルインデニル)シランチタン( IV)ジベンジル、 (n−ブチルアミド)ジイソプロポキシ(η5−2−メチルインデニル)シラン チタン(II)1,4−ジフェニル−1,3−ブタジエン、 (n−ブチルアミド)ジイソプロポキシ(η5−2−メチルインデニル)シラン チタン(II)1,3−ペンタジエン、 (n−ブチルアミド)ジイソプロポキシ(η5−2−メチルインデニル)シラン チタン(III)2−(N,N−ジメチルアミノ)ベンジル、 (n−ブチルアミド)ジイソプロポキシ(η5−2−メチルインデニル)シラン チタン(IV)ジメチル、 (n−ブチルアミド)ジイソプロポキシ(η5−2−メチルインデニル)シラン チタン(IV)ジベンジル、 (n−ブチルアミド)ジメトキシ(η5−2−メチルインデニル)シランチタン (II)1,4−ジフェニル−1,3−ブタジエン、 (n−ブチルアミド)ジメトキシ(η5−2−メチルインデニル)シランチタン (II)1,3−ペンタジエン、 (n−ブチルアミド)ジメトキシ(η5−2−メチルインデニル)シランチタン (III)2−(N,N−ジメチルアミノ)ベンジル、 (n−ブチルアミド)ジメトキシ(η5−2−メチルインデニル)シランチタン (IV)ジメチル、 (n−ブチルアミド)ジメトキシ(η5−2−メチルインデニル)シランチタン (IV)ジベンジル、 (シクロドデシルアミド)ジメトキシ(η5−2−メチルインデニル)シ ランチタン(II)1,4−ジフェニル−1,3−ブタジエン、 (シクロドデシルアミド)ジメトキシ(η5−2−メチルインデニル)シランチ タン(II)−1,3−ペンタジエン、 (シクロドデシルアミド)ジメトキシ(η5−2−メチルインデニル)シランチ タン(III)2−(N,N−ジメチルアミノ)ベンジル、 (シクロドデシルアミド)ジメトキシ(η5−2−メチルインデニル)シランチ タン(IV)ジメチル、 (シクロドデシルアミド)ジメトキシ(η5−2−メチルインデニル)シランチ タン(IV)ジベンジル、 (n−ブチルアミド)エトキシメチル(η5−2−メチルインデニル)シランチ タン(II)1,4−ジフェニル−1,3−ブタジエン、 (n−ブチルアミド)エトキシメチル(η5−2−メチルインデニル)シランチ タン(II)1,3−ペンタジエン、 (n−ブチルアミド)エトキシメチル(η5−2−メチルインデニル)シランチ タン(III)2−(N,N−ジメチルアミノ)ベンジル、 (n−ブチルアミド)エトキシメチル(η5−2−メチルインデニル)シランチ タン(IV)ジメチル、 (n−ブチルアミド)エトキシメチル(η5−2−メチルインデニル)シランチ タン(IV)ジベンジル、 (シクロドデシルアミド)エトキシメチル(η5−2−メチルインデニル)シラ ンチタン(II)1,4−ジフェニル−1,3−ブタジエン、 (シクロドデシルアミド)エトキシメチル(η5−2−メチルインデニル)シラ ンチタン(II)−1,3−ペンタジエン、 (シクロドデシルアミド)エトキシメチル(η5−2−メチルインデニル) シランチタン(III)2−(N,N−ジメチルアミノ)ベンジル、 (シクロドデシルアミド)エトキシメチル(η5−2−メチルインデニル)シラ ンチタン(IV)ジメチル、 (シクロドデシルアミド)エトキシメチル(η5−2−メチルインデニル)シラ ンチタン(IV)ジベンジル、2,3−ジメチルインデニル錯体 : (n−ブチルアミド)ジメチル(η5−2,3−ジメチルインデニル)シランチ タン(II)1,4−ジフェニル−1,3−ブタジエン、 (n−ブチルアミド)ジメチル(η5−2,3−ジメチルインデニル)シランチ タン(II)1,3−ペンタジエン、 (n−ブチルアミド)ジメチル(η5−2,3−ジメチルインデニル)シランチ タン(III)2−(N,N−ジメチルアミノ)ベンジル、 (n−ブチルアミド)ジメチル(η5−2,3−ジメチルインデニル)シランチ タン(IV)ジメチル、 (n−ブチルアミド)ジメチル(η5−2,3−ジメチルインデニル)シランチ タン(IV)ジベンジル、 (シクロヘキシルアミド)ジメチル(η5−2,3−ジメチルインデニル)シラ ンチタン(II)1,4−ジフェニル−1,3−ブタジエン、 (シクロヘキシルアミド)ジメチル(η5−2,3−ジメチルインデニル)シラ ンチタン(II)1,3−ペンタジエン、 (シクロヘキシルアミド)ジメチル(η5−2,3−ジメチルインデニル)シラ ンチタン(III)2−(N,N−ジメチルアミノ)ベンジル、 (シクロヘキシルアミド)ジメチル(η5−2,3−ジメチルインデニル)シラ ンチタン(IV)ジメチル、 (シクロヘキシルアミド)ジメチル(η5−2,3−ジメチルインデニル)シラ ンチタン(IV)ジベンジル、 (イソプロピルアミド)ジメチル(η5−2,3−ジメチルインデニル)シラン チタン(II)1,4−ジフェニル−1,3−ブタジエン、 (イソプロピルアミド)ジメチル(η5−2,3−ジメチルインデニル)シラン チタン(II)1,3−ペンタジエン、 (イソプロピルアミド)ジメチル(η5−2,3−ジメチルインデニル)シラン チタン(III)2−(N,N−ジメチルアミノ)ベンジル、 (イソプロピルアミド)ジメチル(η5−2,3−ジメチルインデニル)シラン チタン(IV)ジメチル、 (イソプロピルアミド)ジメチル(η5−2,3−ジメチルインデニル)シラン チタン(IV)ジベンジル、 (シクロペンチルアミド)ジメチル(η5−2,3−ジメチルインデニル)シラ ンチタン(II)1,4−ジフェニル−1,3−ブタジエン、 (シクロペンチルアミド)ジメチル(η5−2,3−ジメチルインデニル)シラ ンチタン(II)1,3−ペンタジエン、 (シクロペンチルアミド)ジメチル(η5−2,3−ジメチルインデニル)シラ ンチタン(III)2−(N,N−ジメチルアミノ)ベンジル、 (シクロペンチルアミド)ジメチル(η5−2,3−ジメチルインデニル)シラ ンチタン(IV)ジメチル、 (シクロペンチルアミド)ジメチル(η5−2,3−ジメチルインデニル)シラ ンチタン(IV)ジベンジル、 (シクロドデシルアミド)ジメチル(η5−2,3−ジメチルインデニル)シラ ンチタン(II)1,4−ジフェニル−1,3−ブタジエン、 (シクロドデシルアミド)ジメチル(η5−2,3−ジメチルインデニル)シラ ンチタン(II)1,3−ペンタジエン、 (シクロドデシルアミド)ジメチル(η5−2,3−ジメチルインデニル)シラ ンチタン(III)2−(N,N−ジメチルアミノ)ベンジル、 (シクロドデシルアミド)ジメチル(η5−2,3−ジメチルインデニル)シラ ンチタン(IV)ジメチル、 (シクロドデシルアミド)ジメチル(η5−2,3−ジメチルインデニル)シラ ンチタン(IV)ジベンジル、 (イソブチルアミド)ジメチル(η5−2,3−ジメチルインデニル)シランチ タン(II)1,4−ジフェニル−1,3−ブタジエン、 (イソブチルアミド)ジメチル(η5−2,3−ジメチルインデニル)シランチ タン(II)1,3−ペンタジエン、 (イソブチルアミド)ジメチル(η5−2,3−ジメチルインデニル)シランチ タン(III)2−(N,N−ジメチルアミノ)ベンジル、 (イソブチルアミド)ジメチル(η5−2,3−ジメチルインデニル)シランチ タン(IV)ジメチル、 (イソブチルアミド)ジメチル(η5−2,3−ジメチルインデニル)シランチ タン(IV)ジベンジル、 (n−ブチルアミド)ジイソプロポキシ(η5−2,3−ジメチルインデニル) シランチタン(II)1,4−ジフェニル−1,3−ブタジエン、 (n−ブチルアミド)ジイソプロポキシ(η5−2,3−ジメチルインデニル) シランチタン(II)1,3−ペンタジエン、 (n−ブチルアミド)ジイソプロポキシ(η5−2,3−ジメチルインデニル) シランチタン(III)2−(N,N−ジメチルアミノ)ベンジ ル、 (n−ブチルアミド)ジイソプロポキシ(η5−2,3−ジメチルインデニル) シランチタン(IV)ジメチル、 (n−ブチルアミド)ジイソプロポキシ(η5−2,3−ジメチルインデニル) シランチタン(IV)ジベンジル、 (シクロドデシルアミド)ジイソプロポキシ(η5−2,3−ジメチルインデニ ル)シランチタン(II)1,4−ジフェニル−1,3−ブタジエン、 (シクロドデシルアミド)ジイソプロポキシ(η5−2,3−ジメチルインデニ ル)シランチタン(II)−1,3−ペンタジエン、 (シクロドデシルアミド)ジイソプロポキシ(η5−2,3−ジメチルインデニ ル)シランチタン(III)2−(N,N−ジメチルアミノ)ベンジル、 (シクロドデシルアミド)ジイソプロポキシ(η5−2,3−ジメチルインデニ ル)シランチタン(IV)ジメチル、 (シクロドデシルアミド)ジイソプロポキシ(η5−2,3−ジメチルインデニ ル)シランチタン(IV)ジベンジル、 (n−ブチルアミド)ジメトキシ(η5−2,3−ジメチルインデニル)シラン チタン(II)1,4−ジフェニル−1,3−ブタジエン、 (n−ブチルアミド)ジメトキシ(η5−2,3−ジメチルインデニル)シラン チタン(II)1,3−ペンタジエン、 (n−ブチルアミド)ジメトキシ(η5−2,3−ジメチルインデニル)シラン チタン(III)2−(N,N−ジメチルアミノ)ベンジル、 (n−ブチルアミド)ジメトキシ(η5−2,3−ジメチルインデニル) シランチタン(IV)ジメチル、 (n−ブチルアミド)ジメトキシ(η5−2,3−ジメチルインデニル)シラン チタン(IV)ジベンジル、 (シクロドデシルアミド)ジメトキシ(η5−2,3−ジメチルインデニル)シ ランチタン(II)1,4−ジフェニル−1,3−ブタジエン、 (シクロドデシルアミド)ジメトキシ(η5−2,3−ジメチルインデニル)シ ランチタン(II)−1,3−ペンタジエン、 (シクロドデシルアミド)ジメトキシ(η5−2,3−ジメチルインデニル)シ ランチタン(III)2−(N,N−ジメチルアミノ)ベンジル、 (シクロドデシルアミド)ジメトキシ(η5−2,3−ジメチルインデニル)シ ランチタン(IV)ジメチル、 (シクロドデシルアミド)ジメトキシ(η5−2,3−ジメチルインデニル)シ ランチタン(IV)ジベンジル、 (n−ブチルアミド)エトキシメチル(η5−2,3−ジメチルインデニル)シ ランチタン(II)1,4−ジフェニル−1,3−ブタジエン、 (n−ブチルアミド)エトキシメチル(η5−2,3−ジメチルインデニル)シ ランチタン(II)1,3−ペンタジエン、 (n−ブチルアミド)エトキシメチル(η5−2,3−ジメチルインデニル)シ ランチタン(III)2−(N,N−ジメチルアミノ)ベンジル、 (n−ブチルアミド)エトキシメチル(η5−2,3−ジメチルインデニル)シ ランチタン(IV)ジメチル、 (n−ブチルアミド)エトキシメチル(η5−2,3−ジメチルインデニル)シ ランチタン(IV)ジベンジル、 (シクロドデシルアミド)エトキシメチル(η5−2,3−ジメチルイン デニル)シランチタン(II)1,4−ジフェニル−1,3−ブタジエン、 (シクロドデシルアミド)エトキシメチル(η5−2,3−ジメチルインデニル )シランチタン(II)−1,3−ペンタジエン、 (シクロドデシルアミド)エトキシメチル(η5−2,3−ジメチルインデニル )シランチタン(III)2−(N,N−ジメチルアミノ)ベン ジル、 (シクロドデシルアミド)エトキシメチル(η5−2,3−ジメチルインデニル )シランチタン(IV)ジメチル、 (シクロドデシルアミド)エトキシメチル(η5−2,3−ジメチルインデニル )シランチタン(IV)ジベンジル、3−メチルインデニル錯体 : (n−ブチルアミド)ジメチル(η5−3−メチルインデニル)シランチタン( II)1,4−ジフェニル−1,3−ブタジエン、 (n−ブチルアミド)ジメチル(η5−3−メチルインデニル)シランチタン( II)1,3−ペンタジエン、 (n−ブチルアミド)ジメチル(η5−3−メチルインデニル)シランチタン( III)2−(N,N−ジメチルアミノ)ベンジル、 (n−ブチルアミド)ジメチル(η5−3−メチルインデニル)シランチタン( IV)ジメチル、 (n−ブチルアミド)ジメチル(η5−3−メチルインデニル)シランチタン( IV)ジベンジル、 (シクロヘキシルアミド)ジメチル(η5−3−メチルインデニル)シランチタ ン(II)1,4−ジフェニル−1,3−ブタジエン、 (シクロヘキシルアミド)ジメチル(η5−3−メチルインデニル)シランチタ ン(II)1,3−ペンタジエン、 (シクロヘキシルアミド)ジメチル(η5−3−メチルインデニル)シランチタ ン(III)2−(N,N−ジメチルアミノ)ベンジル、 (シクロヘキシルアミド)ジメチル(η5−3−メチルインデニル)シランチタ ン(IV)ジメチル、 (シクロヘキシルアミド)ジメチル(η5−3−メチルインデニル)シランチタ ン(IV)ジベンジル、 (イソプロピルアミド)ジメチル(η5−3−メチルインデニル)シランチタン (II)1,4−ジフェニル−1,3−ブタジエン、 (イソプロピルアミド)ジメチル(η5−3−メチルインデニル)シランチタン (II)1,3−ペンタジエン、 (イソプロピルアミド)ジメチル(η5−3−メチルインデニル)シランチタン (III)2−(N,N−ジメチルアミノ)ベンジル、 (イソプロピルアミド)ジメチル(η5−3−メチルインデニル)シランチタン (IV)ジメチル、 (イソプロピルアミド)ジメチル(η5−3−メチルインデニル)シランチタン (IV)ジベンジル、 (シクロペンチルアミド)ジメチル(η5−3−メチルインデニル)シランチタ ン(II)1,4−ジフェニル−1,3−ブタジエン、 (シクロペンチルアミド)ジメチル(η5−3−メチルインデニル)シランチタ ン(II)1,3−ペンタジエン、 (シクロペンチルアミド)ジメチル(η5−3−メチルインデニル)シランチタ ン(III)2−(N,N−ジメチルアミノ)ベンジル、 (シクロペンチルアミド)ジメチル(η5−3−メチルインデニル)シランチタ ン(IV)ジメチル、 (シクロペンチルアミド)ジメチル(η5−3−メチルインデニル)シランチタ ン(IV)ジベンジル、 (シクロドデシルアミド)ジメチル(η5−3−メチルインデニル)シランチタ ン(II)1,4−ジフェニル−1,3−ブタジエン、 (シクロドデシルアミド)ジメチル(η5−3−メチルインデニル)シランチタ ン(II)1,3−ペンタジエン、 (シクロドデシルアミド)ジメチル(η5−3−メチルインデニル)シランチタ ン(III)2−(N,N−ジメチルアミノ)ベンジル、 (シクロドデシルアミド)ジメチル(η5−3−メチルインデニル)シランチタ ン(IV)ジメチル、 (シクロドデシルアミド)ジメチル(η5−3−メチルインデニル)シランチタ ン(IV)ジベンジル、 (イソブチルアミド)ジメチル(η5−3−メチルインデニル)シランチタン( II)1,4−ジフェニル−1,3−ブタジエン、 (イソブチルアミド)ジメチル(η5−3−メチルインデニル)シランチタン( II)1,3−ペンタジエン、 (イソブチルアミド)ジメチル(η5−3−メチルインデニル)シランチタン( III)2−(N,N−ジメチルアミノ)ベンジル、 (イソブチルアミド)ジメチル(η5−3−メチルインデニル)シランチタン( IV)ジメチル、 (イソブチルアミド)ジメチル(η5−3−メチルインデニル)シランチタン( IV)ジベンジル、 (n−ブチルアミド)ジイソプロポキシ(η5−3−メチルインデニル)シラン チタン(II)1,4−ジフェニル−1,3−ブタジエン、 (n−ブチルアミド)ジイソプロポキシ(η5−3−メチルインデニル)シラン チタン(II)1,3−ペンタジエン、 (n−ブチルアミド)ジイソプロポキシ(η5−3−メチルインデニル)シラン チタン(III)2−(N,N−ジメチルアミノ)ベンジル、 (n−ブチルアミド)ジイソプロポキシ(η5−3−メチルインデニル)シラン チタン(IV)ジメチル、 (n−ブチルアミド)ジイソプロポキシ(η5−3−メチルインデニル)シラン チタン(IV)ジベンジル、 (シクロドデシルアミド)ジイソプロポキシ(η5−3−メチルインデニル)シ ランチタン(II)1,4−ジフェニル−1,3−ブタジエン、 (シクロドデシルアミド)ジイソプロポキシ(η5−3−メチルインデニル)シ ランチタン(II)−1,3−ペンタジエン、 (シクロドデシルアミド)ジイソプロポキシ(η5−3−メチルインデニル)シ ランチタン(III)2−(N,N−ジメチルアミノ)ベンジル、 (シクロドデシルアミド)ジイソプロポキシ(η5−3−メチルインデニル)シ ランチタン(IV)ジメチル、 (シクロドデシルアミド)ジイソプロポキシ(η5−3−メチルインデニル)シ ランチタン(IV)ジベンジル、 (n−ブチルアミド)ジメトキシ(η5−3−メチルインデニル)シランチタン (II)1,4−ジフェニル−1,3−ブタジエン、 (n−ブチルアミド)ジメトキシ(η5−3−メチルインデニル)シランチタン (II)1,3−ペンタジエン、 (n−ブチルアミド)ジメトキシ(η5−3−メチルインデニル)シランチタン (III)2−(N,N−ジメチルアミノ)ベンジル、 (n−ブチルアミド)ジメトキシ(η5−3−メチルインデニル)シランチタン (IV)ジメチル、 (n−ブチルアミド)ジメトキシ(η5−3−メチルインデニル)シランチタン (IV)ジベンジル、 (シクロドデシルアミド)ジメトキシ(η5−3−メチルインデニル)シランチ タン(II)1,4−ジフェニル−1,3−ブタジエン、 (シクロドデシルアミド)ジメトキシ(η5−3−メチルインデニル)シランチ タン(II)−1,3−ペンタジエン、 (シクロドデシルアミド)ジメトキシ(η5−3−メチルインデニル)シランチ タン(III)2−(N,N−ジメチルアミノ)ベンジル、 (シクロドデシルアミド)ジメトキシ(η5−3−メチルインデニル)シランチ タン(IV)ジメチル、 (シクロドデシルアミド)ジメトキシ(η5−3−メチルインデニル)シランチ タン(IV)ジベンジル、 (n−ブチルアミド)エトキシメチル(η5−3−メチルインデニル)シランチ タン(II)1,4−ジフェニル−1,3−ブタジエン、 (n−ブチルアミド)エトキシメチル(η5−3−メチルインデニル)シランチ タン(II)1,3−ペンタジエン、 (n−ブチルアミド)エトキシメチル(η5−3−メチルインデニル)シランチ タン(III)2−(N,N−ジメチルアミノ)ベンジル、 (n−ブチルアミド)エトキシメチル(η5−3−メチルインデニル)シランチ タン(IV)ジメチル、 (n−ブチルアミド)エトキシメチル(η5−3−メチルインデニル)シランチ タン(IV)ジベンジル、 (シクロドデシルアミド)エトキシメチル(η5−3−メチルインデニル)シラ ンチタン(II)1,4−ジフェニル−1,3−ブタジエン、 (シクロドデシルアミド)エトキシメチル(η5−3−メチルインデニル)シラ ンチタン(II)−1,3−ペンタジエン、 (シクロドデシルアミド)エトキシメチル(η5−3−メチルインデニル)シラ ンチタン(III)2−(N,N−ジメチルアミノ)ベンジル、 (シクロドデシルアミド)エトキシメチル(η5−3−メチルインデニル)シラ ンチタン(IV)ジメチル、 (シクロドデシルアミド)エトキシメチル(η5−3−メチルインデニル)シラ ンチタン(IV)ジベンジル、2−メチル−3−エチルインデニル錯体 : (n−ブチルアミド)ジメチル(η5−2−メチル−3−エチルインデニル)シ ランチタン(II)1,4−ジフェニル−1,3−ブタジエン、 (n−ブチルアミド)ジメチル(η5−2−メチル−3−エチルインデニル)シ ランチタン(II)1,3−ペンタジエン、 (n−ブチルアミド)ジメチル(η5−2−メチル−3−エチルインデニル)シ ランチタン(III)2−(N,N−ジメチルアミノ)ベンジル、 (n−ブチルアミド)ジメチル(η5−2−メチル−3−エチルインデニル)シ ランチタン(IV)ジメチル、 (n−ブチルアミド)ジメチル(η5−2−メチル−3−エチルインデニル)シ ランチタン(IV)ジベンジル、 (シクロヘキシルアミド)ジメチル(η5−2−メチル−3−エチルイン デニル)シランチタン(II)1,4−ジフェニル−1,3−ブタジエン、 (シクロヘキシルアミド)ジメチル(η5−2−メチル−3−エチルインデニル )シランチタン(II)1,3−ペンタジエン、 (シクロヘキシルアミド)ジメチル(η5−2−メチル−3−エチルインデニル )シランチタン(III)2−(N,N−ジメチルアミノ)ベンジル、 (シクロヘキシルアミド)ジメチル(η5−2−メチル−3−エチルインデニル )シランチタン(IV)ジメチル、 (シクロヘキシルアミド)ジメチル(η5−2−メチル−3−エチルインデニル )シランチタン(IV)ジベンジル、 (イソプロピルアミド)ジメチル(η5−2−メチル−3−エチルインデニル) シランチタン(II)1,4−ジフェニル−1,3−ブタジエン、 (イソプロピルアミド)ジメチル(η5−2−メチル−3−エチルインデニル) シランチタン(II)1,3−ペンタジエン、 (イソプロピルアミド)ジメチル(η5−2−メチル−3−エチルインデニル) シランチタン(III)2−(N,N−ジメチルアミノ)ベンジル、 (イソプロピルアミド)ジメチル(η5−2−メチル−3−エチルインデニル) シランチタン(IV)ジメチル、 (イソプロピルアミド)ジメチル(η5−2−メチル−3−エチルインデニル) シランチタン(IV)ジベンジル、 (シクロペンチルアミド)ジメチル(η5−2−メチル−3−エチルインデニル )シランチタン(II)1,4−ジフェニル−1,3−ブタジエ ン、 (シクロペンチルアミド)ジメチル(η5−2−メチル−3−エチルインデニル )シランチタン(II)1,3−ペンタジエン、 (シクロペンチルアミド)ジメチル(η5−2−メチル−3−エチルインデニル )シランチタン(III)2−(N,N−ジメチルアミノ)ベンジル、 (シクロペンチルアミド)ジメチル(η5−2−メチル−3−エチルインデニル )シランチタン(IV)ジメチル、 (シクロペンチルアミド)ジメチル(η5−2−メチル−3−エチルインデニル )シランチタン(IV)ジベンジル、 (シクロドデシルアミド)ジメチル(η5−2−メチル−3−エチルインデニル )シランチタン(II)1,4−ジフェニル−1,3−ブタジエン、 (シクロドデシルアミド)ジメチル(η5−2−メチル−3−エチルインデニル )シランチタン(II)1,3−ペンタジエン、 (シクロドデシルアミド)ジメチル(η5−2−メチル−3−エチルインデニル )シランチタン(III)2−(N,N−ジメチルアミノ)ベンジル、 (シクロドデシルアミド)ジメチル(η5−2−メチル−3−エチルインデニル )シランチタン(IV)ジメチル、 (シクロドデシルアミド)ジメチル(η5−2−メチル−3−エチルインデニル )シランチタン(IV)ジベンジル、 (イソブチルアミド)ジメチル(η5−2−メチル−3−エチルインデニル)シ ランチタン(II)1,4−ジフェニル−1,3−ブタジエン、 (イソブチルアミド)ジメチル(η5−2−メチル−3−エチルインデニル)シ ランチタン(II)1,3−ペンタジエン、 (イソブチルアミド)ジメチル(η5−2−メチル−3−エチルインデニル)シ ランチタン(III)2−(N,N−ジメチルアミノ)ベンジル、 (イソブチルアミド)ジメチル(η5−2−メチル−3−エチルインデニル)シ ランチタン(IV)ジメチル、 (イソブチルアミド)ジメチル(η5−2−メチル−3−エチルインデニル)シ ランチタン(IV)ジベンジル、 (n−ブチルアミド)ジイソプロポキシ(η5−2−メチル−3−エチルインデ ニル)シランチタン(II)1,4−ジフェニル−1,3−ブタジエン、 (n−ブチルアミド)ジイソプロポキシ(η5−2−メチル−3−エチルインデ ニル)シランチタン(II)1,3−ペンタジエン、 (n−ブチルアミド)ジイソプロポキシ(η5−2−メチル−3−エチルインデ ニル)シランチタン(III)2−(N,N−ジメチルアミノ)ベンジル、 (n−ブチルアミド)ジイソプロポキシ(η5−2−メチル−3−エチルインデ ニル)シランチタン(IV)ジメチル、 (n−ブチルアミド)ジイソプロポキシ(η5−2−メチル−3−エチルインデ ニル)シランチタン(IV)ジベンジル、 (シクロドデシルアミド)ジイソプロポキシ(η5−2−メチル−3−エチルイ ンデニル)シランチタン(II)1,4−ジフェニル−1,3−ブタジエン、 (シクロドデシルアミド)ジイソプロポキシ(η5−2−メチル−3−エ チルインデニル)シランチタン(II)−1,3−ペンタジエン、 (シクロドデシルアミド)ジイソプロポキシ(η5−2−メチル−3−エチルイ ンデニル)シランチタン(III)2−(N,N−ジメチルアミノ)ベンジル、 (シクロドデシルアミド)ジイソプロポキシ(η5−2−メチル−3−エチルイ ンデニル)シランチタン(IV)ジメチル、 (シクロドデシルアミド)ジイソプロポキシ(η5−2−メチル−3−エチルイ ンデニル)シランチタン(IV)ジベンジル、 (n−ブチルアミド)ジメトキシ(η5−2−メチル−3−エチルインデニル) シランチタン(II)1,4−ジフェニル−1,3−ブタジエン、 (n−ブチルアミド)ジメトキシ(η5−2−メチル−3−エチルインデニル) シランチタン(II)1,3−ペンタジエン、 (n−ブチルアミド)ジメトキシ(η5−2−メチル−3−エチルインデニル) シランチタン(III)2−(N,N−ジメチルアミノ)ベンジル、 (n−ブチルアミド)ジメトキシ(η5−2−メチル−3−エチルインデニル) シランチタン(IV)ジメチル、 (n−ブチルアミド)ジメトキシ(η5−2−メチル−3−エチルインデニル) シランチタン(IV)ジベンジル、 (シクロドデシルアミド)ジメトキシ(η5−2−メチル−3−エチルインデニ ル)シランチタン(II)1,4−ジフェニル−1,3−ブタジエン、 (シクロドデシルアミド)ジメトキシ(η5−2−メチル−3−エチルインデニ ル)シランチタン(II)−1,3−ペンタジエン、 (シクロドデシルアミド)ジメトキシ(η5−2−メチル−3−エチルインデニ ル)シランチタン(III)2−(N,N−ジメチルアミノ)ベンジル、 (シクロドデシルアミド)ジメトキシ(η5−2−メチル−3−エチルインデニ ル)シランチタン(IV)ジメチル、 (シクロドデシルアミド)ジメトキシ(η5−2−メチル−3−エチルインデニ ル)シランチタン(IV)ジベンジル、 (n−ブチルアミド)エトキシメチル(η5−2−メチル−3−エチルインデニ ル)シランチタン(II)1,4−ジフェニル−1,3−ブタジエン、 (n−ブチルアミド)エトキシメチル(η5−2−メチル−3−エチルインデニ ル)シランチタン(II)1,3−ペンタジエン、 (n−ブチルアミド)エトキシメチル(η5−2−メチル−3−エチルインデニ ル)シランチタン(III)2−(N,N−ジメチルアミノ)ベンジル、 (n−ブチルアミド)エトキシメチル(η5−2−メチル−3−エチルインデニ ル)シランチタン(IV)ジメチル、 (n−ブチルアミド)エトキシメチル(η5−2−メチル−3−エチルインデニ ル)シランチタン(IV)ジベンジル、 (シクロドデシルアミド)エトキシメチル(η5−2−メチル−3−エチルイン デニル)シランチタン(II)1,4−ジフェニル−1,3−ブタジエン、 (シクロドデシルアミド)エトキシメチル(η5−2−メチル−3−エチルイン デニル)シランチタン(II)−1,3−ペンタジエン、 (シクロドデシルアミド)エトキシメチル(η5−2−メチル−3−エチルイン デニル)シランチタン(III)2−(N,N−ジメチルアミノ)ベンジル、 (シクロドデシルアミド)エトキシメチル(η5−2−メチル−3−エチルイン デニル)シランチタン(IV)ジメチル、 (シクロドデシルアミド)エトキシメチル(η5−2−メチル−3−エチルイン デニル)シランチタン(IV)ジベンジル、2,3,4,6−テトラメチルインデニル錯体 : (n−ブチルアミド)ジメチル(η5−2,3,4,6−テトラメチルインデニ ル)シランチタン(II)1,4−ジフェニル−1,3−ブタジエン、 (n−ブチルアミド)ジメチル(η5−2,3,4,6−テトラメチルインデニ ル)シランチタン(II)1,3−ペンタジエン、 (n−ブチルアミド)ジメチル(η5−2,3,4,6−テトラメチルインデニ ル)シランチタン(III)2−(N,N−ジメチルアミノ)ベンジル、 (n−ブチルアミド)ジメチル(η5−2,3,4,6−テトラメチルインデニ ル)シランチタン(IV)ジメチル、 (n−ブチルアミド)ジメチル(η5−2,3,4,6−テトラメチルインデニ ル)シランチタン(IV)ジベンジル、 (シクロヘキシルアミド)ジメチル(η5−2,3,4,6−テトラメチルイン デニル)シランチタン(II)1,4−ジフェニル−1,3−ブタジエン、 (シクロヘキシルアミド)ジメチル(η5−2,3,4,6−テトラメチ ルインデニル)シランチタン(II)1,3−ペンタジエン、 (シクロヘキシルアミド)ジメチル(η5−2,3,4,6−テトラメチルイン デニル)シランチタン(III)2−(N,N−ジメチルアミノ)ベンジル、 (シクロヘキシルアミド)ジメチル(η5−2,3,4,6−テトラメチルイン デニル)シランチタン(IV)ジメチル、 (シクロヘキシルアミド)ジメチル(η5−2,3,4,6−テトラメチルイン デニル)シランチタン(IV)ジベンジル、 (イソプロピルアミド)ジメチル(η5−2,3,4,6−テトラメチルインデ ニル)シランチタン(II)1,4−ジフェニル−1,3−ブタジエン、 (イソプロピルアミド)ジメチル(η5−2,3,4,6−テトラメチルインデ ニル)シランチタン(II)1,3−ペンタジエン、 (イソプロピルアミド)ジメチル(η5−2,3,4,6−テトラメチルインデ ニル)シランチタン(III)2−(N,N−ジメチルアミノ)ベンジル、 (イソプロピルアミド)ジメチル(η5−2,3,4,6−テトラメチルインデ ニル)シランチタン(IV)ジメチル、 (イソプロピルアミド)ジメチル(η5−2,3,4,6−テトラメチルインデ ニル)シランチタン(IV)ジベンジル、 (シクロペンチルアミド)ジメチル(η5−2,3,4,6−テトラメチルイン デニル)シランチタン(II)1,4−ジフェニル−1,3−ブタジエン、 (シクロペンチルアミド)ジメチル(η5−2,3,4,6−テトラメチ ルインデニル)シランチタン(II)1,3−ペンタジエン、 (シクロペンチルアミド)ジメチル(η5−2,3,4,6−テトラメチルイン デニル)シランチタン(III)2−(N,N−ジメチルアミノ)ベンジル、 (シクロペンチルアミド)ジメチル(η5−2,3,4,6−テトラメチルイン デニル)シランチタン(IV)ジメチル、 (シクロペンチルアミド)ジメチル(η5−2,3,4,6−テトラメチルイン デニル)シランチタン(IV)ジベンジル、 (シクロドデシルアミド)ジメチル(η5−2,3,4,6−テトラメチルイン デニル)シランチタン(II)1,4−ジフェニル−1,3−ブタジエン、 (シクロドデシルアミド)ジメチル(η5−2,3,4,6−テトラメチルイン デニル)シランチタン(II)1,3−ペンタジエン、 (シクロドデシルアミド)ジメチル(η5−2,3,4,6−テトラメチルイン デニル)シランチタン(III)2−(N,N−ジメチルアミノ)ベンジル、 (シクロドデシルアミド)ジメチル(η5−2,3,4,6−テトラメチルイン デニル)シランチタン(IV)ジメチル、 (シクロドデシルアミド)ジメチル(η5−2,3,4,6−テトラメチルイン デニル)シランチタン(IV)ジベンジル、 (イソブチルアミド)ジメチル(η5−2,3,4,6−テトラメチルインデニ ル)シランチタン(II)1,4−ジフェニル−1,3−ブタジエン、 (イソブチルアミド)ジメチル(η5−2,3,4,6−テトラメチルイ ンデニル)シランチタン(II)1,3−ペンタジエン、 (イソブチルアミド)ジメチル(η5−2,3,4,6−テトラメチルインデニ ル)シランチタン(III)2−(N,N−ジメチルアミノ)ベンジル、 (イソブチルアミド)ジメチル(η5−2,3,4,6−テトラメチルインデニ ル)シランチタン(IV)ジメチル、 (イソブチルアミド)ジメチル(η5−2,3,4,6−テトラメチルインデニ ル)シランチタン(IV)ジベンジル、 (n−ブチルアミド)ジイソプロポキシ(η5−2,3,4,6−テトラメチル インデニル)シランチタン(II)1,4−ジフェニル−1,3−ブタジエン、 (n−ブチルアミド)ジイソプロポキシ(η5−2,3,4,6−テトラメチル インデニル)シランチタン(II)1,3−ペンタジエン、 (n−ブチルアミド)ジイソプロポキシ(η5−2,3,4,6−テトラメチル インデニル)シランチタン(III)2−(N,N−ジメチルアミノ)ベンジル 、 (n−ブチルアミド)ジイソプロポキシ(η5−2,3,4,6−テトラメチル インデニル)シランチタン(IV)ジメチル、 (n−ブチルアミド)ジイソプロポキシ(η5−2,3,4,6−テトラメチル インデニル)シランチタン(IV)ジベンジル、 (シクロドデシルアミド)ジイソプロポキシ(η5−2,3,4,6−テトラメ チルインデニル)シランチタン(II)1,4−ジフェニル−1,3−ブタジエ ン、 (シクロドデシルアミド)ジイソプロポキシ(η5−2,3,4,6−テ トラメチルインデニル)シランチタン(II)−1,3−ペンタジエン、 (シクロドデシルアミド)ジイソプロポキシ(η5−2,3,4,6−テトラメ チルインデニル)シランチタン(III)2−(N,N−ジメチルアミノ)ベン ジル、 (シクロドデシルアミド)ジイソプロポキシ(η5−2,3,4,6−テトラメ チルインデニル)シランチタン(IV)ジメチル、 (シクロドデシルアミド)ジイソプロポキシ(η5−2,3,4,6−テトラメ チルインデニル)シランチタン(IV)ジベンジル、 (n−ブチルアミド)ジメトキシ(η5−2,3,4,6−テトラメチルインデ ニル)シランチタン(II)1,4−ジフェニル−1,3−ブタジエン、 (n−ブチルアミド)ジメトキシ(η5−2,3,4,6−テトラメチルインデ ニル)シランチタン(II)1,3−ペンタジエン、 (n−ブチルアミド)ジメトキシ(η5−2,3,4,6−テトラメチルインデ ニル)シランチタン(III)2−(N,N−ジメチルアミノ)ベンジル、 (n−ブチルアミド)ジメトキシ(η5−2,3,4,6−テトラメチルインデ ニル)シランチタン(IV)ジメチル、 (n−ブチルアミド)ジメトキシ(η5−2,3,4,6−テトラメチルインデ ニル)シランチタン(IV)ジベンジル、 (シクロドデシルアミド)ジメトキシ(η5−2,3,4,6−テトラメチルイ ンデニル)シランチタン(II)1,4−ジフェニル−1,3−ブタジエン、 (シクロドデシルアミド)ジメトキシ(η5−2,3,4,6−テトラメ チルインデニル)シランチタン(II)−1,3−ペンタジエン、 (シクロドデシルアミド)ジメトキシ(η5−2,3,4,6−テトラメチルイ ンデニル)シランチタン(III)2−(N,N−ジメチルアミノ)ベンジル、 (シクロドデシルアミド)ジメトキシ(η5−2,3,4,6−テトラメチルイ ンデニル)シランチタン(IV)ジメチル、 (シクロドデシルアミド)ジメトキシ(η5−2,3,4,6−テトラメチルイ ンデニル)シランチタン(IV)ジベンジル、 (n−ブチルアミド)エトキシメチル(η5−2,3,4,6−テトラメチルイ ンデニル)シランチタン(II)1,4−ジフェニル−1,3−ブタジエン、 (n−ブチルアミド)エトキシメチル(η5−2,3,4,6−テトラメチルイ ンデニル)シランチタン(II)1,3−ペンタジエン、 (n−ブチルアミド)エトキシメチル(η5−2,3,4,6−テトラメチルイ ンデニル)シランチタン(III)2−(N,N−ジメチルアミノ)ベンジル、 (n−ブチルアミド)エトキシメチル(η5−2,3,4,6−テトラメチルイ ンデニル)シランチタン(IV)ジメチル、 (n−ブチルアミド)エトキシメチル(η5−2,3,4,6−テトラメチルイ ンデニル)シランチタン(IV)ジベンジル、 (シクロドデシルアミド)エトキシメチル(η5−2,3,4,6−テトラメチ ルインデニル)シランチタン(II)1,4−ジフェニル−1,3−ブタジエン 、 (シクロドデシルアミド)エトキシメチル(η5−2,3,4,6−テト ラメチルインデニル)シランチタン(II)−1,3−ペンタジエン、 (シクロドデシルアミド)エトキシメチル(η5−2,3,4,6−テトラメチ ルインデニル)シランチタン(III)2−(N,N−ジメチルアミノ)ベンジ ル、 (シクロドデシルアミド)エトキシメチル(η5−2,3,4,6−テトラメチ ルインデニル)シランチタン(IV)ジメチル、 (シクロドデシルアミド)エトキシメチル(η5−2,3,4,6−テトラメチ ルインデニル)シランチタン(IV)ジベンジル、2,3,4,6,7−ペンタメチルインデニル錯体 : (n−ブチルアミド)ジメチル(η5−2,3,4,6,7−ペンタメチルイン デニル)シランチタン(II)1,4−ジフェニル−1,3−ブタジエン、 (n−ブチルアミド)ジメチル(η5−2,3,4,6,7−ペンタメチルイン デニル)シランチタン(II)1,3−ペンタジエン、 (n−ブチルアミド)ジメチル(η5−2,3,4,6,7−ペンタメチルイン デニル)シランチタン(III)2−(N,N−ジメチルアミノ)ベンジル、 (n−ブチルアミド)ジメチル(η5−2,3,4,6,7−ペンタメチルイン デニル)シランチタン(IV)ジメチル、 (n−ブチルアミド)ジメチル(η5−2,3,4,6,7−ペンタメチルイン デニル)シランチタン(IV)ジベンジル、 (シクロヘキシルアミド)ジメチル(η5−2,3,4,6,7−ペンタメチル インデニル)シランチタン(II)1,4−ジフェニル−1,3−ブタジエン、 (シクロヘキシルアミド)ジメチル(η5−2,3,4,6,7−ペンタメチル インデニル)シランチタン(II)1,3−ペンタジエン、 (シクロヘキシルアミド)ジメチル(η5−2,3,4,6,7−ペンタメチル インデニル)シランチタン(III)2−(N,N−ジメチルアミノ)ベンジル 、 (シクロヘキシルアミド)ジメチル(η5−2,3,4,6,7−ペンタメチル インデニル)シランチタン(IV)ジメチル、 (シクロヘキシルアミド)ジメチル(η5−2,3,4,6,7−ペンタメチル インデニル)シランチタン(IV)ジベンジル、 (イソプロピルアミド)ジメチル(η5−2,3,4,6,7−ペンタメチルイ ンデニル)シランチタン(II)1,4−ジフェニル−1,3−ブタジエン、 (イソプロピルアミド)ジメチル(η5−2,3,4,6,7−ペンタメチルイ ンデニル)シランチタン(II)1,3−ペンタジエン、 (イソプロピルアミド)ジメチル(η5−2,3,4,6,7−ペンタメチルイ ンデニル)シランチタン(III)2−(N,N−ジメチルアミノ)ベンジル、 (イソプロピルアミド)ジメチル(η5−2,3,4,6,7−ペンタメチルイ ンデニル)シランチタン(IV)ジメチル、 (イソプロピルアミド)ジメチル(η5−2,3,4,6,7−ペンタメチルイ ンデニル)シランチタン(IV)ジベンジル、 (シクロペンチルアミド)ジメチル(η5−2,3,4,6,7−ペンタメチル インデニル)シランチタン(II)1,4−ジフェニル−1,3−ブタジエン、 (シクロペンチルアミド)ジメチル(η5−2,3,4,6,7−ペンタメチル インデニル)シランチタン(II)1,3−ペンタジエン、 (シクロペンチルアミド)ジメチル(η5−2,3,4,6,7−ペンタメチル インデニル)シランチタン(III)2−(N,N−ジメチルアミノ)ベンジル 、 (シクロペンチルアミド)ジメチル(η5−2,3,4,6,7−ペンタメチル インデニル)シランチタン(IV)ジメチル、 (シクロペンチルアミド)ジメチル(η5−2,3,4,6,7−ペンタメチル インデニル)シランチタン(IV)ジベンジル、 (シクロドデシルアミド)ジメチル(η5−2,3,4,6,7−ペンタメチル インデニル)シランチタン(II)1,4−ジフェニル−1,3−ブタジエン、 (シクロドデシルアミド)ジメチル(η5−2,3,4,6,7−ペンタメチル インデニル)シランチタン(II)1,3−ペンタジエン、 (シクロドデシルアミド)ジメチル(η5−2,3,4,6,7−ペンタメチル インデニル)シランチタン(III)2−(N,N−ジメチルアミノ)ベンジル 、 (シクロドデシルアミド)ジメチル(η5−2,3,4,6,7−ペンタメチル インデニル)シランチタン(IV)ジメチル、 (シクロドデシルアミド)ジメチル(η5−2,3,4,6,7−ペンタメチル インデニル)シランチタン(IV)ジベンジル、 (イソブチルアミド)ジメチル(η5−2,3,4,6,7−ペンタメチルイン デニル)シランチタン(II)1,4−ジフェニル−1,3−ブタジエン、 (イソブチルアミド)ジメチル(η5−2,3,4,6,7−ペンタメチルイン デニル)シランチタン(II)1,3−ペンタジエン、 (イソブチルアミド)ジメチル(η5−2,3,4,6,7−ペンタメチルイン デニル)シランチタン(III)2−(N,N−ジメチルアミノ)ベンジル、 (イソブチルアミド)ジメチル(η5−2,3,4,6,7−ペンタメチルイン デニル)シランチタン(IV)ジメチル、 (イソブチルアミド)ジメチル(η5−2,3,4,6,7−ペンタメチルイン デニル)シランチタン(IV)ジベンジル、 (n−ブチルアミド)ジイソプロポキシ(η5−2,3,4,6,7−ペンタメ チルインデニル)シランチタン(II)1,4−ジフェニル−1,3−ブタジエ ン、 (n−ブチルアミド)ジイソプロポキシ(η5−2,3,4,6,7−ペンタメ チルインデニル)シランチタン(II)1,3−ペンタジエン、 (n−ブチルアミド)ジイソプロポキシ(η5−2,3,4,6,7−ペンタメ チルインデニル)シランチタン(III)2−(N,N−ジメチルアミノ)ベン ジル、 (n−ブチルアミド)ジイソプロポキシ(η5−2,3,4,6,7−ペンタメ チルインデニル)シランチタン(IV)ジメチル、 (n−ブチルアミド)ジイソプロポキシ(η5−2,3,4,6,7−ペンタメ チルインデニル)シランチタン(IV)ジベンジル、 (シクロドデシルアミド)ジイソプロポキシ(η5−2,3,4,6,7−ペン タメチルインデニル)シランチタン(II)1,4−ジフェニル−1,3−ブタ ジエン、 (シクロドデシルアミド)ジイソプロポキシ(η5−2,3,4,6,7−ペン タメチルインデニル)シランチタン(II)−1,3−ペンタジエン、 (シクロドデシルアミド)ジイソプロポキシ(η5−2,3,4,6,7−ペン タメチルインデニル)シランチタン(III)2−(N,N−ジメチルアミノ) ベンジル、 (シクロドデシルアミド)ジイソプロポキシ(η5−2,3,4,6,7−ペン タメチルインデニル)シランチタン(IV)ジメチル、 (シクロドデシルアミド)ジイソプロポキシ(η5−2,3,4,6,7−ペン タメチルインデニル)シランチタン(IV)ジベンジル、 (n−ブチルアミド)ジメトキシ(η5−2,3,4,6,7−ペンタメチルイ ンデニル)シランチタン(II)1,4−ジフェニル−1,3−ブタジエン、 (n−ブチルアミド)ジメトキシ(η5−2,3,4,6,7−ペンタメチルイ ンデニル)シランチタン(II)1,3−ペンタジエン、 (n−ブチルアミド)ジメトキシ(η5−2,3,4,6,7−ペンタメチルイ ンデニル)シランチタン(III)2−(N,N−ジメチルアミノ)ベンジル、 (n−ブチルアミド)ジメトキシ(η5−2,3,4,6,7−ペンタメチルイ ンデニル)シランチタン(IV)ジメチル、 (n−ブチルアミド)ジメトキシ(η5−2,3,4,6,7−ペンタメチルイ ンデニル)シランチタン(IV)ジベンジル、 (シクロドデシルアミド)ジメトキシ(η5−2,3,4,6,7−ペンタメチ ルインデニル)シランチタン(II)1,4−ジフェニル−1, 3−ブタジエン、 (シクロドデシルアミド)ジメトキシ(η5−2,3,4,6,7−ペンタメチ ルインデニル)シランチタン(II)−1,3−ペンタジエン、 (シクロドデシルアミド)ジメトキシ(η5−2,3,4,6,7−ペンタメチ ルインデニル)シランチタン(III)2−(N,N−ジメチルアミノ)ベンジ ル、 (シクロドデシルアミド)ジメトキシ(η5−2,3,4,6,7−ペンタメチ ルインデニル)シランチタン(IV)ジメチル、 (シクロドデシルアミド)ジメトキシ(η5−2,3,4,6,7−ペンタメチ ルインデニル)シランチタン(IV)ジベンジル、 (n−ブチルアミド)エトキシメチル(η5−2,3,4,6,7−ペンタメチ ルインデニル)シランチタン(II)1,4−ジフェニル−1,3−ブタジエン 、 (n−ブチルアミド)エトキシメチル(η5−2,3,4,6,7−ペンタメチ ルインデニル)シランチタン(II)1,3−ペンタジエン、 (n−ブチルアミド)エトキシメチル(η5−2,3,4,6,7−ペンタメチ ルインデニル)シランチタン(III)2−(N,N−ジメチルアミノ)ベンジ ル、 (n−ブチルアミド)エトキシメチル(η5−2,3,4,6,7−ペンタメチ ルインデニル)シランチタン(IV)ジメチル、 (n−ブチルアミド)エトキシメチル(η5−2,3,4,6,7−ペンタメチ ルインデニル)シランチタン(IV)ジベンジル、 (シクロドデシルアミド)エトキシメチル(η5−2,3,4,6,7−ペンタ メチルインデニル)シランチタン(II)1,4−ジフェニル− 1,3−ブタジエン、 (シクロドデシルアミド)エトキシメチル(η5−2,3,4,6,7−ペンタ メチルインデニル)シランチタン(II)−1,3−ペンタジエン、 (シクロドデシルアミド)エトキシメチル(η5−2,3,4,6,7−ペンタ メチルインデニル)シランチタン(III)2−(N,N−ジメチルアミノ)ベ ンジル、 (シクロドデシルアミド)エトキシメチル(η5−2,3,4,6,7−ペンタ メチルインデニル)シランチタン(IV)ジメチル、 (シクロドデシルアミド)エトキシメチル(η5−2,3,4,6,7−ペンタ メチルインデニル)シランチタン(IV)ジベンジル、3−フェニル−s−インダセン−1−イル錯体(また[1,2,3,4,5−η )−1,5,6,7−テトラヒドロ−3−フェニル−s−インダセン−1−イル ]錯体とも呼ぶ) (i−プロピルアミド)ジメチル(η5−3−フェニル−s−インダセニル)シ ランチタン(IV)ジメチル、 (シクロヘキシルアミド)ジメチル(η5−3−フェニル−s−インダセニル) シランチタン(IV)ジメチル、 (n−ブチルアミド)ジメチル(η5−3−フェニル−s−インダセニル)シラ ンチタン(II)1,4−ジフェニル−1,3−ブタジエン、 (n−ブチルアミド)ジメチル(η5−3−フェニル−s−インダセニル)シラ ンチタン(II)1,3−ペンタジエン、 (n−ブチルアミド)ジメチル(η5−3−フェニル−s−インダセニル)シラ ンチタン(III)2−(N,N−ジメチルアミノ)ベンジル、 (n−ブチルアミド)ジメチル(η5−3−フェニル−s−インダセニル)シラ ンチタン(IV)ジメチル、 (n−ブチルアミド)ジメチル(η5−3−フェニル−s−インダセニル)シラ ンチタン(IV)ジベンジル、 (シクロドデシルアミド)ジメチル(η5−3−フェニル−s−インダセニル) シランチタン(II)1,4−ジフェニル−1,3−ブタジエン、 (シクロドデシルアミド)ジメチル(η5−3−フェニル−s−インダセニル) シランチタン(II)1,3−ペンタジエン、 (シクロドデシルアミド)ジメチル(η5−3−フェニル−s−インダセニル) シランチタン(III)2−(N,N−ジメチルアミノ)ベンジル、 (シクロドデシルアミド)ジメチル(η5−3−フェニル−s−インダセニル) シランチタン(IV)ジメチル、 (シクロドデシルアミド)ジメチル(η5−3−フェニル−s−インダセニル) シランチタン(IV)ジベンジル、3−ナフチル−s−インダセニル錯体 (i−プロピルアミド)ジメチル(η5−3−ナフチル−s−インダセニル)シ ランチタン(IV)ジメチル、 (シクロヘキシルアミド)ジメチル(η5−3−ナフチル−s−インダセニル) シランチタン(IV)ジメチル、3−ビフェニル−s−インダセニル錯体 (i−プロピルアミド)ジメチル(η5−3−ビフェニル−s−インダセニル) シランチタン(IV)ジメチル、および (シクロヘキシルアミド)ジメチル(η5−3−ビフェニル−s−インダ セニル)シランチタン(IV)ジメチル、2−メチル−3−ビフェニル−s−インダセニル錯体 (i−プロピルアミド)ジメチル(η5−2−メチル−3−ビフェニル−s−イ ンダセニル)シランチタン(IV)ジメチル、および (シクロヘキシルアミド)ジメチル(η5−2−メチル−3−ビフェニル−s− インダセニル)シランチタン(IV)ジメチル、2−メチル−3−ナフチル−s−インダセニル錯体 (シクロヘキシルアミド)ジメチル(η5−2−メチル−3−ナフチル−s−イ ンダセニル)シランチタン(II)1,4−ジフェニル−1,3−ブタジエン、 (シクロヘキシルアミド)ジメチル(η5−2−メチル−3−ナフチル−s−イ ンダセニル)シランチタン(II)1,3−ペンタジエン、 (シクロヘキシルアミド)ジメチル(η5−2−メチル−3−ナフチル−s−イ ンダセニル)シランチタン(III)2−(N,N−ジメチルアミノ)ベンジル 、 (シクロヘキシルアミド)ジメチル(η5−2−メチル−3−ナフチル−s−イ ンダセニル)シランチタン(IV)ジメチル、および (シクロヘキシルアミド)ジメチル(η5−2−メチル−3−ナフチル−s−イ ンダセニル)シランチタン(IV)ジベンジル、3−フェニル−gem−ジメチルアセナフタレニル錯体(また(1,2,3,4 ,5−η)(5,6,7,8−テトラヒドロ−5,5,8,8−テトラメチル− 1H−ベンズ(f)インデ−1−イル)錯体とも呼ぶ) (n−ブチルアミド)ジメチル(η5−3−フェニル−gem−ジメチルアセナ フタレニル)シランチタン(II)1,4−ジフェニル−1,3 −ブタジエン、 (n−ブチルアミド)ジメチル(η5−3−フェニル−gem−ジメチルアセナ フタレニル)シランチタン(II)1,3−ペンタジエン、 (n−ブチルアミド)ジメチル(η5−3−フェニル−gem−ジメチルアセナ フタレニル)シランチタン(III)2−(N,N−ジメチルアミノ)ベンジル 、 (n−ブチルアミド)ジメチル(η5−3−フェニル−gem−ジメチルアセナ フタレニル)シランチタン(IV)ジメチル、 (n−ブチルアミド)ジメチル(η5−3−フェニル−gem−ジメチルアセナ フタレニル)シランチタン(IV)ジベンジル、 (シクロドデシルアミド)ジメチル(η5−3−フェニル−gem−ジメチルア セナフタレニル)シランチタン(II)1,4−ジフェニル−1,3−ブタジエ ン、 (シクロドデシルアミド)ジメチル(η5−3−フェニル−gem−ジメチルア セナフタレニル)シランチタン(II)1,3−ペンタジエン、 (シクロドデシルアミド)ジメチル(η5−3−フェニル−gem−ジメチルア セナフタレニル)シランチタン(III)2−(N,N−ジメチルアミノ)ベン ジル、 (シクロドデシルアミド)ジメチル(η5−3−フェニル−gem−ジメチルア セナフタレニル)シランチタン(IV)ジメチル、 (シクロドデシルアミド)ジメチル(η5−3−フェニル−gem−ジメチルア セナフタレニル)シランチタン(IV)ジベンジル、2−メチル−s−インダセン−1−イル錯体 (n−ブチルアミド)ジメチル(η5−2−メチル−s−インダセン−1 −イル)シランチタン(II)1,4−ジフェニル−1,3−ブタジエン、 (n−ブチルアミド)ジメチル(η5−2−メチル−s−インダセン−1−イル )シランチタン(II)1,3−ペンタジエン、 (n−ブチルアミド)ジメチル(η5−2−メチル−s−インダセン−1−イル )シランチタン(III)2−(N,N−ジメチルアミノ)ベンジル、 (n−ブチルアミド)ジメチル(η5−2−メチル−s−インダセン−1−イル )シランチタン(IV)ジメチル、 (n−ブチルアミド)ジメチル(η5−2−メチル−s−インダセン−1−イル )シランチタン(IV)ジベンジル、 (シクロヘキシルアミド)ジメチル(η5−2−メチル−s−インダセン−1− イル)シランチタン(II)1,4−ジフェニル−1,3−ブタジエン、 (シクロヘキシルアミド)ジメチル(η5−2−メチル−s−インダセン−1− イル)シランチタン(II)1,3−ペンタジエン、 (シクロヘキシルアミド)ジメチル(η5−2−メチル−s−インダセン−1− イル)シランチタン(III)2−(N,N−ジメチルアミノ)ベンジル、 (シクロヘキシルアミド)ジメチル(η5−2−メチル−s−インダセン−1− イル)シランチタン(IV)ジメチル、 (シクロヘキシルアミド)ジメチル(η5−2−メチル−s−インダセン−1− イル)シランチタン(IV)ジベンジル、 (イソプロピルアミド)ジメチル(η5−2−メチル−s−インダセン− 1−イル)シランチタン(II)1,4−ジフェニル−1,3−ブタジエン、 (イソプロピルアミド)ジメチル(η5−2−メチル−s−インダセン−1−イ ル)シランチタン(II)1,3−ペンタジエン、 (イソプロピルアミド)ジメチル(η5−2−メチル−s−インダセン−1−イ ル)シランチタン(III)2−(N,N−ジメチルアミノ)ベンジル、 (イソプロピルアミド)ジメチル(η5−2−メチル−s−インダセン−1−イ ル)シランチタン(IV)ジメチル、 (イソプロピルアミド)ジメチル(η5−2−メチル−s−インダセン−1−イ ル)シランチタン(IV)ジベンジル、 (シクロペンチルアミド)ジメチル(η5−2−メチル−s−インダセン−1− イル)シランチタン(II)1,4−ジフェニル−1,3−ブタジエン、 (シクロペンチルアミド)ジメチル(η5−2−メチル−s−インダセン−1− イル)シランチタン(II)1,3−ペンタジエン、 (シクロペンチルアミド)ジメチル(η5−2−メチル−s−インダセン−1− イル)シランチタン(III)2−(N,N−ジメチルアミノ)ベンジル、 (シクロペンチルアミド)ジメチル(η5−2−メチル−s−インダセン−1− イル)シランチタン(IV)ジメチル、 (シクロペンチルアミド)ジメチル(η5−2−メチル−s−インダセン−1− イル)シランチタン(IV)ジベンジル、 (シクロドデシルアミド)ジメチル(η5−2−メチル−s−インダセン −1−イル)シランチタン(II)1,4−ジフェニル−1,3−ブタジエン、 (シクロドデシルアミド)ジメチル(η5−2−メチル−s−インダセン−1− イル)シランチタン(II)1,3−ペンタジエン、 (シクロドデシルアミド)ジメチル(η5−2−メチル−s−インダセン−1− イル)シランチタン(III)2−(N,N−ジメチルアミノ)ベンジル、 (シクロドデシルアミド)ジメチル(η5−2−メチル−s−インダセン−1− イル)シランチタン(IV)ジメチル、 (シクロドデシルアミド)ジメチル(η5−2−メチル−s−インダセン−1− イル)シランチタン(IV)ジベンジル、 (イソブチルアミド)ジメチル(η5−2−メチル−s−インダセン−1−イル )シランチタン(II)1,4−ジフェニル−1,3−ブタジエン、 (イソブチルアミド)ジメチル(η5−2−メチル−s−インダセン−1−イル )シランチタン(II)1,3−ペンタジエン、 (イソブチルアミド)ジメチル(η5−2−メチル−s−インダセン−1−イル )シランチタン(III)2−(N,N−ジメチルアミノ)ベンジル、 (イソブチルアミド)ジメチル(η5−2−メチル−s−インダセン−1−イル )シランチタン(IV)ジメチル、 (イソブチルアミド)ジメチル(η5−2−メチル−s−インダセン−1−イル )シランチタン(IV)ジベンジル、2,3−ジメチル−s−インダセン−1−イル錯体 : (n−ブチルアミド)ジメチル(η5−2,3−ジメチル−s−インダセン−1 −イル)シランチタン(II)1,4−ジフェニル−1,3−ブタジエン、 (n−ブチルアミド)ジメチル(η5−2,3−ジメチル−s−インダセン−1 −イル)シランチタン(II)1,3−ペンタジエン、 (n−ブチルアミド)ジメチル(η5−2,3−ジメチル−s−インダセン−1 −イル)シランチタン(III)2−(N,N−ジメチルアミノ)ベンジル、 (n−ブチルアミド)ジメチル(η5−2,3−ジメチル−s−インダセン−1 −イル)シランチタン(IV)ジメチル、 (n−ブチルアミド)ジメチル(η5−2,3−ジメチル−s−インダセン−1 −イル)シランチタン(IV)ジベンジル、 (シクロヘキシルアミド)ジメチル(η5−2,3−ジメチル−s−インダセン −1−イル)シランチタン(II)1,4−ジフェニル−1,3−ブタジエン、 (シクロヘキシルアミド)ジメチル(η5−2,3−ジメチル−s−インダセン −1−イル)シランチタン(II)1,3−ペンタジエン、 (シクロヘキシルアミド)ジメチル(η5−2,3−ジメチル−s−インダセン −1−イル)シランチタン(III)2−(N,N−ジメチルアミノ)ベンジル 、 (シクロヘキシルアミド)ジメチル(η5−2,3−ジメチル−s−インダセン −1−イル)シランチタン(IV)ジメチル、 (シクロヘキシルアミド)ジメチル(η5−2,3−ジメチル−s−インダセン −1−イル)シランチタン(IV)ジベンジル、 (イソプロピルアミド)ジメチル(η5−2,3−ジメチル−s−インダセン− 1−イル)シランチタン(II)1,4−ジフェニル−1,3−ブタジエン、 (イソプロピルアミド)ジメチル(η5−2,3−ジメチル−s−インダセン− 1−イル)シランチタン(II)1,3−ペンタジエン、 (イソプロピルアミド)ジメチル(η5−2,3−ジメチル−s−インダセン− 1−イル)シランチタン(III)2−(N,N−ジメチルアミノ)ベンジル、 (イソプロピルアミド)ジメチル(η5−2,3−ジメチル−s−インダセン− 1−イル)シランチタン(IV)ジメチル、 (イソプロピルアミド)ジメチル(η5−2,3−ジメチル−s−インダセン− 1−イル)シランチタン(IV)ジベンジル、 (シクロペンチルアミド)ジメチル(η5−2,3−ジメチル−s−インダセン −1−イル)シランチタン(II)1,4−ジフェニル−1,3−ブタジエン、 (シクロペンチルアミド)ジメチル(η5−2,3−ジメチル−s−インダセン −1−イル)シランチタン(II)1,3−ペンタジエン、 (シクロペンチルアミド)ジメチル(η5−2,3−ジメチル−s−インダセン −1−イル)シランチタン(III)2−(N,N−ジメチルアミノ)ベンジル 、 (シクロペンチルアミド)ジメチル(η5−2,3−ジメチル−s−インダセン −1−イル)シランチタン(IV)ジメチル、 (シクロペンチルアミド)ジメチル(η5−2,3−ジメチル−s−インダセン −1−イル)シランチタン(IV)ジベンジル、 (シクロドデシルアミド)ジメチル(η5−2,3−ジメチル−s−インダセン −1−イル)シランチタン(II)1,4−ジフェニル−1,3−ブタジエン、 (シクロドデシルアミド)ジメチル(η5−2,3−ジメチル−s−インダセン −1−イル)シランチタン(II)1,3−ペンタジエン、 (シクロドデシルアミド)ジメチル(η5−2,3−ジメチル−s−インダセン −1−イル)シランチタン(III)2−(N,N−ジメチルアミノ)ベンジル 、 (シクロドデシルアミド)ジメチル(η5−2,3−ジメチル−s−インダセン −1−イル)シランチタン(IV)ジメチル、 (シクロドデシルアミド)ジメチル(η5−2,3−ジメチル−s−インダセン −1−イル)シランチタン(IV)ジベンジル、 (イソブチルアミド)ジメチル(η5−2,3−ジメチル−s−インダセン−1 −イル)シランチタン(II)1,4−ジフェニル−1,3−ブタジエン、 (イソブチルアミド)ジメチル(η5−2,3−ジメチル−s−インダセン−1 −イル)シランチタン(II)1,3−ペンタジエン、 (イソブチルアミド)ジメチル(η5−2,3−ジメチル−s−インダセン−1 −イル)シランチタン(III)2−(N,N−ジメチルアミノ)ベンジル、 (イソブチルアミド)ジメチル(η5−2,3−ジメチル−s−インダセン−1 −イル)シランチタン(IV)ジメチル、 (イソブチルアミド)ジメチル(η5−2,3−ジメチル−s−インダセン−1 −イル)シランチタン(IV)ジベンジル、3−メチル−s−インダセン−1−イル錯体 : (n−ブチルアミド)ジメチル(η5−3−メチル−s−インダセン−1−イル )シランチタン(II)1,4−ジフェニル−1,3−ブタジエン、 (n−ブチルアミド)ジメチル(η5−3−メチル−s−インダセン−1−イル )シランチタン(II)1,3−ペンタジエン、 (n−ブチルアミド)ジメチル(η5−3−メチル−s−インダセン−1−イル )シランチタン(III)2−(N,N−ジメチルアミノ)ベンジル、 (n−ブチルアミド)ジメチル(η5−3−メチル−s−インダセン−1−イル )シランチタン(IV)ジメチル、 (n−ブチルアミド)ジメチル(η5−3−メチル−s−インダセン−1−イル )シランチタン(IV)ジベンジル、 (シクロヘキシルアミド)ジメチル(η5−3−メチル−s−インダセン−1− イル)シランチタン(II)1,4−ジフェニル−1,3−ブタジエン、 (シクロヘキシルアミド)ジメチル(η5−3−メチル−s−インダセン−1− イル)シランチタン(II)1,3−ペンタジエン、 (シクロヘキシルアミド)ジメチル(η5−3−メチル−s−インダセン−1− イル)シランチタン(III)2−(N,N−ジメチルアミノ)ベンジル、 (シクロヘキシルアミド)ジメチル(η5−3−メチル−s−インダセン−1− イル)シランチタン(IV)ジメチル、 (シクロヘキシルアミド)ジメチル(η5−3−メチル−s−インダセン −1−イル)シランチタン(IV)ジベンジル、 (イソプロピルアミド)ジメチル(η5−3−メチル−s−インダセン−1−イ ル)シランチタン(II)1,4−ジフェニル−1,3−ブタジエン、 (イソプロピルアミド)ジメチル(η5−3−メチル−s−インダセン−1−イ ル)シランチタン(II)1,3−ペンタジエン、 (イソプロピルアミド)ジメチル(η5−3−メチル−s−インダセン−1−イ ル)シランチタン(III)2−(N,N−ジメチルアミノ)ベンジル、 (イソプロピルアミド)ジメチル(η5−3−メチル−s−インダセン−1−イ ル)シランチタン(IV)ジメチル、 (イソプロピルアミド)ジメチル(η5−3−メチル−s−インダセン−1−イ ル)シランチタン(IV)ジベンジル、 (シクロペンチルアミド)ジメチル(η5−3−メチル−s−インダセン−1− イル)シランチタン(II)1,4−ジフェニル−1,3−ブタジエン、 (シクロペンチルアミド)ジメチル(η5−3−メチル−s−インダセン−1− イル)シランチタン(II)1,3−ペンタジエン、 (シクロペンチルアミド)ジメチル(η5−3−メチル−s−インダセン−1− イル)シランチタン(III)2−(N,N−ジメチルアミノ)ベンジル、 (シクロペンチルアミド)ジメチル(η5−3−メチル−s−インダセン−1− イル)シランチタン(IV)ジメチル、 (シクロペンチルアミド)ジメチル(η5−3−メチル−s−インダセン −1−イル)シランチタン(IV)ジベンジル、 (シクロドデシルアミド)ジメチル(η5−3−メチル−s−インダセン−1− イル)シランチタン(II)1,4−ジフェニル−1,3−ブタジエン、 (シクロドデシルアミド)ジメチル(η5−3−メチル−s−インダセン−1− イル)シランチタン(II)1,3−ペンタジエン、 (シクロドデシルアミド)ジメチル(η5−3−メチル−s−インダセン−1− イル)シランチタン(III)2−(N,N−ジメチルアミノ)ベンジル、 (シクロドデシルアミド)ジメチル(η5−3−メチル−s−インダセン−1− イル)シランチタン(IV)ジメチル、 (シクロドデシルアミド)ジメチル(η5−3−メチル−s−インダセン−1− イル)シランチタン(IV)ジベンジル、 (イソブチルアミド)ジメチル(η5−3−メチル−s−インダセン−1−イル )シランチタン(II)1,4−ジフェニル−1,3−ブタジエン、 (イソブチルアミド)ジメチル(η5−3−メチル−s−インダセン−1−イル )シランチタン(II)1,3−ペンタジエン、 (イソブチルアミド)ジメチル(η5−3−メチル−s−インダセン−1−イル )シランチタン(III)2−(N,N−ジメチルアミノ)ベンジル、 (イソブチルアミド)ジメチル(η5−3−メチル−s−インダセン−1−イル )シランチタン(IV)ジメチル、および (イソブチルアミド)ジメチル(η5−3−メチル−s−インダセン−1 −イル)シランチタン(IV)ジベンジル。 上記錯体の調製はよく知られている合成技術を用いて実施可能である。場合に より、還元剤を用いて酸化状態がより低い錯体を生じさせることも可能である。 そのような方法が1994年5月13日付けで提出したUSSN 8/241, 523(WO95−00526として公開)に開示されている。これらの反応を −100から300℃、好適には−78から100℃、最も好適には0から50 ℃の温度の適切な非障害(noninterfering)溶媒中で行う。本明 細書における用語「還元剤」は、金属Mに還元を還元条件下で受けさせてそれを 高い酸化状態から低い酸化状態にする金属または化合物を意味する。適切な還元 剤である金属の例はアルカリ金属、アルカリ土類金属、アルミニウムおよび亜鉛 、アルカリ金属もしくはアルカリ土類金属の合金、例えばナトリウム/水銀アマ ルガムおよびナトリウム/カリウム合金などである。適切な還元剤化合物の例は ナトリウムナフタレニド、カリウムグラファイト、リチウムアルキル類、リチウ ムもしくはカリウムアルカジエニル類およびグリニヤール試薬である。最も好適 な還元剤はアルカリ金属またはアルカリ土類金属、特にリチウムおよびマグネシ ウム金属である。 上記錯体を生じさせる時に用いるに適切な反応用媒体には、脂肪族および芳香 族炭化水素、エーテル類および環状エーテル類、特に分枝鎖炭化水素、例えばイ ソブタン、ブタン、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタンなどおよびそれら の混合物;環状および脂環式炭化水素、例えばシクロヘキサン、シクロヘプタン 、メチルシクロヘキサン、メチルシクロヘプタンなどおよびそれらの混合物;芳 香族およびヒドロカルビル置換芳香族化合物、例えばベンゼン、トルエンおよび キシレンなど、C1-4 ジアルキルエーテル類、(ポリ)アルキレングリコール類のC1-4ジアルキル エーテル誘導体およびテトラヒドロフランが含まれる。また、前記の混合物も使 用に適切である。 上記錯体を活性化用共触媒と組み合わせるか或は活性化技術を用いることで上 記錯体を触媒的に活性にする。本明細書で用いるに適切な活性化用共触媒には、 ポリマー状またはオリゴマー状のアルモキサン類(alumoxanes)、特 にメチルアルモキサン、トリイソブチルアルミニウム修飾メチルアルモキサンま たはイソブチルアルモキサン;中性ルイス酸、例えばC1-30ヒドロカルビル置換 13族化合物、特にトリ(ヒドロカルビル)アルミニウム化合物またはトリ(ヒ ドロカルビル)ホウ素化合物およびそれらのハロゲン置換(完全ハロゲン置換を 包含)誘導体(各ヒドロカルビルもしくはハロゲン置換ヒドロカルビル基中の炭 素数が1から10の)、より特別には完全フッ素置換トリ(アリール)ホウ素化 合物、最も特別にはトリス(ペンタフルオロフェニル)ボラン;高分子でなくて 適合性で配位しないイオン形成(ion forming)化合物(このような 化合物を酸化条件下で用いることを包含)が含まれ、特に、配位しない適合性ア ニオンのアンモニウム塩、ホスホニウム塩、オキソニウム塩、カルボニウム塩、 シリリウム塩またはスルホニウム塩、または配位しない適合性アニオンのフェロ セニウム塩の使用;バルクエレクトロリシス(bulk electrolys is)(本明細書の以下により詳細に説明);そして前記活性化用共触媒と活性 化技術の組み合わせが含まれる。前記活性化用共触媒および活性化技術は下記の 文献にいろいろな金属錯体に関して既に教示されている:ヨーロッパ特許出願公 開第277,003号、米国特許第5,153,157号、 米国特許第5,064,802号、ヨーロッパ特許出願公開第468,651号 (米国連続番号07/547,718に相当)、ヨーロッパ特許出願公開第52 0,732号(米国連続番号07/876,268に相当)、そしてヨーロッパ 特許出願公開第520,732号(1992年5月1日付けで提出した米国連続 番号07/884,966に相当)。 中性ルイス酸の組み合わせ、特に各アルキル基中の炭素数が1から4のトリア ルキルアルミニウム化合物と各ヒドロカルビル基中の炭素数が1から20のハロ ゲン置換トリ(ヒドロカルビル)ホウ素化合物、特にトリス(ペンタフルオロフ ェニル)ボランの組み合わせ、更に上記中性ルイス酸混合物とポリマー状もしく はオリゴマー状アルモキサンの組み合わせ、そして単一の中性ルイス酸、特にト リス(ペンタフルオロフェニル)ボランとポリマー状もしくはオリゴマー状アル モキサンの組み合わせが、特に望ましい活性化用共触媒である。本発明に従う利 点は、そのようなトリス(ペンタフルオロフェニル)ボラン/アルモキサン混合 物の組み合わせを用いるとアルモキサンのレベルを低くした時に触媒の活性化が 最も高い効率で起こることを見い出したことにある。4族金属錯体:トリス(ペ ンタフルオロフェニル)ボラン:アルモキサンの好適なモル比は1:1:1から 1:5:5、より好適には1:1:1.5から1:5:3である。本発明に伴っ てアルモキサンをより低いレベルで驚くべきほど効率良く用いることができるこ とから高価なアルモキサン共触媒の使用量をより少なくしても高い触媒効率でオ レフィンポリマー類を製造することが可能になる。追加的に、アルミニウム残渣 のレベルがより少ない、従って透明度がより高いポリマー類が得られる。 本発明の1つの態様で共触媒として用いるに適切なイオン形成化合物 は、プロトンを供与し得るブレンステッド酸であるカチオンを含みかつ配位しな い適合性アニオンA-を含むものである。用語「配位しない」を本明細書で用い る場合、これは、4族の金属を含有する前駆体錯体にもそれから生じる触媒作用 を示す誘導体にも配位しないか或は上記錯体に配位するとしても若干のみである ことで中性ルイス塩基に置き換わり得るに充分なほど不安定なままであるアニオ ンまたは物質を意味する。配位しないアニオンは、特に、カチオン金属錯体中で 電荷の均衡を取るアニオンとして機能する時にアニオン性置換基またはそれのフ ラグメントを上記カチオンに渡すことで中性の錯体を生じさせることのないアニ オンを指す。「適合性アニオン」は、最初に生じた錯体が分解を起こす時に減成 を起こして中性になることも後で行う所望の重合も上記錯体の他の使用も邪魔す ることのないアニオンである。 好適なアニオンは、電荷を持つ金属またはメタロイドのコア(core)を有 する単一の配位錯体を含有するアニオンであり、このアニオンは、2つの成分を 一緒にした時に生じ得る活性触媒種(金属カチオン)の電荷の均衡を保つ能力を 有するものである。また、上記アニオンは、オレフィン系、ジオレフィン系およ びアセチレン系不飽和化合物または中性ルイス塩基、例えばエーテルまたはニト リルなどに置き換わるに充分なほど不安定であるべきである。適切な金属には、 これらに限定するものでないが、アルミニウム、金および白金が含まれる。適切 なメタロイド類には、これらに限定するものでないが、ホウ素、燐およびケイ素 が含まれる。金属またはメタロイド原子を1個有する配位錯体を含んで成るアニ オンを含有する化合物は勿論よく知られていて、特にアニオン部分の中にホウ素 原子を1個有するそのような化合物は数多く商業的に 入手可能である。 このような共触媒は、好適には、下記の一般式: (L*−H)d +(A)d- [式中、 L*は、中性ルイス塩基であり、 (L*−H)+は、ブレンステッド酸であり、 Ad-は、d−の電荷を有する配位しない適合性アニオンであり、そしてdは、1 −3の整数である] で描写可能である。 より好適には、Ad-は式: [M’Q4- [式中、 M’は、形式的酸化状態が+3のホウ素またはアルミニウムであり、そして Qは、各場合とも独立して、ハイドライド、ジアルキルアミド、ハライド、ヒド ロカルビル、ヒドロカルビルオキサイド、ハロ置換ヒドロカルビル、ハロ置換ヒ ドロカルビルオキシおよびハロ置換シリルヒドロカルビル基(完全ハロゲン置換 ヒドロカルビル基、完全ハロゲン置換ヒドロカルビルオキシ基および完全ハロゲ ン置換シリルヒドロカルビル基を包含)から選択され、ここで、上記Qの炭素数 は20以下であるが、但しQがハライドであるのは1回以内であることを条件と する] に相当する。適切なヒドロカルビルオキサイドQ基の例が米国特許第5,296 ,433号に開示されている。 より好適な態様において、dは1である、即ち上記対イオンは1負電 荷を有し、A-である。本発明の触媒の調製で用いるに特に有用なホウ素含有活 性化用共触媒は、下記の一般式: (L*−H)+(BQ4- [式中、 L*は、この上で定義した通りであり、 Bは、形式的酸化状態が+3のホウ素であり、そして Qは、非水素原子数が20以下のヒドロカルビル基、ヒドロカルビルオキシ基、 フッ素置換ヒドロカルビル基、フッ素置換ヒドロカルビルオキシ基またはフッ素 置換シリルヒドロカルビル基であるが、但しQがヒドロカルビルであるのは1回 以内であることを条件とする] で描写可能である。 最も好適には、Qは、各場合とも、フッ素置換アリール基、特にペンタフルオ ロフェニル基である。 本発明の改良触媒を調製する時に活性化用共触媒として使用可能なホウ素化合 物の説明的非制限例は、三置換アンモニウム塩、例えばテトラキス(ペンタフル オロフェニル)ホウ酸トリメチルアンモニウム、 テトラキス(ペンタフルオロフェニル)ホウ酸トリエチルアンモニウム、 テトラキス(ペンタフルオロフェニル)ホウ酸トリプロピルアンモニウム、 テトラキス(ペンタフルオロフェニル)ホウ酸トリ(n−ブチル)アンモニウム 、 テトラキス(ペンタフルオロフェニル)ホウ酸トリ(s−ブチル)アンモニウム 、 テトラキス(ペンタフルオロフェニル)ホウ酸N,N−ジメチルアニリ ニウム、 n−ブチルトリス(ペンタフルオロフェニル)ホウ酸N,N−ジメチルアニリニ ウム、 ベンジルトリス(ペンタフルオロフェニル)ホウ酸N,N−ジメチルアニリニウ ム、 テトラキス(4−(t−ブチルジメチルシリル)−2,3,5,6−テトラフル オロフェニル)ホウ酸N,N−ジメチルアニリニウム、 テトラキス(4−(トリイソプロピルシリル)−2,3,5,6−テトラフルオ ロフェニル)ホウ酸N,N−ジメチルアニリニウム、 ペンタフルオロフェノキシトリス(ペンタフルオロフェニル)ホウ酸N,N−ジ メチルアニリニウム、 テトラキス(ペンタフルオロフェニル)ホウ酸N,N−ジエチルアニリニウム、 テトラキス(ペンタフルオロフェニル)ホウ酸N,N−ジメチル−2,4,6− トリメチルアニリニウム、 テトラキス(2,3,4,6−テトラフルオロフェニル)ホウ酸トリメチルアン モニウム、 テトラキス(2,3,4,6−テトラフルオロフェニル)ホウ酸トリエチルアン モニウム、 テトラキス(2,3,4,6−テトラフルオロフェニル)ホウ酸トリプロピルア ンモニウム、 テトラキス(2,3,4,6−テトラフルオロフエニル)ホウ酸トリ(n−ブチ ル)アンモニウム、 テトラキス(2,3,4,6−テトラフルオロフェニル)ホウ酸ジメチ ル(t−ブチル)アンモニウム、テトラキス(2,3,4,6−テトラフルオロ フェニル)ホウ酸N,N−ジメチルアニリニウム、 テトラキス(2,3,4,6−テトラフルオロフェニル)ホウ酸N,N−ジエチ ルアニリニウム、および テトラキス(2,3,4,6−テトラフルオロフェニル)ホウ酸N,N−ジメチ ル−2,4,6−トリメチルアニリニウムなど、 ジアルキルアンモニウム塩、例えば テトラキス(ペンタフルオロフェニル)ホウ酸ジ−(i−プロピル)アンモニウ ム、および テトラキス(ペンタフルオロフェニル)ホウ酸ジシクロヘキシルアンモニウムな ど、 三置換ホスホニウム塩、例えば テトラキス(ペンタフルオロフェニル)ホウ酸トリフェニルホスホニウム、 テトラキス(ペンタフルオロフェニル)ホウ酸トリ(o−トリル)ホスホニウム 、および テトラキス(ペンタフルオロフェニル)ホウ酸トリ(2,6−ジメチルフェニル )ホスホニウムなど、 二置換オキソニウム塩、例えば テトラキス(ペンタフルオロフェニル)ホウ酸ジフェニルオキソニウム、 テトラキス(ペンタフルオロフェニル)ホウ酸ジ(o−トリル)オキソニウム、 および テトラキス(ペンタフルオロフェニル)ホウ酸ジ(2,6−ジメチルフェ ニル)オキソニウムなど、 二置換スルホニウム塩、例えば テトラキス(ペンタフルオロフェニル)ホウ酸ジフェニルスルホニウム、 テトラキス(ペンタフルオロフェニル)ホウ酸ジ(o−トリル)スルホニウム、 および テトラキス(ペンタフルオロフェニル)ホウ酸ビス(2,6−ジメチルフェニル )スルホニウムなどである。 好適な(L*−H)+カチオンはN,N−ジメチルアニリニウムおよびトリブ チルアンモニウムである。 イオンを形成する別の適切な活性化用共触媒は、配位しない適合性アニオンと カチオン性酸化剤の塩を含むものであり、これは式:[式中、 Oxe+はe+の電荷を有するカチオン性酸化剤であり、 eは1から3の整数であり、そして Ad-およびdはこの上で定義した通りである] で表される。 カチオン性酸化剤の例には、フェロセニウム、ヒドロカルビル置換フェロセニ ウム、Ag+またはPb+2が含まれる。Ad-の好適な態様は、ブレンステッド酸 を含有する活性化用共触媒、特にテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ホウ酸 塩に関してこの上で定義したアニオンである。 イオンを形成する別の適切な活性化用共触媒は、配位しない適合性アニオンと カルベニウムイオンの塩である化合物を含むものであり、これ は式: [式中、 -はこの上で定義した通りである] で表される。好適なカルベニウムイオンはトリチルカチオン、即ちトリフェニル メチリウムである。 イオンを形成する適切なさらなる活性化用共触媒は、配位しない適合性アニオ ンとシリリウムイオンの塩である化合物を含むものであり、これは式: R3Si(X')q +- [式中、 Rは、C1-10ヒドロカルビルであり、そして X’、qおよびA-は、この上で定義した通りである] で表される。 活性化用共触媒である好適なシリリウム塩は、テトラキスペンタフルオロフェ ニルホウ酸トリメチルシリリウム、テトラキスペンタフルオロフェニルホウ酸ト リエチルシリリウムおよびそれのエーテル置換付加体である。シリリウム塩は以 前にJ.Chem Soc.Chem.Comm.、1993、383−384 ばかりでなくLambert,J.B.他、Organometallics、 1994、13、2430−2443にも一般的に開示された。上述したシリリ ウム塩を付加重合用触媒の活性化用共触媒として用いることが米国特許第5,6 25,087号に請求されている。 また、アルコール類、メルカプタン類、シラノール類およびオキシム類がトリ ス(ペンタフルオロフェニル)ボランと一緒に形成する特定の錯体も有効な触媒 活性化剤であり、これらも本発明に従って使用可能である。このような共触媒は 米国特許第5,296,433号に開示されている。 特に好適な共触媒は、プロトンを供与し得るブレンステッド酸であるカチオン と不活性で適合性で配位しないアニオンを含んで成っていて25℃のヘキサン、 シクロヘキサンまたはメチルシクロヘキサン中で少なくとも5重量パーセント、 好適には少なくとも7.5重量パーセントの溶解度を示すことを特徴とする共触 媒である。前記触媒活性化剤を用いると触媒の活性化が向上する。より特別には 、特に溶液重合条件、最も特別には連続溶液重合条件下で触媒効率と重合速度の 向上が得られる。 好適な態様の上記共触媒は下記の一般式: (L*−H)d +(Ad-) [式中、 L*は、中性ルイス塩基であり、 (L*−H)+は、ブレンステッド酸であり、 Ad-は、d−の電荷を有する配位しない適合性アニオンであり、そしてdは、1 −3の整数である] で描写可能である。 式Ad-で表される適切なアニオンの例には、式:[式中、 Sは、アルキル、フルオロアルキル、アリールまたはフルオロアリールであり( S基が2つ存在する場合には追加的に水素であり)、 ArFは、フルオロアリールであり、そして X1は、水素またはハライドのいずれかである] に相当する立体障害(sterically shielded)二ホウ素アニ オンが含まれる。 このような二ホウ素アニオンは米国特許第5,447,895号に開示されて いる。 Ad-アニオン類の追加的例は、式: [式中、 kは、1から3の整数であり、 n’は、2から6の整数であり、 n’−k=dであり、 M’は、元素周期律表の13族から選択される元素であり、そして Qは、Qがハライドであるのは1回以内であることを条件として、各場合とも独 立して、ハイドライド、ジアルキルアミド、ハライド、アルコキサイド、アリー ルオキサイド、ヒドロカルビルおよびハロ置換ヒドロカルビル基から選択され、 ここで上記Qの炭素数は20以下である] に相当するアニオン類である。 最も好適な態様におけるdは1である、即ち上記対イオンは1負電荷を持ち、 式A-に相当する。本発明で用いるに特に有用なホウ素含有活性化用共触媒は、 下記の一般式: [L*−H]+[BQ’4- [式中、 L*は、窒素、硫黄または燐を含有する中性ルイス塩基であり、 Bは、酸化状態が3のホウ素であり、そして Q’は、フッ素置換C1-20ヒドロカルビル基である] で描写可能である。 最も好適には、Q’は、各場合とも、フッ素置換アリール基、特にペンタフル オロフェニル基である。 本発明の触媒活性化剤が脂肪族化合物中で示す溶解度は、一般に、ブレンステ ッド酸Lに親油性基、例えば長鎖アルキル基;長鎖アルケニル基;またはハロ置 換、アルコキシ置換、アミノ置換、シリル置換もしくはゲルミル置換長鎖アルキ ル基もしくは長鎖アルケニル基などを1つ以上組み込むと高くなる。この用語「 長鎖」は、上記基中の非水素原子数が10から50の基を意味し、特に分枝して いない形態のものである。上記L基に好適にはC10-40のn−アルキル基を1か ら3つ含めて全炭素数を12から100にし、より好適にはC10-40アルキル基 を2つ含めて全炭素数を21から90にする。上記活性化剤にそのような親油性 基を存在させるとそれが脂肪族液中で示す溶解度がより高くなることで触媒活性 の効率が向上すると考えている。そのような触媒活性化剤に長さがいろいろの親 油性基の混合物を含めることも可能であると理解する。例えば、ある種の適切な 活性化剤は、C14、C16またはC18アルキル基が2つでメチル基が1つの混合物 を含んで成る商業的に入手可能な長鎖アミンから誘導されたプロトン化(pro tonated)アンモニウム塩である。そのようなアミン類はWitco C orp.から商標名 KemamineTMT9701の下で入手可能であり、そしてAkzo−Nob elから商標名ArmeenTMM2HTの下で入手可能である。本共触媒は、こ れの使用量を従来知られていた共触媒で以前に必要とされていた量に比較して低 い濃度(金属錯体の量を基準)にしたとしても、相当するか或は向上した触媒効 率を保持し得る。 本発明のポリマー類の製造で用いるに有用な活性化用イオン性共触媒として用 いることができるホウ素化合物の説明的非制限例は、三置換アンモニウム塩、例 えば: テトラキス(ペンタフルオロフェニル)ホウ酸デシルジ(メチル)アンモニウム 、テトラキス(ペンタフルオロフェニル)ホウ酸ドデシルジ(メチル)アンモニ ウム、テトラキス(ペンタフルオロフェニル)ホウ酸テトラデシルジ(メチル) アンモニウム、テトラキス(ペンタフルオロフェニル)ホウ酸ヘキサデシルジ( メチル)アンモニウム、テトラキス(ペンタフルオロフェニル)ホウ酸オクタデ シルジ(メチル)アンモニウム、テトラキス(ペンタフルオロフェニル)ホウ酸 エイコシルジ(メチル)アンモニウム、テトラキス(ペンタフルオロフェニル) ホウ酸メチルジ(デシル)アンモニウム、テトラキス(ペンタフルオロフェニル )ホウ酸メチルジ(ドデシル)アンモニウム、テトラキス(ペンタフルオロフェ ニル)ホウ酸メチルジ(テトラデシル)アンモニウム、テトラキス(ペンタフル オロフェニル)ホウ酸メチルジ(ヘキサデシル)アンモニウム、テトラキス(ペ ンタフルオロフェニル)ホウ酸メチルジ(オクタデシル)アンモニウム、テトラ キス(ペンタフルオロフェニル)ホウ酸メチルジ(エイコシル)アンモニウム、 テトラキス(ペンタフルオロフェニル)ホウ酸トリデシルアンモニウム、テトラ キス(ペンタフルオロフェニル) ホウ酸トリドデシルアンモニウム、テトラキス(ペンタフルオロフェニル)ホウ 酸トリテトラデシルアンモニウム、テトラキス(ペンタフルオロフェニル)ホウ 酸トリヘキサデシルアンモニウム、テトラキス(ペンタフルオロフェニル)ホウ 酸トリオクタデシルアンモニウム、テトラキス(ペンタフルオロフェニル)ホウ 酸トリエイコシルアンモニウム、テトラキス(ペンタフルオロフェニル)ホウ酸 デシルジ(n−ブチル)アンモニウム、テトラキス(ペンタフルオロフェニル) ホウ酸ドデシルジ(n−ブチル)アンモニウム、テトラキス(ペンタフルオロフ ェニル)ホウ酸オクタデシルジ(n−ブチル)アンモニウム、テトラキス(ペン タフルオロフェニル)ホウ酸N,N−ジドデシルアニリニウム、テトラキス(ペ ンタフルオロフェニル)ホウ酸N−メチル−N−ドデシルアニリニウム、テトラ キス(ペンタフルオロフェニル)ホウ酸N,N−ジ(オクタデシル)(2,4, 6−トリメチルアニリニウム)、テトラキス(ペンタフルオロフェニル)ホウ酸 シクロヘキシルジ(ドデシル)アンモニウムおよびテトラキス(2,3,4,6 −テトラフルオロフェニル)ホウ酸メチルジ(ドデシル)アンモニウムなどであ る。 また、同様に置換されている適切なスルホニウムもしくはホスホニウム塩、例 えばテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ホウ酸ジ(デシル)スルホニウム、 テトラキス(ペンタフルオロフェニル)ホウ酸(n−ブチル)ドデシルスルホニ ウム、テトラキス(ペンタフルオロフェニル)ホウ酸トリデシルホスホニウム、 テトラキス(ペンタフルオロフェニル)ホウ酸ジ(オクタデシル)メチルホスホ ニウムおよびテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ホウ酸トリ(テトラデシル )ホスホニウムなども挙げることができる。 好適な活性化剤は、テトラキス(ペンタフルオロフェニル)ホウ酸ジ(オクタ デシル)メチルアンモニウムおよびテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ホウ 酸ジ(オクタデシル)(n−ブチル)アンモニウムである。 望まれるならば、また、そのような共触媒を、各ヒドロカルビル基中の炭素数 が1から10のトリ(ヒドロカルビル)アルミニウム化合物、オリゴマー状もし くはポリマー状のアルモキサン化合物、各ヒドロカルビルもしくはヒドロカルビ ルオキシ基中の炭素数が1から20のジ(ヒドロカルビル)(ヒドロカルビルオ キシ)アルミニウム化合物または前記化合物の混合物と組み合わせて用いること も可能である。このようなアルミニウム化合物は重合混合物に由来する不純物、 例えば酸素、水およびアルデヒドなどを捕捉すると言った有益な能力を有するこ とから、これらを有効に用いる。 適切なジ(ヒドロカルビル)(ヒドロカルビルオキシ)アルミニウム化合物は 式T1 2AlOT2[式中、T1は、C3-6の第二または第三アルキル、最も好適に はイソプロピル、イソブチルまたはt−ブチルであり、そしてT2は、C12-30の アルカリール基もしくはアラルキル基、最も好適には2,6−ジ(t−ブチル) −4−メチルフェニル、2,6−ジ(t−ブチル)−4−メチルトリル、2,6 −ジ(i−ブチル)−4−メチルフェニルまたは4−(3’,5’−ジ−t−ブ チルトリル)−2,6−ジt−ブチルフェニルである]に相当する。 好適なアルミニウム化合物には、C2-6トリアルキルアルミニウム化合物、特 にアルキル基がエチル、プロピル、イソプロピル、n−ブチル、イソブチル、ペ ンチル、ネオペンチルまたはイソペンチルである化合物、 アルキル基中に炭素を1−6個とアリール基中に炭素を6から18個含むジアル キル(アリールオキシ)アルミニウム化合物[特に(3,5−ジ(t−ブチル) −4−メチルフェノキシ)ジイソブチルアルミニウム]、メチルアルモキサン、 修飾メチルアルモキサンおよびジイソブチルアルモキサンが含まれる。アルミニ ウム化合物と金属錯体のモル比を好適には1:10,000から1000:1、 より好適には1:5000から100:1、最も好適には1:100から100 :1にする。 上記バルクエレクトロリシス技術は、金属錯体の電気化学酸化を配位しない不 活性なアニオンを含む支持用電解質の存在下の電解条件下で行うことを伴う。こ の技術では、上記金属錯体を触媒的に不活性にする可能性がある電解副生成物の 生成を反応中に実質的にもたらさないような電解用溶媒、支持用電解質および電 解圧を用いる。より詳細には、適切な溶媒は、電解条件(一般的には0℃から1 00℃の温度)下で液状で上記支持用電解質を溶かす能力を有していて不活性な 材料である。「不活性な溶媒」は、電解で用いる反応条件下で還元も酸化も受け ない溶媒である。所望の電解反応を考慮して、一般的には、所望の電解で用いる 電位の影響を受けない溶媒および支持用電解質を選択することができる。好適な 溶媒にはジフルオロベンゼン(全異性体)、ジメトキシエタン(DME)および それらの混合物が含まれる。 陽極と陰極(これらをまたそれぞれ作用電極および対電極とも呼ぶ)が入って いる標準的な電解槽内で電解を実施することができる。この電解槽の建造で用い るに適切な材料はガラス、プラスチック、セラミックおよびガラス被覆金属であ る。上記電極を不活性な導電性材料から作成するが、このことは、反応混合物の 影響も反応条件の影響も受けない導 電性材料であることを意味する。白金またはパラジウムが好適な導電性の不活性 材料である。通常は、イオンを透過し得る膜、例えば微細なガラスフリットなど で電解槽を個々の区分室、即ち作用電極用区分室と対電極用区分室に分離する。 この作用電極を、活性化を受けさせるべき金属錯体、溶媒、支持用電解質および 他の任意材料(電解を適度にするか或は結果として生じる錯体の安定化で望まれ る)が入っている反応用媒体に浸漬する。上記対電極を溶媒と支持用電解質の混 合物に浸漬する。所望の電圧は、理論的な計算を行うか或は基準電極、例えば銀 電極などを電解槽の電解質に浸漬して電解槽を走査することで実験的に決定可能 である。また、電解槽の背景電流、即ち所望の電解を起こさせていない時に引き 出される電流も測定する。電流が所望レベルから背景レベルにまで降下した時点 で電解が完了する。このような様式で、初期の金属錯体が完全に変化したことを 容易に検出することができる。 適切な支持用電解質は、配位しない適合性アニオンA-とカチオンから成る塩 である。好適な支持用電解質は式: G+- [式中、 G+は、出発錯体および結果として生じる錯体に反応性を示さないカチオンであ り、そして A-は、この上で定義した通りである] に相当する塩である。 カチオンG+の例には、非水素原子数が40以下のテトラヒドロカルビル置換 アンモニウムもしくはホスホニウムカチオンが含まれる。好適なカチオンはテト ラ(n−ブチルアンモニウム)−カチオンおよびテト ラエチルアンモニウム−カチオンである。 バルクエレクトロリシスで本発明の錯体に活性化を受けさせている間、上記支 持用電解質のカチオンが対電極に移行しそしてA-が作用電極に移行して結果と して酸化を受けた生成物のアニオンになる。作用電極の所で生じる酸化された金 属錯体の量に等しいモル量で溶媒または支持用電解質のカチオンのいずれかが対 電極の所で還元を受ける。好適な支持用電解質は、各ヒドロカルビルまたはパー フルオロアリール基の炭素数が1から10のテトラキス(パーフルオロアリール )ホウ酸テトラヒドロカルビルアンモニウム塩、特にテトラキス(ペンタフルオ ロフェニル)ホウ酸テトラ(n−ブチルアンモニウム)である。 最近見い出された、活性化用共触媒を生じさせるさらなる電気化学技術は、ジ シラン化合物の電解を配位しない適合性アニオン源の存在下で行う技術である。 上記技術は上述した米国特許第5,625,087号により詳細に開示および請 求されている。 また、前記電気化学的活性化技術と活性化用共触媒を組み合わせて用いること も可能である。特に好適な組み合わせは、各ヒドロカルビル基中の炭素数が1か ら4のトリ(ヒドロカルビル)アルミニウムもしくはトリ(ヒドロカルビル)ボ ラン化合物とオリゴマー状もしくはポリマー状アルモキサン化合物の混合物であ る。 使用する触媒/共触媒のモル比を好適には1:10,000から100:1、 より好適には1:5000から10:1、最も好適には1:1000から1:1 の範囲にする。アルモキサン自身を活性化用共触媒として用いる場合には、これ を多量に用い、一般的にはモル基準で金属錯体の量の少なくとも100倍の量で 用いる。トリス(ペンタフルオロフェ ニル)ボランを活性化用共触媒として用いる場合には、金属錯体に対するモル比 が0.5:1から10:1、より好適には1:1から6:1、最も好適には1: 1から5:1になるように用いる。残りの活性化用共触媒の場合には、一般に、 それを金属錯体とほぼ等モル量で用いる。 このような方法を用いて炭素原子数が3から20のエチレン系不飽和モノマー 類を単独もしくは組み合わせて重合させることができる。好適なモノマー類には 、モノビニリデン芳香族モノマー類、4−ビニルシクロヘキセン、ビニルシクロ ヘキサン、ノルボルナジエン、およびC3-10脂肪族α−オレフィン類(特にエチ レン、プロピレン、イソブチレン、1−ブテン、1−ヘキセン、3−メチル−1 −ペンテン、4−メチル−1−ペンテンおよび1−オクテン)、C4-40ジエン類 、そしてそれらの混合物が含まれる。最も好適なモノマー類はエチレン、そして エチレンとプロピレンと非共役ジエン、特にエチリデンノルボルネンの混合物で ある。 この重合は、一般に、従来技術のチーグラー・ナッタまたはカミンスキー・シ ン型重合反応でよく知られている条件、即ち0から250℃、好適には30から 200℃の温度および大気圧から10,000気圧(1000MPa)の圧力下で 達成可能である。望まれるならば懸濁、溶液、スラリー、気相、固体状態の粉末 重合または他の重合工程条件を用いることも可能である。支持体、特にシリカ、 アルミナ、またはポリマー[特にポリ(テトラフルオロエチレン)またはポリオ レフィン]を用いることも可能であり、望ましくは、上記触媒を気相重合方法で 使用する時に用いる。このような支持体を、好適には、触媒(金属を基準):支 持体の重量比が1:100,000から1:10、より好適には1:50, 000から1:20、最も好適には1:10,000から1:30になるような 量で用いる。 大部分の重合反応で用いる触媒:重合性化合物のモル比は10-12:1から1 0-1:1、より好適には10-9:1から10-5:1である。 重合で用いるに適切な溶媒は不活性な液体である。その例には直鎖もしくは分 枝鎖炭化水素、例えばイソブタン、ブタン、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オ クタンおよびそれらの混合物、環状および脂環式炭化水素、例えばシクロヘキサ ン、シクロヘプタン、メチルシクロヘキサン、メチルシクロヘプタンおよびそれ らの混合物、完全フッ素置換炭化水素、例えば完全フッ素置換C4-10アルカン類 、そして芳香族およびアルキル置換芳香族化合物、例えばベンゼン、トルエン、 キシレンおよびエチルベンゼンなどが含まれる。また、適切な溶媒にはモノマー 類またはコモノマー類として作用し得る液状のオレフィン類も含まれ、それには 、エチレン、プロピレン、ブタジエン、シクロペンテン、1−ヘキセン、1−ヘ キサン、4−ビニルシクロヘキセン、ビニルシクロヘキサン、3−メチル−1− ペンテン、4−メチル−1−ペンテン、1,4−ヘキサジエン、1−オクテン、 1−デセン、スチレン、ジビニルベンゼン、アリルベンゼンおよびビニルトルエ ン(全ての異性体単独または混合物を包含)などが含まれる。また、前記の混合 物も使用に適切である。 所望特性のポリマーブレンド物を調製しようとする場合には、個別の反応槽を 直列または並列でつなげて、上記反応槽の中で上記触媒を少なくとも1種の追加 的均一もしくは不均一重合用触媒と組み合わせて用いることも可能である。その ような方法の例がWO 94/00500(米国連続番号07/904,770 に相当)ばかりでなくWO 94/1 7112(1993年1月29日付けで提出した米国連続番号08/10958 に相当)にも開示されている。 本発明の触媒を用いると、コモノマーの組み込み度が高く、相当して密度が低 い上に低いメルトインデックスを示すコポリマー類を容易に製造することができ る。即ち、本触媒を用いると反応槽の温度を高くしても高い分子量を有するポリ マー類が容易に得られる。その結果として水素または同様な連鎖移動剤を用いて α−オレフィンコポリマー類の分子量を容易に下げることができる(しかしなが ら、通常は反応槽の重合温度を下げることでのみα−オレフィンコポリマー類の 分子量を高くすることができる)ことから、それは非常に望ましいことである。 重合反応槽を低い温度で操作すると、不利に、反応温度を低く維持するには熱を 反応槽から取り除く必要があると同時に溶媒を蒸発させる目的で熱を反応槽流出 物に加える必要があることから、操作費用が有意に高くなってしまう。加うるに 、ポリマーの溶解度が向上し、溶液の粘度が低下しかつポリマーの濃度をより高 くすることができることから、生産性が高くなる。本触媒を用いた高温方法では 密度が0.85g/cm3から0.96g/cm3でメルトフロー率が0.001 から10.0dg/分のα−オレフィンホモポリマー類およびコポリマー類が容 易に得られる。 本発明のポリマー類は長鎖分枝を好適には高いレベルで有する。連続重合方法 、特に連続溶液重合方法における本発明のポリマー類の製造で本明細書に記述す る触媒を用いると反応槽の温度を高くすることが可能になり、これは、ビニル末 端を有するポリマー鎖の生成にとって好都合で、成長するポリマーが上記ビニル 末端に組み込まれ得ることから長鎖分枝が生じ得る。本発明のポリマー類の製造 で本明細書に開示する触媒 を用いると、有利に、高圧フリーラジカル製造の低密度ポリエチレンに類似した 加工性を示すエチレン/α−オレフィンコポリマー類を経済的に製造することが 可能になる。 本発明のポリマー類はビニルをFTIRで測定して好適には炭素1000個当 たり少なくとも0.03個、より好適には少なくとも0.04個持つであろう。 本発明のポリマー類は、好ましくは、長鎖分枝を有し、好適には長鎖分枝を炭 素1000個当たり0.01から3個有するとして特徴づけられる。存在する長 鎖分枝の量を測定する方法は、定性方法および定量方法の両方とも本技術分野で 公知である。 定量的測定方法に関しては、例えば米国特許第5,272,236号および5 ,278,272号[これらにはメルトフラクチャー(melt fractu re)現象の識別で見掛けせん断速度に対する見掛けせん断応力のプロットを用 いることが開示されている]を参照のこと。本発明の好適なポリマー類は、(a )本発明のポリマーの場合の表面メルトフラクチャーが起こり始める時の臨界せ ん断速度が、同じコモノマーまたはコモノマー類が用いられていて本発明のポリ マーが示すI2、Mw/Mnおよび密度の10パーセント以内にあるI2、Mw/Mn および密度を有する線状ポリマーの場合の表面メルトフラクチャーが起こり始め る時の臨界せん断速度より、少なくとも50パーセント大きい[ここで、本発明 のポリマーおよび上記線状ポリマーの各々が示す臨界せん断速度は気体押出しレ オメーター(gas extrusion rheometer)を用いて同じ 溶融温度で測定した臨界せん断速度である]か或は(b)気体押出しレオメトリ ー(rheometry)で測定し た時にグロス(gross)メルトフラクチャーが起こり始める時の臨界せん断 速度が4x106ダイン/cm2を越えるような気体押出しレオロジー(gas extrusion rheology)を示す。 定量的測定方法に関しては、例えば米国特許第5,272,236号および5 ,278,272号、Randall(Rev.Macromol.Chem.Phys.,C29(2&3),285-2 97頁)[これらには13C核磁気共鳴分光法を用いた長鎖分枝測定が考察されて いる]:Zimm,G.H.およびStockmayer,W.H., J.Chem.Phys.,17,1301(1949) ;そしてRudin,A.,Modern Methodsof Polymer Characterization,John Wiley & Sons,ニューヨーク(1991)103-112頁[これには低角レーザー光散乱検出器を つなげたゲル浸透クロマトグラフィー(GPC−LALLS)および示差粘度測 定検出器をつなげたゲル浸透クロマトグラフィー(GPC−DV)の使用が考察 されている]を参照のこと。 本発明のポリマー類は、更に、メルトフロー比(I10/I2)を多分散指数、 即ち分子量分布(Mw/Mn)から独立させて変えることができるとして特徴づけ られる。このような特徴は、本発明のポリマー類は狭い分子量分布を示すにも拘 らず高い度合の加工性を有することに一致する。本発明のポリマー類が示すI10 /I2は、好ましくは少なくとも10、好適には少なくとも15であり、20を 越えるI10/I2値も可能である。 本発明の好適なコポリマー類は二頂分子量分布を示すとして特徴づけられるこ とを更にATREF/DVを用いて説明する。ATREFのピークは極めて鮮明 で、支持型触媒系を用いて製造されたコポリマー類から区別可能であることを注 目することは重要である。具体的には、 (i)最大のATREFピーク高を測定し、(ii)最大ピーク高の1/2の所 の全ATREFピークの幅を測定し、ATREF形状係数、即ち(ii)/(i )の比率を計算し、そして平均ATREF溶出温度、即ち(最低ATREF溶出 温度十最高ATREF温度)/2を決定する。本発明のポリマー類は、下記の不 等式: ATREF形状係数≦0.90−0.00626(平均溶出温度) を満足させ、好適には下記の不等式: ATREF形状係数≦0.75−0.00626(平均溶出温度) を満足させ、最も好適には下記の不等式: ATREF形状係数≦0.70−0.00626(平均溶出温度) を満足させるATREF曲線を示すとして特徴づけられる。 本発明のポリマー組成物は、他の画分よりも高い結晶度を有する画分を有する として特徴づけられる。本発明のポリマー組成物に結晶度がより高い画分が存在 していることは、それが示す上方の使用温度が比較組成物に比較して高いと解釈 される。この上方の使用温度は、温度に対してプロットしたlog G1の上方 の非溶融高原部領域(non−melted plateau region) と降下する溶融過渡領域(melting transition regio n)を交差するように引いた線の交点であるとして定義可能である。好適には、 本オレフィンインターポリマーが示す上方の使用温度[UST(インターポリマ ー)]の方が、1番目の密度に等しい密度と1番目のI2に等しいI2を有してい て1番目の重量パーセントで与えられた1番目の均一オレフィンポリマーと2番 目の密度に等しい密度と2番目のI2に等しいI2を有していて2番目の重量パー セントで与えられた2番目の均一オレフィンポリ マーから成る物理的ブレンド物が示す上方の使用温度[UST(ブレンド)]よ りも、下記の不等式: UST(インターポリマー)−UST(ブレンド)≧256−275(オレフィ ンインターポリマーの密度) に従って大きい。 本発明のポリマー類は、好適には、これらがエチレン単独の重合で得られたも のであるか或はエチレン/α−オレフィン混合物と一緒に低レベルの「H」分枝 誘発ジエン(branch inducing diene)、例えばノルボル ナジエン、1,7−オクタジエンまたは1,9−デカジエンの重合で得られたも のであるかに拘らず、向上した加工特性を示す。高い反応槽温度と、反応槽の温 度を高くした時の高い分子量(または低いメルトインデックス)と高いコモノマ ー反応性をユニークに組み合わせることで、有利に、優れた物性と加工性を示す ポリマー類を経済的に製造することが可能になる。そのようなポリマー類を好適 にはエチレンとC3-20α−オレフィンと「H」分枝用コモノマーで構成させる。 好適には、上記ポリマー類を溶液方法、最も好適には連続溶液方法で製造する。 この上に述べたように、本発明のポリマー類の製造は溶液またはスラリー方法 で実施可能であり、これらは両方とも以前から本技術分野で公知である。Kam inskyは、J.Poly.Sci.、23巻の2151−64頁(1985 )に、可溶なビス(シクロペンタジエニル)ジルコニウムジメチル−アルモキサ ン触媒系をEPおよびEPDMエラストマー類の溶液重合で用いることを報告し た。米国特許第5,229,478号に同様なビス(シクロペンタジエニル)ジ ルコニウムを基とす る触媒系を用いたスラリー重合方法が開示された。 一般的な意味でそのようなEPおよびEPDMエラストマー類の製造をジエン モノマー成分の反応性が高くなるような条件下で行う方が望ましい。この理由が 米国特許第5,229,478号に下記の様式で説明されていて上記文献で進展 が達成されたにも拘らずまだ真のままである。製造費用に影響を与える、従って EPDMの有用性に影響を与える主要因はジエンモノマーのコストである。この ジエンはエチレンよりもまたプロピレンよりも高価なモノマー材料である。更に 、以前から知られていたメタロセン触媒を用いた場合にジエンモノマー類が示す 反応性はエチレンおよびプロピレンのそれよりも低い。その結果として、容認さ れ得る速い硬化速度を示すEPDMを製造するに必要な度合のジエン組み込みを 達成するには、使用するジエンモノマーの濃度を、存在させるモノマー全体濃度 のパーセントとして表して、最終的なEPDM生成物に組み込むことが望まれる ジエンのパーセントに比較して実質的に過剰にする必要があった。実質的な量で 存在する未反応のジエンモノマーを重合反応槽の流出液から回収して再利用する 必要があることから、製造費用が不必要に高くなる。 オレフィン重合用触媒をジエン、特に最終的なEPDM生成物に組み込まれる ジエンのレベルが必要なレベルになるような高い濃度のジエンモノマーに接触さ せると一般に上記触媒がエチレンおよびプロピレンモノマー類の重合を進行させ る速度または活性がしばしば低下することが、EPDMの製造費用に更に加わる 。それに相当して、エチレン−プロピレン共重合体であるエラストマーまたは他 のα−オレフィン共重合体であるエラストマーの製造に比較して処理能力が低く なりかつ要する反応 時間が長くなっていた。 本触媒系を用いると有利にジエンの反応性が高くなることでEPDMポリマー 類を高い収率および高い生産率で製造することが可能になる。加うるに、本発明 の触媒系を用いると、ジエン含有量が20重量パーセント以上に及ぶEPDMポ リマー類の経済的生産が達成され、そのようなポリマー類が示す硬化速度は非常 に望ましく速い。 そのような非共役ジエンモノマーは炭素原子数が6から15の直鎖、分枝鎖ま たは環状の炭化水素ジエンであり得る。適切な非共役ジエン類の例は、非環状の 直鎖ジエン類、例えば1,4−ヘキサジエンおよび1,6−オクタジエンなど; 非環状の分枝鎖ジエン類、例えば5−メチル−1,4−ヘキサジエン、3,7− ジメチル−1,6−オクタジエン、3,7−ジメチル−1,7−オクタジエン、 およびジヒドロミリセンとジヒドロオシネンの混合異性体、単環脂環式ジエン類 、例えば1,3−シクロペンタジエン、1,4−シクロヘキサジエン、1,5− シクロオクタジエンおよび1,5−シクロドデカジエンなど、そして多環脂環式 縮合および橋状環ジエン類、例えばテトラヒドロインデン、メチルテトラヒドロ インデン、ジシクロペンタジエン、ビシクロ−(2,2,1)−ヘプタ−2,5 −ジエン;アルケニル、アルキリデン、シクロアルケニルおよびシクロアルキリ デンノルボルネン、例えば5−メチレン−2−ノルボルネン(MNB)、5−プ ロペニル−2−ノルボルネン、5−イソプロピリデン−2−ノルボルネン、5− (4−シクロペンテニル)−2−ノルボルネン、5−シクロヘキシリデン−2− ノルボルネン、5−ビニル−2−ノルボルネンおよびノルボルナジエンである。 別の好適なジエンはピペリレンである。 EPDMの製造で典型的に用いるジエン類の中で特に好適なジエン類は、1, 4−ヘキサジエン(HD)、5−エチリデン−2−ノルボルネン(ENB)、5 −ビニリデン−2−ノルボルネン(VNB)、5−メチレン−2−ノルボルネン (MNB)およびジシクロペンタジエン(DCPD)である。特に好適なジエン 類は5−エチリデン−2−ノルボルネン(ENB)および1,4−ヘキサジエン (HD)である。別の好適なジエンはピペリレンである。 好適なEPDMエラストマー類は、エチレンを20から90重量パーセント、 より好適にはエチレンを30から85重量パーセント、最も好適にはエチレンを 35から80重量パーセント含めたものであり得る。 エチレンとジエンを用いてエラストマー類を製造する時に用いるに適切なアル ファ−オレフィン類は、好適には、C3-16アルファ−オレフィン類である。上記 アルファ−オレフィン類の説明的非制限例は、プロピレン、1−ブテン、1−ペ ンテン、1−ヘキセン、1−オクテン、1−デセンおよび1−ドデセンである。 このようなアルファ−オレフィンをEPDMポリマーに一般に10から80重量 パーセント、より好適には20から65重量パーセント組み込む。上記非共役ジ エンをEPDMに一般に0.5から20重量パーセント、より好適には1から1 5重量パーセント、最も好適には3から12重量パーセント組み込む。望まれる ならば、2種以上のジエン、例えばHDとENBを同時に組み込むことも可能で あるが、ジエン全体の組み込みをこの上に示した範囲内にする。 本触媒系は、重合を溶液重合手順で実施する場合には必要な成分を溶媒に添加 することを通して均一触媒として調製可能である。また、必要な成分を触媒支持 体材料、例えばシリカゲル、アルミナまたは他の適切 な無機支持体材料に吸着させることを通して、本触媒系を不均一触媒として調製 して用いることも可能である。この調製を不均一形態、即ち支持型形態で行う場 合、シリカを支持体材料として用いるのが好適である。スラリー重合の場合には 本触媒系を不均一形態で用いる。実用上の制限として、ポリマー生成物が実質的 に不溶な液状希釈剤中でスラリー重合を実施する。スラリー重合用の希釈剤は、 好適には、炭素原子数が5未満の1種以上の炭化水素である。望まれるならば、 飽和炭化水素、例えばエタン、プロパンまたはブタンなどを希釈剤全体としてか 或は一部として用いることも可能である。同様に、α−オレフィンモノマーまた はいろいろなα−オレフィンモノマー類の混合物を希釈剤全体としてか或は一部 として用いることも可能である。最も好適には、重合させるべきα−オレフィン モノマーまたはモノマー類で希釈剤の少なくとも主要部分を構成させる。 それとは対照的に、溶液重合条件では、個々の反応成分、特にEPまたはEP DMポリマーのための溶媒を用いる。好適な溶媒には、反応温度で液状の鉱油お よびいろいろな炭化水素が含まれる。有用な溶媒の説明的例にはアルカン類、例 えばペンタン、イソペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタンおよびノナンなど ばかりでなく、アルカン類の混合物[これにはケロセンおよびExxon Ch emicals Inc.から入手可能なIsopar E(商標)が含まれる ]、シクロアルカン類、例えばシクロペンタンおよびシクロヘキサンなど、そし て芳香族、例えばベンゼン、トルエン、キシレン類、エチルベンゼンおよびジエ チルベンゼンなどが含まれる。 常に、個々の材料ばかりでなく回収した触媒成分も酸素および水分か ら保護すべきである。従って、触媒成分および触媒の調製および回収を酸素も水 分も含まない雰囲気中で行うべきである。従って、好適には、反応を乾燥した不 活性ガス、例えば窒素などの存在下で実施する。 エチレンを反応槽に差圧(differential pressure)が α−オレフィンとジエンモノマーを一緒にした蒸気圧よりも高い圧力に維持され るような量で加える。このポリマーのエチレン含有量は反応槽の全圧に対するエ チレンの差圧の比率で決定される。一般的には、エチレンの差圧が10から10 00psi(70から7000kPa)、最も好適には40から400psi( 30から300kPa)になるように重合方法を実施する。この重合を一般に2 5から200℃、好適には75から170℃、最も好適には95℃を越える温度 から140℃の温度で実施する。 この重合はバッチ式または連続重合方法として実施可能である。連続方法が好 適であり、この場合には、触媒、エチレン、α−オレフィンおよび場合により溶 媒およびジエンを反応ゾーンに連続供給してポリマー生成物をそこから連続的に 取り出す。 本発明の範囲を決して制限するものでないが、そのような重合方法を実施する 1つの手段は下記の通りである。撹拌タンク反応槽にプロピレンモノマーを溶媒 、ジエンモノマーおよびエチレンモノマーと一緒に連続導入する。この反応槽の 内容物はエチレンとプロピレンとジエンモノマーに加えて任意の溶媒または追加 的希釈剤で実質的に構成される液相である。望まれるならば、また、「H」分枝 誘発ジエン、例えばノルボナジエン、1,7−オクタジエンまたは1,9−デカ ジエンなどを少量添加することも可能である。この反応槽に入っている液相に触 媒および 共触媒を連続的に導入する。溶媒/モノマーの比率および触媒添加速度を調整す ることに加えて冷却用もしくは加熱用コイル、ジャケットまたは両方を利用して 、上記反応槽の温度および圧力を調節することができる。触媒添加速度を利用し て重合速度を調節する。ポリマー生成物のエチレン含有量は、反応槽に入れるエ チレンとプロピレンの比率で決定され、上記比率を、上記成分を反応槽に供給す る時の個々の供給速度を操作することで調節する。本技術分野でよく知られてい るように、場合により、他の重合変数、例えば温度、モノマー濃度などを調節す るか、或は水素の流れを反応槽に導入することを通して、ポリマー生成物の分子 量を調節することも可能である。反応槽の流出物を触媒失活剤(catalys t kill agent)、例えば水などに接触させる。場合により、ポリマ ー溶液を加熱し、そして気体状のエチレンおよびプロピレンばかりでなく残存す る溶媒または希釈剤を減圧下で瞬間的に蒸発させ(flashing off) そして必要ならば揮発物除去用(devolatilizing)押出し加工機 などの如き装置を用いてさらなる揮発物除去を行うことを通して、ポリマー生成 物を回収することも可能である。連続方法の場合に触媒およびポリマーが反応槽 内に存在する平均滞留時間を一般に5分から8時間、好適には10分から6時間 にする。 好適な様式の操作では、直列または並列連結の2基の反応槽を含んで成る連続 溶液重合装置で重合を実施する。1つの反応槽内で分子量(Mw)が300,0 00から600,000、より好適には400,000から500,000の生 成物を生じさせる一方で2番目の反応槽内で50,000から300,000の 2番目の分子量(Mw)を有する生成物を 生じさせる。最終的な生成物は、上記2基の反応槽の流出物が一緒になったブレ ンド物であり、その後、それに揮発物除去を受けさせる結果として上記2つのポ リマー生成物の均一なブレンド物を生じさせる。そのような2基の反応槽を利用 した方法を用いると向上した特性を示す生成物の製造が可能になる。好適な態様 では、上記反応槽を直列に連結する、即ち1番目の反応槽から出る流出物を2番 目の反応槽に仕込みそしてこの2番目の反応槽に新しいモノマー、溶媒および水 素を添加する。1番目の反応槽で生じるポリマーと2番目の反応槽で生じるポリ マーの重量比が20:80から80:20になるように反応槽の条件を調整する 。加うるに、2番目の反応槽の温度を分子量がより低い生成物が生じるように調 節する。このような装置を用いると有利に幅広い範囲のムーニー粘度を示すばか りでなく優れた強度と加工性を有するEPDM生成物を製造することが可能にな る。好ましくは、結果として得る生成物が示すムーニー粘度(ASTM D 1 646−94、125℃におけるML1+4)が1から200、好適には5から 150、最も好適には10から110の範囲になるようにそれを調整する。実施例 技術者は、本明細書に開示した発明は具体的に開示しなかった任意成分の存在 なしに実施可能であることを理解するであろう。本発明のさらなる説明として以 下の実施例を与え、これは制限であるとして解釈されるべきでない。反すると述 べない限り、部およびパーセントを全部重量を基準にして表す。 1Hおよび13C NMRスペクトルをVarian XL(300MHz)分 光測定装置で記録した。化学シフトをTMSを基準にして決定 するか、或はCDCl3中に残存するCHCl3またはC66中に残存するC6H D5を通してTMS基準で決定した。テトラヒドロフラン(THF)、ジエチル エーテル、トルエンおよびヘキサンを使用する場合、活性アルミナとアルミナに 支持されている混合金属酸化物触媒[Engelhard Corp.から入手 可能なQ−5(商標)触媒]が充填されている2本のカラムに通した後に使用し た。化合物であるn−BuLi、KH、グリニヤール試薬全部および1,4−ジ フェニル−1,3−ブタジエンを使用する場合には全部Aldrich Che mical Companyから購入したまま使用した。全ての合成をグローブ ボックスと高真空技術の組み合わせを利用した乾燥窒素雰囲気下で実施した。触媒1の調製: [(N−イソプロピルアミド)(ジメチル)(2,3,4,6− テトラメチルインデニル)シラン]チタンジメチルジメチルシリル(2,3,4,6−テトラメチルインデニル)(イソプロピルア ミン)の調製: ジメチルシリル(2,3,4,6−テトラメチルインデニル)Cl(22.2 9グラム、84.17ミリモル)をTHF中で撹拌しながらi−PrNH2(2 8.68mL、336.7ミリモル)を加えた。この混合物を16時間撹拌した 。揮発物を減圧下で除去した。その残渣をヘキサンで抽出した後、10−15m mのガラスフリットの上に置いた濾過助剤であるケイソウ土に通して濾過した。 ヘキサンを減圧下で除去することで生成物を黄色油状物として得た。収量:17 .23グラム、71パーセント。[(N−イソプロピルアミド)(ジメチル)(2,3,4,6−テトラメチルイ ンデニル)シラン]チタンジクロライドの調製: ドライボックス内で500mLの丸底シュレンク(schlenk)フラスコ にヘキサンを350mL入れて、それにジメチルシリル(2,3,4,6−テト ラメチルインデニル)(イソプロピルアミン)を17.23グラム(59.93 ミリモル)溶解させた。次に、シリンジでn−BuLiを2当量(ヘキサン中2 .5Mを47.94mL)加えた。この反応物を12時間撹拌した。溶媒を減圧 下で除去することでオレンジ色の粉末を得た。この粉末を250mLのTHFに 溶解させた。TiCl3(THF)3(22.2グラム、59.93ミリモル)を 固体として加えた。15分後、CH2Cl2(2.48mL、29.97ミリモル )を加えた。2時間後、溶媒を減圧下で除去した。その残渣をトルエンで抽出し た後、10−15mmのガラスフリットの上に置いた濾過助剤であるケイソウ土 に通して濾過した。トルエンを減圧下で除去した。その残渣をヘキサンに入れて スラリー状にした後、10から15mmのガラスフリットで濾過した。その残渣 を減圧下で乾燥させることで赤色粉末を得た。収量:12.3グラム、51パー セント。[(N−イソプロピルアミド)(ジメチル)(2,3,4,6−テトラメチルイ ンデニル)シラン]チタンジメチルの調製: ドライボックス内で250mLの丸底フラスコにEt2Oを150mL入れて 、それに[(N−イソプロピルアミド)(ジメチル)(2,3,4,6−テトラ メチルインデニル)シラン]チタンジクロライド(6.92グラム、17.12 ミリモル)を懸濁させた。THF中3.0MのMeMgCl溶液を2当量(11 .41mL、34.23ミリモル)加えた。この混合物を1時間撹拌した。揮発 物を減圧下で除去した。その残渣をヘキサンで抽出した後、10から15mmの ガラスフリットの上 に置いた濾過助剤であるケイソウ土に通して濾過した。ヘキサンを減圧下で除去 することでオレンジ色の粉末を得た。収量:5.8グラム、93パーセント。触媒組成物2の調製: [(N−シクロヘキシルアミド)(ジメチル)(2,3, 4,6−テトラメチルインデニル)シラン]チタンジメチルジメチルシリル(2 ,3,4,6−テトラメチルインデニル)(シクロヘキシルアミン)の調製: ジメチルシリル(2,3,4,6−テトラメチルインデニル)Cl(9.95 グラム、37.8ミリモル)をヘキサン(200mL)中で撹拌しながらNEt3 (4.1g、40.6ミリモル)に続いてシクロヘキシルアミン(4.05g 、40.8ミリモル)を加えた。この混合物を20℃で24時間撹拌した。この 反応時間後、上記混合物を濾過し、揮発物を除去した後、所望の生成物を淡黄色 の油状物として単離した(10.98g、収率89.3パーセント)。ジリチウム(N−シクロヘキシルアミド)(ジメチル)(2,3,4,6−テト ラメチルインデニル)シランの調製: ドライボックス内で300mLのヘキサンに(N−シクロヘキシルアミド)( ジメチル)(2,3,4,6−テトラメチルインデニル)シランを4.0g(1 2.6ミリモル)溶解させた。この溶液に20℃でnBuLi(2.00M)を 12.6ml(25.2ミリモル)滴下した。このnBuLiの滴下が終了した 時点で、その溶液を12時間撹拌した後、溶媒を減圧下で除去することで黄色− オレンジ色の粉末を4.12g(収率96パーセント)得た。[(N−シクロヘキシルアミド)(ジメチル)(2,3,4,6−テト ラメチルインデニル)シラン]チタンジクロライドの調製: ドライボックス内で75mLのTHFにTiCl3(THF)3を4.63g( 12.5ミリモル)溶解させた。この溶液を20℃で撹拌しながら、これにジリ チウム(N−シクロヘキシルアミド)(ジメチル)(2,3,4,6−テトラメ チルインデニル)シランを固体として4.12g(12.5ミリモル)加えた。 次に、この溶液を45分間撹拌した。この時間が経過した後、PbCl2を1. 73g(6.25ミリモル)加えて、その溶液を45分間撹拌した。次に、TH Fを減圧下で除去した。次に、その残渣をトルエンで抽出し、その溶液を濾過し た後、トルエンを減圧下で除去した。次に、その残渣をヘキサンと一緒にすり潰 した後、溶液の体積を小さくすると、赤色の沈澱物が生じ、これを濾過で集めて 冷(0℃)ヘキサンで洗浄した。この固体状生成物を真空下で乾燥させることで 生成物を1.70g(収率31パーセント)得た。[(N−シクロヘキシルアミド)(ジメチル)(2,3,4,6−テトラメチル インデニル)シラン]チタンジメチルの調製: ドライボックス内で50mLのEt2Oに20℃で[(N−シクロヘキシルア ミド)(ジメチル)(2,3,4,6−テトラメチルインデニル)シラン]チタ ンジクロライドを0.300g(0.675ミリモル)懸濁させた。この懸濁液 を撹拌しながらこれに20分かけてMeMgI(3.0M)を0.45ml滴下 した。このMeMgIの滴下が終了した後、その溶液を40分間撹拌した。次に 、Et2Oを減圧下で除去し、その残渣をヘキサンで抽出し、その溶液を濾過し た後、その濾液を減圧下で蒸発乾固させることで、生成物を0.27g(収率1 00パーセント)得た。触媒組成物3の調製 :[(テトラメチルシクロペンタジエニル)ジメチル(t− ブチルアミド)シラン]チタン1,3−ペンタジエンTiCl3(DME)1,5の調製 フラッシュ取り付け(flush mounted)ボトムバルブ、五口の頭 部、ポリテトラフルオロエチレン製ガスケット、クランプおよび撹拌機構成要素 (軸受け、軸およびパドル)が備わっている10Lのガラス容器から成る装置( R−1と呼ぶ)をフード内で組み立てて窒素でパージ洗浄した。上記口に下記を 取り付けた:中心の口に撹拌機構成要素を取り付け、そして外側の口に還流コン デンサ(ガス入り口/出口が上に付いている)、溶媒用入り口、熱電対およびス トッパーを取り付けた。このフラスコに、脱酸素しておいた乾燥ジメトキシエタ ン(DME)を加えた(約5.2L)。ドライボックス内でTiCl3を300 g重量測定して粉末添加用均圧漏斗に入れ、この漏斗に蓋をし、上記ドライボッ クスから取り出した後、これをストッパーの代わりに上記反応容器に取り付けた 。撹拌しながら約10分かけてTiCl3を添加した。この添加が終了した後、 追加的にDMEを用いて残りのTiCl3を洗浄して上記フラスコの中に入れた 。次に、TiCl3を追加的に325g用いて上記過程を繰り返した(TiCl3 が全体で625gになった)。この添加用漏斗をストッパーに代えて、上記混合 物を還流にまで加熱した。色が紫色から淡い青色に変わった。この混合物を約5 時間加熱し、室温に冷却し、固体を沈降させた後、この固体から上澄み液をデカ ンテーションで除去した。TiCl3(DME)1,5がR−1内に淡い青色の固体 として残存した。[(Me45)SiMe2NtBu][MgCl]2の調製 フラスコの大きさを30Lにする以外はR−1で記述したのと同様にして装置 (R−2と呼ぶ)を組み立てた。この頭部には口が7個備わっており、中心の口 に撹拌機を取り付け、そして外側の口に、コンデンサ(窒素入り口/出口が上に 付いている)、真空アダプタ、試薬添加用管、熱電対およびストッパーを含めた 。このフラスコに、トルエンを7L、Et2O中2.17MのiPrMgClを 3.09kg、THFを250mLおよび(Me45H)SiMe2NHtBu を1.03kg仕込んだ。次に、この混合物を加熱してエーテルを沸騰で除去し て、−78℃に冷却されているトラップに入れた。3時間後、上記混合物の温度 が80℃に到達し、この時点で白色の沈澱物が生じた。次に、温度を30分かけ て90℃にまで高めてこの温度を2時間保持した。この時間が終了した後、ヒー ターを切って、この熱溶液を撹拌しながらこれにDMEを2L加えると、結果と して追加的沈澱物が生じた。この溶液を室温に冷却し、材料を沈降させ、そして この固体から上澄み液をデカンテーションで除去した。トルエンを添加し、数分 間撹拌し、固体を沈降させそしてトルエン溶液のデカンテーションを行うことに よる追加的洗浄を実施した。[(Me45)SiMe2NtBu][MgCl]2 がR−2内にオフホワイト(off−white)の固体として残存した。[(η5−Me45)SiMe2NtBu]Ti(η4−1,3−ペンタジエン) の調製 R−1に入っている材料およびR−2に入っている材料をDMEに入れてスラ リー状にした(この混合物全体の体積はR−1中の約5LとR−2中の12Lで あった)。10Lのフラスコのボトムバルブに連結させた移送用管および30L のフラスコに備わっている頭部開口部の1つ を用いて、R−1の内容物をR−2に移した。R−1に入っている残りの材料を 追加的DMEで洗浄して移した。この混合物は迅速に暗色になって深赤色/褐色 になった。15分後、1050mLの1,3−ペンタジエンと2.60kgのT HF中2.03Mのn−BuMgClを同時に加えた。この添加中にフラスコ内 の最大温度が53℃に到達した。この混合物を2時間撹拌した後、真空下で溶媒 を約11L除去した。次に、ヘキサンを上記フラスコに全体体積が22Lになる ように加えた。材料を沈降させ、そして液層(12L)をデカンテーションで別 の30Lガラス容器(R−3)に入れた。ヘキサンをR−2に加えて50分間撹 拌しそして再び沈降させてデカンテーションを行うことで生成物の溶液を更に1 5リットル集めた。この材料を最初にR−3内で抽出した材料と一緒にした。R −3に入っている溶媒を真空下で除去すると赤色/黒色固体が残存し、これを次 にトルエンで抽出した。この材料を貯蔵用シリンダーに移した。分析の結果、こ の溶液(11.75L)はチタンに関して0.255Mであることが示され、こ れは3.0モルの[(η5−Me45)SiMe2NtBu]Ti(η4−1,3 −ペンタジエン)または1095gに等しい。これはTiCl3として添加した チタンを基準にして74パーセントの収率である。可溶なホウ酸塩共触媒の調製 :((ビス(水添タロウ(tallow)アルキル )メチルアミン)(B−FABA) メチルシクロヘキサン(1200mL)を2Lの円柱形フラスコに入れた。撹 拌しながら上記フラスコにビス(水添タロウアルキル)メチルアミン[ARME EN(商標)M2HT、粒子形態に粉砕しておいた104g]を加えて、それが 完全に溶解するまで撹拌した。このフラスコ にHCl水溶液(1M、200mL)を加えた後、その混合物を30分間撹拌し た。直ちに白色沈澱物が生じた。この時間が終了した時点で、上記フラスコにL iB(C654・Et2O・3LiCl(MW=887.3;177.4g)を 加えた。溶液が乳白色に変わり始めた。上記フラスコに6インチ(15cm)の Vigreuxカラムを取り付けて、その上部に蒸留装置を取り付けた後、上記 混合物を加熱した(外部壁の温度140℃)。このフラスコからエーテルとメチ ルシクロヘキサンの混合物を留出させた。この時点で2相の溶液が若干のみ曇っ ていた。この混合物を室温に冷却した後、その内容物を4Lの分液漏斗に入れた 。水層を除去して廃棄した後、有機層をH2Oで2回洗浄して、その水層も再び 廃棄した。生成物が入っている溶液を等しく2分割して2種類の処理手順で評価 した。そのようにH2Oが飽和状態になっているメチルシクロヘキサン溶液には ジエチルエーテル(Et2O)が0.48重量パーセント含まれていることを測 定した。 この溶液(600mL)を1Lのフラスコに移し、窒素で徹底的にスパージし (sparged)た後、ドライボックスの中に移した。この溶液をモレキュラ ーシーブが13倍の量で入っているカラム[直径が1インチ(2.5cm)で高 さが6インチ(15cm)]に通した。それによってEt2Oのレベルが0.4 8重量パーセントから0.28重量パーセントにまで低下した。次に、この材料 を13倍の量の新鮮なシーブ(20g)と一緒に4時間撹拌した。この時点で測 定したEt2Oレベルは0.19重量パーセントであった。次に、この混合物を 一晩撹拌すると、Et2Oのレベルが更に低下して約40ppmに到達した。孔 サイズが10から15μmのガラスフリットが備わっている漏斗を用い て上記混合物を濾過することで透明な溶液を得た(乾燥したメチルシクロヘキサ ンを追加的に用いて上記モレキュラーシーブを濯いだ)。濃度を重量分析で測定 した結果、16.7重量パーセントの値が得られた。本発明の実施例および比較実施例のポリマー類の重合 本実施例のポリマー生成物の製造を、撹拌が良好な再循環ループ(recir culating loop)反応槽を利用した溶液重合方法で実施した。触媒 1を用いてポリマー類を製造する場合に使用した添加剤パッケージは、ステアリ ン酸カルシウムが1500ppmでIrganox(商標)1076ヒンダード フェノール系抗酸化剤が600ppmでPEPQ(テトラキス(2,4−ジ−t −ブチルフェニル)−4,4’−ビフェニレンジホスホナイト)(Claria nt Corporationから入手可能)が950ppmのパッケージであ った。触媒2を用いてポリマー類を製造する場合に使用した添加剤パッケージは 、ステアリン酸カルシウムが1450ppmでIrganox(商標)1076 が600ppmでPEPQが930ppmのパッケージであった。触媒3を用い てポリマー類を製造する場合に使用した添加剤パッケージは、ステアリン酸カル シウムが640ppmでIrganox(商標)1076が260ppmでPE PQが400ppmのパッケージであった。 エチレンと水素(加うるに、分離装置からいくらか循環して来るエチレンと水 素)を一緒にして1つの流れにした後、希釈剤混合物、即ちC8−C10飽和炭化 水素、例えばISOPAR(商標)−E(Exxon Chemical Co mpanyから入手可能)とコモノマーである1−オクテンの混合物に導入した 。 金属錯体と共触媒を一緒にして1つの流れにした後、これもまた連続的に上記 反応槽に注入した。実施例1a、1bおよび1cの場合に用いた触媒は、触媒調 製1で調製した如き触媒であった。実施例2a、2b、2cおよび2dの場合に 用いた触媒は、触媒調製2で調製した如き触媒であった。比較実施例C−3aお よびC−3bの場合に用いた触媒は、触媒調製3で調製した如き触媒であった。 本実施例および比較実施例の各々で用いた主要共触媒および二次的共触媒は共触 媒実施例1および共触媒実施例2で調製した如き共触媒であった。 上記金属錯体と共触媒が重合反応槽に入る前にそれらが反応するに充分な滞留 時間を設けた。反応槽の圧力を約450から475psi(3.1から3.3M Pa)で一定に保持した。 重合後、反応槽から出る流れを分離装置に送り込み、その中で溶融ポリマーか ら未反応のコモノマー(類)、未反応のエチレン、未反応の水素および希釈剤混 合物流れを分離し、それらを今度は再循環させて新鮮なコモノマー、エチレン、 水素および希釈剤と組み合わせて反応槽に導入した。その後、上記溶融ポリマー をストランド状にして細断またはペレット状にし、水浴またはペレタイザー内で 冷却した後、この固体状のペレットを集めた。表1に重合条件および結果として 得たポリマーの特性を記述する。 以下の表2に、触媒組成物1および2を用いて製造した本発明のポリマー類が 示すメルトインデックス(I2)、密度およびメルトフロー比(I10/I2)を触 媒組成物3を用いて製造したエチレン/オクテンコポリマー類のそれらと比較す る。触媒組成物1および2を用いて製造したコポリマー類の分子量の方が触媒組 成物3を用いて製造したコポリマーのそれよりも有意に高かった。例えば、反応 槽の温度を122℃にした時、触媒1を用いた場合にもたらされたポリマーが示 したI2は0.7dg/分である一方、触媒3を用いた場合にもたらされたポリ マーが示したI2は116dg/分であった。触媒1および2を用いると特定の 分子量を有するコポリマーをより高い反応槽温度で製造することが可能になり、 このように溶液粘度が低くなり、反応槽圧力降下の度合が低下し、反応槽の汚れ が低下しかつ工程全体としての経済性が向上する点で、その方が有利である。 表2に更に示すように、触媒1および2を用いて生じさせたコポリマー類が示 すメルトフロー比の方が高い。そのようにメルトフロー比が高いことは、コポリ マーが示すメルトフロー比が高ければ高いほど加工が容易になり、例えばそのよ うなコポリマーをプラスチック部品に変換している間に観察される圧力およびア ンペアが有意に低くなる点で望ましいことである。 * バッチ式反応槽内で生じさせたサンプル 1ガロンの撹拌Autoclave Engineers反応槽を用いてバッ チ式重合実験を実施した。この反応槽にIsopar Eを1440g、1−オ クテンを指定量、および水素を指定量で仕込んだ後、所望温度に加熱し、そして エチレンで450psig(3.1MPa)になるように飽和状態にした。ドラ イボックス内でシリンジを用いて触媒と共触媒と捕捉剤(scavenger) 溶液を全体体積が17mLになるように追加的溶媒と一緒にすることを通して、 触媒の調製を行った。次に、この触媒溶液をシリンジで触媒添加用ループに移し た後、高圧溶媒の流れを用いて反応槽に約4分かけて注入した。圧力を445p sig(3.07MPa)に維持する必要に応じてエチレンを供給しながら重合 を10分間進行させた。この反応中に消費されたエチレンの量を質量流量計で監 視した。上記反応槽からポリマー溶液を排出させて、10から20mLのイソプ ロパノールを入れて窒素でパージ洗浄しておいたガラス容器に移した。以下に記 述する添加剤溶液をある分量で上記容器に添加して、その溶液を徹底的に撹拌し た(重合中に消費されたエ チレンの全体を基準にして添加剤の使用量を選択した)。このポリマー溶液をト レーに入れ、一晩空気乾燥させた後、真空オーブンに入れて2日間徹底的に乾燥 させた。このポリマーの重量を記録し、そしてその効率を遷移金属1グラム当た りに生じたポリマーのグラムとして計算した。 本実施例および比較実施例のポリマー類に関する示差走査熱量測定(DSC) データを以下の表3に挙げる。 全体としてのASTM密度を一定にした場合、触媒1および2を用いて製造した コポリマー類が示した融点(Tm)および結晶点(Tc)は触媒3を用いて製造 した比較実施例のコポリマー類が示したそれらとは非常に異なっていた。このよ うな差は、更に、コポリマーC−3a(触媒3)が示したDSCエンドグラムと コポリマー1a(触媒1)が示したDSCエンドグラム(図2および3に示す) でも実証されている。 1番目として、触媒1を用いて製造した本発明のコポリマー類が示すTmは触 媒3を用いて製造した比較実施例のポリマー類が示すそれよりも少なくとも10 ℃高く、このことは、上方の使用温度が高いと解釈さ れると期待される。そのように上方の使用温度がより高いことは、以下に考察す る動的機械的データで明らかに立証される。 更に、図4および表3に示すように、触媒2を用いて製造したコポリマー類が 示すDSCサーモグラムは明瞭な二頂性を示す。実際、上記実施例1aのポリマ ーが示したDSC示差熱分析曲線は、密度がそれぞれ0.855g/cm3と0 .897g/cm3の2種類のコポリマー類のブレンド物が示したDSC示差熱 分析曲線に相当している。 触媒2を用いて製造した本発明のポリマー類が二頂特性を示すことは、更に、 ポリマー2aの透過電子顕微鏡測定(TEM)で得られる顕微鏡写真でも実証さ れ、その顕微鏡写真に密度が高い方のコポリマー画分によってもたらされるラメ ラを明らかに見ることができる。例えば、図5に示すように、実施例2aのポリ マーには良好に限定されたラメラが存在していた。このようにアスペクト比が約 16(1120Åx70Å)のリボン様構造物は、粒子様の縁を持っていてアス ペクト比が単一(70Å)に近いミセル構造を有するマトリックス内に比較的孤 立して存在しているように見える。それとは対照的に、図6に示されているよう に、触媒3を用いて製造した比較実施例C−3aのコポリマー類の場合に得たT EM顕微鏡写真には、良好に限定されたラメラは存在していなかった(約6のア スペクト比を示す構造物がいくらか存在してはいたが)。 比較実施例C−3aのコポリマーの密度の方が実施例2aのコポリマーのそれよ り高いにも拘らずラメラは存在していなかった。 本発明および比較実施例のコポリマー類にオクテンがランダムに組み込まれて いると仮定して、最終密度は下記の式: [式中、 ρfは最終密度であり、ρ1およびρ2は1番目の成分画分および2番目の成分画 分それぞれの密度であり、そしてw1およびw2は、上記成分画分の重量分率であ る] に従って計算可能である。 実施例1bおよび2aそして比較実施例C−3aおよびC−2a*のポリマー 類をATREFで短鎖分枝分布に関して分析した。その結果を以下の表4に挙げ る。 実施例1bおよび2aそして比較実施例C−3aのATREF曲線を図7aに 挙げる。このようなコポリマー類が全体として示す密度は比較的低いことから、 このコポリマー類は大部分がパージ(purge)で溶出する、即ちこのコポリ マーは溶媒(トリクロロベンゼン)から結晶化しなかった。実際、比較実施例C −3aのコポリマーの100パーセントがパージで溶出した。このATREFデ ータは、触媒1および2を用いて製造したコポリマー類が示した短鎖分枝分布は 両方とも二頂分布であることを示していた。より具体的には、このような触媒を 用いて製造したコポリマーの大部分はパージで溶出して来る低密度のコポリマー であるが、また、より高い密度を有するコポリマー(これは図7aのATREF クロマトグラムに1つのピークを示す)も存在していた。触媒1を用いたコポリ マー類を触媒2を用いたコポリマー類と比較すると、触媒2を用いた場合には高 い方の密度を有するコポリマーがより少ない量で生じていた。表4に示すように 、ATREFから計算したコポリマー密度はDSC推定値に類似していた。例え ば、実施例2aのコポリマーの密度は0.861g/cm3であったが、ATR EFのピークは、触媒3を用いて生じさせた密度が0.895g/cm3の実質 的に線状であるエチレン/1−オクテンコポリマーに典型的に見られるATRE Fピークに相当していた。このことは、この上で見い出したこと、即ち0.87 1g/cm3の密度を有する実施例1aのコポリマーが示すDSC吸熱は触媒3 を用いて生じさせた密度が0.897g/cm3の実質的に線状であるエチレン /1−オクテンコポリマーに典型的に見られるDSC吸熱に相当することに一致 している。例えば、触媒3を用いて生じさせた密度が0.895g/cm3でI2 が1.6g/10分でI10/I2が9.9のコポリマーが示したATREFと実 施例2aのコポリマーが示したATREFの比較を示す図7bを参照のこと。 同様に、実施例1bのコポリマーの密度は0.870g/cm3であったが、 そのATREFピークは、触媒3を用いて生じさせた密度が0.886g/cm3 の実質的に線状であるエチレン/1−オクテンコポリマーに典型的に見られる ATREFピークに相当しており、このことは、この上で見い出したこと、即ち 実施例1bのコポリマーが示すDSC吸熱は触媒3を用いて生じさせた密度が0 .884g/cm3の実質的に線状であるエチレン/1−オクテンコポリマーに 典型的に見られるDS C吸熱に相当することに一致している。 本発明のコポリマー類が二頂分子量分布を示すとして特徴づけられることを示 す目的で更にATREF/DVを用いることができる。例えば、図7cに挙げる ように、ATREF屈折率検出器は、触媒2を用いて生じさせた実施例45eの コポリマーが示す短鎖分枝分布はユニークであることを示している。加うるに、 ATREF示差粘度検出器(右側の垂直軸)は、上記コポリマーには41700 0ダルトンの重量平均分子量を有していて約71℃で溶出して来る低密度成分が 92重量パーセントと174000ダルトンの重量平均分子量を有していて約8 5℃で溶出して来る高密度成分が約8重量パーセント含まれていることを示して いる。従って、ATREFのMw1/Mn2比は2.40であり、表6に示すGPC デコンボリューションで決定した値、即ち2.41に類似していた。 続いて示す図7dはATREF形状係数を平均ATREF溶出温度に対してプ ロットした図である。プロットで表した上記データはATREF曲線から得たも のである。具体的には、(i)最大のATREFピーク高を測定し、(ii)最 大ピーク高の1/2の所のATREFピーク全体の幅を測定し、ATREF形状 係数、即ち(ii)/(i)の比率を計算し、そして平均ATREF溶出温度、 即ち(最低ATREF溶出温度+最高ATREF溶出温度)/2を決定した。触 媒2を用いて生じさせた本発明のコポリマー類の場合のATREF形状係数は、 ライン(1ine)ATREF形状係数=0.64−0.00626(平均AT REF溶出温度)で記述され、このことは、平均溶出温度である75.94℃に おけるATREF形状係数が0.165であることを示している。 この上に示したDSCおよびATREF情報で立証されるように、本発明のポ リマー組成物は他の画分よりも高い結晶度を有する画分が存在するとして特徴づ けられる。このように結晶度が高い画分が存在することは、本発明のポリマー組 成物が示す上方の使用温度の方が触媒3を用いて製造した比較組成物に比較して 高いと解釈される。特に、実施例1aおよび2aのコポリマー類および比較実施 例C−3cのコポリマーの動的機械的データを図8で比較する。図8aでは、貯 蔵モジュラス(strage modulus)(G')およびtan d(G ”/G')を温度の関数として比較する。温度を高くして触媒1および2のそれ ぞれを用いて生じさせた実施例1aおよび2aのコポリマー類が示した弾性は、 触媒3を用いて製造した比較実施例C−3cのコポリマーに比較して高かった。 弾性がより高いことは、熱成形などの如き用途で望ましい属性である。上記上方 の使用温度は、図8bの交差する線で示されるように、温度に対してプロットし たlog G1の上方の非溶融高原部領域と降下する溶融過渡領域を交差するよ うに引いた線の交点であるとして定義可能である。実施例1aのコポリマーが示 した上方の使用温度は75℃であり、これは比較実施例C−3aが示した上方の 使用温度である54℃よりも21℃高かった。実施例2aのコポリマーが示した 上方の使用温度は76℃であり、これは比較実施例C−3cのコポリマーが示し た上方の使用温度よりも約22℃高く、このことは、実施例2aのコポリマーの 密度の方がコポリマーC−3cの密度よりも低いことを考慮すると特に驚くべき ことである。 その上、このように向上した上方の使用温度が本発明のコポリマーに含まれる 画分の各々に相当する密度を有する個々別々の実質的に線状で あるエチレン/1−オクテンコポリマー類をブレンドすることで達成される上方 の使用温度を越えていることを注目することは重要である。図9aでは、触媒2 を用いて製造したコポリマー類が示した上方の使用温度と触媒3を用いて製造し たコポリマー類が示した上方の使用温度を密度の関数として比較する。図9aの 曲線は上記データによる簡単な多項式合致である(polynomial fi ts)。図9aで使用した触媒2を用いて製造したコポリマー類には、実施例2 a、そして触媒2を用いてこの上に挙げたバッチ式重合方法を利用して下記の反 応槽条件で製造した実施例が含まれる。 コポリマー類に0.87g/cm3の密度を持たせた場合には触媒2を用いて 製造したコポリマー類が示した上方の使用温度は触媒3を用いて製造した比較ポ リマー類のそれよりも33℃高かった。 図9bでは、触媒3を用いて製造したコポリマー類をブレンドすることを通し て達成可能な上方の使用温度(UST)の向上度合と触媒2を用いて製造した本 発明のコポリマー類を用いた時に達成可能なUSTの向上度合を比較する。試験 の結果、ブレンド物の場合には高い方の密度を有する成分の量を約20重量%に した時に最大限のUST向上がもたらされることが示されている。より具体的に は、ブレンド物に含める密度が高い方の成分の量を20重量%未満にすると、融 点が高い方の材料 の濃度が低下することが原因でUSTが低下する一方、ブレンド物に含める融点 が高い方の材料の量を20重量%よりも多くすると、この融点が高い方の材料の 密度を低くする必要がある(ブレンド物全体が示す密度を一定に0.875g/ cm3に保持する目的で)ことからUSTが低下した。このようなブレンド物が 示す挙動とは極めて対照的に、本発明のコポリマー類が示した挙動はユニークで あった。例えば、図9aに示すように、触媒2を用いて製造したコポリマーが示 した上方の使用温度は、密度が高い方のコポリマーを約10重量%(これは触媒 2を用いて製造したコポリマーに含まれる高密度成分の相対比率に相当する)含 有させたブレンド物に比較して、比較ブレンド物のコポリマーよりも24℃高か った。 実施例1a−1cおよび2a−2dに加えて比較実施例C−3aおよびC−2 aのコポリマー類の場合の分子量(MwおよびMn)および多分散性(Mw/Mn) を測定して、以下の表5に示す。 * 比較実施例C−2aはバッチ式反応槽で製造したものである。 表5に示すように、比較実施例C−3aおよびC−3bのコポリマー 類が示したGPC多分散性(Mw/Mn)は2.16であったが、触媒1および2 を用いて製造したコポリマー類が示した多分散性は2.60(触媒1)および2 .32(触媒2)であった。 また、この生GPCクロマトグラムをBamford−Tompa分布に合致 させることで、全体としてのMn、MwおよびMw/Mnを計算することができる。 この合致手順(fitting procedure)では、分子量分布が一頂 分布であると仮定して、生GPCクロマトグラムに合致するように長鎖分枝のレ ベルを変化させた。 Bamford−Tompa分子量分布を式[2]、 [式中、I1(x)は、 で定義される第一種類の位数1の修飾Bessel関数(modified B essel function of the first kind of order one)であり、そしてζは、式[4] に示されるように、分子量分布を広げる調節可能パラメーターである]で計算す る。 BamfordおよびTompaが定義したように、ζは、 [ここで、Mは、繰り返し単位の平均分子量である] により、長鎖分枝のレベルに関係する。この拡張Bessel関数の独立項bは 、長鎖分枝を1分子当たりb個持つポリマー鎖の分子量分布を表す。Bamfo rdおよびTompaは、また、分子中に存在する分枝点の平均数を鎖長の関数 として計算する式も提供した。例えば、C.H.BamfordおよびH.Tompa“The Calcu lation of Molecular Weight Distributions from Kinetic Schemes”Trans.Fa raday Soc.,50,1097(1954)を参照のこと。 「合致」Mw/Mnはより一貫性のある多分散推定値を与えた。比較実施例C− 3aおよびC−3b、実施例1a−1cおよび実施例2a−2dのコポリマー類 の場合の「合致」多分散性はそれぞれ2.34、2.50および2.71であっ た。 連続溶液重合方法で製造した実施例2a−2dのコポリマー類そしてバッチ式 溶液重合方法で製造した比較実施例C−2aの場合、前者が示した多分散性の方 が後者よりも大きい。特に、比較実施例C−2aが示した多分散性は2.07で あったが実施例2a−2dが示した平均多分散性は2.32±0.15であり、 同様に、比較実施例C−2aおよび実施例2a−2dそれぞれのコポリマー類の 場合に観察された「合致」多分散性はそれぞれ2.29および2.50±0.0 4であった。 多分散性が大きいことは、バッチ式方法から連続方法に移行させた時にメルト フロー比が高いことと相互に関係する。例えば、実施例2a−2dのコポリマー 類が示した平均I10/I2は13.3であったが比較 実施例C−2aのコポリマーが示したI10/I2は6.5であった。このような 観察の両方、即ちMw/MnおよびI10/I2がより高いことは、連続方法で得ら れたコポリマー類に含まれる長鎖分枝の濃度の方が相当するバッチ式重合のポリ マー類に含まれるそれよりも高いことを示唆している。コポリマーに長鎖分枝が 存在しているとそれが示すせん断低粘化(shear thinning)挙動 が劇的に向上することがよく知られている。二頂分子量分布のデコンボリューション 触媒1および2を用いて製造したコポリマー類が示す分子量分布は二頂分布で あると仮定した。加うるに、各成分が示すMw/Mnは式[2]で記述可能である と仮定した。従って、GPCのデコンボリューション手順は5つのパラメーター 合致、即ちMn1、z1、Mn2、z2およびスプリット(split)(S)を伴っ ており、ここで、下付き字1および2はそれぞれ第一コポリマー成分および第二 コポリマー成分を指し、そしてスプリットを、分子量が高い方のコポリマーの重 量分率であるとして定義する。SigmaPlot+(v2.01)内の非線形 曲線合致サブルーチン(subroutine)を用いて上記パラメーターを推 定した。このサブルーチンでは、従属変数値で示される分布と観察したGPCデ ータの間の差の平方値の合計を最小限にするパラメーター値を決定する目的でM arquardt−Levenberg演算規則を用いた。この非線形曲線合致 演算規則では初期のパラメーター値が必要であり、これらの値を実験GPCクロ マトグラムを目で検査することに従って決定した。集中パラメーター推定値(C onverged parameter estimates)は、顕著に、初 期パラメーター値に 敏感でない。 触媒1および2を用いて製造したコポリマー類が示す分子量分布は二頂分布で あると仮定したGPCデコンボリューション結果を表6に要約する。この手順で は、この上に記述したように、2つの成分が示す分子量分布はBamford− Tompa分布に従うと仮定した。従って、GPCデコンボリューションは5つ のパラメーター合致、即ちMn1、ζ1、Mn2、ζ2、および分子量が高い方のコポ リマーの重量分率(Mn1)を伴っていた。このGPCデコンボリューションのデ ータを以下の表6に示す。 表6に示すように、触媒1を用いて製造したコポリマーの61パーセントは1 69,000ダルトンのコポリマーである一方、その残りは61000ダルトン であった。同様に、触媒2を用いて製造したコポリマーの約81.4パーセント は159,000ダルトンのコポリマーである一方、その残りは72000ダル トンであった。図10および11に上記デコンボリューションの結果をグラフ図 で示す。また、バッチ式反応槽のサンプルの場合のGPCデコンボリューション 結果も表6に要約した。 本発明のコポリマー類を長鎖分枝の指示に関して分析した。特に、直径が25 mmの平行板が備わっているRheometrics RMS−800動的機械 的分光測定装置を振動せん断モードで用いて流動学的データを得た。フレクエン シー走査を窒素雰囲気下0.1−100rad/秒のせん断速度範囲に渡って1 5パーセントの歪みで実施した。流動学的データを以下の表7に示す。 図13に、本発明のコポリマー類および比較実施例のコポリマー類をこの上に 挙げた手順に従ってRMS 800レオメーターで測定した時のlog粘度をl ogフレクエンシーに対してプロットしたプロットを示す。図13に示すように 、実施例2aのコポリマー類が示したせん断低粘化挙動の方が比較実施例C−2 aのコポリマーが示したそれよりも向上していた(両方とも触媒2を用いて製造 したものであるが)。加うるに、図13は、連続方法で製造した実施例2aのコ ポリマーが示した弾性の方がバッチ式反応槽内で製造した比較実施例C−2aの コポリマーが示したそれよりも高いことを示している(前者が示したtan d 値の方が低いことで示されるように)。このような挙動は、連続溶液重合方法で 製造したコポリマー類が有する長鎖分枝のレベルの方がより高いと言った特徴の 指示である。 また、選択した樹脂が示すメルトフラクチャー挙動も気体押出しレオメーター (GER)で評価した。各樹脂が表面光沢を失う時(LSG)およびグロスメル トフラクチャーが起こり始める時(OGMF)のせん断応力(MPa)およびせ ん断速度(秒-1)値を以下の表8に示す。 グロスメルトフラクチャーが起こり始める時(OGMF)のせん断速度で示され るように、触媒1および2を用いて製造したコポリマー類の方が連続反応槽内で 触媒3を用いて製造した比較実施例C−2aのコポリマーよりもメルトフラクチ ャーに対して高い耐性を示した。せん断速度は処理量(即ちポンド/時または部 /時)に正比例することから、触媒2を用いて製造した実施例2aのコポリマー の方が触媒3を用いて製造したコポリマーC−3cよりも高い加工速度で加工可 能である。 連続溶液重合方法を用いる方がバッチ式溶液重合方法を用いるよりも有利であ ることが、連続溶液重合反応で製造した実施例2aのコポリマーとバッチ式溶液 重合反応で製造した比較実施例C−2aのコポリマーを比較することで例証され る。これらのコポリマー類は同様なメルトインデックスを示しはするが、比較実 施例C−2aのコポリマー類が示したOGMFせん断速度(89秒-1)の方が実 施例2aのコポリマーが示したOGMFせん断速度(432秒-1)よりも低かっ た。 本実施例および比較実施例の代表的なコポリマー類に関して赤外分析(FTI R)を実施し、その結果を以下の表9に示す。 表9に挙げたデータは、実施例1a−1cおよび2a−2dのコポリマー類が 示したビニル濃度の方が比較実施例C−3aのコポリマーのそれよりも高いこと を示している。本発明のコポリマー類はビニル末端のレベルがより高いと言った 特徴を有すると仮定すると、成長するポリマー鎖へのビニル末端巨大分子の再組 み込みが起こることから、それらが示す長鎖分枝のレベルがより高くなると考え ている。理論で範囲を限定することを望むものでないが、本発明のポリマー類が ビニル末端をより高いレベルで有すると言った特徴は本明細書に記述した触媒1 および2の如き触媒を用いることで反応温度をより高くすることができたことに よると考えている。例えば、比較実施例C−3bとC−3aの比較も同様に反応 温度を高くするにつれてビニル末端の量が多くなることを示している。比較実施 例C−3aのコポリマー類の場合には製造を80℃で行ったのに比較して本実施 例のコポリマー類ではこれらの製造を約120℃の反応温度で行ったことを特記 する。 本実施例および比較実施例のコポリマー類を更に下記の手順に従って 圧縮永久歪みに関して試験した。各サンプルに関して、厚みが1.52mmの圧 縮成形プラークから直径が2.86cm(1.125インチ)の盤を切り取るこ とで圧縮永久歪み用ボタンを調製した。圧縮永久歪み用鋳型(室温)の中に上記 盤を積み重ね[積み重ねた全体の高さ約1.37cm(0.54インチ)]そし て上記盤を10,000psi(69MPa)下176.7℃(350度F)で 10分間融合させた。このボタンを上記鋳型から取り出し、ASTM条件で24 時間平衡状態にした後、各ボタンの厚みをミクロメーターで測定した。厚みが1 .27cm(0.5インチ)のボタンを圧縮永久歪み用クランプの中に入れて、 上部の圧盤が0.953cmのスペーサーに接触するまでナットを絞めることで 、上記ボタンを0.953cm(0.375インチ)にまで圧縮した。この冷え ている圧縮永久歪み用クランプを70℃(158度F)のオーブンに24時間入 れた。このボタンを上記圧縮永久歪み用クランプから取り出してASTM条件で 24時間平衡状態にした後、ボタンの厚みを測定した。回復しなかった変形のパ ーセントとして圧縮永久歪みを表した。圧縮永久歪み試験に関する追加的情報を ASTM D−395−89方法Bに見ることができる。 触媒1および触媒2を用いて製造した本発明のコポリマー類が示した圧縮永久 歪みおよび触媒3を用いて製造した比較ポリマーが示した圧縮永久歪みを図14 に要約する。触媒1および触媒2を用いて製造してコポリマー類が70℃で示し た圧縮永久歪みは、触媒3を用いて製造したコポリマーC−3cに比較して、こ れらのコポリマー類の結晶度は同様であるにも拘らず低かった。圧縮永久歪みは 回復しなかった変形のパーセントを表す点で圧縮永久歪みは低い方が望ましい。 理想的には、完全 な弾性重合体が示す圧縮永久歪みは0パーセント、即ち変形が完全に回復するで あろう。触媒1および触媒2を用いて製造した本発明のコポリマー類が低い圧縮 永久歪みを示すことは短鎖分枝分布が二頂分布であることによるものであった。エチレン/プロピレンインターポリマー類およびエチレン/プロピレン/ジエン インターポリマー類の重合 以下の表に挙げる反応条件を利用した下記の手順に従ってエチレン/プロピレ ンのインターポリマー類を製造する。 3.8Lのステンレス鋼製反応槽を用いて、それにIsopar E*(Ex xon Chemicals,Inc.から入手可能な混合アルカン)を145 0g、プロピレンを207.3g、エチリデンノルボルネンを17.6gおよび 水素を13.8mMol仕込むことを通して、エチレンとプロピレンとエチリデ ンノルボルネンのターポリメリゼーションを実施した。上記反応槽を100℃に 加熱した後、エチレンで飽和状態にして460psig(3.2MPa)にした 。ドライボックス内でシリンジを用いて金属錯体である(イソプロピルアミド) ジメチル(η5−2,3,4,6−テトラメチルインデニル)シランチタン(I V)ジメチルを5.0ミクロモル(0.005Mの溶液)と共触媒であるテトラ キス(ペンタフルオロフェニル)ホウ酸ジ(水添タロウアルキル)メチルアンモ ニウムを5ミクロモル(0.0075Mの溶液)と捕捉剤である(ジイソプロピ ルアミド)ジエチルアルミニウムを50.0ミクロモル(0.050Mの溶液) と体積全体を18mLにする追加的量のIsopar E*を一緒にすることを 通して、触媒の調製を行った。次に、この触媒溶液をシリンジで触媒添加用ルー プに移した後、高圧溶媒 の流れを用いて約4分かけて上記反応槽に注入した。圧力を460psig(3 .2MPa)に維持する要求に応じてエチレンを供給しながら重合を10分間進 行させた。反応中に消費されたエチレンの量を質量流量計で監視した。次に、こ のポリマー溶液を反応槽から窒素でパージ洗浄しておいたガラス容器に注ぎ込ん だ後、安定剤[Irganox(商標)1076]を加えて、上記溶液と一緒に 充分に混合した。このポリマー溶液をトレーに注ぎ込み、一晩空気乾燥させた後 、真空オーブンに入れて1日かけて徹底的に乾燥させた。ポリマーの収量は37 .0gであり、そして遷移金属1グラム当たりに生じたポリマーのグラムとして 計算した触媒効率は15万であった。得たターポリマーの組成はエチレンが54 .7重量パーセントでプロピレンが42.7重量パーセントでエチリデンノルボ ルネンが2.6重量パーセントであった。分子量は147,200で分子量分布 は2.18であった。このエラストマーの測定ガラス転移温度は−53.9℃で 結晶度は0.9パーセントであった。 エチリデンノルボルネンを添加しない以外はこの上に示した装置および手順を 用い、以下の表に示す材料量を用いてエチレン/プロピレンのコポリマーを16 種類調製する。ポリマーの物性を以下の表に示す。実施例1a−1eで用いた触 媒は(シクロヘキシルアミド)ジメチル(η5−2,3,4,6−テトラメチル インデニル)シランチタン(IV)ジメチルである。実施例2a−2fで用いた 触媒は(イソプロピルアミド)ジメチル(η5−2,3,4,6−テトラメチル インデニル)シランチタン(IV)ジメチルである。比較実施例で用いた触媒は (テトラメチルシクロペンタジエニル)ジメチル(t−ブチルアミド)シランチ タン1,3−ペンタジエンである。全ての実施例で用いた共触媒はテトラキス (ペンタフルオロフェニル)ホウ酸ジ(水添タロウアルキル)メチルアンモニウ ムである。全ての実施例で用いた捕捉剤はジイソブチルアルミニウムの誘導体で ある。 エチレン/プロピレン/ジエンインターポリマーの重合 この上に挙げた一般的重合手順を用い、以下に挙げる反応条件を用いてエチレ ン/プロピレン/ジエンインターポリマーを製造する。 Al/Ti比:10 温度:101.6℃ 仕込んだC3(グラム):207.3 H2デルタ圧:150.6 Isopar(商標)の質量(グラム):1455.9 オクテンの質量(グラム):0 ジエンの質量(グラム):17.6 C2仕込み(グラム):141.54 全圧[psi(MPa)]:460.4(3.174) C2分圧[psi(MPa)]:309.4(2.133) 最大エチレン率(Ethylene rate max):8.8 消費されたエチレン:27.5 実験時間の長さ:10 Ti(uモル):5 乾燥重量:37 効率:0.15 結果として得たポリマーはエチレンが54.7重量パーセントでプロピレンが 42.7重量パーセントでENBが2.6重量パーセントであった。GPC−d vの結果は、ポリマーのMwは147200でMnは67500でMw/Mnは2 .18であることを示している。示差走査熱量測定は、Tcは14.09℃で、 DSC冷却時のピークは−22.8℃ の所に存在し、DSCの融解熱は2.685J/gで、DSCの溶融ピークは− 30.58℃の所に存在し、そして結晶度パーセントは0.9パーセントである ことを示していた。 エチレン/プロピレンコポリマーおよびエチレン/プロピレン/ジエンコポリ マーの実施例に関して、これらの実施例は、エチレン含有量が45重量パーセン トを越える半結晶性のEPおよびEPDMインターポリマー類(EP2fおよび EPle)が示したDSC特徴は他のコポリマー類でも観察されたDSC特徴で あることを示している。更に、本発明の触媒を用いて製造したエチレン量が45 重量パーセント未満の非晶質材料は、(テトラメチルシクロペンタジエニル)ジ メチル(t−ブチルアミド)シランチタン1,3−ペンタジエンを用いて同じ条 件下で製造したポリマー類よりも低いTgおよび高い分子量を示す。 本発明のポリマー類を製造する時に用いるに有用な追加的触媒の製造方法に加 えてそのような触媒を用いて行った重合の詳細を以下に挙げる。実施例A (2,3−ジメチルインデニル)ジメチル(シクロドデシルアミド) シランチタンジクロライドの調製 Li2[(2,3−ジメチルインデニル)(シクロドデシルアミド)ジメチルー シラン]0.75Et2Oの調製 (2,3−ジメチルインデニル)(シクロドデシルアミド)ジメチルシラン( 5.47g、0.0142モル)をジエチルエーテル(25mL)中で撹拌しな がらn−BuLi(0.030ミリモル、ヘキサン中2.5Mの溶液を11.9 4mL)をゆっくり加えた。次に、この混合物を16時間撹拌した。この反応時 間後、揮発物を除去し、その残渣をヘキサンで洗浄した後、濾過で固体として集 め、それをさらなる精製も 分析もなしに用いた(5.47g、85.2パーセント)。 (2,3−ジメチルインデニル)ジメチル(シクロドデシルアミド)シランチタ ンジクロライドの調製 Li2[(2,3−ジメチルインデニル)(シクロドデシルアミド)ジメチル ーシラン]・3/4Et2O(5.47g、0.0121モル)を固体としてT iCl3(THF)3(4.48g、0.0121モル)がTHF(75mL)に 入っているスラリーにゆっくり加えた。この混合物を45分間撹拌した。次に、 この混合物にPbCl2(1.68g、0.00604モル)加えた後、更に4 5分間撹拌した。この反応時間後、揮発物を除去し、その残渣をトルエンで抽出 して濾過した。次に、トルエンを除去し、その残渣をヘキサンに入れてスラリー 状にした後、濾過で赤色−褐色結晶性固体として集めた。その濾液を濃縮して冷 却した後、2回目の濾過を行うことを通して、2番目の収穫物を得た。次に、こ れらの収穫物を一緒にし、これは所望生成物であることを測定した(0.457 g、7.6パーセント) 実施例B (2,3−ジメチルインデニル)ジメチル(シクロドデシルアミド) シランチタンジメチルの調製 (2,3−ジメチルインデニル)ジメチル(シクロドデシルアミド)シランT iCl2(0.200g、0.000400モル)をジエチルエーテル(50m L)に入れてスラリー状にしながらメチルMgI(0.00084モル、ジエチ ルエーテル中3.0Mの溶液を0.28mL)を滴下した。次に、この混合物を 30分間撹拌した。この反応時間後、 揮発物を除去し、その残渣をヘキサンで抽出して濾過した。揮発物除去に続くヘ キサンを用いた再濾過を繰り返しそしてヘキサンを除去する結果として所望生成 物をオレンジ色の結晶性固体として単離した(0.134g、73.2パーセン ト) 実施例C [(N−シクロヘキシルアミド)(ジメチル)(2,3,4,6−テ トラメチルインデニル)シラン]チタンジメチルの調製 ジメチルシリル(2,3,4,6−テトラメチルインデニル)(シクロヘキシル アミン)の調製 ジメチルシリル(2,3,4,6−テトラメチルインデニル)Cl(9.95 g、37.8ミリモル)をヘキサン(200mL)中で撹拌しながらこれにNE t3(4.1g、40.6ミリモル)に続いてシクロヘキシルアミン(4.05 g、40.8ミリモル)を加えた。この混合物を20℃で24時間撹拌した。こ の反応時間後、上記混合物を濾過し、揮発物を除去した後、所望の生成物を淡黄 色の油状物として単離した(10.98g、収率89.3パーセント)。 ジリチウム(N−シクロヘキシルアミド)(ジメチル)(2,3,4,6−テト ラメチルインデニル)シランの調製: ドライボックス内で300mlのヘキサンに(N−シクロヘキシルアミド)( ジメチル)(2,3,4,6−テトラメチルインデニル)シランを4.0g(1 2.6ミリモル)溶解させた。この溶液に20℃でnBuLi(2.00M)を 12.6ml(25.2ミリモル)滴下した。このnBuLiの滴下が終了した 時点で、その溶液を12時間撹拌した 後、溶媒を減圧下で除去することで黄色−オレンジ色の粉末を4.12g(収率 96パーセント)得た。 [(N−シクロヘキシルアミド)(ジメチル)(2,3,4,6−テトラメチル インデニル)シラン]チタンジクロライドの調製: ドライボックス内で75mlのTHFにTiCl3(THF)3を4.63g( 12.5ミリモル)溶解させた。この溶液を20℃で撹拌しながら、これにジリ チウム(N−シクロヘキシルアミド)(ジメチル)(2,3,4,6−テトラメ チルインデニル)シランを固体として4.12g(12.5ミリモル)加えた。 次に、この溶液を45分間撹拌した。この時間が経過した後、PbCl2を1. 73g(6.25ミリモル)加えて、その溶液を45分間撹拌した。次に、TH Fを減圧下で除去した。次に、その残渣をトルエンで抽出し、その溶液を濾過し た後、トルエンを減圧下で除去した。次に、その残渣をヘキサンと一緒にすり潰 した後、溶液の体積を小さくすると、赤色の沈澱物が生じ、これを濾過で集めて 冷(0℃)ヘキサンで洗浄した。この固体状生成物を真空下で乾燥させることで 生成物を1.70g(収率31パーセント)得た。実施例D [(N−シクロヘキシルアミド)(ジメチル)(2,3,4,6−テ トラメチルインデニル)シラン]チタンジメチルの調製: ドライボックス内で50mlのEt2Oに20℃で[(N−シクロヘキシルア ミド)(ジメチル)(2,3,4,6−テトラメチルインデニル)シラン]チタ ンジクロライドを0.300g(0.675ミリモル)懸濁させた。この懸濁液 を撹拌しながらこれに20分かけてMeMgI(3.0M)を0.45ml滴下 した。このMeMgIの滴下が終了した後、その溶液を40分間撹拌した。次に 、Et2Oを減圧下で除去し、 その残渣をヘキサンで抽出し、その溶液を濾過した後、その濾液を減圧下で蒸発 乾固させることで、生成物を0.27g(収率100パーセント)得た。実施例E [(N−シクロヘキシルアミド)(ジメチル)(2,3−メチルイン デニル)シラン]チタン(II)(1,4−ジフェニル−1,3−ブタジエン) の調製: 100mlのフラスコ内で0.300gの(N−シクロヘキシルアミド)(ジ メチル)(2,3−メチルインデニル)シランチタンジクロライド(0.720 ミリモル、実施例23で得た)を0.149gの1,4−ジフェニル−1,3− ブタジエン(0.720ミリモル)と一緒に70mlのヘキサンに入れて0℃で 撹拌した。この溶液に2.5MのnBuLi(ヘキサン中)を0.577ml加 えた後、その混合物を2時間還流させた。この溶液を20℃に冷却した後、この 溶液を濾過した。次に、濾過残渣をヘキサンで洗浄した。次に、その濾液からヘ キサンを減圧下で除去することで生成物を0.109g(27パーセント収率) 得た。 重合実験 2リットルのParr反応槽に混合アルカン溶媒[Isopar(商標)E] を740gおよび1−オクテンコモノマーを118g仕込んだ。水素を分子量調 節剤として〜75mlの添加用タンク[25psi(2070Kpa)の圧力] から差圧膨張(differential pressure expansi on)で加えた。上記反応槽を重合温度である140℃に加熱した後、エチレン で飽和状態にして500psig(3.4Mpa)にした。ドライボックス内で 各々がトルエン中0 005Mの溶液である触媒および共触媒を2.0ミリモルづつ予備混合した。所 望予備混合時間後、その溶液を触媒添加用タンクに移して反応槽に注入した。エ チレンを要求に応じて用いて重合条件を15分間維持した。結果として生じた溶 液を反応槽から取り出した後、結果として得た溶液にヒンダードフェノール系抗 酸化剤[Ciba Geigy Corp.から入手可能なIrganox(商 標)1010]を添加した。生じたポリマーを120℃に設定した真空オーブン に入れて約20時間乾燥させた。実施例F : [(N−イソプロピルアミド)(ジメチル)(2,3,4,6−テ トラメチルインデニル)シラン]チタンジメチルの調製 ジメチルシリル(2,3,4,6−テトラメチルインデニル)(イソプロピルア ミン)の調製 ジメチルシリル(2,3,4,6−テトラメチルインデニル)Cl(22.2 9グラム、84.17ミリモル)をTHF中で撹拌しながらこれにi−PrNH2 (28.68mL、336.7ミリモル)を加えた。この混合物を16時間撹 拌した。揮発物を減圧下で除去した。その残渣をヘキサンで抽出し、10から1 5mmのガラスフリットの上に置いた濾過助剤であるケイソウ土に通して濾過し た。ヘキサンを減圧下で除去することで生成物を黄色油状物として得た。収量: 17.23グラム、71パーセント。 [(N−イソプロピルアミド)(ジメチル)(2,3,4,6−テトラメチルイ ンデニル)シラン]チタンジクロライドの調製 ドライボックス内で500mLの丸底シュレンクフラスコにヘキサンを350 mL入れて、それにジメチルシリル(2,3,4,6−テトラ メチルインデニル)(イソプロピルアミン)を17.23グラム(59.93ミ リモル)溶解させた。次に、シリンジでn−BuLiを2当量(ヘキサン中2. 5Mを47.94mL)加えた。この反応物を12時間撹拌した。溶媒を減圧下 で除去することでオレンジ色の粉末を得た。この粉末を250mLのTHFに溶 解させた。TiCl3(THF)3(22.2グラム、59.93ミリモル)を固 体として加えた。15分後、CH2Cl2(2.48mL、29.97ミリモル) を加えた。2時間後、溶媒を減圧下で除去した。その残渣をトルエンで抽出した 後、10から15mmのガラスフリットの上に置いた濾過助剤であるケイソウ土 に通して濾過した。トルエンを減圧下で除去した。その残渣をヘキサンに入れて スラリー状にした後、10から15mmのガラスフリットで濾過した。その残渣 を減圧下で乾燥させることで赤色粉末を得た。収量:12.3グラム、51パー セント。 [(N−イソプロピルアミド)(ジメチル)(2,3,4,6−テトラメチルイ ンデニル)シラン]チタンジメチルの調製 ドライボックス内で250mLの丸底フラスコにEt2Oを150mL入れて 、それに[(N−イソプロピルアミド)(ジメチル)(2,3,4,6−テトラ メチルインデニル)シラン]チタンジクロライド(6.92グラム、17.12 ミリモル)を懸濁させた。THF中3.0MのMeMgCl溶液を2当量(11 .41mL、34.23ミリモル)加えた。この混合物を1時間撹拌した。揮発 物を減圧下で除去した。その残渣をヘキサンで抽出した後、10−15mmのガ ラスフリットの上に置いた濾過助剤であるケイソウ土に通して濾過した。ヘキサ ンを減圧下で除去することでオレンジ色の粉末を得た。収量:5.8グラム、9 3 パーセント。実施例G [(N−イソプロピルアミド)(ジメチル)(2,3,4,6−テト ラメチルインデニル)シラン]チタン(1,4−ジフェニル−1,3−ブタジエ ン)の調製 ドライボックス内で、100mLの丸底シュレンクフラスコにシクロヘキサン を60mL入れて、それに[(N−イソプロピルアミド)(ジメチル)(2,3 ,4,6−テトラメチルインデニル)シラン]チタンジクロライドを0.50グ ラム(1.24ミリモル)入れてスラリー状にした。1,4−ジフェニル−1, 3−ブタジエン(0.255グラム、1.24ミリモル)を固体として加えた。 次に、シリンジでn−BuLiを2当量(ヘキサン中2.5Mを0.989mL )加えた。上記フラスコにコンデンサを取り付けて還流に1時間加熱した。冷却 後、反応物を10−15mmのガラスフリットの上に置いた濾過助剤であるケイ ソウ土[Celite(商標)]に通して濾過した。その塩と濾過助剤を50m Lのペンタンで洗浄した。溶媒を減圧下で除去することで赤色/褐色粉末を得た 。収量:300mg、45パーセント。 3.8リットルの撹拌反応槽を用いて、それにIsopar(商標)E(Ex xon Chemicals Inc.から入手可能な混合アルカン)を144 0g、1−オクテンを132gおよび水素を10mMol仕込むことで、重合実 験を実施した。上記反応槽を130℃に加熱した後、エチレンで飽和状態にして 450psig(4.5Mpa)にした。ドライボックス内でシリンジを用いて 上記金属錯体を5.0ミリモル(1.0mL、0.005M)と共触媒であるト リスペンタフルオロフェニルボラン(TPFPB)を15.0ミリモル(1.0 mL、0. 15M)と捕捉剤である修飾メチルアルミノキサン(Akzo−Nobelから 入手可能)を50.0ミリモル(1.0mL、0.05M)と体積全体を17mL にする追加的量のIsopar E(商標)を一緒にすることを通して、触媒の 調製を行った。次に、この触媒溶液をシリンジで触媒添加用ループに移した後、 高圧溶媒の流れを用いて約4分かけて上記反応槽に注入した。圧力を445ps ig(4.5MPa)に維持する要求に応じてエチレンを供給しながら重合を1 0分間進行させた。次に、上記反応槽からポリマー溶液をイソプロパノールを約 15mL入れて窒素でパージ洗浄しておいたガラス容器に注ぎ込んだ。500m LのトルエンにIrgaphos(商標)168を6.66gおよびIrgan ox(商標)1010を3.33g溶解させることで調製しておいた安定剤溶液 を20mLの分量で加えた。このポリマー溶液をトレーに注ぎ込み、一晩空気乾 燥させた後、真空オーブンに入れて2日かけて徹底的に乾燥させた。実施例H ジクロロ[N−(シクロヘキシル)−1,1−ジメチル−[1,2,3,4,5 −η)−1,5,6,7−テトラヒドロ−2−メチル−s−インダセン−1−イ ル]シラナミント(2−)−N]チタン[またジメチルシリル(2−メチル−s −インダセニル)(シクロヘキシル−アミド)TiCl2とも呼ぶ]の合成 クロロジメチル(1,5,6,7−テトラヒドロ−2−メチル−s−インダセン −1−イル)シランの調製 Me2SiCl2(89.252g、0.69155モル)がTHF(150m L)に入っている溶液に1,5,6,7−テトラヒドロ−2−メチル−s−イン ダセン−1−イル)リチウム(1c))(24.369g、0.13831モル )をTHF(100mL)に入れて滴下した。次に、この混合物を20から25 ℃で5時間撹拌した。この反応時間後、揮発物を除去し、その残渣をヘキサンで 抽出して濾過した。ヘキサンを除去し、結果として所望生成物をオフホワイトの 結晶性固体として単離した(31.1451g、85.7パーセント)。 N−(シクロヘキシル)−1,1−ジメチル−1−(1,5,6,7−テトラヒ ドロ−2−メチル−s−インダセン−1−イル)シラナミンの調製 クロロジメチル(1,5,6,7−テトラヒドロ−2−メチル−s−インダセ ン−1−イル)シラン(5.67g、0.0216モル)をヘキサン(50mL )中で撹拌しながらNEt3(2.18g、0.0216モル)およびシクロヘ キシルアミン(2.13g、0.0216モル)を加えた。この混合物を16時 間撹拌した。この反応時間後、混合物を濾過し、揮発物を除去し、結果として所 望生成物を黄色油状物として単離した(6.62g、94.3パーセント)。 [N−(シクロヘキシル)−1,1−ジメチル−[1,2,3,4,5−η)− 1,5,6,7−テトラヒドロ−2−メチル−s−インダセン−1−イル]シラ ナミント(2−)−N]ジリチウムの調製 N−(シクロヘキシル)−1,1−ジメチル−1−(1,5,6,7 −テトラヒドロ−2−メチル−s−インダセン−1−イル)シラナミン(6.6 7g、0.02048モル)をヘキサン(100mL)中で撹拌しながらnBu Li(0.04302モル、シクロヘキサン中2.0Mの溶液を21.51mL )をゆっくり加えた。次に、この混合物を16時間撹拌した。この反応時間後、 所望生成物を固体として単離し、これをさらなる精製も分析もなしに用いた(7 .23g、この生成物は残存ヘキサンをまだ含有していた)。 ジクロロ[N−(シクロヘキシル)−1,1−ジメチル−[1,2,3,4,5 −η)−1,5,6,7−テトラヒドロ−2−メチル−s−インダセン−1−イ ル]シラナミント(2−)−N]チタンの調製 TiCl3(THF)3(7.93g、0.0214モル)がTHF(50mL )に入っているスラリーに[N−(シクロヘキシル)−1,1−ジメチル−[1 ,2,3,4,5−η)−1,5,6,7−テトラヒドロ−2−メチル−s−イ ンダセン−1−イル]シラナミント(2−)−N]ジリチウム(7.23g、0 .0214モル)を固体としてゆっくり加えた。この混合物を30分間撹拌した 。次に、PbCl2(3.80g、0.0136モル)を加えた後、その混合物 を更に1時間撹拌した。この反応時間後、揮発物を除去し、その残渣をトルエン で抽出して濾過した。トルエンを除去し、結果として暗色残渣を単離した。次に 、この残渣をヘキサンに入れてスラリー状にした後、濾過で所望生成物を固体と して単離した(3.71g、39.2パーセント)。実施例H ジメチル[N−(シクロヘキシル)−1,1−ジメチル−[1,2,3,4,5 −η)−1,5,6,7−テトラヒドロ−2−メチル−s−イン ダセン−1−イル]シラナミント(2−)−N]チタン[またジメチルシリル( 2−メチル−s−インダセニル)(シクロヘキシル−アミド)TiMe2とも呼 ぶ]の合成 ジクロロ[N−(シクロヘキシル)−1,1−ジメチル−[1,2,3,4, 5−η)−1,5,6,7−テトラヒドロ−2−メチル−s−インダセン−1− イル]シラナミント(2−)−N]チタン(0.400g、0.00904モル )をジエチルエーテル(50mL)中で撹拌しながらこれにMeMgBr(0. 0181モル、ジエチルエーテル中3.0Mの溶液を0.60mL)をゆっくり 加えた。次に、この混合物を1時間撹拌した。この反応時間後、揮発物を除去し 、その残渣をヘキサンで抽出して濾過した。ヘキサンを除去し、結果として所望 生成物を固体として単離した(0.309g、85.1パーセント)。実施例I ジクロロ[N−(シクロヘキシル)−1,1−ジメチルー[1,2,3,4,5 −η)−1,5,6,7−テトラヒドロ−2,3−ジメチル−s−インダセン− 1−イル]シラナミント(2−)−N]チタン[またジメチルシリル(2,3− ジメチル−s−インダセニル)(シクロヘキシル−アミド)TiCl2とも呼ぶ ]の合成 N−(シクロヘキシル)−1,1−ジメチル−1−(1,5,6,7− テトラヒドロ−2,3−ジメチル−s−インダセン−1−イル)シラナミンの調 製 クロロジメチル(1,5,6,7−テトラヒドロ−2,3−ジメチル−s−イ ンダセン−1−イル)シラン(5.00g、0.01806モル)をヘキサン( 80mL)中で撹拌しながらこれにNEt3(3.29g、0.03251モル )およびt−ブチルアミン(1.81g、0.01824モル)を加えた。この 混合物を16時間撹拌した。この反応時間後、混合物を濾過し、揮発物を除去す ることで、結果として所望生成物を黄色油状物として単離した(5.55g、9 0.9パーセント)。 [N−(シクロヘキシル)−1,1−ジメチル−[1,2,3,4,5−η)− 1,5,6,7−テトラヒドロ−2,3−ジメチル−s−インダセン−1−イル ]シラナミント(2−)−N]ジリチウムの調製 N−(シクロヘキシル)−1,1−ジメチル−1−(1,5,6,7−テトラ ヒドロ−2,3−ジメチル−s−インダセン−1−イル)シラナミン(5.30 g、0.01570モル)をヘキサン(75mL)中で撹拌しながらn−BuL i(0.03454モル、ヘキサン中2.5Mの溶液を13.8mL)をゆっく り加えた。次に、この混合物を72時間撹拌した。この反応時間後、ヘキサンを デカンテーションで除去し、揮発物を除去することで、結果として所望生成物を オレンジ色のガラス状固体として単離し、これをさらなる精製も分析もなしに用 いた(5.56g、99.9パーセント)。 ジクロロ[N−(シクロヘキシル)−1,1−ジメチル−[1,2,3,4,5 −η)−1,5,6,7−テトラヒドロ−2,3−ジメチル−s−インダセン− 1−イル]シラナミント(2−)−N]チタンの調製 TiCl3(THF)3(0.529g、0.001428モル)がTHF(5 0mL)に入っているスラリーに[N−(シクロヘキシル)−1,1−ジメチル −[1,2,3,4,5−η)−1,5,6,7−テトラヒドロ−2,3−ジメ チル−s−インダセン−1−イル]シラナミント(2−)−N]ジリチウム(0 .500g、0.01428モル)を固体としてゆっくり加えた。この混合物を 2時間撹拌した。次に、PbCl2(0.317g、0.001142モル)を 加えた後、その混合物を更に1時間撹拌した。この反応時間後、揮発物を除去し 、その残渣をトルエンで抽出して濾過した。トルエンを除去し、結果として暗色 残渣を単離した。次に、この残渣をヘキサンに入れてスラリー状にした後、冷蔵 庫に72時間入れることで冷却した。次に、所望生成物を固体として濾過で単離 した(0.259g、43.8パーセント)。実施例J ジメチル[N−(シクロヘキシル)−1,1−ジメチル−[1,2,3,4,5 −η)−1,5,6,7−テトラヒドロ−2,3−ジメチル−s−インダセン− 1−イル]シラナミント(2−)−N]チタン[またジメチルシリル(2,3− ジメチル−s−インダセニル)(シクロヘキシル−アミド)TiMe2とも呼ぶ ]の合成 ジクロロ[N−(シクロヘキシル)−1,1−ジメチル−[1,2,3,4, 5−イータ)−1,5,6,7−テトラヒドロ−2,3−ジメチル−s−インダ セン−1−イル]シラナミント(2−)−N]チタン(0.300g、0.00 06588モル)をジエチルエーテル(50mL)中で撹拌しながらこれにMe MgBr(0.001447モル、ジエチルエーテル中3.0Mの溶液を0.4 8mL)をゆっくり加えた。 この混合物を1時間撹拌した。この反応時間後、揮発物を除去し、その残渣をヘ キサンで抽出して濾過した。ヘキサンを除去し、結果として所望生成物をオレン ジ色の固体として単離した(0.249g、91.2パーセント)。実施例K ジクロロ[N−(シクロヘキシル)−1,1−ジメチル−[1,2,3,4,5 −η)−1,5,6,7−テトラヒドロ−2−メチル−3−フェニル−s−イン ダセン−1−イル]シラナミント(2−)−N]チタン[またジメチルシリル( 2−メチル−3−フェニル−s−インダセニル)(シクロヘキシル−アミド)T iCl2とも呼ぶ]の合成 N−(シクロヘキシル)−1,1−ジメチル−1−(1,5,6,7−テトラヒ ドロ−2−メチル−3−フェニル−s−インダセン−1−イル)シラナミンの調 製 クロロジメチル(1,5,6,7−テトラヒドロ−2−メチル−3−フェニル −s−インダセン−1−イル)シラン(9c))(5.5340g、0.016 33モル)をヘキサン(100mL)中で撹拌しながらNEt3(2.9673 g、0.02932モル)およびシクロヘキシルアミン(1.6373g、0. 01651モル)を加えた。この混合物を24時間撹拌した。この反応時間後、 混合物を濾過し、揮発物を 除去することで、結果として所望生成物を黄色油状物として単離した(5.89 69g、89.9パーセント)。 [N−(シクロヘキシル)−1,1−ジメチル−[1,2,3,4,5−η)− 1,5,6,7−テトラヒドロ−2−メチル−3−フェニル−s−インダセン− 1−イル]シラナミント(2−)−N]ジリチウムの調製 N−(シクロヘキシル)−1,1−ジメチル−1−(1,5,6,7−テトラ ヒドロ−2−メチル−3−フェニル−s−インダセン−1−イル)シラナミン( 5.8969g、0.01468モル)をヘキサン(100mL)中で撹拌しな がらnBuLi(0.032モル、シクロヘキサン中2.0Mの溶液を16.0 0mL)をゆっくり加えた。次に、この混合物を16時間撹拌したが、この間に 粘性沈澱物が生じた。次に、揮発物を除去した後、結果として得た淡黄色の固体 を冷ヘキサンに入れてスラリー状にした。この反応時間後、固体を黄色粉末とし て吸引濾過で集め、これをさらなる精製も分析もなしに用いた(5.3101g 、87.5パーセント)。 ジクロロ[N−(シクロヘキシル)−1,1−ジメチル−[1,2,3,4,5 −η)−1,5,6,7−テトラヒドロ−2−メチル−3−フェニル−s−イン ダセン−1−イル]シラナミント(2−)−N]チタンの調製 TiCl3(THF)3(4.7570g、0.01284モル)がTHF(1 00mL)に入っているスラリーに[N−(シクロヘキシル)−1,1−ジメチ ル−[1,2,3,4,5−η)−1,5,6,7−テトラヒドロ−2−メチル −3−フェニル−s−インダセン−1−イル] シラナミント(2−)−N]ジリチウム(5.3103g、0.01284モル )をTHF(50mL)に入れて滴下した。この混合物を2時間撹拌した。次に 、PbCl2(1.8896g、0.006795モル)を加えた後、その混合 物を更に1時間撹拌した。この反応時間後、揮発物を除去し、その残渣をトルエ ンで抽出して濾過した。トルエンを除去し、結果として暗色残渣を単離した。次 に、この残渣をヘキサンに入れてスラリー状にした後、−10℃に冷却した。次 に、所望生成物を濾過で赤色結晶性固体として単離した(3.0765g、46 .2パーセント)。実施例L ジメチル[N−(シクロヘキシル)−1,1−ジメチル−[1,2,3,4,5 −η)−1,5,6,7−テトラヒドロ−2−メチル−3−フェニル−s−イン ダセン−1−イル]シラナミント(2−)−N]チタン[またジメチルシリル( 2−メチル−3−フェニル−s−インダセニル)(シクロヘキシルアミド)Ti Me2とも呼ぶ]の合成 ジクロロ[N−(シクロヘキシル)−1,1−ジメチル−[1,2,3,4, 5−η)−1,5,6,7−テトラヒドロ−2−メチル−3−フェニル−s−イ ンダセン−1−イル]シラナミント(2−)−N]チタン(0.7164g、0 .001382モル)をジエチルエーテル(5 0mL)中で撹拌しながらこれにMeMgBr(0.002760モル、ジエチ ルエーテル中3.0Mの溶液を0.92mL)をゆっくり加えた。この混合物を 1時間撹拌した。この反応時間後、揮発物を除去し、その残渣をヘキサンで抽出 して濾過した。ヘキサンを除去し、結果として所望生成物を粘性のある黄色−赤 色残渣として単離した(0.5102g、77.3パーセント)。実施例M ジクロロ[N−(シクロヘキシル)−1,1−ジメチル−[1,2,3,4,5 −η)−1,5,6,7−テトラヒドロ−3−フェニル−s−インダセン−1− イル]シラナミント(2−)−N]チタン[またジメチルシリル(3−フェニル −s−インダセン−1−イル)(シクロヘキシルアミド)TiCl2とも呼ぶ] の合成 N−(シクロヘキシル)−1,1−ジメチル−1−(1,5,6,7−テトラヒ ドロ−3−フェニル−s−インダセン−1−イル)シラナミンの調製 クロロジメチル(1,5,6,7−テトラヒドロ−3−フェニル−s−インダ セン−1−イル)シラン(3.8523g、0.01182モル)をヘキサン( 100mL)中で撹拌しながらNEt3(1.5136g、0.01496モル )およびシクロヘキシルアミン(1.210 7g、0.01221モル)を加えた。この混合物を24時間撹拌した。この反 応時間後、混合物を濾過し、揮発物を除去することで、結果として所望生成物を 黄色油状物として単離した(4.3313g、94.5パーセント)。 [N−(シクロヘキシル)−1,1−ジメチル−[1,2,3,4,5−η)− 1,5,6,7−テトラヒドロ−3−フェニル−s−インダセン−1−イル]シ ラナミント(2−)−N]ジリチウムの調製 N−(シクロヘキシル)−1,1−ジメチル−1−(1,5,6,7−テトラ ヒドロ−3−フェニル−s−インダセン−1−イル)シラナミン(4.3313 g、0.01117モル)をヘキサン(100mL)中で撹拌しながらnBuL i(0.024モル、シクロヘキサン中2.0Mの溶液を12.00mL)をゆ っくり加えた。次に、この混合物を16時間撹拌したが、この間に粘性沈澱物が 生じた。次に、揮発物を除去した後、結果として得た淡黄色の固体を冷ヘキサン に入れてスラリー状にした。この反応時間後、固体を赤色結晶性粉末として吸引 濾過で集め、これをさらなる精製も分析もなしに用いた(5.3101g、87 .5パーセント)。 ジクロロ[N−(シクロヘキシル)−1,1−ジメチル−[1,2,3,4,5 −η)−1,5,6,7−テトラヒドロ−3−フェニル−s−インダセン−1− イル]シラナミント(2−)−N]チタンの調製 TiCl3(THF)3(3.9085g、0.01055モル)がTHF(1 00mL)に入っているスラリーに[N−(シクロヘキシル)−1,1−ジメチ ル−[1,2,3,4,5−η)−1,5,6,7−テトラヒドロ−3−フェニ ル−s−インダセン−1−イル]シラナミン ト(2−)−N]ジリチウム(4.2135g、0.01055モル)をTHF (50mL)に入れて滴下した。この混合物を2時間撹拌した。次に、PbCl2 (1.5373g、0.005529モル)を加えた後、その混合物を更に1 時間撹拌した。この反応時間後、揮発物を除去し、その残渣をトルエンで抽出し て濾過した。トルエンを除去し、結果として暗色残渣を単離した。次に、この残 渣をヘキサンに入れてスラリー状にした後、0℃に冷却した。次に、所望生成物 を濾過で赤色−褐色結晶性固体として単離した(2.7655g、52.0パー セント)。実施例N ジメチル[N−(シクロヘキシル)−1,1−ジメチル−[(1,2,3,4, 5−η)−1,5,6,7−テトラヒドロ−3−フェニル−s−インダセン−1 −イル]シラナミント(2−)−N]チタン[またジメチルシリル(3−フェニ ル−s−インダセン−1−イル)(シクロヘキシル−アミド)TiMe2とも呼 ぶ]の合成 ジクロロ[N−(シクロヘキシル)−1,1−ジメチル−1−[(1,2,3 ,4,5−η)−1,5,6,7−テトラヒドロ−3−フェニル−s−インダセ ン−1−イル]シラナミナト(2−)−N]チタン(0.5581g、0.00 1106モル)をジエチルエーテル(50mL)中で撹拌しながらこれにMeM gBr(0.0022モル、ジエチルエーテル中3.0Mの溶液を0.74mL )をゆっくり加えた。次に、この混合物を1時間撹拌した。この反応時間後、揮 発物を除去し、その残渣をヘキサンで抽出して濾過した。ヘキサンを除去し、結 果として所望生成物を黄色−赤色残渣として単離した(0.2118g、41. 3パーセント)。 2−エチレン/1−オクテン共重合 3.8リットルの撹拌反応槽にIsopar(商標)E(ExxonChem icals Inc.から入手可能な混合アルカン溶媒)を1440gおよび1 −オクテンコモノマーを126g仕込んだ。水素を分子量調節剤として75mL の添加用タンク[25psid(2070Kpa)の圧力]から差圧膨張で加え た。上記反応槽を重合温度である130℃に加熱した後、エチレンで飽和状態に して450psig(3.1Mpa)にした。ドライボックス内で実施例Hの触 媒と共触媒であるトリスペンタフルオロフェニルボランの各々をトルエン中0. 005Mの溶液として約2.0μモルづつ予備混合し、触媒添加用タンクに移し た後、反応槽に約4分間かけて注入した。エチレンを要求に応じて用いて重合条 件を10分間維持した。結果として生じた溶液を反応槽から取り出した後、結果 として得た溶液にヒンダードフェノール系抗酸化剤[Ciba Geigy C orporationから入手可能なIrganox(商標)1010]を添加 した。生じたポリマーを120℃に設定した真空オーブンに入れて約20時間乾 燥させた。触媒効率は、1グラムのTi当たりに生じたポリマーの量が700キ ログラムであると言った触媒効率であった。このポリマーが示したメルトインデ ックス(I2)は0.43g/10分であった。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (81)指定国 EP(AT,BE,CH,CY, DE,DK,ES,FI,FR,GB,GR,IE,I T,LU,MC,NL,PT,SE),OA(BF,BJ ,CF,CG,CI,CM,GA,GN,ML,MR, NE,SN,TD,TG),AP(GH,GM,KE,L S,MW,SD,SZ,UG,ZW),EA(AM,AZ ,BY,KG,KZ,MD,RU,TJ,TM),AL ,AM,AT,AU,AZ,BA,BB,BG,BR, BY,CA,CH,CN,CU,CZ,DE,DK,E E,ES,FI,GB,GE,GH,GM,GW,HU ,ID,IL,IS,JP,KE,KG,KP,KR, KZ,LC,LK,LR,LS,LT,LU,LV,M D,MG,MK,MN,MW,MX,NO,NZ,PL ,PT,RO,RU,SD,SE,SG,SI,SK, SL,TJ,TM,TR,TT,UA,UG,US,U Z,VN,YU,ZW (72)発明者 パツトン,ジヤツソン・テイ アメリカ合衆国ミシガン州48642ミドラン ド・ホワイトホールストリート1302 (72)発明者 スチーブンス,ジエイムズ・シー アメリカ合衆国テキサス州77469リツチモ ンド・ピーカントレイルドライブ2026 (72)発明者 パリク,デイーパク・アール アメリカ合衆国テキサス州レイクジヤクソ ン・トリリアムコート59 (72)発明者 マンゴールド,デブラ・ジエイ アメリカ合衆国テキサス州77566レイクジ ヤクソン・ジユニパー301 【要約の続き】 トなどの成分としての使用が含まれる。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1. オレフィンポリマーであって、少なくとも1種のα−オレフィンを式: [式中、 Mは、形式的酸化状態が+2、+3または+4のチタン、ジルコニウムまたはハ フニウムであり、 A’は、少なくとも2または3位がヒドロカルビル、フルオロ置換ヒドロカルビ ル、ヒドロカルビルオキシ置換ヒドロカルビル、ジアルキルアミノ置換ヒドロカ ルビル、シリル、ゲルミルおよびそれらの混合物から選択される基で置換されて いる置換インデニル基であり、ここで、上記基が含有する非水素原子の数は40 以下であり、そして上記A’は、更に、二価のZ基でMに共有結合しており、 Zは、A’およびMの両方にσ結合で結合している二価部分であり、ここで、上 記Zは、ホウ素または元素周期律表の14族の一員を含みかつまた窒素または燐 も含んでいて、この窒素または燐に脂肪族または脂環式ヒドロカルビル基が第一 もしくは第二炭素で共有結合しており Xは、環状の非局在化したπ結合を有する配位子基である種類の配位子を除く、 原子数が60以下のアニオン性もしくはジアニオン性配位子基であり、 X’は、各場合とも独立して、原子数が20以下の中性の連結用化合物であり、 pは、0、1または2で、Mの形式的酸化状態よりも2小さいが、但しXがジア ニオン性配位子基の時にはpが1であることを条件とし、そし て qは、0、1または2である] に相当する金属錯体を更に含んで成る触媒の存在下で重合させることで生じさせ たオレフィンポリマー。 2. 該金属錯体が式:[式中、 R1およびR2は、R1またはR2の少なくとも1つが水素でないことを条件として 、独立して、水素、ヒドロカルビル、パーフルオロ置換ヒドロカルビル、シリル 、ゲルミルおよびそれらの混合物から選択される基であり、ここで、上記基が含 有する非水素原子の数は20以下であり、 R3、R4、R5およびR6は、独立して、水素、ヒドロカルビル、パーフルオロ置 換ヒドロカルビル、シリル、ゲルミルおよびそれらの混合物から選択される基で あり、ここで、上記基が含有する非水素原子の数は20以下であり、 Mは、チタン、ジルコニウムまたはハフニウムであり、 Zは、ホウ素または元素周期律表の14族の一員を含みかつまた窒素または燐も 含んで成る二価部分であり、ここで、上記部分が含有する非水素原子の数は60 以下であり、そしてここで、上記窒素または燐に脂肪族または脂環式ヒドロカル ビル基が第一もしくは第二炭素で共有結合しており pは、0、1または2であり、 qは、ゼロまたは1であるが、但し pが2でqがゼロの時にはMが+4の形式的酸化状態にあってXがハライド、ヒ ドロカルビル、ヒドロカルビルオキシ、ジ(ヒドロカルビル)アミド、ジ(ヒド ロカルビル)ホスフィド、ヒドロカルビルスルフィドおよびシリル基に加えてそ れらのハロ置換誘導体、ジ(ヒドロカルビル)アミノ置換誘導体、ヒドロカルビ ルオキシ置換誘導体およびジ(ヒドロカルビル)ホスフィノ置換誘導体から成る 群から選択されるアニオン性配位子であり、ここで、上記X基の非水素原子数は 20以下であり、 pが1でqがゼロの時にはMが+3の形式的酸化状態にあってXがアリル、2− (N,N−ジメチルアミノメチル)フェニルおよび2−(N,N−ジメチル)ア ミノベンジルから成る群から選択される安定化用アニオン性配位子基であるか或 はMが+4の形式的酸化状態にあってXが共役ジエンの二価誘導体でMとXが一 緒になってメタロシクロペンテン基を形成しており、そして pがゼロでqが1の時にはMが+2の形式的酸化状態にあってX’が場合により 1つ以上のヒドロカルビル基で置換されていてもよい中性の共役もしくは非共役 ジエンで上記X’が炭素原子を40個以下の数で有していてMと一緒にπ錯体を 形成していることを条件とする] に相当する請求の範囲第1項記載のポリマー。 3. 該金属錯体が式: [式中、 R1およびR2は、独立して、水素またはC1-6アルキルであるが、但しR1とR2 の両方ともが水素でないことを条件とし、 R3、R4、R5およびR6は、独立して、水素またはC1-6アルキルであり、 Mは、チタンであり、 Yは、−NR**−または−PR**−であり、 Z*は、SiR* 2、CR* 2、SiR* 2SiR* 2、CR* 2CR* 2、CR*=CR*、 CR* 2SiR* 2またはGeR* 2であり、 R*は、各場合とも独立して、水素であるか、或はヒドロカルビル、ヒドロカル ビルオキシ、シリル、ハロゲン置換アルキル、ハロゲン置換アリールおよびそれ らの組み合わせから選択される一員であり、ここで、上記R*の非水素原子数は 20以下であり、場合により、Zに由来する2つのR*基(R*が水素でない時 )か或はZに由来する1つのR*基とYに由来する1つのR*基が環系を形成し ていてもよく、そしてここで、Yが−NR*一または−PR*−の時にはR*が 第一もしくは第二炭素を通してNまたはPに共有結合しており、 R**は、Yの窒素または燐に第一または第二炭素で共有結合している脂肪族も しくは脂環式ヒドロカルビル基であり、 pは、0、1または2であり、 qは、ゼロまたは1であるが、但し pが2でqがゼロの時にはMが+4の形式的酸化状態にあってXが各場合とも独 立してメチルまたはベンジルであり、 pが1でqがゼロの時にはMが+3の形式的酸化状態にあってXが2−(N,N −ジメチル)アミノベンジルであるか或はMが+4の形式的酸化状態にあってX が1,4−ブタジエニルであり、そして pが0でqが1の時にはMが+2の形式的酸化状態にあってX’が1,4−ジフ ェニル−1,3−ブタジエンまたは1,3−ペンタジエンであることを条件とす る] に相当する請求の範囲第1項記載のオレフィンポリマー。 4. オレフィンポリマーであって、 1)金属錯体と 2)活性化用共触媒を 1)と2)のモル比が1:10,000から100:1であるように含んでいて 該金属錯体が式: [式中、 Mは、形式的酸化状態が+2、+3または+4のチタン、ジルコニウムまたはハ フニウムであり、 R’およびR”は、各場合とも独立して、ハイドライド、ヒドロカルビル、シリ ル、ゲルミル、ハライド、ヒドロカルビルオキシ、ヒドロカル ビルシロキシ、ヒドロカルビルシリルアミノ、ジ(ヒドロカルビル)アミノ、ヒ ドロカルビレンアミノ、ジ(ヒドロカルビル)ホスフィノ、ヒドロカルビレン− ホスフィノ、ヒドロカルビルスルフィド、ハロ置換ヒドロカルビル、ヒドロカル ビルオキシ置換ヒドロカルビル、シリル置換ヒドロカルビル、ヒドロカルビルシ ロキシ置換ヒドロカルビル、ヒドロカルビルシリルアミノ置換ヒドロカルビル、 ジ(ヒドロカルビル)アミノ置換ヒドロカルビル、ヒドロカルビレンアミノ置換 ヒドロカルビル、ジ(ヒドロカルビル)ホスフィノ置換ヒドロカルビル、ヒドロ カルビレンホスフィノ置換ヒドロカルビルまたはヒドロカルビルスルフィド置換 ヒドロカルビルであり、ここで、上記R’またはR”基の非水素原子数は40以 下であり、そして場合により、上記基の2つ以上が一緒になって二価誘導体を形 成していてもよく、 R”’は、該金属錯体の残りと一緒に縮合系を形成している二価のヒドロカルビ レン基または置換ヒドロカルビレン基であり、ここで、上記R”’が含有する非 水素原子の数は1から30であり、 Zは、二価部分であるか、或はMと配位一共有結合を形成し得る中性の2電子対 と1つのσ結合を含んで成る部分であり、ここで、上記Zは、ホウ素または元素 周期律表の14族の一員を含みかつまた窒素または燐も含んでいて、この窒素ま たは燐に脂肪族または脂環式ヒドロカルビル基が第一もしくは第二炭素で共有結 合しており Xは、環状の非局在化したπ結合を有する配位子基である種類の配位子を除く、 原子数が60以下の一価のアニオン性配位子基であり、 X’は、各場合とも独立して、原子数が20以下の中性の連結用化合物であり、 X”は、原子数が60以下の二価のアニオン性配位子基であり、 pは、ゼロ、1、2または3であり、 qは、0、1または2であり、そして rは、ゼロまたは1である] に相当する触媒の存在下でか或は活性化技術を用いて1)を活性触媒に変化させ ることで生じさせた反応生成物の存在下で1種以上のα−オレフィンを反応させ ることを含む方法で生じさせたオレフィンポリマー。 5. 該金属錯体と活性化用共触媒を含んで成る触媒の存在下で該α−オレフ ィンを重合させたものである請求の範囲第1−4項いずれか記載のオレフィンポ リマー。 6. 該活性化用共触媒がトリスペンタフルオロフェニル−ボランまたは式: (L*−H)d +(Ad-) [式中、 L*は、中性ルイス塩基であり、 (L*−H)+は、ブレンステッド酸であり、 Ad-は、d−の電荷を有する配位しない適合性アニオンであり、そしてdは、1 −3の整数である] に相当する共触媒を含んで成る請求の範囲第5項記載のオレフィンポリマー。 7. 該アニオンAd-が、 a)式: [式中、 Sは、アルキル、フルオロアルキル、アリールまたはフルオロアリールであり( S基が2つ存在する場合には追加的に水素であり)、 ArFは、フルオロアリールであり、そして X1は、水素またはハライドのいずれかである] に相当する立体障害二ホウ素アニオン、および b)式: [式中、 kは、1から3の整数であり、 n’は、2から6の整数であり、 n’−k=dであり、 M’は、元素周期律表の13族から選択される元素であり、そしてQは、Qがハ ライドであるのは1回以内であることを条件として、各場合とも独立して、ハイ ドライド、ジアルキルアミド、ハライド、アルコキサイド、アリールオキサイド 、ヒドロカルビルおよびハロ置換ヒドロカルビル基から選択され、ここで上記Q の炭素数は20以下である] に相当するアニオン、 から成る群から選択される請求の範囲第6項記載のオレフィンポリマー。 8. 該活性化用共触媒がトリスペンタフルオロフェニルボラン、テトラキス (ペンタフルオロフェニル)ホウ酸ジ(オクタデシル)メチルアンモニウムおよ びテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ホウ酸ジ(オクタデシル)(n−ブチ ル)アンモニウムから成る群から選択されるボランまたはホウ酸塩を含んで成る 請求の範囲第6項記載のオレフィンポ リマー。 9. 該活性用共触媒が更に各ヒドロカルビル基中の炭素数が1から10のト リ(ヒドロカルビル)アルミニウム化合物、オリゴマー状もしくはポリマー状の アルモキサン化合物、各ヒドロカルビルもしくはヒドロカルビルオキシ基中の炭 素数が1から20のジ(ヒドロカルビル)(ヒドロカルビルオキシ)アルミニウ ム化合物または前記化合物の混合物から成る群から選択されるアルミニウム化合 物を含んで成る請求の範囲第6項記載のオレフィンポリマー。 10. 該アルミニウム化合物が式T1 2AlOT2[式中、T1は、C3-6の第 二または第三アルキルであり、そしてT2は、C12-30のアルカリール基もしくは アラルキル基である]に相当する請求の範囲第9項記載のオレフィンポリマー。 11. 該アルミニウム化合物が2,6−ジ(t−ブチル)−4−メチルフェ ニル化合物、2,6−ジ(t−ブチル)−4−メチルトリル化合物、2,6−ジ (i−ブチル)−4−メチルフェニル化合物または4−(3’,5’−ジ−t− ブチルトリル)−2,6−ジt−ブチルフェニル化合物である請求の範囲第10 項記載のオレフィンポリマー。 12. オレフィンインターポリマーであって、下記の基準: a)I2≦100g/10分、 b)1.5から3.0のMw/Mn、 c)FTIRで測定して炭素1000個当たり少なくとも0.03個のビニル、 および d)デコンボリュートしたDSC溶融曲線が明瞭な2つの第一および第二DSC 融点を示すこと、および e)ATREF曲線が下記の不等式: ATREF形状係数≦0.90−0.00626(平均溶出温度) を満足させること、 の少なくとも4つを満足させるとして特徴づけられるオレフィンインターポリマ ー。 13. 該ATREF曲線が下記の不等式: ATREF形状係数≦0.75−0.00626(平均溶出温度)を満足させ る請求の範囲第12項記載のオレフィンポリマー。 14. オレフィンインターポリマーであって、下記の基準: a)I2≦100g/10分、 b)1.5から3.0のMw/Mn、 c)FTIRで測定して炭素1000個当たり少なくとも0.03個のビニル、 d)デコンボリュートしたDSC溶融曲線が明瞭な2つの第一および第二DSC 融点を示すこと、および e)デコンボリュートしたゲル浸透クロマトグラムが明瞭な2つの第一および第 二成分画分を示し、ここで、該第一成分画分が1番目の密度と1番目のI2を示 して1番目の重量パーセントで与えられそして該第二成分画分が2番目の密度と 2番目のI2を示して2番目の重量パーセントで与えられること、 の少なくとも4つを満足させるとして特徴づけられるオレフィンインターポリマ ー。 15. 該オレフィンインターポリマーが示す上方の使用温度[UST(イン ターポリマー)]の方が該1番目の密度に等しい密度と該1番 目のI2に等しいI2を有していて該1番目の重量パーセントで与えられた1番目 の均一オレフィンポリマーと該2番目の密度に等しい密度と該2番目のI2に等 しいI2を有していて該2番目の重量パーセントで与えられた2番目の均一オレ フィンポリマーから成る物理的ブレンド物が示す上方の使用温度[UST(ブレ ンド)]よりも下記の不等式: UST(インターポリマー)−UST(ブレンド)≧256−275(オレフィ ンインターポリマーの密度) に従って大きい請求の範囲第14項記載のオレフィンインターポリマー。 16. エチレンと少なくとも1種のC3−C20α−オレフィンから作られた インターポリマーであるとして更に特徴づけられる請求の範囲第12−15項い ずれか記載のオレフィンインターポリマー。 17. I10/I2が少なくとも10であるとして更に特徴づけられる請求の 範囲第12−16項いずれか記載のオレフィンインターポリマ。 18. 長鎖分枝を炭素1000個当たり0.01から3個有するとして更に 特徴づけられる請求の範囲第12−16項いずれか記載のオレフィンインターポ リマー。 19. 示す表面メルトフラクチャーが起こり始める時の臨界せん断速度が線 状インターポリマーの場合の表面メルトフラクチャーが起こり始める時の臨界せ ん断速度より少なくとも50パーセント大きいとして更に特徴づけられ、ここで 、該オレフィンインターポリマーと該線状インターポリマーが同じコモノマーも しくはコモノマー類を含んで成り、該線状インターポリマーが該オレフィンイン ターポリマーの10パーセント以内のI2および密度を示し、そしてここで、該 オレフィンインタ ーポリマーと該線状インターポリマーの個々の臨界せん断速度が気体押出しレオ メーターを用いて同じ溶融温度で測定された臨界せん断速度である請求の範囲第 12−16項いずれか記載のオレフィンインターポリマー。 20. 0.915g/cm3以内の密度を有するとして更に特徴づけられる 請求の範囲第12−19項いずれか記載のオレフィンインターポリマー。 21. 製品または配合物が示す上方の使用温度を向上させる方法であって、 a)I2≦100g/10分、 b)1.5から3.0のMw/Mn、 c)FTIRで測定して炭素1000個当たり少なくとも0.03個のビニル、 d)少なくとも2つの明瞭なDSC融点、および e)デコンボリュートしたゲル浸透クロマトグラムが明瞭な2つの第一および第 二成分画分を示し、ここで、該第一成分画分が1番目の密度と1番目のI2を示 して1番目の重量パーセントで与えられそして該第二成分画分が2番目の密度と 2番目のI2を示して2番目の重量パーセントで与えられる、 として特徴づけられるオレフィンインターポリマーを上記製品または配合物に添 加することを含む方法。 22. 該金属錯体が(シクロヘキシルアミド)ジメチル(η5−2,3,4 ,6−テトラメチルインデニル)シランチタン(IV)ジメチルまたは(イソプ ロピルアミド)ジメチル(η5−2,3,4,6−テトラ メチルインデニル)シランチタン(IV)ジメチルである請求の範囲第3項記載 のオレフィンポリマー。 23. 該オレフィンポリマーがエチレンとC3−C20α−オレフィンと任意 のジエンから作られたインターポリマーである請求の範囲第12−16項いずれ か記載のオレフィンポリマー。 24. 該オレフィンポリマーがエチレンとプロピレンとジエンから作られた インターポリマーである請求の範囲第23項記載のオレフィンポリマー。 25. 基準(a)−(e)の各々を満足させる請求の範囲第12項記載のオ レフィンポリマー。 26. 基準(a)−(e)の各々を満足させる請求の範囲第14項記載のオ レフィンポリマー。
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